JPS5918327B2 - 光伝送線の製造方法 - Google Patents
光伝送線の製造方法Info
- Publication number
- JPS5918327B2 JPS5918327B2 JP21313782A JP21313782A JPS5918327B2 JP S5918327 B2 JPS5918327 B2 JP S5918327B2 JP 21313782 A JP21313782 A JP 21313782A JP 21313782 A JP21313782 A JP 21313782A JP S5918327 B2 JPS5918327 B2 JP S5918327B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- refractive index
- glass
- manufacturing
- additive
- optical transmission
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
- C03B37/01861—Means for changing or stabilising the diameter or form of tubes or rods
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
- C03B37/01807—Reactant delivery systems, e.g. reactant deposition burners
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は気相化学反応を利用する光伝送線の製造方法の
改良に関するものである。
改良に関するものである。
高品位の光伝送線の製造に適する方法として、加熱した
石英ガラス管内壁に、気相化学反応により石英（ＳｉＯ
２）を主成分とする芯ガラス層を析出させて被着し、し
かる後さらに加熱して中心の空所を無くした棒状の中実
母材を得、この母材を引き伸ばして光学繊維とする工程
が、例えば特開昭５０−１２０３５２号公報等から周知
である。
石英ガラス管内壁に、気相化学反応により石英（ＳｉＯ
２）を主成分とする芯ガラス層を析出させて被着し、し
かる後さらに加熱して中心の空所を無くした棒状の中実
母材を得、この母材を引き伸ばして光学繊維とする工程
が、例えば特開昭５０−１２０３５２号公報等から周知
である。
この方法において、芯ガラスの屈折率を制御するフ に
は、石英ガラスの屈折率を高める添加剤、例えば二酸化
ゲルマニウム（ＧｅＯ２）を、石英の原料となるノ和ゲ
ン化シリコン（例えば四塩化シリコン）中に同じくハロ
ゲン化物の形で混合して同時に反応させてＳｉＯ２とと
もにガラス管内壁に析出・ｏ させる。このようにすれ
ば、芯の屈折率プロフィールの形状を容易に所望のよう
にすることができる。ゆえに、中心から半径方向に沿つ
てなだらかに低下してゆく屈折率プロフィールを有する
集束性の光学繊維をこの方法により容易に製すること１
５ができる。しかるに、上記の方法により製した光学繊
維には、屡々中心部の屈折率に異常変化が生じ易い。
は、石英ガラスの屈折率を高める添加剤、例えば二酸化
ゲルマニウム（ＧｅＯ２）を、石英の原料となるノ和ゲ
ン化シリコン（例えば四塩化シリコン）中に同じくハロ
ゲン化物の形で混合して同時に反応させてＳｉＯ２とと
もにガラス管内壁に析出・ｏ させる。このようにすれ
ば、芯の屈折率プロフィールの形状を容易に所望のよう
にすることができる。ゆえに、中心から半径方向に沿つ
てなだらかに低下してゆく屈折率プロフィールを有する
集束性の光学繊維をこの方法により容易に製すること１
５ができる。しかるに、上記の方法により製した光学繊
維には、屡々中心部の屈折率に異常変化が生じ易い。
第１図は上記異常変化を生じた一例の屈折率プロフィー
ルを示したもので、中央部に急激なスパイ２０ ク状の
落ち込みａが認められる。このような異常が生じた場合
には光学繊維の光伝送性能が著しく劣化することは当然
である。図に示した例は芯ガラスの添加剤としてＧｅ０
２を用いるものであつて、上述した異常の成因は次のよ
うに考えられる。２５さきに述べたガラス管の空所を無
くする中実化工程（コラプス工程と呼ばれる）は、２０
００℃程度の高温下において行なわれる。
ルを示したもので、中央部に急激なスパイ２０ ク状の
落ち込みａが認められる。このような異常が生じた場合
には光学繊維の光伝送性能が著しく劣化することは当然
である。図に示した例は芯ガラスの添加剤としてＧｅ０
２を用いるものであつて、上述した異常の成因は次のよ
うに考えられる。２５さきに述べたガラス管の空所を無
くする中実化工程（コラプス工程と呼ばれる）は、２０
００℃程度の高温下において行なわれる。
ゆえに該コプラス工程で一旦堆積したガラス層からＳｉ
Ｏ２及び、ＧｅＯ２双方の蒸発が起こるが、ＧｅＯ２は
元来３０５１０２に比し易蒸発性であるので、蒸発した
気相中のＧｅＯ２濃度は固相中の濃度に比して高いと考
えられ、結局ガラス層表層部でＧｅＯ２がファな状態と
なる。さらに、一旦蒸発したＳｉＯ２及びＧｅ０２は、
低３５温部で再び固相となつて再堆積するが、この再堆
積層のＧｅＯ２濃度は相当に低いものと推定され、結局
この蒸発−固化再堆積の過程によつて、工程中気相と接
している部分、即ち気相から析出したガラス層表面の、
ごく薄い層において屈折率を高める添加剤（この場合に
はＧｅＯ２）の濃度が減少し、結果として第１図に示し
たような屈折率プロフイールの欠陥が生ずるものと考え
られる。
Ｏ２及び、ＧｅＯ２双方の蒸発が起こるが、ＧｅＯ２は
元来３０５１０２に比し易蒸発性であるので、蒸発した
気相中のＧｅＯ２濃度は固相中の濃度に比して高いと考
えられ、結局ガラス層表層部でＧｅＯ２がファな状態と
なる。さらに、一旦蒸発したＳｉＯ２及びＧｅ０２は、
低３５温部で再び固相となつて再堆積するが、この再堆
積層のＧｅＯ２濃度は相当に低いものと推定され、結局
この蒸発−固化再堆積の過程によつて、工程中気相と接
している部分、即ち気相から析出したガラス層表面の、
ごく薄い層において屈折率を高める添加剤（この場合に
はＧｅＯ２）の濃度が減少し、結果として第１図に示し
たような屈折率プロフイールの欠陥が生ずるものと考え
られる。
本発明は前述の点に鑑みなされたもので、気相化学反応
により析出させたガラス層に、添加剤蒸気を接触せしめ
て中実化工程を行なうことにより所望の屈折率プロフイ
ールを得る、新規なる光伝送線の製造方法を提供せんと
するものである。以下本発明の一実施例につき詳細に説
明する。第２図は本発明の方法による集束性光学繊維の
製造工程の一例を示したもので、１は純粋なＳｉＯ２か
ら成る管であつて、内径は１０数謂程度である。２は気
相化学反応、例えばＳｉＣｌ４及びＧｅＣｌ４の酸化反
応によりＳｉＯ，管１の内壁に−旦微粉状で堆積した混
合酸化物層をガラス化して形成したＳｉＯ２とＧｅＯ２
とのガラス層である。
により析出させたガラス層に、添加剤蒸気を接触せしめ
て中実化工程を行なうことにより所望の屈折率プロフイ
ールを得る、新規なる光伝送線の製造方法を提供せんと
するものである。以下本発明の一実施例につき詳細に説
明する。第２図は本発明の方法による集束性光学繊維の
製造工程の一例を示したもので、１は純粋なＳｉＯ２か
ら成る管であつて、内径は１０数謂程度である。２は気
相化学反応、例えばＳｉＣｌ４及びＧｅＣｌ４の酸化反
応によりＳｉＯ，管１の内壁に−旦微粉状で堆積した混
合酸化物層をガラス化して形成したＳｉＯ２とＧｅＯ２
とのガラス層である。
このガラス層２が完成時には芯ガラスとなることは周知
の通りである。３は管１に沿つて移動する酸水素バーナ
であつて、このバーナ３の移動により前述の混合酸化物
層を順次ガラス化させて所要量のガラス層２を形成後、
さらに加熱温度を上げてＳｌＯ２管１を軟化させると、
１ａのごとく径が小さくなる。
の通りである。３は管１に沿つて移動する酸水素バーナ
であつて、このバーナ３の移動により前述の混合酸化物
層を順次ガラス化させて所要量のガラス層２を形成後、
さらに加熱温度を上げてＳｌＯ２管１を軟化させると、
１ａのごとく径が小さくなる。
従来のコラプス工程においては内部の孔が無くなつて中
実のガラス棒となるまでコラプスを行なうのであるが、
本発明においては内径が１Ｕｍ程度となれば止める。こ
れはコラプス中管内に添加剤としてのＧｅＯ２原料の蒸
気を通するためである。即ち、一旦所要のガラス層２を
堆積後は石英原料としてのＳ！Ｃｌ４の蒸気の導入を停
止し、ＧｅＣｌ４蒸気と、ＧｅＣｌ４を酸化するための
酸素ガス（０２）との混合ガスのみをＳｉＯ２管１内に
通しつつコラプスを行なう。ガスの流路は、図示の如く
、加熱済みの部分即ち細径の部分から″加熱前の部分へ
と、矢印４のごとく一般のノズル等に於ける流路とは逆
の方向に流すのが良い。この理由は、コラプス時の加熱
で蒸発した混合酸化物の再堆積層がガラス化するに先立
つてＧｅＯ，を添加しておくためである。即ち、第２図
のようにすれば、上記添加剤と酸化剤の混合ガスはバー
ナ３の近傍で気相化学反応を起こしてＧｅＯ２を生成し
、このＧｅＯ２はコラプス時のバーナ３の加熱によつて
蒸発したＳｌＯ，とＧｅＯ２の混合酸化物と共に当該バ
ーナの下流側低温部のガラス層２上に２ａのような形で
再堆積する。ゆえに、この再堆積層２ａがバーナ３の移
動で再たびガラス化する際は、その表層（孔の内面）で
のＧｅＯ２の濃度低下が補なわれた形となる。このこと
から直ちに予想されるように、ガラス化後の再堆積層２
ａの表面に於けるＧｅＯ２濃度は、第２図のコラプス工
程に於けるＧｅＯ２の添加の度合いに依存し、条件によ
つて充分補なわれない場合もあれば、過補償即ち中心部
でＧｅＯ２濃度が不当に増大する場合もある。しかし本
発明者らの実験結果によれば、管内に流す混合ガスの流
量によつて補償の度合いを大幅に調整することが可能で
、従つて調整により殆ど理想的な屈折率プロフイールを
有する光学繊維が得られることが明らかになつた。なお
、前述のようにして孔の内径が細径となつた石英管は、
さらに従来のコラプス工程と同様の工程によつて中実の
ガラス棒となし、その後延伸して繊維状の光伝送線とす
る。第３図Ａ及びＢは、従来の製造法によつて製した光
学繊維の屈折率プロフイールと、本発明の製造法によつ
た場合のそれとを比較したものであつて、材料は両者に
おいて同一である。
実のガラス棒となるまでコラプスを行なうのであるが、
本発明においては内径が１Ｕｍ程度となれば止める。こ
れはコラプス中管内に添加剤としてのＧｅＯ２原料の蒸
気を通するためである。即ち、一旦所要のガラス層２を
堆積後は石英原料としてのＳ！Ｃｌ４の蒸気の導入を停
止し、ＧｅＣｌ４蒸気と、ＧｅＣｌ４を酸化するための
酸素ガス（０２）との混合ガスのみをＳｉＯ２管１内に
通しつつコラプスを行なう。ガスの流路は、図示の如く
、加熱済みの部分即ち細径の部分から″加熱前の部分へ
と、矢印４のごとく一般のノズル等に於ける流路とは逆
の方向に流すのが良い。この理由は、コラプス時の加熱
で蒸発した混合酸化物の再堆積層がガラス化するに先立
つてＧｅＯ，を添加しておくためである。即ち、第２図
のようにすれば、上記添加剤と酸化剤の混合ガスはバー
ナ３の近傍で気相化学反応を起こしてＧｅＯ２を生成し
、このＧｅＯ２はコラプス時のバーナ３の加熱によつて
蒸発したＳｌＯ，とＧｅＯ２の混合酸化物と共に当該バ
ーナの下流側低温部のガラス層２上に２ａのような形で
再堆積する。ゆえに、この再堆積層２ａがバーナ３の移
動で再たびガラス化する際は、その表層（孔の内面）で
のＧｅＯ２の濃度低下が補なわれた形となる。このこと
から直ちに予想されるように、ガラス化後の再堆積層２
ａの表面に於けるＧｅＯ２濃度は、第２図のコラプス工
程に於けるＧｅＯ２の添加の度合いに依存し、条件によ
つて充分補なわれない場合もあれば、過補償即ち中心部
でＧｅＯ２濃度が不当に増大する場合もある。しかし本
発明者らの実験結果によれば、管内に流す混合ガスの流
量によつて補償の度合いを大幅に調整することが可能で
、従つて調整により殆ど理想的な屈折率プロフイールを
有する光学繊維が得られることが明らかになつた。なお
、前述のようにして孔の内径が細径となつた石英管は、
さらに従来のコラプス工程と同様の工程によつて中実の
ガラス棒となし、その後延伸して繊維状の光伝送線とす
る。第３図Ａ及びＢは、従来の製造法によつて製した光
学繊維の屈折率プロフイールと、本発明の製造法によつ
た場合のそれとを比較したものであつて、材料は両者に
おいて同一である。
すなわち、第３図Ａの従来の製造法によつたものは第１
図の再掲であり、具体的にはＳｉＣｌ４の流量を４．５
ｍ０１／Ｍｉｎ，．Ｏ２の流量を１０００ＣＣ／Ｍｉｎ
にそれぞれ固定し、ＧｅＣｌ４の流量を０．６８×１０
−４ｍ０１／Ｍｉｎから３．４Ｘ１０−３ｍ０１／Ｍｉ
ｎまで５０等分した分量ずつ増加させながら内径１２７
ｎｍのＳｉＯ２管内に５０層のガラス層を堆積させ、こ
れを通常の方法でコラツプスして繊維とした場合の屈折
率プロフイールを示している。これに対し、上記従来例
と同様の条件で５０層のガラス層を堆積した後、本発明
に従つてコラツプス時に酸素の流量（１０００ＣＣ／Ｍ
ｉｎ）は変えないでＧｅＣ！４を４．０Ｘ１０″５ｍ０
１／Ｍｉｎの流量で流した場合、従来例に見られた屈折
率プロフイール中心部の欠陥ａは殆ど安全に補償されて
、第３図Ｂのように理想に近いフ狛フイールを得ること
ができた。ＧｅＣｌ４の流量がこれ以上多くなると過補
償となつて中心部での屈折率が高くなり過ぎ、流量がそ
れよりも少ないと補償が不充分となる。なお、先に参照
した特開昭５０−１２０３５２号等においてコラツプス
時にも反応性の原料ガスを流すことは周知であるが、ガ
ラス堆積時と同様にＳｉＣｌ４とＧｅＣｌ４の両方のガ
スを流したのでは、いかにＧｅＣｌ４リツチに保つても
本発明のような効果を得るのは困難である。
図の再掲であり、具体的にはＳｉＣｌ４の流量を４．５
ｍ０１／Ｍｉｎ，．Ｏ２の流量を１０００ＣＣ／Ｍｉｎ
にそれぞれ固定し、ＧｅＣｌ４の流量を０．６８×１０
−４ｍ０１／Ｍｉｎから３．４Ｘ１０−３ｍ０１／Ｍｉ
ｎまで５０等分した分量ずつ増加させながら内径１２７
ｎｍのＳｉＯ２管内に５０層のガラス層を堆積させ、こ
れを通常の方法でコラツプスして繊維とした場合の屈折
率プロフイールを示している。これに対し、上記従来例
と同様の条件で５０層のガラス層を堆積した後、本発明
に従つてコラツプス時に酸素の流量（１０００ＣＣ／Ｍ
ｉｎ）は変えないでＧｅＣ！４を４．０Ｘ１０″５ｍ０
１／Ｍｉｎの流量で流した場合、従来例に見られた屈折
率プロフイール中心部の欠陥ａは殆ど安全に補償されて
、第３図Ｂのように理想に近いフ狛フイールを得ること
ができた。ＧｅＣｌ４の流量がこれ以上多くなると過補
償となつて中心部での屈折率が高くなり過ぎ、流量がそ
れよりも少ないと補償が不充分となる。なお、先に参照
した特開昭５０−１２０３５２号等においてコラツプス
時にも反応性の原料ガスを流すことは周知であるが、ガ
ラス堆積時と同様にＳｉＣｌ４とＧｅＣｌ４の両方のガ
スを流したのでは、いかにＧｅＣｌ４リツチに保つても
本発明のような効果を得るのは困難である。
第４図は、先に述べた従来法で５０層のガラス堆積層を
形成した後、ＳｉＣｌ４のガス流量は最終層形成時と同
じ４．５Ｘ１０−３ｍ０１／Ｍｉｎに保ち、ＧｅＣｌ４
の流量を１．３×１０−２ｍ０１／Ｍｉｎに増加してコ
ラツスしたものの屈折率プロフイールを示している。こ
の第４図から明らかなように、いかにＧｅＣｌ４リツチ
であつてもＳｉＣｌ４を含んだガスを用いる限り、中心
部周辺ｂ部で再堆積層により屈折率が増大するものの、
該再堆積層のガラス化時には表層部からＧｅＯ２が多く
蒸発してＳｌＯ２が優先的に残存し、結局屈折率の落ち
込み部ａを補償することができないわけである。以上説
明した実施例は芯がなだらかな屈折率プロフイールを有
する光学繊維に本発明の製造方法を適用した場合である
が、芯の屈折率が全体に亘り一様な光学繊維を製造する
場合にも、芯材の添加剤として易蒸発性物質を用いる限
り中心部に於ける添加剤濃度の低下、従つて屈折率プロ
フイールの落ち込みが生ずることは当然で、この場合に
も本発明の方法を用いれば好結果を得られる。
形成した後、ＳｉＣｌ４のガス流量は最終層形成時と同
じ４．５Ｘ１０−３ｍ０１／Ｍｉｎに保ち、ＧｅＣｌ４
の流量を１．３×１０−２ｍ０１／Ｍｉｎに増加してコ
ラツスしたものの屈折率プロフイールを示している。こ
の第４図から明らかなように、いかにＧｅＣｌ４リツチ
であつてもＳｉＣｌ４を含んだガスを用いる限り、中心
部周辺ｂ部で再堆積層により屈折率が増大するものの、
該再堆積層のガラス化時には表層部からＧｅＯ２が多く
蒸発してＳｌＯ２が優先的に残存し、結局屈折率の落ち
込み部ａを補償することができないわけである。以上説
明した実施例は芯がなだらかな屈折率プロフイールを有
する光学繊維に本発明の製造方法を適用した場合である
が、芯の屈折率が全体に亘り一様な光学繊維を製造する
場合にも、芯材の添加剤として易蒸発性物質を用いる限
り中心部に於ける添加剤濃度の低下、従つて屈折率プロ
フイールの落ち込みが生ずることは当然で、この場合に
も本発明の方法を用いれば好結果を得られる。
本発明の製造方法によれば、光伝送線の芯ガラスとして
易蒸発性の添加剤を含むＳｌＯ２等を用い、気相化学反
応法により該芯ガラスを形成する際の添加剤濃度変化に
起因する屈折率プロフイールの異常を防止することがで
き、理想的な屈折率プロフイール、従つて理想的な光伝
送特性を有する光伝送線を製造し得る優れた利点がある
。それゆえとくに集束性光伝送線の製造に適用して甚だ
有利である。
易蒸発性の添加剤を含むＳｌＯ２等を用い、気相化学反
応法により該芯ガラスを形成する際の添加剤濃度変化に
起因する屈折率プロフイールの異常を防止することがで
き、理想的な屈折率プロフイール、従つて理想的な光伝
送特性を有する光伝送線を製造し得る優れた利点がある
。それゆえとくに集束性光伝送線の製造に適用して甚だ
有利である。
第１図は従来の製造方法によつて製した集束性光伝送線
の屈折率プロフイールを示す線図、第２図は本発明に係
る製造方法の一実施態様を説明するための断面図、第３
図Ａは従来の製造方法により製した光伝送線の屈折率プ
ロフイールを示す線図、同じくＢは本発明の製造方法に
よつた光伝送線の屈折率プロフイールを示す線図、第４
図はコラツプス時にＳｉＣｌ４とＧｅＣｌ４との混合ガ
スを流した場合の屈折率プロフイールを示す線図である
。 ａ：屈折率の落ち込み、１：石英管、２：ガラス層、２
ａ：再堆積層、３：バーナ、４：添加剤蒸気の流通方向
。
の屈折率プロフイールを示す線図、第２図は本発明に係
る製造方法の一実施態様を説明するための断面図、第３
図Ａは従来の製造方法により製した光伝送線の屈折率プ
ロフイールを示す線図、同じくＢは本発明の製造方法に
よつた光伝送線の屈折率プロフイールを示す線図、第４
図はコラツプス時にＳｉＣｌ４とＧｅＣｌ４との混合ガ
スを流した場合の屈折率プロフイールを示す線図である
。 ａ：屈折率の落ち込み、１：石英管、２：ガラス層、２
ａ：再堆積層、３：バーナ、４：添加剤蒸気の流通方向
。
Claims (1)
- １ ガラス管内に、石英の原料および石英に対する屈折
率制御用添加剤の原料を含むガスを導入して当該ガラス
管内壁に気相化学反応により所要量のガラス層を被着形
成した後、上記石英の原料の導入を停止して、上記添加
剤の原料と、該原料を所要の添加剤に変える反応剤とを
ガス状態で流しつつ上記ガラス管を加熱して管内空所の
径を充分小さくし、しかる後中実化し、かつ線状ガラス
体となすことを特徴とする光伝送線の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21313782A JPS5918327B2 (ja) | 1982-12-03 | 1982-12-03 | 光伝送線の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21313782A JPS5918327B2 (ja) | 1982-12-03 | 1982-12-03 | 光伝送線の製造方法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7176476A Division JPS52153750A (en) | 1976-06-17 | 1976-06-17 | Production of optical transmission wire |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58130132A JPS58130132A (ja) | 1983-08-03 |
| JPS5918327B2 true JPS5918327B2 (ja) | 1984-04-26 |
Family
ID=16634184
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21313782A Expired JPS5918327B2 (ja) | 1982-12-03 | 1982-12-03 | 光伝送線の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5918327B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3929604A1 (de) * | 1988-09-12 | 1990-03-15 | Schott Glaswerke | Innenbeschichtung eines rohres |
-
1982
- 1982-12-03 JP JP21313782A patent/JPS5918327B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58130132A (ja) | 1983-08-03 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US3933454A (en) | Method of making optical waveguides | |
| US4203744A (en) | Method of making nitrogen-doped graded index optical waveguides | |
| JPS61155225A (ja) | 光導波管製造方法 | |
| JPS6021929B2 (ja) | 光学ガラスの構造体の製作方法 | |
| KR100650036B1 (ko) | Ｍｃｖｄ를 사용한 광섬유 프리폼 제조 | |
| JP4124198B2 (ja) | 脱水及び脱塩素工程を含むｍｃｖｄ法を用いた光ファイバ母材の製造方法及びこの方法により製造された光ファイバ | |
| JPS5918327B2 (ja) | 光伝送線の製造方法 | |
| KR100582800B1 (ko) | 저 수산기 함유 광섬유 모재 및 광섬유의 제조방법 및 장치 | |
| JPH0476936B2 (ja) | ||
| JPH03242342A (ja) | 光ファイバ母材の製造方法 | |
| JPS6024057B2 (ja) | ガラス体の製造方法 | |
| JPH0316930A (ja) | 複雑屈折率分布を有する光ファイバの製造方法 | |
| JPS6143290B2 (ja) | ||
| JPS591222B2 (ja) | 光ファイバの製造方法 | |
| JPH0327491B2 (ja) | ||
| JPS6042242A (ja) | 光フアイバ用ガラスの製造方法 | |
| JPS62182129A (ja) | 光フアイバ用母材の製造方法 | |
| JPS5924097B2 (ja) | ガラス体の製造方法 | |
| JPH0460930B2 (ja) | ||
| JPS62191434A (ja) | 光フアイバ用ガラス母材の製造方法 | |
| JPH0333660B2 (ja) | ||
| JPH01270533A (ja) | 光フアイバの製造方法 | |
| JPS63315531A (ja) | 光ファイバ母材の製造方法 | |
| JPS621586B2 (ja) | ||
| JPS5925739B2 (ja) | 光伝送用ガラスの製造方法 |