JPS5918169A - セラミツクの製造装置 - Google Patents

セラミツクの製造装置

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Publication number
JPS5918169A
JPS5918169A JP57127456A JP12745682A JPS5918169A JP S5918169 A JPS5918169 A JP S5918169A JP 57127456 A JP57127456 A JP 57127456A JP 12745682 A JP12745682 A JP 12745682A JP S5918169 A JPS5918169 A JP S5918169A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ceramic
section
furnace
temperature section
wetter
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP57127456A
Other languages
English (en)
Inventor
菊池 紀實
市森 栄吉
江上 春利
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Shibaura Electric Co Ltd filed Critical Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
Priority to JP57127456A priority Critical patent/JPS5918169A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は、セラミックの製造装置に関する。
〔発明の技術的背景とその問題点〕
従来、セラミック粉体、バインダー、浴剤+ ”J塑剤
等を所望条件で調整し7たセラミック成形体を工業的に
焼成するf二は、連続型焼成炉と称する低温部、高温部
、冷却部、送り装置、リターン部及び電源部、制御部等
より成る炉を用いる場合が多い○ 炉の低温部では、セラミック成形体の脱脂つまり、浴剤
、 iJ塑剤及びバインダー等の適正勿飛散を正目的と
している。
Sl禍郁では、脱脂処理芒れたセラミック体の高温焼結
を行ない所望物性を得る。
作却部でlj%焼糺セラミック体が炉外の室温に至るま
での間番二該か・6結俸にクラックあるいは特性か−F
寺を生じaせないような条件で保線する。送り装置は仮
焼成セラミック体を炉内に送り、わるい(・、lり・出
口力・ら炉外に込り出す、1Jjz、動部を′己゛む一
連の装■、リターン部u1炉から出てきyt %6 紹
セラミック体の取出し及び炉内f二人る未焼成セラミツ
ク体のha等を行ない、自動的、あるいは手動によりセ
ラミック体の移動かなされる。
′r11.υ・r、及び1000両都目、炉体への熱源
供帽及び各部の+ 419. h+4をコントロールす
る。
ここで炉の熱源としては、−鉄門に電気を用いる′…気
炉が多いが、約2000°C以上の温度を狭するよりな
場合にQl、ガスを用いるカス炉が主C二用いられる。
このような焼成炉を用いてセラミック成形体を焼成する
場合、亜要な点が2点ある。第1に低温部での脱脂条件
、第2に高温部での焼成条件であり、他(二これらと共
通の事項として、炉内でのセラミックの送りスピード、
雰囲気等が1要フアクターとなる。
このうちの、低温部での脱脂条件とは、セラミック成形
体中g二含まれている溶剤、バインダー。
可塑剤等の、本来のセラミック組成以外の成分をnr望
の短だけ、どのような条件下で該セラミック成形体から
飛散させるかC″−尽きる。脱脂が不十分で、まだ多く
のバインダー等が含まれた状態のセラミックを高温焼結
させると、その焼結体中には、多くの空孔が生したり、
焼結性悪化に伴なうセラミック焼結体の特性劣化が生じ
、逆g二過剰な脱脂処理でり一成形体が脆くなり、クラ
ックあるいは割れ、ひいては焼結体の特性劣化を招く。
このように、市温焼成に先立つ脱脂処理は極めて重要な
意味を有しており、セラミック焼結体の特性を大きく左
右する。
従来、連続型セラミック焼成炉を用いて脱脂及び焼成を
行なう場合、次のような間凱があった。
iL 1 +二、セラミック成形体を還元雰囲気中で脱
脂及び焼成する場合、低温部での脱脂を良好(二行なう
為、適量の水蒸気と水素カス(ウェットガス)を炉内に
注入する方法が有効であるが、このようなウェットカス
を供給するウェッター装置の無い炉があった。このより
な輌′造の炉でIj1脱脂処理にψ犬の時間を便し、か
つ、また脱脂条件がよくなく、焼結セラミック体の特性
も良くならなかった0 第21−、ウェッター鉄随付きの炉であっても尚淵部と
低温部共用であって、低温部での脱脂処理に正目的をお
いてウニツタ操作をすると、高温部での条件がう−まく
いかなく、結局、双方の中間的な条件ζ−する場合か多
く、その結果、焼結体の特性は、中IM+的な聴となる
例が多かった0第3C二、低温部、高温部用と別に単独
でウニツク−がついている最近の炉では、1個のウェッ
ター装置しかついておらず、低温部全体にそのウェッタ
ーからのウェットガスが有効5二作用しない、つまり、
セラミック成形体を載せる合板(トレー)にCよ、一般
Cニセラミック買物質の物が用いられ、ウェットガス注
入部附近のセラミック値トレーに殆んどのウェットガス
が吸着され低温部全体にウェットガスがゆきわたらない
、あるいは、全体にゆきわ危るようC二する【二は多量
のウェットガスを任入巳なければならないがそjLは必
然的に5部分的過剰ウェットとなり、脱脂栄件上、さら
f:は焼結上悪影響を及はし、結果として焼結セラミッ
クの特性息下となるという欠点があった○〔発明の目的
〕 本発明は、上記のような、従来の問題点を改善したもの
で、低温部(二1ケ所のみでなく、複数個のウェットガ
ス注入部を設(ハ)、力・つ、各々ノウエラターからの
ウェットガス注入量を任意にコントロール出来るように
しセラミック成形体の脱脂を任意所望の条件で行なえる
ようにし、特性良好なセラミックの製造装置を提供する
事を目的とする。
〔発明の概要〕
本発明の製造装置は低温部、高温部の少なくとも一方に
複数のウェッター装置を設け、その各ウェッターからの
ウェットガス注入量を任意にコントロール出来るような
栴造の連続型セラミック焼成炉を用い1セラミツクを製
造するものである。
〔発明の効果〕
本発明による効果の第1は、セラミック成形体の脱脂が
)′91望φ件JIT1り簡単に杓なえる小であり、第
2に任意の炉内位置ζ二任意の姐のウェットガスを惧粍
°ノ4)ことによって特定1β1所の今のウエットノj
ス過剰による製品劣化やテ生じなく、第3にこれらの総
合糺呆として、特性の良yfな品性nヒセラミックがイ
(tられる〇 〔発明の実施13’ll ) A140392ル桐%(以1同じ) 、 Si05 、
 MgO1,5゜0aO1,5に対し、Ti021 k
 M部、 0rBOB 4 k−tf4部杵石し、湿式
振動ミルで粉砕rIL合【、平均粒径2.2μm及び2
.0.1.7.1.6μmにした。
これに、ブチラール樹脂よりなるバインダー。
トリブチルホスフェートよりなる町塑剤、1−1−1ト
リクロール・エタン、n−ブタノール、テトラクロルエ
チレンよりなる溶剤を加え、ボットミルで混合し、成形
用スラリーな作った。これをドクターブレード法により
約1.5 yaの厚さのグリーン・シート(未焼成シー
ト)を成形した。
該成形グリーン・シートを第1図f二示すような、低温
部1に4個のウェッター装置8を有する連続型、還元雰
囲気焼成炉を用い、送りスピード340w5/Hでセラ
ミック体を炉内移動させた。
なお第1図中2は高温部を、3は冷却部を、4は送り装
置を、5は電源制御部を、6はリターン部を、7はタン
クをそれぞれ示す。
低温部1での温度と時間との関係を第2図に示す。
第3図に、各ウェッター装置8からのウェットガス注入
量と時間の関係を示す。この時、水素なi ooo t
7H水蒸気と共に注入した。
このような条件で、低温部1での脱脂処理したセラミッ
クを、  1430°C1時間で焼成した。
トレーには、アルミナ質のアロフラックス−MC++’
h茜名)を用いた0 炉内にrj、N2. N2を各々2及び8n?/h注入
し、i9元雰囲気で焼成した○ 第1表(−1本笑施例でイMられたセラミック焼結体の
比亜、肋’it;′、率ε、誘電正接tanδ及び体積
固有抵抗Rv等を示す。表1に於いて、セラミック粉体
の平均粒径というのは、ドクターブレード成形前の粉砕
工程終了後のセラミック組成粉体の平均粒径の墨であり
、1.6μmから2.2μm′!iでについての笑迎j
1直を示す。
尚、これら焼結体表面のフクレは認められなかった。ソ
IJ &ま、全試料について0.07 ws / 25
 H以下であった。
比爪し11水中浮力法、ε、  tanδは円板状試別
に釦奄セ■焼月りし、YHP製4270Aキャノくシタ
ンス・ブリッヂを用いて測定した。Rvは長方形板状紙
料で、Mコ」トTji、波製、超絶縁創(8M−10F
]型)を用い1−d1リ 足 し7 lヒ 。    
 以ニドづ宇ミ臼第1表 第1表にも7]クシたように、本発明による焼結結果i
J、4.6μm〜2.2μmで、十分な焼結性を示して
おり、低温部での脱脂処理も亢奮に行なわれている事を
示している。
本実施例に先立つ条件出しは、各部ウェッター装置の加
熱温度調節を3度テストしたのみで得られ、従来のよう
にトレー(ニラエツトカスが特定の注入部付近で多音に
吸漸され、各部に任意州供給出来ない、という問題は生
じなかった。その結果として表1f二示すような高性能
セラミック焼結体が得られた。
なおウェッター装置の純水を入れて駁くタンクリ1、名
ウェッタ一部に1個づつ、必ずしも必要とせず、  1
1f+lのタンクを用いる事も1」1能である。その場
合は、1(1itのタンクから祖斂のウェットガス注入
部に至る曲にウェットカス知を制御する装置を用いれは
よい゛。
また、低温部、筒温部、冷却部、リターン等を共伍しな
い炉においても、例えは、高温部のみ(二も抜iThの
ウェットガス注入部を廟する炉を用いて焼結する方法等
、容易に類推出来る。
ざら(ユは、本発明装部は、セラミックに限らずその他
−飯の焼結製品にも応用小米る。
4 図面のiu里な断、すJ bすi 1%!は本発明で用いるセラミックの製造装置
を示す図、第21及び第3図は本発明(二係るネ(造装
置トを月」いた時の%往側を示す曲勝図。
1 低藺部     2 篩温部

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)  低温部、市温部、冷却部、リターン部、送り
    装置及び電源部、制御部を有する連続型セラミック焼成
    炉を具備し、セラミックを脱脂、焼成する工程において
    、前記低圧部、篩圧部の少なくとも一方に複数のウェッ
    ター装置を具備した事を特徴とするセラミックの製造装
    置。
JP57127456A 1982-07-23 1982-07-23 セラミツクの製造装置 Pending JPS5918169A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP57127456A JPS5918169A (ja) 1982-07-23 1982-07-23 セラミツクの製造装置

Applications Claiming Priority (1)

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JP57127456A JPS5918169A (ja) 1982-07-23 1982-07-23 セラミツクの製造装置

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JPS5918169A true JPS5918169A (ja) 1984-01-30

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ID=14960374

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JP57127456A Pending JPS5918169A (ja) 1982-07-23 1982-07-23 セラミツクの製造装置

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61209961A (ja) * 1985-03-14 1986-09-18 東海高熱工業株式会社 セラミツク成形体焼成装置
JPS61257710A (ja) * 1985-05-08 1986-11-15 Daido Steel Co Ltd 剪断方法
JPS6349322A (ja) * 1986-08-13 1988-03-02 Toyota Motor Corp バンジヨウ型車軸管の製造方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS61257710A (ja) * 1985-05-08 1986-11-15 Daido Steel Co Ltd 剪断方法
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