JPS59178351A - ガス検出素子構造 - Google Patents
ガス検出素子構造Info
- Publication number
- JPS59178351A JPS59178351A JP5235083A JP5235083A JPS59178351A JP S59178351 A JPS59178351 A JP S59178351A JP 5235083 A JP5235083 A JP 5235083A JP 5235083 A JP5235083 A JP 5235083A JP S59178351 A JPS59178351 A JP S59178351A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- glass
- oxide
- insulating layer
- oxide semiconductor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N27/00—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means
- G01N27/02—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance
- G01N27/04—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance by investigating resistance
- G01N27/12—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance by investigating resistance of a solid body in dependence upon absorption of a fluid; of a solid body in dependence upon reaction with a fluid, for detecting components in the fluid
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Fluid Adsorption Or Reactions (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、酸化物半導体にガスを散層せしめ、その電気
特性値の変化によシ、上記ガスの種類を検出するに好適
な小形のガス検出素子構造に関する。
特性値の変化によシ、上記ガスの種類を検出するに好適
な小形のガス検出素子構造に関する。
従来から酸化物半導体が各種のガスに対し、電気抵抗値
が変化する性質を利用し、ガスのM無を検出するガス検
出素子として採用されている・しかし、%足の種類のガ
スを検出するだめには、そのガスに対してのみ電気抵抗
値が大きく変化することが心安となるが、他のガスによ
っても変化するため、他のガスが妨吾となシ誤動作を誘
発し、ガスの種類を正確に検出することが困難となる欠
点が生じていた。
が変化する性質を利用し、ガスのM無を検出するガス検
出素子として採用されている・しかし、%足の種類のガ
スを検出するだめには、そのガスに対してのみ電気抵抗
値が大きく変化することが心安となるが、他のガスによ
っても変化するため、他のガスが妨吾となシ誤動作を誘
発し、ガスの種類を正確に検出することが困難となる欠
点が生じていた。
すなわち、岐化錫(5nO2) 、酸化第2妖(Fe2
03)、酸化亜鉛(ZnO) @= 0) H化物半導
体は、各種のガスに対し、電気抵抗値が変化する特性を
有しているため、これ等の酸化物半導体にガスを吸着さ
せることによシ、ガスの有無を検出することができる。
03)、酸化亜鉛(ZnO) @= 0) H化物半導
体は、各種のガスに対し、電気抵抗値が変化する特性を
有しているため、これ等の酸化物半導体にガスを吸着さ
せることによシ、ガスの有無を検出することができる。
従って従来よシ、ガス検出素子として採用されていた。
しかし、上記の如く、各種のガスに対し、電気抵抗値が
変化するため、特定のガスの検出が木理となる欠点があ
った。そこで、特定のガスに対して電気抵抗値が大きく
変化するガス検出素子を選択し、これt複数個平面的に
!2設する手段が採用されているが、面積が犬となると
共に、特定のガスに対しのみ眠気抵抗値が大きく茨化す
るガス検子素子の適確な退択に技術′f:*する欠点が
あつ7”C。
変化するため、特定のガスの検出が木理となる欠点があ
った。そこで、特定のガスに対して電気抵抗値が大きく
変化するガス検出素子を選択し、これt複数個平面的に
!2設する手段が採用されているが、面積が犬となると
共に、特定のガスに対しのみ眠気抵抗値が大きく茨化す
るガス検子素子の適確な退択に技術′f:*する欠点が
あつ7”C。
〔発ゆJの回目9〕
不発明は、上記の欠点を腋、失すべくη:」茶てれたも
のであplその目的は、−ガス林類の恢出にケれると共
に、小形で、かつ省電力の可能なガス挾出素子イ″1q
造を提供することにある。
のであplその目的は、−ガス林類の恢出にケれると共
に、小形で、かつ省電力の可能なガス挾出素子イ″1q
造を提供することにある。
不発明(・寸、上記の目的を達1yするために、1教化
′吻半等坏を、少くとも一索子以上禎重すると共に、上
記酸化物半尋体に、その電気抵抗値の変化+c沃出する
ための軍@!、を係訃せしめ、上記槓]■効果によるガ
ス検出精度の向上紫利用し・ガス4」)・類を検知すべ
く佑成されたガス検出素子ぜ3°遣を特徴とし7Eもの
である。
′吻半等坏を、少くとも一索子以上禎重すると共に、上
記酸化物半尋体に、その電気抵抗値の変化+c沃出する
ための軍@!、を係訃せしめ、上記槓]■効果によるガ
ス検出精度の向上紫利用し・ガス4」)・類を検知すべ
く佑成されたガス検出素子ぜ3°遣を特徴とし7Eもの
である。
以下、本発明の実施例を図に基づいて説明する。
lず・本実施例の彼女を説明する。
第1図および第2図に示す如く、アルミナ基板(1)上
には、ν1]えば酸化u (Sn02 ) 、/<ラジ
ュム(Pd)およびガラスrj卑膜技術を用いてサンド
イッチ構造に形成した第1系子(4a)が載置され、第
1素子(4a)上tこは、杷豚層(5)を介し、Vりえ
ば、酸化亜鉛(ZnO) 、白金(Pt)およびガラス
−と同様にサンドイッチ構造にした第2索子(4b)が
積重されている。又、アルミナ基板(1)と第1索子(
4a)間には軍4輿(6C)が挿設され、第1索子(4
a)と絶縁層(5)間には篭・匝(3a)が・絶縁層(
5)と第2素子(4b)間には「L極(3d)が、第2
素子(4b)の表面上には電極(3b)がそれぞれ停会
される。
には、ν1]えば酸化u (Sn02 ) 、/<ラジ
ュム(Pd)およびガラスrj卑膜技術を用いてサンド
イッチ構造に形成した第1系子(4a)が載置され、第
1素子(4a)上tこは、杷豚層(5)を介し、Vりえ
ば、酸化亜鉛(ZnO) 、白金(Pt)およびガラス
−と同様にサンドイッチ構造にした第2索子(4b)が
積重されている。又、アルミナ基板(1)と第1索子(
4a)間には軍4輿(6C)が挿設され、第1索子(4
a)と絶縁層(5)間には篭・匝(3a)が・絶縁層(
5)と第2素子(4b)間には「L極(3d)が、第2
素子(4b)の表面上には電極(3b)がそれぞれ停会
される。
又アルミナ基板(1)の裏面側にはヒータ(2)が取漕
される。
される。
仮に詳しく説明するが、上記の如く第1索子(4a)上
に第2素子(4b)婢を積取することにより、ある狸頻
のガス、例えばメタンガスに対する第1索子(4a)の
検出感度が上昇することを4u用し、上記積電された第
1素子(4a)およO第2索子(41:) )にカスを
散層せしめ、例えば上a已メタンガスの恢矢11イ怒W
k↓胃加せしめることか口」1車となる。なお、」二記
′1g4Q(3a)奇テは、ガスか波層したときの電気
抵抗値の変化ケ計1i1iするために用いられ、その計
測粘釆は、ガス11000ppでの素子のコンダクタン
スで、nテ浄空気中の上記素子のコンダクタンスで法具
して水てるガス感波値として我示される0 第1衣で明らかの如く、絶縁層(5)および第2索子(
4b)がない場汗に較べ、これ青が積重される場舒には
、メタンガスに対するガス感娑イ匝か増加し、水素およ
びエタノールガスに対するカス”k I! 頓が減少す
る。従って、メタ:/ガスをより正確に検出することが
できる。
に第2素子(4b)婢を積取することにより、ある狸頻
のガス、例えばメタンガスに対する第1索子(4a)の
検出感度が上昇することを4u用し、上記積電された第
1素子(4a)およO第2索子(41:) )にカスを
散層せしめ、例えば上a已メタンガスの恢矢11イ怒W
k↓胃加せしめることか口」1車となる。なお、」二記
′1g4Q(3a)奇テは、ガスか波層したときの電気
抵抗値の変化ケ計1i1iするために用いられ、その計
測粘釆は、ガス11000ppでの素子のコンダクタン
スで、nテ浄空気中の上記素子のコンダクタンスで法具
して水てるガス感波値として我示される0 第1衣で明らかの如く、絶縁層(5)および第2索子(
4b)がない場汗に較べ、これ青が積重される場舒には
、メタンガスに対するガス感娑イ匝か増加し、水素およ
びエタノールガスに対するカス”k I! 頓が減少す
る。従って、メタ:/ガスをより正確に検出することが
できる。
次に、本実施例を更に詳しく説明する。
第1崗および第2図に示す第1累子(4a)としては、
酸化錫(5n02)を89 w t%、パラジュム(P
d)をiwt%およびカラスi1owt%とをサントイ
、チ@輩としたもの、酸化亜鉛(ZnO)會89wt%
、パラシーム(Pd)τIwt係およびガラスを10w
t%とをサントイ、チ構造にしたもの、又は、酸化タン
グステン(〜VO3)を89係、バラジ=ム(Pd)を
1wt%およびガラス全10襲とをサントイ、チ構造に
したものが用いられる。又、第2素子(4b)としては
、酸化亜鉛(2no) f 89wt%、白金(Pt)
k 1 wt%およびガラスを10wt%とおサンド
イッチM4mにしたもの、酸化タングステン(WO3)
を89wt% 、バラジュム(Pd)を1wtq6およ
びガラス全10wt%のもの、酸化タンタル(Ta20
5) i 89wt% 、パラヅユム(Pd)を1wt
%およびガラス全10wt%のもの、酸化錫(Sn02
)を89wt%、バラジュム(Pd)を1 wt%およ
びガラスを10wt%のもの等をそれぞれサントイ、チ
構造にしだものが用いられる。
酸化錫(5n02)を89 w t%、パラジュム(P
d)をiwt%およびカラスi1owt%とをサントイ
、チ@輩としたもの、酸化亜鉛(ZnO)會89wt%
、パラシーム(Pd)τIwt係およびガラスを10w
t%とをサントイ、チ構造にしたもの、又は、酸化タン
グステン(〜VO3)を89係、バラジ=ム(Pd)を
1wt%およびガラス全10襲とをサントイ、チ構造に
したものが用いられる。又、第2素子(4b)としては
、酸化亜鉛(2no) f 89wt%、白金(Pt)
k 1 wt%およびガラスを10wt%とおサンド
イッチM4mにしたもの、酸化タングステン(WO3)
を89wt% 、バラジュム(Pd)を1wtq6およ
びガラス全10wt%のもの、酸化タンタル(Ta20
5) i 89wt% 、パラヅユム(Pd)を1wt
%およびガラス全10wt%のもの、酸化錫(Sn02
)を89wt%、バラジュム(Pd)を1 wt%およ
びガラスを10wt%のもの等をそれぞれサントイ、チ
構造にしだものが用いられる。
更に、絶縁、曽(5)には、酸化錫を90wt%、ガラ
スi ’10wt% 、又は酸化叫鉛(Sn02)を9
0w1係、ガラス?Cl0wt%とをサンドイッチ構造
にしたものが用いられる。
スi ’10wt% 、又は酸化叫鉛(Sn02)を9
0w1係、ガラス?Cl0wt%とをサンドイッチ構造
にしたものが用いられる。
上記の酸化物半導体から形成される第1素子(4a)
、杷=<盾(5)および第2素子(4b)とを第1素子
(4a)を最下層として順次′A′jc車する。
、杷=<盾(5)および第2素子(4b)とを第1素子
(4a)を最下層として順次′A′jc車する。
又、ha(3a)、(ろb)、(6C)および(6d)
は、上記のμ(」<、第1索子(4a)、杷隊ハセ(5
)および第2素子(4b)にそれぞれ結汗して設けられ
る。又、ヒータ(2)il″j:m1素子(4a)’i
il’Mg置する厚さ0.3mm−辺4陥のアルミナ基
板(1)の裏面側に厚膜技術を用いて形成さ力、る。な
お、ヒータ(2)は、V、漸したガスの反応を促進し、
ガス感度?向上でせるため設けられるものである。
は、上記のμ(」<、第1索子(4a)、杷隊ハセ(5
)および第2素子(4b)にそれぞれ結汗して設けられ
る。又、ヒータ(2)il″j:m1素子(4a)’i
il’Mg置する厚さ0.3mm−辺4陥のアルミナ基
板(1)の裏面側に厚膜技術を用いて形成さ力、る。な
お、ヒータ(2)は、V、漸したガスの反応を促進し、
ガス感度?向上でせるため設けられるものである。
次に、本来流側の作用効果を説明する。
」二記構成のガス構出素子構造に、例えば、メタン、水
素およびエタノールガスを吸着せしめた結果が第1表に
示される。例えば、iA1素子(4a)か5n02、P
dおよびガラスから形成され絶縁層(5)およO:第2
素子(4b)がない場叶には第1素子(4a)のメタン
、水素およびエタノールカスに対するガス感度値は20
56および86で表示される。これに対し、e d、
泗(5)に81102およびガラスを用い、第2素子(
4b)にZnO1Piおよびガラス?用いると、ガス感
度値は2521および34となシ、メタンガスに対する
ガス感度値が増加し、水素およびエタノールカスに対す
るガス感度値が減少する。これは、メタンガス以外の水
素およびエタノールカスは、第2素子(4b)に吸着す
ることにより化学的反応が起り、ガスが分解し、その下
方倶jにある第1索子(4a)にガスの影響かでにくく
なるだめと、第2素子(4b)と絶縁層(5)および絶
に層(5)と第1累子(4a)間の境界面に触媒的作用
が生じメタンガスに対する感度を増加させると共に、水
素2よびエタノールガスの感度を減少せしめたことによ
ることが実験的に判明される。
素およびエタノールガスを吸着せしめた結果が第1表に
示される。例えば、iA1素子(4a)か5n02、P
dおよびガラスから形成され絶縁層(5)およO:第2
素子(4b)がない場叶には第1素子(4a)のメタン
、水素およびエタノールカスに対するガス感度値は20
56および86で表示される。これに対し、e d、
泗(5)に81102およびガラスを用い、第2素子(
4b)にZnO1Piおよびガラス?用いると、ガス感
度値は2521および34となシ、メタンガスに対する
ガス感度値が増加し、水素およびエタノールカスに対す
るガス感度値が減少する。これは、メタンガス以外の水
素およびエタノールカスは、第2素子(4b)に吸着す
ることにより化学的反応が起り、ガスが分解し、その下
方倶jにある第1索子(4a)にガスの影響かでにくく
なるだめと、第2素子(4b)と絶縁層(5)および絶
に層(5)と第1累子(4a)間の境界面に触媒的作用
が生じメタンガスに対する感度を増加させると共に、水
素2よびエタノールガスの感度を減少せしめたことによ
ることが実験的に判明される。
以上により、従来技術に較べ、第1素子(4a)のメタ
ンガスに対するガス感度を増加できると共に、低のガス
の影響度を減少し得るため、より正価にメタンガスの検
出が可能となる。
ンガスに対するガス感度を増加できると共に、低のガス
の影響度を減少し得るため、より正価にメタンガスの検
出が可能となる。
同様に肩出1素子(4a)の脂汗ぜをZ n 01Pc
tおよびガラスにした揚げ、又は、昏03、Pdおよび
ガラスにした場合にも、第1表囁かすμ]」<メタ次に
、別の実施例を第3図および第4図に示す・ 厚さ0.3mm、−辺4mmのアルミナ基板(1)上に
は第1素子(4a)が載置され、その上側には、絶縁J
@ (5)を介し、第2索子(4b)が横車される0又
、上記実施例と同様に電極(3a)、(6b)、(3C
)(3d)がそれぞれ第1素子(4a)および第2累子
(4b)に係けしている。又、アルミナ基板(1ンの裏
面側にはヒータ(2)が同様に形成される。
tおよびガラスにした揚げ、又は、昏03、Pdおよび
ガラスにした場合にも、第1表囁かすμ]」<メタ次に
、別の実施例を第3図および第4図に示す・ 厚さ0.3mm、−辺4mmのアルミナ基板(1)上に
は第1素子(4a)が載置され、その上側には、絶縁J
@ (5)を介し、第2索子(4b)が横車される0又
、上記実施例と同様に電極(3a)、(6b)、(3C
)(3d)がそれぞれ第1素子(4a)および第2累子
(4b)に係けしている。又、アルミナ基板(1ンの裏
面側にはヒータ(2)が同様に形成される。
第1素子(,4a )としては、酸化第2 鉄(Fe
203 )を89wt係、パラジュム(Pd)を1wt
係卦よびガラスtowt%のもの、酸化ニッケル(Ni
O)を90wt%およびガラス10wt%のもの、酸化
亜鉛(ZnO)を89wt%、パラジュムを1wt%お
よびガラス10MFt係のもの全それぞれ厚膜技術を用
いシート構造にしたものが用いられている。
203 )を89wt係、パラジュム(Pd)を1wt
係卦よびガラスtowt%のもの、酸化ニッケル(Ni
O)を90wt%およびガラス10wt%のもの、酸化
亜鉛(ZnO)を89wt%、パラジュムを1wt%お
よびガラス10MFt係のもの全それぞれ厚膜技術を用
いシート構造にしたものが用いられている。
又、第2素子(4b)としては、酸化ニラケン(Nip
)を90wt%およびガラスを10wt係のもの、4′
5酸化コバルト(00304)全90wt係およびガラ
ス10wt%のもの、ペロブス刀イト構迫のニッケル酸
ランタン(LaNiOa)を90wt%およびガラス’
firIDwt%のもの、敵化第2鉄(Fe 203
)を89wt%、パラジュム1 wt%およびガラスf
:lOwt−のもの、欧化タングステン(WO3)を8
9wt%、バラジュム(Pd)を1wt%およびガラス
f 10w’tチのもの全それぞれシート構造にしたも
のが用いられている。
)を90wt%およびガラスを10wt係のもの、4′
5酸化コバルト(00304)全90wt係およびガラ
ス10wt%のもの、ペロブス刀イト構迫のニッケル酸
ランタン(LaNiOa)を90wt%およびガラス’
firIDwt%のもの、敵化第2鉄(Fe 203
)を89wt%、パラジュム1 wt%およびガラスf
:lOwt−のもの、欧化タングステン(WO3)を8
9wt%、バラジュム(Pd)を1wt%およびガラス
f 10w’tチのもの全それぞれシート構造にしたも
のが用いられている。
又、P 祿tti (5)には、酸化’4 (Sn02
)i 90wt%およびガラスを10wt%のものをシ
ート構造にしたものか用いられている。
)i 90wt%およびガラスを10wt%のものをシ
ート構造にしたものか用いられている。
以上の構成のガス検出累子構造に、上記の実24[i
例の如く、プロパン、水素およびエタノールガスを吸謝
せしめたときの第1素子(4a)のガス感度値の変化を
第2表に示す。
例の如く、プロパン、水素およびエタノールガスを吸謝
せしめたときの第1素子(4a)のガス感度値の変化を
第2表に示す。
この場合には、プロパンガスに対するガス感度1直がや
や増加し、エタノールガスに対するガス熱度1匝が減少
することかわかる。
や増加し、エタノールガスに対するガス熱度1匝が減少
することかわかる。
この衣で、弗1素子(4a)にNiOを用いだ摘片には
、衣に示すガス感度値が小さい程ガス感度が市いことに
なる。これは、NiOがP型子導体であり、可燃性上記
ガスに接触すると電気抵抗11なが1胃刀日するためで
ある。
、衣に示すガス感度値が小さい程ガス感度が市いことに
なる。これは、NiOがP型子導体であり、可燃性上記
ガスに接触すると電気抵抗11なが1胃刀日するためで
ある。
以上により、プロパンガスに対し、従来技術より、正確
にガス検出することができる。又、その他の効果につい
ても上記実施例と同様であ6°
(Ws”F#、
、9ン第 2 表 [ 更に別の実施例を第5図および第6図に示す同じく、厚
さ06聾、−辺4wLlのアルミナ基板(1)上には、
;4縦技術を用いてサントイ、チ構迫に形成さ几た第1
系子(4a)と、その上方側に同様のサンドイッチ構造
の第2累子(45)および更にヤの上方側に絶縁層(5
)を介し、シート格!6の第3素子(4C)がそれぞれ
積重される。
にガス検出することができる。又、その他の効果につい
ても上記実施例と同様であ6°
(Ws”F#、
、9ン第 2 表 [ 更に別の実施例を第5図および第6図に示す同じく、厚
さ06聾、−辺4wLlのアルミナ基板(1)上には、
;4縦技術を用いてサントイ、チ構迫に形成さ几た第1
系子(4a)と、その上方側に同様のサンドイッチ構造
の第2累子(45)および更にヤの上方側に絶縁層(5
)を介し、シート格!6の第3素子(4C)がそれぞれ
積重される。
第1素子(4a)は、酸化Q (Sn02) i 89
wt%、パラシーム′f:1wt%およびガラス10w
t%のものから形成され、第2素子(4b)は、酸化タ
ングステン(WO3)全89wt係、パラシームを1w
t係およびガラスを10wt%のものから形成され第3
素子(4C)は、酸化ニノケン(NiO)を90wt%
>よびガラス10wt%のものから形成され絶)::硬
層(5)は、酸化楊を90wt%およびカラスを10w
t%のものから形成てれる。又、ia ’1.p−(3
a)、(3b)、(3C)、(ろd)およびヒータ(2
)はそれぞれ上6己実施例と同様に設けら几ている。
wt%、パラシーム′f:1wt%およびガラス10w
t%のものから形成され、第2素子(4b)は、酸化タ
ングステン(WO3)全89wt係、パラシームを1w
t係およびガラスを10wt%のものから形成され第3
素子(4C)は、酸化ニノケン(NiO)を90wt%
>よびガラス10wt%のものから形成され絶)::硬
層(5)は、酸化楊を90wt%およびカラスを10w
t%のものから形成てれる。又、ia ’1.p−(3
a)、(3b)、(3C)、(ろd)およびヒータ(2
)はそれぞれ上6己実施例と同様に設けら几ている。
上記のガス検出素子構造に、メタン、水素およびエタノ
ールガスを吸盾せしめた結果を第3表に示す、第3表の
第1累子(4a)のガス感度値は、第1表のNCL 5
のガス感度値とす丘は比戟されるものであり、第6表の
第2索子(4b)のガス感度値は、第1次のNα1oの
儲とほぼ比板されるものとなる。表に示される如く、史
に槓厘効朱が影質し、メタンガスに対するガスt=<V
愼が更に4加すると共に、水素およびエタノールガスに
対するガス感度値か史に低下する。
ールガスを吸盾せしめた結果を第3表に示す、第3表の
第1累子(4a)のガス感度値は、第1表のNCL 5
のガス感度値とす丘は比戟されるものであり、第6表の
第2索子(4b)のガス感度値は、第1次のNα1oの
儲とほぼ比板されるものとなる。表に示される如く、史
に槓厘効朱が影質し、メタンガスに対するガスt=<V
愼が更に4加すると共に、水素およびエタノールガスに
対するガス感度値か史に低下する。
以上により、上記実施例よシ史にメタンガスの検出感度
全土げることができる。
全土げることができる。
第 6 表
上記のいづれの実施例において、系子を厚膜技術によシ
形成したが、これに内定するものでなく、薄膜技術、セ
ラミック焼結技術等を用いたものでも本・r↓的のa目
異はない。
形成したが、これに内定するものでなく、薄膜技術、セ
ラミック焼結技術等を用いたものでも本・r↓的のa目
異はない。
父、素子を形成する酸化物半導坏も上記のものに内定す
るものでない。
るものでない。
以上の説明によって明らかの如く、本発明によれば、ガ
ス偵頑の検出額度を向上し侍ると共に、小形で、かつ省
電力に芙施し得る効果が上げられる。
ス偵頑の検出額度を向上し侍ると共に、小形で、かつ省
電力に芙施し得る効果が上げられる。
第1図はサンドイッチ構造の2つの素子から構成される
本発明の一実施例を示す平面図、第2図はそのTI −
II線矢視のVJf而図面第3図はシート構造の2つの
素子から構成さ凡る本発明の別の実施例を示す平面図、
第4図はその■−丁〜γ線ケ祝の断面図、第5図(dサ
ンドイッチ構造の2つの素子と、これに積重されたシー
ト構造の1つの素子から構成される本発明の史に別の実
施例を示す平m1図、第6図はその〜1−Vl線矢祈の
断面図である。 1・・・・・・アルミナ基板 2・・・・・・ヒータ 3a%3b1ろcl 3d・・・・・・電極4a・・・
・・・第1素子 4b・・・・・・第2累子 4C・・・・・・第3素子 5・・・・・・絶縁層 代理人弁理士 筒 倫 明 夫 第1 図 茅 2 図 第3 図
本発明の一実施例を示す平面図、第2図はそのTI −
II線矢視のVJf而図面第3図はシート構造の2つの
素子から構成さ凡る本発明の別の実施例を示す平面図、
第4図はその■−丁〜γ線ケ祝の断面図、第5図(dサ
ンドイッチ構造の2つの素子と、これに積重されたシー
ト構造の1つの素子から構成される本発明の史に別の実
施例を示す平m1図、第6図はその〜1−Vl線矢祈の
断面図である。 1・・・・・・アルミナ基板 2・・・・・・ヒータ 3a%3b1ろcl 3d・・・・・・電極4a・・・
・・・第1素子 4b・・・・・・第2累子 4C・・・・・・第3素子 5・・・・・・絶縁層 代理人弁理士 筒 倫 明 夫 第1 図 茅 2 図 第3 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、ガスの吸着によシ%気特性値が変化する酸化物半導
体を、少くとも一累子以上檀重すると共に、上記酸化物
半導体に、上記電気特性11IiLの変化を検出するだ
めの電極ケ係仕せしめたことを特徴とするガス検出素子
構造。 2検重される上記酸化物半導体間に、絶縁層を設けたこ
とを特徴とする特許請求の軛囲第1項に記載のガス検出
素子構造・
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5235083A JPS59178351A (ja) | 1983-03-30 | 1983-03-30 | ガス検出素子構造 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5235083A JPS59178351A (ja) | 1983-03-30 | 1983-03-30 | ガス検出素子構造 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59178351A true JPS59178351A (ja) | 1984-10-09 |
Family
ID=12912357
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5235083A Pending JPS59178351A (ja) | 1983-03-30 | 1983-03-30 | ガス検出素子構造 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59178351A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04128393U (ja) * | 1991-05-01 | 1992-11-24 | 松尾産業株式会社 | 商品盗難防止装置 |
JPH0727731A (ja) * | 1993-07-14 | 1995-01-31 | Oki Electric Ind Co Ltd | 匂いセンサ及び匂いセンサユニット |
JP2012013579A (ja) * | 2010-07-01 | 2012-01-19 | Seiko Epson Corp | 半導体装置、並びに、センサ素子及び半導体装置の製造方法 |
JP2012168193A (ja) * | 2012-05-01 | 2012-09-06 | Kenji Sato | 無線タグ型センサ |
-
1983
- 1983-03-30 JP JP5235083A patent/JPS59178351A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04128393U (ja) * | 1991-05-01 | 1992-11-24 | 松尾産業株式会社 | 商品盗難防止装置 |
JPH0727731A (ja) * | 1993-07-14 | 1995-01-31 | Oki Electric Ind Co Ltd | 匂いセンサ及び匂いセンサユニット |
JP2012013579A (ja) * | 2010-07-01 | 2012-01-19 | Seiko Epson Corp | 半導体装置、並びに、センサ素子及び半導体装置の製造方法 |
JP2012168193A (ja) * | 2012-05-01 | 2012-09-06 | Kenji Sato | 無線タグ型センサ |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS58191962A (ja) | ガス検出素子 | |
JP4056987B2 (ja) | 水素センサ及び水素の検知方法 | |
KR101734329B1 (ko) | 임피던스분석을 이용하는 화학물질 검출방법 | |
JP4162262B2 (ja) | ガス混合物中の酸化可能な成分の濃度を測定するためのセンサ | |
KR101759176B1 (ko) | 임피던스 분석을 이용하는 화학물질 검출방법 | |
JPH06507013A (ja) | 酸化錫ガスセンサー | |
JPH07500916A (ja) | 選択的ガス検出装置 | |
JPH11183420A (ja) | 薄膜ガスセンサ | |
JPS59178351A (ja) | ガス検出素子構造 | |
EP4170337A1 (en) | Hydrogen detection sensor and manufacturing method therefor | |
EP3529601B1 (en) | Gas sensing element | |
JP4376093B2 (ja) | 薄膜ガスセンサ | |
US20190033248A1 (en) | Amperometric electrochemical sensors, sensor systems and detection methods | |
KR20180122701A (ko) | 전류측정 전기화학 센서, 센서 시스템 및 검출 방법 (Amperometric electrochemical sensors, sensor systems and detection methods) | |
CN106970113A (zh) | 多层叠加的气体传感器 | |
JP3273127B2 (ja) | 固体電解質厚膜積層型coセンサ | |
JPH0540102A (ja) | ガスセンサ | |
JPH02662B2 (ja) | ||
JPS5961765A (ja) | ガス検知素子 | |
JP7296625B2 (ja) | 酸素センサ | |
JP3076443B2 (ja) | 湿度感知膜及び湿度センサ素子 | |
KR102503494B1 (ko) | 수소 감지 센서 | |
JP2955583B2 (ja) | ガスセンサ用検知素子 | |
JPH07294470A (ja) | 半導体繊維ガスセンサ | |
JPS589052A (ja) | 複合ガス検知素子 |