JPS59177369A - 真空蒸着装置 - Google Patents
真空蒸着装置Info
- Publication number
- JPS59177369A JPS59177369A JP5159483A JP5159483A JPS59177369A JP S59177369 A JPS59177369 A JP S59177369A JP 5159483 A JP5159483 A JP 5159483A JP 5159483 A JP5159483 A JP 5159483A JP S59177369 A JPS59177369 A JP S59177369A
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- Japan
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- evaporation
- pan
- molten metal
- heater
- pipes
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- Pending
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/246—Replenishment of source material
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
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- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、銅帯等に連続的にＺｎ、Ａｔ等の金属めっき
皮膜を真空蒸着させる真空蒸着装置に関する。
皮膜を真空蒸着させる真空蒸着装置に関する。
従来この種の真空蒸着装置は、第１因（ユ示すように鋼
帯Ｉが走行する真空槽２内に蒸着銅３を配置し、かつ大
気中に溶解炉４を配置し、この溶解炉４と蒸発鍋３とを
゛吸上管５で連通して １いる。上記蒸発鍋３は、上
部に蒸発ロ６￥開口し、内面に保温材７を張り付け、内
部に加熱ヒータ８を設置している。
帯Ｉが走行する真空槽２内に蒸着銅３を配置し、かつ大
気中に溶解炉４を配置し、この溶解炉４と蒸発鍋３とを
゛吸上管５で連通して １いる。上記蒸発鍋３は、上
部に蒸発ロ６￥開口し、内面に保温材７を張り付け、内
部に加熱ヒータ８を設置している。
この真空蒸着装置は、溶解炉４内のめっき材である溶融
金属９を真空吸引して、吸上管５がら蒸発鍋３に導き、
加熱ヒータ８で加熱して溶融金属９を蒸発させ、鋼帯１
に連続的にめっきする。
金属９を真空吸引して、吸上管５がら蒸発鍋３に導き、
加熱ヒータ８で加熱して溶融金属９を蒸発させ、鋼帯１
に連続的にめっきする。
しかしこの真空蒸着装置は、スタートアップ時に溶解炉
４から蒸発鍋３内に大量の溶融金属９が吸上げられる。
４から蒸発鍋３内に大量の溶融金属９が吸上げられる。
このため溶解炉４の底部にあるドロスＩｏ（溶融金属と
溶解炉壁材との化合物〕が一部浮遊して溶融金属９とと
もに吸上管５内に吸上げられるおそれがある。
溶解炉壁材との化合物〕が一部浮遊して溶融金属９とと
もに吸上管５内に吸上げられるおそれがある。
一方、吸上管５内の溶融金属９は流速が小さ゛い。例え
ば溶融金属９がＺｎの場合″、Ｚｎ消費量８００ｙ４／
ｈ、吸引管直径１００ｍとすると。
ば溶融金属９がＺｎの場合″、Ｚｎ消費量８００ｙ４／
ｈ、吸引管直径１００ｍとすると。
吸上管５内のＺｎ平均流速は４鵡／（３）と小さく。
また流れが層流であるため、吸引管内壁近傍で１よさら
に流速が小さくなる。
に流速が小さくなる。
従って一旦吸」二げられたドロスＩＯは、押し流されず
に長時聞１＠上管５のベント部５ａや蒸発鍋３との接合
部５ｂ付近などに滞留する。吸上管５の内壁にも多少ド
ロスが生成しており、その付近にドロスが滞留している
と、ドロス１０がひっかかったり、成長して吸上管５を
閉塞させる。ドロス１０で閉塞した箇所は、一般に高温
でも容易（−再融解せず、復旧が困難である。このため
従来は、吹上管５が閉塞すると、蒸発鍋３．吸上管５と
も新品と交換しなければならなかった。
に長時聞１＠上管５のベント部５ａや蒸発鍋３との接合
部５ｂ付近などに滞留する。吸上管５の内壁にも多少ド
ロスが生成しており、その付近にドロスが滞留している
と、ドロス１０がひっかかったり、成長して吸上管５を
閉塞させる。ドロス１０で閉塞した箇所は、一般に高温
でも容易（−再融解せず、復旧が困難である。このため
従来は、吹上管５が閉塞すると、蒸発鍋３．吸上管５と
も新品と交換しなければならなかった。
また蒸発熱源用の加熱ヒータ８を蒸発鍋３内ζ二取付け
ているので、真空放電（二対する絶縁。
ているので、真空放電（二対する絶縁。
磁力配゛庫等の対策が必要となるとともに、取付は作業
が煩雑となる問題があった。
が煩雑となる問題があった。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、その目的
とするところは、吸上管の閉塞を簡単な構造で防止する
ことかできるとともに、絶縁対策、′４力配線等を極め
て容易とすることができるに窒蒸着装置な得んと・する
ものである。
とするところは、吸上管の閉塞を簡単な構造で防止する
ことかできるとともに、絶縁対策、′４力配線等を極め
て容易とすることができるに窒蒸着装置な得んと・する
ものである。
すなわち本発明は、被めっき材が走行する真空槽内（−
被めっき材蒸雅用蒸発２．コを設け、又大気中に１又は
２以上の溶解炉娶設けて溶解炉中の溶融金属（めっき材
ンを置数の吸上管を介して蒸発鍋（二導き蒸発した溶融
金属を被めっき材（二蒸着する際（二、少なくとも１つ
の吸上管（二溶融金属移動用電磁ポンプ馨取付けて吸上
管同の溶融金属ン冨時流動させるとともに、溶解炉又は
吸上管に蒸発熱源用加熱ヒータを収付けたこと？特徴と
する。
被めっき材蒸雅用蒸発２．コを設け、又大気中に１又は
２以上の溶解炉娶設けて溶解炉中の溶融金属（めっき材
ンを置数の吸上管を介して蒸発鍋（二導き蒸発した溶融
金属を被めっき材（二蒸着する際（二、少なくとも１つ
の吸上管（二溶融金属移動用電磁ポンプ馨取付けて吸上
管同の溶融金属ン冨時流動させるとともに、溶解炉又は
吸上管に蒸発熱源用加熱ヒータを収付けたこと？特徴と
する。
以下本発明を１示する莫施例馨径照して説明する。第２
図は頁空蒸右装置の概略断面図である。この装置は、被
めっき材である酊４帯ＩＩが走行子ゐ真草’ＩＷ Ｉ
２円に蒸発鍋Ｉ３を配置している。蒸発鍋Ｉ３は、上部
にＯ１４帯ＩＩに対向して蒸元日１４を設けている。又
底部（−保温材１５ケ設け、この中に補助ヒーターＩ６
を配設している。蒸発鍋Ｉ３の下部（−は、２本の吸上
管１７．１８が接続され、各吸上管１７ 、１８は下端
を溶解炉１９円に１３（］口している。溶解炉Ｉ９は大
気中に設置され、底部（−溶融金属２０を加熱する加熱
ヒータ２Ｚが配置されている。
図は頁空蒸右装置の概略断面図である。この装置は、被
めっき材である酊４帯ＩＩが走行子ゐ真草’ＩＷ Ｉ
２円に蒸発鍋Ｉ３を配置している。蒸発鍋Ｉ３は、上部
にＯ１４帯ＩＩに対向して蒸元日１４を設けている。又
底部（−保温材１５ケ設け、この中に補助ヒーターＩ６
を配設している。蒸発鍋Ｉ３の下部（−は、２本の吸上
管１７．１８が接続され、各吸上管１７ 、１８は下端
を溶解炉１９円に１３（］口している。溶解炉Ｉ９は大
気中に設置され、底部（−溶融金属２０を加熱する加熱
ヒータ２Ｚが配置されている。
ま、た吸上管Ｉ８には、溶融金属移動用電磁ポンプ２２
が取付けられている。更にまた吸上管ＩＶ、Ｉ８の下端
付近の内部（二はフィルター２３．２３が設けられてい
る。フィルター２３゜２３は、溶融金属２０と反応しな
い材質、例えば溶融金属２０がＺｎあるいはＡｊの場合
は。
が取付けられている。更にまた吸上管ＩＶ、Ｉ８の下端
付近の内部（二はフィルター２３．２３が設けられてい
る。フィルター２３゜２３は、溶融金属２０と反応しな
い材質、例えば溶融金属２０がＺｎあるいはＡｊの場合
は。
Ａ４．０Ｂ 、ＺｒＯ，＃ ８１Ｃ，Ｃ，Ｓｉ、Ｎ４
、Ｔ ｉＵ。
、Ｔ ｉＵ。
などのセラミックスや、Ｍｏ 、Ｗ、タンタルなどの高
融点金属が使用される。この真空蒸着装置は、加熱ヒー
タ２Ｉで７ＪＩＪ熱された溶解炉Ｉ９内の浴融金属２０
を吸上管１’ｉ、Ｉｌｌを介して蒸発鍋Ｉ３に真空吸引
し、加熱ヒータ１６で補助的（ユ加熱して銅帯ＩＩの表
面に蒸着めっきする。
融点金属が使用される。この真空蒸着装置は、加熱ヒー
タ２Ｉで７ＪＩＪ熱された溶解炉Ｉ９内の浴融金属２０
を吸上管１’ｉ、Ｉｌｌを介して蒸発鍋Ｉ３に真空吸引
し、加熱ヒータ１６で補助的（ユ加熱して銅帯ＩＩの表
面に蒸着めっきする。
更Ｃ二この装置は、操業中に電磁ポンプ２２を操作して
吸上管Ｉ８内の溶融金属２０な上方又は下方（二移動さ
せ、このことにより溶融金属２０を吸上管Ｉ８、蒸発鍋
’Ｉ ３、吸上管Ｉ７及び浴解Ｐｒ９のに１ノで強制的
に循環させる。
吸上管Ｉ８内の溶融金属２０な上方又は下方（二移動さ
せ、このことにより溶融金属２０を吸上管Ｉ８、蒸発鍋
’Ｉ ３、吸上管Ｉ７及び浴解Ｐｒ９のに１ノで強制的
に循環させる。
この場合ポ、′牲金ｊν、２０の循環Σ−１は、（ｄ融
金属２０の浦貢命とは無ｉＡ係であり、′［Ｊ：付値ポ
ンプ２Ｉ（二より謬融金肋２０の流態馨従来（−比べて
非’ｊ’ｌ’ｒに大きくすることができ、又１ｊ１すれ
の１「１」きン逆転させることができる。従って吸上ｑ
ｒｙ、ｒｓのベンド部Ｚ ７ ａ ＊ Ｚ ８ａ ＋
ｆｆｒ合９Ｂ １７ ｂ ＠Ｉ８ｂ等にドロス２４が滞
；Ｊせず、吸上管１７゜１８の１，１基を防止すること
ができる。
金属２０の浦貢命とは無ｉＡ係であり、′［Ｊ：付値ポ
ンプ２Ｉ（二より謬融金肋２０の流態馨従来（−比べて
非’ｊ’ｌ’ｒに大きくすることができ、又１ｊ１すれ
の１「１」きン逆転させることができる。従って吸上ｑ
ｒｙ、ｒｓのベンド部Ｚ ７ ａ ＊ Ｚ ８ａ ＋
ｆｆｒ合９Ｂ １７ ｂ ＠Ｉ８ｂ等にドロス２４が滞
；Ｊせず、吸上管１７゜１８の１，１基を防止すること
ができる。
また蒸；にを釘Ｉ）１３内で溶融金属２０の篩度降下が
生じるが、浴力午炉Ｉ９とのＮ、：］ｗ循環していると
とも（−１油助卯熱ヒータＺ６で保晶しているため、溶
融り１ｚ１１・−１１２０の蒸発を良好（−おこなうこ
とかできる。ここで’ｒｌｌ：助力り熱ヒータＩ６は、
温度相ｊイ賞用として用いられ、蒸発熱ｉ≦尿として使
用されるものではない。例えは Ｚ ｎメツキラインの
場合、板巾１２５０ ｖａｎ 、ラインスピード２００
ｍ ／ ｒｎｉｏ 、目付％ ｌ Ｏμの場合、Ｚｎ
７ｐ貸祉約８００ Ｋｇ ／ ｈであり、黒発熱源ヒー
タは正味４００ ｉ（Ｖｉ’必要である。これ（二対し
温度抽慣用にのみ用いるならばヒータ容量は数十ＫＷあ
れば十分である。また蒸着銅Ｚ３内における溶融Ｚｎの
′０Ａ度降下は、溶融Ｚｎ循環量￥３×１０’胸乃とす
ると、上記条件では１０℃となる。従って補、助加熱ヒ
ータＺ６の容量は蒸発熱源として使用される場合に比べ
て大巾に少ない。
生じるが、浴力午炉Ｉ９とのＮ、：］ｗ循環していると
とも（−１油助卯熱ヒータＺ６で保晶しているため、溶
融り１ｚ１１・−１１２０の蒸発を良好（−おこなうこ
とかできる。ここで’ｒｌｌ：助力り熱ヒータＩ６は、
温度相ｊイ賞用として用いられ、蒸発熱ｉ≦尿として使
用されるものではない。例えは Ｚ ｎメツキラインの
場合、板巾１２５０ ｖａｎ 、ラインスピード２００
ｍ ／ ｒｎｉｏ 、目付％ ｌ Ｏμの場合、Ｚｎ
７ｐ貸祉約８００ Ｋｇ ／ ｈであり、黒発熱源ヒー
タは正味４００ ｉ（Ｖｉ’必要である。これ（二対し
温度抽慣用にのみ用いるならばヒータ容量は数十ＫＷあ
れば十分である。また蒸着銅Ｚ３内における溶融Ｚｎの
′０Ａ度降下は、溶融Ｚｎ循環量￥３×１０’胸乃とす
ると、上記条件では１０℃となる。従って補、助加熱ヒ
ータＺ６の容量は蒸発熱源として使用される場合に比べ
て大巾に少ない。
更（二またこの真空蒸着装置によれは、フィルター２３
゜２３を備えているので、吸上管Ｉ７゜１８ ａ ７ｈ
発鍋１３内へのドロス２４の吸込み量が少なくなり、閉
塞の危険性がより少なくなる。
゜２３を備えているので、吸上管Ｉ７゜１８ ａ ７ｈ
発鍋１３内へのドロス２４の吸込み量が少なくなり、閉
塞の危険性がより少なくなる。
次に本発明の他の実施例について第３図にもとづいて説
明する。
明する。
この真空蒸着装置は、２本の吸上管Ｚ７゜Ｉ８を蒸発鍋
Ｉ３に関して豆い（二対向する位置に取付け、それぞれ
の子端を別の溶解炉Ｉθ５ｚ ｙ’に浸漬したもので、
他の構造は第２図（二示す実施例と同様である。
Ｉ３に関して豆い（二対向する位置に取付け、それぞれ
の子端を別の溶解炉Ｉθ５ｚ ｙ’に浸漬したもので、
他の構造は第２図（二示す実施例と同様である。
この装置（−よれば第２図に示す実施例と同様の効果を
奏するとともＣ二、吸上ｗＩ ７ ｈ Ｚ Ｉｌ＋が蒸
着銅Ｉ３の両側１−あるの゛で、蒸着銅１３内の溶融金
属２０の局部的な滞留を防止できる。
奏するとともＣ二、吸上ｗＩ ７ ｈ Ｚ Ｉｌ＋が蒸
着銅Ｉ３の両側１−あるの゛で、蒸着銅１３内の溶融金
属２０の局部的な滞留を防止できる。
なお溶解炉及び吸上管は、実施例のものに限らず３個以
上でもよい。また１つの吸上管に限らず他の吸上管に電
磁ポンプを取付けてもよい。
上でもよい。また１つの吸上管に限らず他の吸上管に電
磁ポンプを取付けてもよい。
更にまた蒸発熱源用の加熱ヒータを吸上管に取付けたも
のでもよい。
のでもよい。
以上の如く本発明によれば、吸上管：二電磁ポンプな取
付けるという簡単な構造で、吸上管の閉塞を防止でき、
しかも溶解炉に蒸発熱源用加熱ヒータを配置したので、
蒸発鍋内のヒータ容量を小さくすることができ、蒸発鍋
の構造を簡素化できるとともに、絶縁対策、電力配線等
が極めて容易になる。
付けるという簡単な構造で、吸上管の閉塞を防止でき、
しかも溶解炉に蒸発熱源用加熱ヒータを配置したので、
蒸発鍋内のヒータ容量を小さくすることができ、蒸発鍋
の構造を簡素化できるとともに、絶縁対策、電力配線等
が極めて容易になる。
第１図は従来の真空蒸着装置の概略断面図、第２図は本
発明の一実施例を示す真空蒸着装置の概略断面内、第３
図は本発明の他の実施例を示す真空蒸着装置の概略断面
図である。 ＩＩ・・・鋼帯、Ｉ２・・・真空槽、Ｉ３・・・蒸発鍋
、１４・・・蒸発口、Ｉ５・・・保温材、Ｉ６・・・補
助加熱ヒータ、ｒ’ ７ 、 Ｚ ８・・・吸上管、１
９．１９’・・・溶解炉、２０・・・溶融金属、２Ｉ・
・・加熱ヒータ。 ２２・・・電磁ポツプ、２３・・・フィルタ、２４・・
・ドロス。 出願人復代理人 弁理士 鈴 江 武 彦第１図 第２図 一一一一セ″ 第３図 第１頁の続き ０発 明 者 和気完治 広島市西区観音新町四丁目６番 ２２号三菱重工業株式会社広島造 船所内 ■出 願 人 日新製鋼株式会社 東京都千代田区丸の内３丁目４ 番１号
発明の一実施例を示す真空蒸着装置の概略断面内、第３
図は本発明の他の実施例を示す真空蒸着装置の概略断面
図である。 ＩＩ・・・鋼帯、Ｉ２・・・真空槽、Ｉ３・・・蒸発鍋
、１４・・・蒸発口、Ｉ５・・・保温材、Ｉ６・・・補
助加熱ヒータ、ｒ’ ７ 、 Ｚ ８・・・吸上管、１
９．１９’・・・溶解炉、２０・・・溶融金属、２Ｉ・
・・加熱ヒータ。 ２２・・・電磁ポツプ、２３・・・フィルタ、２４・・
・ドロス。 出願人復代理人 弁理士 鈴 江 武 彦第１図 第２図 一一一一セ″ 第３図 第１頁の続き ０発 明 者 和気完治 広島市西区観音新町四丁目６番 ２２号三菱重工業株式会社広島造 船所内 ■出 願 人 日新製鋼株式会社 東京都千代田区丸の内３丁目４ 番１号
Claims (1)
- 披めつき材が走行する真空槽内に設けられた被めっき材
蒸着用蒸発鍋と、大気中に設けられたＩ又は２以上の溶
解炉と、同溶解炉中の溶融金属を上記蒸発鍋に導く複数
の吸上管と、少なくとも１つの吸上管に取付けた溶融金
属移動用電研ポンプと、上記蒸発鍋又は吸上管に取付け
た蒸発熱源用加熱ヒータとを具備したことを特□軟とす
る真空蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5159483A JPS59177369A (ja) | 1983-03-29 | 1983-03-29 | 真空蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5159483A JPS59177369A (ja) | 1983-03-29 | 1983-03-29 | 真空蒸着装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59177369A true JPS59177369A (ja) | 1984-10-08 |
Family
ID=12891234
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5159483A Pending JPS59177369A (ja) | 1983-03-29 | 1983-03-29 | 真空蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59177369A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1967604A1 (en) * | 2007-03-08 | 2008-09-10 | Applied Materials, Inc. | Evaporation crucible and evaporation apparatus with directional evaporation |
| JP2010522272A (ja) * | 2007-03-20 | 2010-07-01 | アルセロールミタル・フランス | 基材をコーティングするためのプロセスおよび金属合金真空蒸着装置 |
| WO2010087916A1 (en) * | 2009-01-30 | 2010-08-05 | Alcoa Inc. | Enhancement of aluminum tapping by application of targeted electromagnetic field |
| CN109154070A (zh) * | 2016-05-03 | 2019-01-04 | 塔塔钢铁荷兰科技有限责任公司 | 用于控制电磁泵的温度的方法 |
| US10196736B2 (en) | 2012-12-21 | 2019-02-05 | Posco | Heating apparatus, and coating device comprising same |
| JP2019039050A (ja) * | 2017-08-28 | 2019-03-14 | キヤノントッキ株式会社 | 蒸発源容器及び蒸発源装置 |
-
1983
- 1983-03-29 JP JP5159483A patent/JPS59177369A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1967604A1 (en) * | 2007-03-08 | 2008-09-10 | Applied Materials, Inc. | Evaporation crucible and evaporation apparatus with directional evaporation |
| JP2010522272A (ja) * | 2007-03-20 | 2010-07-01 | アルセロールミタル・フランス | 基材をコーティングするためのプロセスおよび金属合金真空蒸着装置 |
| KR101453583B1 (ko) * | 2007-03-20 | 2014-11-03 | 아르셀러미탈 프랑스 | 기재를 코팅하는 방법 및 금속 합금 진공 증착 장치 |
| WO2010087916A1 (en) * | 2009-01-30 | 2010-08-05 | Alcoa Inc. | Enhancement of aluminum tapping by application of targeted electromagnetic field |
| US8075747B2 (en) * | 2009-01-30 | 2011-12-13 | Alcoa Inc. | Enhancement of aluminum tapping by application of targeted electromagnetic field |
| US10196736B2 (en) | 2012-12-21 | 2019-02-05 | Posco | Heating apparatus, and coating device comprising same |
| CN109154070A (zh) * | 2016-05-03 | 2019-01-04 | 塔塔钢铁荷兰科技有限责任公司 | 用于控制电磁泵的温度的方法 |
| JP2019039050A (ja) * | 2017-08-28 | 2019-03-14 | キヤノントッキ株式会社 | 蒸発源容器及び蒸発源装置 |
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