JPS59176635U - 還元剤注入装置 - Google Patents
還元剤注入装置Info
- Publication number
- JPS59176635U JPS59176635U JP6857883U JP6857883U JPS59176635U JP S59176635 U JPS59176635 U JP S59176635U JP 6857883 U JP6857883 U JP 6857883U JP 6857883 U JP6857883 U JP 6857883U JP S59176635 U JPS59176635 U JP S59176635U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reducing agent
- agent injection
- view
- injection device
- pipe
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Treating Waste Gases (AREA)
- Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
第１図は、排ガスの流れ方向を矢印Ｇとする排気ダクト
の一部破断斜視図、第２図は、第１図のＡ−Ａ断面図、
第３図ａは、第１図のＢ−Ｂ断面図、第３図すは、第１
図のＣ−Ｃ断面図、第４図は、注入後のアンモニアが拡
散して触媒層までに排ガスと充分混合するための距離が
必要であることを示す概念図、第５図は、従来のアンモ
ニア注入管および同注入ノズルの配置を排ガスの下流側
から見た正面図、第６図は、第５図の側断面図、第７図
は、アンモニア注入管および同注入ノズルの一部破断拡
大縦断面図、第８図は、この考案のアンモニア注入管お
よびアンモニア注入ノズルを排気タクト内に配置した実
施例を示す排ガスの下流側から見た正面図、第９図は、
第８図の側断面図、第１０図は、オリフィスを有するア
ンモニア注入管およびアンモニア注入ノズルの一部破断
拡大縦断面図、第１１図は、第１０図のＡ−Ａ断面図、
第１２図、第１３図は、オリフィスの斜視図、第１４図
、切口面が斜面をなしている可変オリフィスが少し開口
している場合の該オリフィスとオリフィスガイドおよび
アンモニア注入ノズルの関係を示す縦断面図、第１５図
は、第１４図のＢ−Ｂ断面図、第１６図は、サーボモー
タの出力を制御ワイヤに伝達する個所の構造を示す縦断
面図、第１７図は、オリフィスセットばねを排気ダクト
外の下部の制御ワイヤ取付フレーム内に設置した構造を
示す一部破断拡大縦断面図、第１８図は、この考案の可
変オリフィス付アンモニア注入管を窒素酸化物および排
ガスの流速検出管として使用し、実際のアンモニア注入
管の上流側に設置した排気ダクトの縦断面図、第１９図
は、第１８図の横断面図、第２０図は、上記検出管の底
部の縦断面図、第２１図は、ブローバルブの斜視図、第
２２図は、手動で可変オリフィスを制御する構造の部分
的縦断面図、第２３図は、アンモニア注入管にミキシン
グフィンを取付けた場合の一部破断側面図、第２４図は
、第２３図の正面外観図を示す。 符号の説明、１・・・排気ダクト、２・・・アンモニア
注入管、３・・・アンモニア注入ノズル、４・・・アン
モニア注入弁、５・・・アンモニア制御弁、６・・・オ
リフィス、７・・・フランジ、８・・・バッキング、９
・・・注入管ガイドスリーブ、１０・・・フレキシブル
チューブ、１１・・・エキスパンションジヨイント、１
２・・・サーボモータ、１３・・・トランスミッタ、１
４・・・ベローチューブ、１５・・・出力端子、１５′
・・・制御ワイヤ、１６・・・ワイヤガイド、１７・・
・レジューサ、１８・・・オリフィスセットばね、１９
・・・ばねストッパ、２０・・・可変オリフィス、２０
′・・・ビン、２０“・・・スリット、２１・・・オリ
フィス座、２２・・・オリフィスガイド、２３・・・バ
ッフルプレート、２４・・・サーボモータロッド、２５
・・・触媒層、２６・・・制御ワイヤ取付はフレーム、
２８・・・検出ノズル、２９・・・ブローノズル、３０
・・・差圧検出塵、３１・・・ＮＯＸ計、３２・・・切
り換え弁、３３・・・差圧計、３４・・・パージエアラ
イン、３５・・・サーボモータ制御ライン、３６・・・
ブローバルブ、３７・・・ブローバルブセットばね、３
８・・・制御ねじ、３９・・・よりもどし、４０・・・
サポートフレーム。 ２２１図 ｕｔｉ”− 第１７図 、３ 第２２図 ８ １５′−”” −−
の一部破断斜視図、第２図は、第１図のＡ−Ａ断面図、
第３図ａは、第１図のＢ−Ｂ断面図、第３図すは、第１
図のＣ−Ｃ断面図、第４図は、注入後のアンモニアが拡
散して触媒層までに排ガスと充分混合するための距離が
必要であることを示す概念図、第５図は、従来のアンモ
ニア注入管および同注入ノズルの配置を排ガスの下流側
から見た正面図、第６図は、第５図の側断面図、第７図
は、アンモニア注入管および同注入ノズルの一部破断拡
大縦断面図、第８図は、この考案のアンモニア注入管お
よびアンモニア注入ノズルを排気タクト内に配置した実
施例を示す排ガスの下流側から見た正面図、第９図は、
第８図の側断面図、第１０図は、オリフィスを有するア
ンモニア注入管およびアンモニア注入ノズルの一部破断
拡大縦断面図、第１１図は、第１０図のＡ−Ａ断面図、
第１２図、第１３図は、オリフィスの斜視図、第１４図
、切口面が斜面をなしている可変オリフィスが少し開口
している場合の該オリフィスとオリフィスガイドおよび
アンモニア注入ノズルの関係を示す縦断面図、第１５図
は、第１４図のＢ−Ｂ断面図、第１６図は、サーボモー
タの出力を制御ワイヤに伝達する個所の構造を示す縦断
面図、第１７図は、オリフィスセットばねを排気ダクト
外の下部の制御ワイヤ取付フレーム内に設置した構造を
示す一部破断拡大縦断面図、第１８図は、この考案の可
変オリフィス付アンモニア注入管を窒素酸化物および排
ガスの流速検出管として使用し、実際のアンモニア注入
管の上流側に設置した排気ダクトの縦断面図、第１９図
は、第１８図の横断面図、第２０図は、上記検出管の底
部の縦断面図、第２１図は、ブローバルブの斜視図、第
２２図は、手動で可変オリフィスを制御する構造の部分
的縦断面図、第２３図は、アンモニア注入管にミキシン
グフィンを取付けた場合の一部破断側面図、第２４図は
、第２３図の正面外観図を示す。 符号の説明、１・・・排気ダクト、２・・・アンモニア
注入管、３・・・アンモニア注入ノズル、４・・・アン
モニア注入弁、５・・・アンモニア制御弁、６・・・オ
リフィス、７・・・フランジ、８・・・バッキング、９
・・・注入管ガイドスリーブ、１０・・・フレキシブル
チューブ、１１・・・エキスパンションジヨイント、１
２・・・サーボモータ、１３・・・トランスミッタ、１
４・・・ベローチューブ、１５・・・出力端子、１５′
・・・制御ワイヤ、１６・・・ワイヤガイド、１７・・
・レジューサ、１８・・・オリフィスセットばね、１９
・・・ばねストッパ、２０・・・可変オリフィス、２０
′・・・ビン、２０“・・・スリット、２１・・・オリ
フィス座、２２・・・オリフィスガイド、２３・・・バ
ッフルプレート、２４・・・サーボモータロッド、２５
・・・触媒層、２６・・・制御ワイヤ取付はフレーム、
２８・・・検出ノズル、２９・・・ブローノズル、３０
・・・差圧検出塵、３１・・・ＮＯＸ計、３２・・・切
り換え弁、３３・・・差圧計、３４・・・パージエアラ
イン、３５・・・サーボモータ制御ライン、３６・・・
ブローバルブ、３７・・・ブローバルブセットばね、３
８・・・制御ねじ、３９・・・よりもどし、４０・・・
サポートフレーム。 ２２１図 ｕｔｉ”− 第１７図 、３ 第２２図 ８ １５′−”” −−
Claims (3)
- （１） 複数個の還元剤注入ノズルを具備する還元剤
注入管を排気ダクト内に複数本設け、該排気ダクト内を
通過する排ガス中に該注入ノズルから還元剤を注入する
還元剤注入装置において、各還元剤注入管の個々の還元
剤注入ノズルにそれぞれ還元剤注入量調整機構を設けた
ことを特徴とする還元剤注入装置。 - （２）上記還元剤注入量調整機構を有する還元剤注入管
を窒素酸化物および排ガス流速の検出管として使用し、
これを還元剤注入量調整機構を有する還元剤注入管の上
流側に設置したことを特徴とする実用新案登録請求の範
囲第１項記載の還元剤注入装置。 - （３） 上記還元剤注入量調整機構を有する還元剤注
入管の外側に複数個の突起物を設けたことを特徴とする
実用新案登録請求の範囲第１項および第２項記載の還元
剤注入装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6857883U JPS59176635U (ja) | 1983-05-10 | 1983-05-10 | 還元剤注入装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6857883U JPS59176635U (ja) | 1983-05-10 | 1983-05-10 | 還元剤注入装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59176635U true JPS59176635U (ja) | 1984-11-26 |
Family
ID=30198750
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6857883U Pending JPS59176635U (ja) | 1983-05-10 | 1983-05-10 | 還元剤注入装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59176635U (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11347367A (ja) * | 1998-06-09 | 1999-12-21 | Babcock Hitachi Kk | 排ガス脱硝装置 |
| JP2001096131A (ja) * | 1999-09-30 | 2001-04-10 | Hitachi Zosen Corp | 排ガス脱硝システムのアンモニア注入装置 |
| JP2011027102A (ja) * | 2009-07-24 | 2011-02-10 | General Electric Co <Ge> | 選択的接触還元の低下した作動コストのためのアンモニア分配及び制御のモデルベースチューニング |
| WO2012060378A1 (ja) * | 2010-11-02 | 2012-05-10 | 株式会社Ihi | アンモニア注入装置 |
| JP2019086191A (ja) * | 2017-11-02 | 2019-06-06 | 株式会社Ihi | ボイラ |
-
1983
- 1983-05-10 JP JP6857883U patent/JPS59176635U/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11347367A (ja) * | 1998-06-09 | 1999-12-21 | Babcock Hitachi Kk | 排ガス脱硝装置 |
| JP2001096131A (ja) * | 1999-09-30 | 2001-04-10 | Hitachi Zosen Corp | 排ガス脱硝システムのアンモニア注入装置 |
| JP2011027102A (ja) * | 2009-07-24 | 2011-02-10 | General Electric Co <Ge> | 選択的接触還元の低下した作動コストのためのアンモニア分配及び制御のモデルベースチューニング |
| WO2012060378A1 (ja) * | 2010-11-02 | 2012-05-10 | 株式会社Ihi | アンモニア注入装置 |
| JP5594368B2 (ja) * | 2010-11-02 | 2014-09-24 | 株式会社Ｉｈｉ | アンモニア注入装置 |
| KR101480983B1 (ko) * | 2010-11-02 | 2015-01-09 | 가부시키가이샤 아이에이치아이 | 암모니아 주입 장치 |
| JP2019086191A (ja) * | 2017-11-02 | 2019-06-06 | 株式会社Ihi | ボイラ |
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