JPS5819731U - 還元剤注入装置 - Google Patents

還元剤注入装置

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JPS5819731U
JPS5819731U JP11223281U JP11223281U JPS5819731U JP S5819731 U JPS5819731 U JP S5819731U JP 11223281 U JP11223281 U JP 11223281U JP 11223281 U JP11223281 U JP 11223281U JP S5819731 U JPS5819731 U JP S5819731U
Authority
JP
Japan
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reducing agent
injection device
agent injection
catalyst layer
injection pipe
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Pending
Application number
JP11223281U
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English (en)
Inventor
渡辺　洸
石川　富久
柄本　俊二
Original Assignee
バブコツク日立株式会社
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Publication date
Application filed by バブコツク日立株式会社 filed Critical バブコツク日立株式会社
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は乾式脱硝装置の概要図、第２図、第３図は従来
の注入装置を示した図で第２図は全体図、第３図は第２
図の要部を拡大した図、第４図から第７図は本考案の実
施例を示した図で、第４図、第６図は斜視図、第５図、
第７図は第４図、第６図の要部を拡大した詳細図である
。 ２ａ〜２ｆ・・・・・・注入ノズル、３・・・・・・注
入管、１０・・・・・・内管、ｌｌａ〜ｌｌｆ・・・・
・・噴射ノズル、１２・・・・・・間隔、１３ａ〜１３
ｅ・・・・・・抵抗体。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 排ガスダクト内に触媒層を設け、この触媒層の上流に還
    元剤を注入する注入管を配置し、排ガスダクト内に還元
    剤を注入するものにおいて、前記注入管内にノズル径の
    異る内管を配置して二重管構造にし、かつこの管どうし
    の間に還元剤の流量を調整する抵抗体を設けたことを特
    徴とする還元剤注入装置。
JP11223281U 1981-07-30 1981-07-30 還元剤注入装置 Pending JPS5819731U (ja)

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JP11223281U JPS5819731U (ja) 1981-07-30 1981-07-30 還元剤注入装置

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JPS5819731U true JPS5819731U (ja) 1983-02-07

Family

ID=29906566

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