JPS59173259A - 無電解メツキ方法および装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、ニッケル、コバルトまたはニッケルもしくは
−」バルトを含有する合金による、物品の無電解メッキ
に関する。　本発明はニック′ルまたはニッケル合金の
メッキにとくに有用なので、以下、主としてニッケルに
ついて説明する。

ニッケルは、電気メッキによるかまたは無電解メッキに
より、物品上にメッキすることができる。

電気メッキにおいては、溶解したニッケル化合物を含有
する溶液中に物品を浸漬し、ファラデーの法則に従って
電解を生じニッケルを析出させるのに十分な電圧をか（
プる。　電気メッキにおいては、被覆の厚さは表面の曲
率の半径に従って変化する傾向がある。

無電解メッキにおいては、ニッケル１蕩と還元剤とを含
有づる溶液に物品を浸漬し、電気メッキがファラデーの
法則に従って電気化学的に析出でるのに対して、主とし
てニッケルの化学的還元の結果としＣ被覆が生じる。　
無電解メッキ処理中にメッキ装冒に電圧をかはでもよい
が、その電圧はファラデーの法則に従って析出を生じる
ことがなく、電圧をかジノるのは、たとえば使用する装
置上に望ましくないメッキが生じるのを妨げるため（・
ある。　還元剤は、多くの場合、次亜リン酸塩である。

無電解ニッケルメッキ中においては、ニッケルの濃度お
よび次亜リン酸塩の濃度が低１；シ、ｌｌｉｌミリンの
濃度が上昇−する、１一般的には亜すン酸塩濶度がｔ　
ｕ、−するとアルカリ金属塩のｍ度も上背する。　たと
えば、ニッケルを硫酸ニッケルとして、また次亜リン酸
塩を次亜リン酸ナトリウムとして導入すると、亜リン酸
塩の濃度の−１−：　ｔ？に伴って硫酸す１−リウムの
濃度が上昇することになる。

また、たとえばホウ素系の還元剤を使用するときは、ホ
「シ酸塩の濃度の」１背に至る。

典型的なメッキ溶液は、最初に７．５ｑ／９．のニッケ
ル（塩として＞、３０ｇ／ｕの次亜リン酸塩および（Ｍ
／見の亜リン酸塩を含有し、約１０６０の比重を有して
いる。　この溶液は典型的には約３０ミクロン／時のメ
ッキ速度を有し、１ｇのニッケルあたり約４．１２（＋
の割合で次亜リン酸塩を消費する。　従って、１ｇのニ
ッケルを消費すると、メッキ浴は約６．５ｇ／１１．の
ニッケル、２５〜２６ｑ／父の次亜リン酸塩および４〜
５ｇ／旦の亜リン酸塩を含有゛することになる。

ニッケルｄ５よび次亜リン酸塩を補給しない場合は、浴
は急速に枯渇づることになる。　従って標準的な実施に
おいては、使用時にニッケルと次亜リン酸塩を補給する
。　たとえば、溶液のニッケル１１ｉ１度を溶液の光吸
収を観察づることによって監視し、記録された吸収に従
って溶液にニッケルを自動的に補給し、かつ次亜リン酸
塩も補給する。

このような方法は、本発明出願の優先日以後に発行され
たアメリカ特許第４，２２９．２１８号明細書および１
９８３年５月に発行されたメタル・フィニツシングの３
１頁にあるＮｕｚｚｉの論文中に記載されている。

この方法における最初の補給は満足できるものであるが
、長時間使用の後には亜リン酸塩およびその他の望まし
くない副生物が増加し、メッキ処理を中断しな（〕れば
ならない稈１σに４する１、　たとえば、亜すン酸塩濃
度が上界すると、メッキの品質が低下し、次亜リン酸塩
の消費速度がニッケル１ｇあたり約６ｇに上昇し、従っ
てコストが十冒覆るばかりでなく、メッキ速度がたとえ
ば４ミクロン／時に低下する。　曲すン酸堪の濃度が１
５０ｏ／ｕ以上に増加したならば、溶液はすべて使えな
くなることは一般に認められている。

１９８０年に刊行されたガードナー・パブリケーション
ズ、ｌｎｃ、の多積集中のマーク・ψンコフスキーによ
る無電解ニッケル会議ｌ＼の報文には、設定され１〔パ
ーセンチ−２（たとえば２０％）の操作浴のくりかえし
の移動と、等容積の、より稀薄な溶液で置換して比重を
下げて実施するプロセスが報告されている。　分析およ
び次亜リンＭ塩とニッケルの添加を度々行なう必要があ
る。　このプロレスは、延長された自動操作を可能にｊ
るものではないから、廃棄物の量は多聞になる。

従って、補給を行なうすべての既知の無電解ニッケルメ
ッキ方法は、真の連続的方法とはいえず、長時間のバッ
チ方法であり、このバッチ方法では、各バッチごとに品
質と効率が徐々に低下し、しがもその効率が許容でさる
水準以下に低下したどきは、全体のメッキ溶液は廃棄し
な（プればならない。

従って、これらＱ−メッキ溶液は非常に大きな排出液の
問題を生じる。

本発明の目的は、ニッケル、コバルト、ニッケルの合金
またはコバルトの合金をメッキづるに際し、上記の問題
を克服し、長期間にわたって均一な品質のメッキが可能
であり、また廃棄すべき排出液の量を最少限にする方法
および装置を提供することにある。

本発明においては、連続した物品を、メッキ金属（塩と
して）および還元剤を含有するメッキ溶液に接触さｕ１
ニッケル、コバルト、ニッケルの合金およびコバルトの
合金からえらんだメッキ金属でメッキするに当って、メ
ッキ金属を補給してメッキ金属の濃度を実質的に一定に
保ち、かつ還元剤を補給して還元剤の濃度を実質的に一
定に保ち、溶解している固形分濃度の上昇を監視し、溶
解している固形分の１ｌｉｌ劇の一１′、麿が観察され
たときは溶液を自動的に稀釈することによって、ｊ！几
剤から生成した酸化生成物の′ａ度を実質的に一定に保
ち、このようにしてメッキ溶液を長期間使用できるＪ：
うに維持づる。

還元剤は、好ましくは次亜リン酸塩であり、この場合に
、本発明に従ってその濃度が一定に保たれる酸化生成物
は、亜リン酸塩である。　ホウ素系の還元剤たとえばジ
メチル（またはジエブル）アミンボランまたはＢＨ４も
使用でき、この場合に、その濃度が一定に保たれる酸化
生成物は、一種または二種以上のホウ酸塩（デ１−ラー
またはメタホウ酸塩）および、おそらくアミン類である
。

ヒドラジンその他の還元剤もまた、使用可能−Ｃある。

。 本発明ににれば、既知のリベての無電解ニッケルまたは
コバルトメッキ方法において可能Ｃあるよりもはるかに
長時間にねたつで、実質的に均一で高いメッキ速度でメ
ッキ処理を行なうことができる。　たとえば１本発明の
方法は、適当な補給を行ない、メッキ溶液を一定容量に
維持することによって、１文のメッキ溶液あたり少なく
とも２５　’Ｏ（］以上の亜リン酸塩が生成覆る間、一
般には１只のメッキ溶液必たり１０００（１以上、そし
て多くの場合は５．０００　ｇ以上の亜リン酸塩が生成
づる間（またはこれと均−笠な欝の他の酸化生成物が生
成づる間）、継続することができる。

本発明以前においては、最適のメッキ品質を得るには、
還元剤に対するニッケルまたはその仙のメッキ金属の比
率が化学量論量の約１０％以内、典型的には約７６５の
ニッケルに対し４０の次亜リン酸塩の比率とずべきこと
が一般的に必要とされていた。　本発明の顕箸な利点は
、上記の比率が大きく変動したり、濃度がごく低くなっ
たとしても、メッキが悪影響を受けないということにあ
る。

たとえば、溶液が２Ｊ　／文のニッケル（または他のメ
ッキ金属）と１５ｇ／９．の次亜リン酸塩を含有りる場
合であっても、あるいは１ｇ／９．のニッケルと５（＋
／見の次亜リン酸塩とを含有する場合であっても、なお
非常に満足できる結果が得られる。　このようにして、
廃棄すべき溶液の量は著しく減少りる。　それは、曲す
ンＭ塩やホウ酸塩のような酸化生成物の許容Ｃきない増
加がＭｌ）られ、きわめて低いｆＡ度でも浴が猿用可能
であり、広い範囲に変動する温度においても浴か使用ｉ
Ｊ能であるからである。

溶液の稀釈は、通常は、メッキ溶液中の溶解しくいる固
形分濃度の観察に応じ（溶液を自動的に取り除き、取り
除いた溶液を、水ならびにメッキ金属（塩として）おＪ
：びくまたは）還元剤を含有づる水溶液からえら／υだ
稀釈液で、自動的に置換することにより行なわれる。

稀釈液は、好ましくは水である。　というのは、水は廃
棄づべき溶液の吊を最少にづるからである、１ニツケル
および還元剤の補給（ぞれらの濃度を一定に保つための
）は、その場合、使用している浴中のニッケルおよび還
元剤の濃度よりも高い濃度を有づる溶液を用いて行なう
ことが好ましい。

別法としては、あまり満足とはいえないが、稀釈液とし
て、使用している浴よりも一般に稀薄なニッケルおよび
１７元剤を含有づる溶液を用いることもできる。

この方法は、一般的には、６０〜９５℃の範囲の温度た
とえば約９５℃という加温下に行ない、その結果、メッ
キ処理中に水の蒸発が起る。　蒸発による溶解している
固形分濃度の上界は、水を加えて補正づべさである。　
蒸発した水を補給液で置換づると、溶解した固形分を低
下させるという望ましい効宋はあるが、メッキ金属と次
亜リン酸塩の１１１度が上背づ−るであろう。

メッキ処理中の補給によっ−（メッキ金属と還元剤８度
を実質的に一定に維持づることか必要であり、この濃度
の維持には、ニッケルまたは還元剤の消費を観察づる必
要がある。　最も正確な結果を１ｑるためには、たとえ
ば分析によって還元剤の消費量を調べ、わかった消費量
に応じてこれを補充し、同時に、たとえば分析または光
吸収によってメッキ金属の消費量を調へ、わかった消費
量に応じくこれを補充することが望ましい。　しかしな
から、本発明者は、本発明においてはメッキ金属の消費
量を監視しメッキ金属を補給して−ぞの温度を実質的に
一定に維持し、かつ添加されるメッキ金属の最に基づき
実質的に化学量論量のｊ！元剤で還元剤を補給ブーるこ
とで十分なことを見出した。

好ましい還元剤は次亜リン酸塩であり、従っ（゛、簡単
のため、以下の記載においてはこれについ（述へる。　
ただし、これは限定的なものではなく、他の適当な還元
剤の相当でる吊もよｌｃ、それほど好適ではないが、使
用できる。

一般的には、補給ブる次亜リン耐応１の甲は１ｇのメッ
キ金属あたり４〜６．５ｇ、好ましくは５へ−５，５（
＋の次亜リン′ｖｉ塩である。　一般的には補給はメッ
キ金属（塩として）と次亜リン１Ｂの双方を含有してい
るｔｌｉ−の溶液で行ない、この溶液は一般的には５〜
３０ｇ／ｆｌ、好ましくは１０〜２０ｇ／父の温度のメ
ッキ金属く塩として尋人したもの）を含有し、かつ一般
的には亜すン酸塙を含有しないものである。　しかして
、この補給液は、一般に６７９／父のニッケルと４．Ｏ
Ｏｇ／旦の次亜リン酸塩とを典型的に含有覆る、無電解
ニッケルメッキに従来使用されている補給液よりも七し
く稀薄なものである。

メッキ金属Ｐａ度の監視は、製品の生産量から則粋して
行なうことがてぎるし、より一般的には溶液を随時滴定
することによ−り行なうことができる。

たとえば数時間ごとくたとえは毎朝）に、メッキ溶液を
分析してそのメッキ金属の濃度を求め、溶解している固
形分濃度を記録し、水、メッキ金属および次亜リン酸塩
を添加して所望のメッキ金属濃度と溶解固形分濃度を有
づ゛る溶液とすることができる。　このようにづること
により、この溶液に、メッキの生産量に基づいて計算し
た演費早に従ってメッキ金属と次曲リン酸塩とを補給し
、溶解し−Ｃいる固形分濃度を時々または連続的に監視
し、それに従って溶液を取除き、稀釈する必要があるど
きはそのつと水を補給することにより、ｌ（とえば２〜
１０時間使用づることができる。

しかしながら、溶液のメッキ金属濃度を自動的に監視し
、観察した値に応じて溶液に自動的にメッキ金属（塩と
して）を加え、１ｌＥＩＩｕを実質的に一定に維持づる
ことが好ましい。　メッキ金属の濃度は光吸収によって
監視することが好ましい。

予め定めた温度低下に応じて信号を発する比色計を使用
することによって、メッキ金属のｉｌｔ！　＋９を監視
することかできる。　上記の比色計は、たとえば光源お
にび光源から一定の距剛にあるフＡ１〜ゼルその他の光
受容体を備えることによって、光受容体により発生づる
電気信号が溶液のメッキ金属濃度に従って変化覆ること
になる。　濃度が所定の値以下に時下すると、信号がポ
ンプを始動して、浴液にメッキ金属塩溶液（および通常
法！ＩＩＩリン酸塩も）を添加づることになる。

比色計は、それが浴中のメッキ金属の濃度を記録し、伯
の成分の濃度を記録しないように設泪しなりればならな
い。　たとえば、ニッケルは多くの場合３９０ｎｍの波
長の光を使用して監視されるが、この波長は浴中の他の
成分のｍ度をも記録づるので、本発明においては、装置
が溶液中の仙の成分による妨害を排除するための一般的
な比較手段を有しない限り、波長は好ましくは６６０〜
７２Ｑｎｍの鞘囲内にとるべきである。

従って好ましい本発明の方法は、溶液中のメッキ金属の
濃度を光の吸収によって観察し、その濃度の低下に応じ
てメッキ金属く塩として）および実質的に化学量論量の
次亜リン酸塩を含む溶液を自動的に補給し、それによっ
°Ｃメッキ金属ｊｊ３　Ｊ、び次亜リンＭ塩の濃度を実
質的に一定に維持し、そして溶液の溶解している固形分
濃度を監視して溶解している固形分濃度の上背に応じて
溶液を取り出し、取り出した溶液を自動的に水で置換し
、このようにして曲リン酸塩の′ａ度を実質的に一定に
維持することからなる。

既知の補給式の方法においては、亜リン酸塩の濃度は１
５０ｑ／ｆｆ、以下でなければならず、ニッケルおよび
次亜リン酸塩の濃度は各々約７．５および４０ｇ／ｕに
維持づ−べきであると一般に認められているか、本発明
においては、最良の結果を得るために亜リン酸塩の濃度
を２００〜２５０（］／見に積極的に維持する。　最初
の開始時には、亜リン酸塩の濃度は、たとえば５０ｇ／
ｕのように低くてもよく、時には約２７５ｕ／１！に１
背づることもあるか、長時間使用している間は、前記の
取り出しおよび稀釈の手法により、２００−２５０ｇ／
Ｕに維持するのが好ましい。　メツ−１金屈の濃度は、
一般的には１へ−１０ｇ／見、好ましくは２〜８ｇ／９
−の範ｍ１であり、次亜リン酸塩の濃度は、一般的には
５〜７０（１／見であり、典型的にはメッキ金属の吊の
４〜・８倍の量で存在Ｍる。

溶解している固形分濃度は、いずれかの有意義な竹類を
観察覆ること（実際には溶液の密度、ｉｆｉ電度または
収縮率を測定することを意味づるンにより、監視づるこ
とかできる。　溶液のこれらの物理的性質を測定し、そ
の測定した１ｉｒｉを使用してポンプを制御りる装置は
Ｊ：り知られている。　好ましい性質は比重くすなわち
密度）であり、この性質は、調節可能なフロートにより
観察することが好ましく、このフロー１〜によって、密
度が所定の値以上に上背するとフローｉ〜がスイッチを
作動さけて、比重が所望の値、一般的には１１００〜１
２００の範囲、好ましくは１１″３０〜１１７０の範囲
を超えると浴中゛の溶液を稀釈するようにする。　通常
、浴には、浴中の溶液の液面が下がるとぎはいつでも定
量装置により脱イオン水を自動的に注入する装置が設け
られており、従つ゛Ｃ１稀釈はポンプを始動して浴から
溶液を取り出し、定量装置を通して脱イオン水を浴に加
えることによりスイッチ作動で行なうのが好ましい。

本発明は、メッキ金属がニッケル、またはニッケルとク
ロムまたはニッケルとタングステンとの混合物であるメ
ッキ処理にとくに有用であり、ニッケルがｐｌｌ−のメ
ッキ金属である場合は、上記の量が処理用に目算できる
が、他のメッキ金属や引合せたメッキ金属についても応
用することができる。　本発明の方法は、ニッケルと他
の金属との合金および］パル１へまたはコバルトの合金
にも使用Ｊることかできる。

メッキ溶液は、金属メッキ被覆中に包含されるような、
分散した金属粒子または非金属粒子を包含してもよい。

これらの粒子は、比手ヤ）光吸収を測定りる１段から排
除づる必要があり、もしＪＪＩ除しないと測定値が狂う
ことになる。

メッキ溶液（ま、通常は普通の酸性のｐＨ１一般的には
３へ・６、好ましくは４・〜５の範囲のｐ　Ｌ（を有す
るが、たとえば１０までの値のアルカリ側のｐ　ｌ−１
でも可能である。

本発明は、上記方法に使用する無電解メッキ溶液を制御
覆るための装置をも包含し、ぞの装置は、溶液に溶解し
ている固形分濃度を監視し、溶解している固形分濃度の
上置に応じて溶液を自動的に稀釈づる手段を有する。　
この装置は、一般的にはメッキづべき物品を浸漬するタ
ンクを右覆るとともに、溶解している固形分濃度の上背
に応じてタンクから溶液を取り出ず手段、およびタンク
中の溶液の容量の減少に応じてタンク中に水を？十人す
る手段を有している。　本発明の装置は、タンクからメ
ッキ溶液を連続的または断続的に取り出す、監視装置を
備えることが好ましい。

一般的には、溶解している固形分濃度、とくに比重は一
定の温度で記録づ−る必要があり、従っＣメッキ溶液は
、監視１−る前に標準温度、一般的には約１５〜２５℃
の温度にすることが好シＬしい。

本発明を添（＝１図面に従って説明する。　第１図は本
発明の監視手段を図解的に示し、第２図は本発明の被覆
装置を図解的に示すものである。

第１図の監視装置は、容器１、浴から溶液を受けるため
に入口３に通じているバイブ２および溶液を浴に戻−ｔ
　ＩＣめの出Ｄ　４からなっている。

装置全体としては、ニラ６ケル塩溶液を浴に加えるため
のポンプ、次亜リン酸塩溶液を浴に加えるためのポンプ
、浴からメッキ溶液を取り出まためのポンプ、および取
り出したメッキ溶液の容量と同−容量の脱イオン水を加
えるための定水面装置をも包含している。

監視装置は、比色ｉｔ’　６　ａおよび６ｂと、フロー
ｉ−７を有している。

ニッケルを測定する比色訓６ａおよび６ｂは、光源６ａ
と光受容イホ６ｂとを有し、ニッケル塩溶液用のポンプ
にアンプを通して連絡している適当な電気的接続器９を
有しており、それによっＣ容器１中のニツウル温度が所
定の値以下になっｌζ時には、ニッケル塩をメッキ溶液
に加える。　次曲リン酸塩はニッケル塩とともに加える
。

フロート７はスイッチ１０に接続しく’　Ｊ＞す、この
スイッチ１０にはアンプを通して浴力璽ら溶液を取り出
すためのポンプに通じる適当な電気的Ｊｆｆｉ　ＧＬ器
１１が設けてあり、従ってポンプは密度が所定の値以上
になりフロー１〜が上昇したときた【プ作動するように
なっている。　フロート７に調節ナラ１〜１２を設りる
ことにより、スイッチ１ｏ、従って浴から溶液を取り出
づためのポンプを作動させるのに十分にフロートが土臂
覆る密度、を容易に調節することがで゛ぎる。

密度の測定は常に一定の湿度で行なうべきであり、従っ
て、入口バイブ２中に熱交換器１３を設けて、溶液を一
定の湿度、典型的には約５０°０にすることができる。

　この熱交換′Ｅｉ（Ｊは、冷却用液体を循環させるた
めの入口１４おＪζび出［１１５を設【プることができ
る。

密度の測定がフロート７の近くの液体流ににり生じる動
的効果により乱されないようにする必要があり、従って
、シート１６またはその伯の適当なバッフルを入口３上
に設けて、フロートの近くの上向きの液体流速度を最少
にすることができる。

装置を検量するために、最初に濃度の判っているニッケ
ル、次亜リン酸塩および亜リン酸塩の標準溶液を、バル
ブ１８を通してパイプ１７から入口３中に導入する。

第２図の′３Ａ置はメッキタンク２０からなり、このタ
ンクには、タンク中の溶液２３中に物品２２を、この物
品を適当にメッキするのに必要な時間浸漬りるための、
慣用のコンベア２１が設けられている。　ポンプ２４が
、出口２５から溶液を連続的または断続的に抜き出づた
めに設けてあり、コイル２７を有する冷却容器２６中に
周囲温度の水道水が通されている。　次に冷却されＩＣ
メッキ溶液はポンプ２４により装置２８中を強制的に流
され、たとえば第１図の部品７．１０．１１および１２
を右する装置２８中で、溶液の比重が連続的に測定され
る。１　次に溶液は装置２９を通り、そこでメッキ溶液
の１ｌｉ１度が、たとえば第１図の部品６ａ、６ｂおよ
び９を有する装置２９中で光学的に測定される。　部品
２８および２９【、↓、第１図に示づように組み合せ′
Ｃ単一の監視装置とし−でもよい。

メッキ溶液が分散した粒子を含有する場合は、装置２８
および２９中にフィルターを設り、比重と光吸収を測定
する装置から固体を排除Ｊることになる。　測定ずみの
液体は、ライン３０をへζメッキ溶液に戻される。

比重が所定の値、一般的には約１１５０以上に、１ニ昇
したことを比重記録装置２８が記録したら、ポンプ３１
が始動して装置からメッキ溶液を扱き出しパイプ３２を
へて排出づる。　この排出された溶液は、タンク２０か
ら図示した個所または他の個所で抜き出される。

その結果、タンク２０内の溶液の水面が降下し、レベル
センサー３３がこれを記録し、自動的にポンプ３４を起
動し、ポンプが水、一般的には脱イオン水をパイプ３５
をへ−Ｃメッキ溶液中に加え、ポンプ３１により抜き出
された溶液の容量を置換づる。

メッキ金属の濃度がその所望の値以下に降下したことを
装置２９が記録すると、これがポンプ３６を起動し、ポ
ンプ３６によってメッキ金属（塩として）の溶液がライ
ン３７をへて浴に加えられる。　ポンプ３６の起動は同
時にポンプ３８を起動し、ポンプ３８によって次亜リン
酸塩がメッキ金属の量に比例する量で、ライン３９をへ
て浴に加えられる。

装置２８中で比重を測定覆る代りに、この装置を収縮率
または電導度を記録する慣用の装置に代えることかでき
る。

典型的な方法においては、浴は最初は、ｐＨ４へ・５、
比重１１５０を有し、７．５Ｆ／Ｕのニッケル（硫酸ニ
ッケルとして）、４０ｏ／ｕの次曲リン酸塩および１５
０（＋／９．の亜リンＭ塩を含有リ−る溶液から調製づ
る。　温度は約９０℃である。

メッキは従来の方法で進行し、メツ−１−液体はポンプ
２４により約１９．／ｍｉｎ、の速度で連続的に抜き出
される。　溶液中の気泡はポンプで除去され、比重測定
装置２８は比重が１１５０を超えたときにポンプ３１を
起動するようにセントされ、光学装侃２９はニッケル濃
度が７．５Ｑ／又以下に降下したときにポンプ３６を起
動づるようにセラ＋−されている。　ポンプ３８は、１
ｇのニッケルあたり約５．３９の次亜リン酸塩の割合で
補給づるように、ポンプ３６と連動している。　別々の
ポンプ３６と３８を使用する代りに、１５ｏ／ｕのニッ
ケル（硫酸塩として）と８０ｏ／ｕの次亜リン酸塩を含
有する、単一の補給溶液を使用覆ることもできる。

溶液がポンプ３１により排出されると、ポンプ３４によ
り水が補給され、数時間後の操作においては２００〜２
５０ｐｚｌの曲リン酸塩濃度を有することがわかる。

本発明の方法は、数日間または数週間継続することがで
きる。　時々次亜リン酸塩の分析を行ない、ニラゲル二
次亜リン酸塩の比率が最適値から＃１れずぎるときは補
給用ポンプ３８を起動づるのが望ましいが、これは通常
は必要ではない。

ポンプ３１で排除された溶液、まｌＣは濃度を一定に保
持覆ることがもはや好ましくないか、さらには不可能に
なるほど長期間使用して排除されたメッキ溶液２３は廃
棄（適当な排液処理後）されるが、メッキする表面がア
ルミニウムである場合は、アルミニウムを稀薄なメッキ
溶液で前処理にッケルストライキ処理と呼ばれる）′？
ｌることが好ましく、上記の排液をニッケルストライキ
溶液の調製に使用することが好ましい。

全体のメッキ処理においては、典型的にはこの溶液また
は別のストライキ溶液に３〜５分間浸漬し、ついで１時
間メッキ溶液中に浸直し、続いて水中で第１回目のりす
きを行ない、さらに水中で第２回目のすすぎを行なう。

　ポンプ３４でタンクの補給に使用される水は、第１回
目のり１ぎから扱き出すこともできる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の監視装置を説明する図であり第２図は
本発明の被覆装嵌を説明りる１剥ぐある。 １・・・容器　６・・・比色ｉ＋　　７・・・フロート
９・・・接続器　１０・・・スイッチ　１３・・・熱交
換器１６・・・シート　２０・・・タンク　２１・・・
］ンヘノ７２２・・・物品　２３・・・溶液　２６・・
・容器２７・・・＝］イル　２８・・・比重測定装置２
９・・・光学装置　３３・・・レベルセンリーー特許出
願人　ブレン］〜　ケミカルズ インターナショナル　ピー土ルシー 代理人　弁理士　　須　賀　総　夫 手続ンｎ）　、＋−Ｆ書（方式） １　事件の表示 昭和５８年特許願第１３４２１５号 ２、発明の名称 無電解メッキ方法および装置 ３、補正をする者 事件との関係　　特許出願人 住所　イギリス国　パックス　アイウアーリツジウエイ
（番地なし） 名称　ブレンド　ケミカルス゛ インターナショナル　ビーエルシー ４、代理人〒１０４ （Ｊ所　　東京都中央Ｉス築地二丁目１５番１４８安田
不ＩｆＪＩ産築地ビル　ｆ３＜　５４１）　３７９２願
書および図面

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）　連続した物品をメッキ金属と還元剤とを含有す
   るメッキ溶液に接触させて、ニッケル、コバルト、ニッ
   ケル合金およびコバルト合金からえらんだメッキ金属で
   メッキする無電解メッキ方法において、メッキ溶液にメ
   ッキ金属（塩として）を補給してメッキ金属濃度を実質
   的に一定に保つとともに還元剤を補給して還元剤のｓｒ
   ｇｌを実質的に一定に保ち、かつ溶解した固形分の濃度
   を監視して溶解した固形分の濃度増加を観察したときは
   溶液を自動的に稀釈することによって還元剤から生成し
   た酸化生成物の濃度を実質的に一定に保ら、このように
   してメッキ溶液を長期間使用できるように維持ヅること
   を特徴とＪる方法。 （２）　メッキ溶液の溶解した固形分濃度の増加に応じ
   Ｃ溶ｉ＋＆を自動的に取り出し、この取り出した溶液を
   、メッキ金属（塩どし−Ｃ）および還元剤からえらんだ
   少なくとも１成分を含イ１づる水溶液ならびに水のいず
   れかである稀釈剤で自動的に置換することにより溶液の
   稀釈を行なう特許請求の範囲第１項の方法。 （３）　水を添加づることにより稀釈を行なう特許請求
   の範囲第１項の方法。 （４）　メッキ金属の消費に応じて、メッキ金属（塩と
   して）および実質的に化学量論量の次曲リン酸塩を加え
   ることによって、メツ４金属と次亜リン酸塩との濃度を
   実質的に一定に保つ特許請求の範囲第１項の方法。 （５）　水を添加することによって稀釈を行ない、溶液
   のメッキ金属濃度を監視し、メッキ金属塩を加えてメッ
   キ金属１１度を実質的に一定に保つとともに添加したメ
   ッキ金属の最に対して実質的に化学量論量の還元剤を添
   加し、メッキ金属および還元剤を、メッキ溶液中の対応
   する濃度よりは高いメッキ金属ｄ３よひ還元剤の温間を
   有づる溶液として添加することにより、還元剤およびメ
   ッキ金属の濃度を実質的に一定に維持する特許請求の範
   囲第１項の方法。 （６）　溶液のメッキ金属濃度を監視してメッキ金属（
   塩として）を自動的に加え、メッキ金属濃度を実質的に
   一定に保つことにより、メッキ金属ｍ度を実質的に一定
   に維持づる特許請求の範囲第１項の方法。 （７）　ニッケルを含有する６６０〜７２０ｍｍの波長
   に４３ける光吸収によりメッキ金属濃度を監視し、メッ
   キ金属（塩とし℃〉を自動的に加えて実質的に一定に保
   つことにより、メッキ金属の濃度を実質的に一定に維持
   する特許請求の範囲第１項の方法。 （８）　メッキ金属がニッケルを含有し、還元剤が次亜
   リン酸塩であって、酸化生成物が亜リン酸塩である特許
   請求の範囲第１項の方法。 （９）　連続した物品をメッキ金属（塩として）次亜リ
   ン酸Ｉｎとを含有するメッキ溶液に接触させて、ニッケ
   ル、コバルト１．ニッケル合金およびコバルト合金から
   えら／υだメッキ金属でメッキＪる無電解メッキ方法で
   あって、溶液中に溶解している固形分濃度を監視し、溶
   解しくいる固形分濃度が上昇したら溶液を自動的に取り
   出し、この取り出した溶液を水で自動的に置換りること
   によって亜リン酸塩濃度を実質的に一定に保ち、メッキ
   溶液中のメッキ金属濃度を光の吸収によって監視し、Ｓ
   度低下を観察しＩＣらメッキ溶液にメッキ金属塩および
   実質的に化学量輪間の次亜リン酸基を補給りることによ
   つ−Ｃ、メッキ金属塩ど次亜リン酸塩の濃度を実質的に
   一定に保ら、このようにしてメッキ溶液を長期間使用で
   きるように維持Ｊること今特徴とする方法。 （１０）　作業中のメッキ溶液が５０・〜２７５ｇ／ｐ
   の亜リン酸塩、１〜１０ｇ／Ｕのメッキ金属および５〜
   ７０！］／Ｕの次亜リン酸ｊ魚を含有し、かつ１．１０
   ０〜１２００の比重を有づる特許請求の範囲第１項また
   は第９項の方法。 （１１）　開始後メッキ溶液が２００〜２５０（１／ｆ
   Ｌの則リン酸塩を含有している特許請求の範囲第１項ま
   たは第９項の方法。 （１２）　メッキ溶液が２〜８９／見のメッキ金属およ
   びメッキ金属の量の４〜８倍の川の次亜リン酸塩を含有
   している特許請求の範囲第１項または第９項の方法。 （１３）’　１０〜２０ｇ／Ｅｌのメッキ金属およびメ
   ッキ金属の４〜６．５重量倍の量の次亜リン酸塩を含有
   している水溶液である補給液を加えることによりメッキ
   金属および次亜リン酸塩の補給を行ない、この補給液中
   の濃度かメッキ溶液中の濃度よりも高い特許請求の範囲
   第１項または第９頂の方法。 （１４）　メッキ溶液の密度、電導度ａ３よび収縮率か
   らえらんだ性質を観察することにより、溶解している固
   形分濃度を監視覆る特許請求の範囲第１エロまたは第９
   項の方法。 （１５）　溶液の密度が１１００〜１２００の比重範囲
   内でえらんだ値を超えたときに、溶液の稀釈に使用りる
   ノロ−１〜スイツチで溶液の密、麿を観察すること（こ
   より、溶解している固形分の濃度を監視りる特許請求の
   範囲第１項まＩ〔は第９項の方法。 （１６）　比重が１１３０へ・１１７０の範囲内でえら
   んだ値を超えたときに、溶液の稀釈に使用するフロー１
   −スイッチで溶液の密度を観察りることにより、溶解し
   ている固形分ｍ度を監視づる特許請求の範囲第１項また
   は第９項の方法。 （１７）　メッキ金属を、ニッケル、ニッケルとクロｌ
   ＼との混合物ａ３よびニッケルとタンゲス７ンとの混合
   物からえらぶ特許請求の範囲第１項または第９項の方法
   。 〈１８）　溶解した固形分濃度の上ｎに応じ−Ｃタンク
   から溶液をポンプ輸送するための手段、Ｊ３よびタンク
   中の溶液の容量の減少に応じてタンク中に水を流入させ
   るための手段を有Ｊるタンク中に、物品を浸漬すること
   にＪ：つて実施づる特許請求の範囲第１項または第９項
   の方法。 （１９）　ニッケル、コバルト、ニッケルの合金ｄ３よ
   び二１バルトの合金からえらんだメッキ金属をメッキす
   るに適した無電解メッキ溶液を調節するための装置であ
   つＣ１メッキ溶液の溶解し！ご固形分濃度を監視し、溶
   解した固形分ｍ度の上昇に応じて溶液を自動的に稀釈す
   るための手段を有する装置。 （２０）　溶解している固形分濃度の十臂に応じてタン
   クから溶液をポンプで輸送するための手段、およびタン
   ク中の溶液の容量の減少に応じＣタンク中に水を注入す
   るだめの手段を設りｌζタンクを包含する特許請求の範
   囲第１９項の装置。 く２１）　溶液のメッキ金属淵度を監視し、１１度低下
   に応じてメッキ金属溶液を自動的に加えることによって
   溶液中のメッキ金属の濃度を実質的に一定に維持する手
   段を包含づる特許請求の範囲第１９項の装置。 〈２２）　メッキ金属の濃度を監視する手段が光吸収手
   ゛段である特許請求の範囲第１９項の装置。 （２３）　溶液の溶解している固形分濃度を監視づる手
   段が、溶液の比重が１１００−・１２００の範囲内の所
   定の値以上に上背したときに、溶液を自動的に稀釈でき
   るノロ−１−スイッチを右づる特許請求の範囲第１９項
   の装置。