JPS59171023A - 高密度磁気記録材用アルマイト基板の製造法 - Google Patents

高密度磁気記録材用アルマイト基板の製造法

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JPS59171023A
JPS59171023A JP58044364A JP4436483A JPS59171023A JP S59171023 A JPS59171023 A JP S59171023A JP 58044364 A JP58044364 A JP 58044364A JP 4436483 A JP4436483 A JP 4436483A JP S59171023 A JPS59171023 A JP S59171023A
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平山 良夫
Yasuo Oka
安夫 岡
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    • C25D11/02Anodisation
    • C25D11/04Anodisation of aluminium or alloys based thereon
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は磁気ディスク等、磁気記録材用アルマイト基板
の製造法に係り、実質的に黒点欠陥なく平滑度、耐熱性
のすぐれた高密度磁気記録材用のアルマイト基板の製造
法に関するものである。
磁゛気ディスク等の磁気記録材基板にはアルマイトを施
したアルミニウムまたはアルミニウム合金材が用いられ
ている。
このようにアルマイト基板が用いられる理由はアルマイ
トは硬質で耐摩耗性にすぐれ、また研摩性も良好で高精
度の平滑面が得られ易く。
容易にその表面に薄膜の磁性層を形成することができる
からでへる。ところがこのアルマイト基板にも次に示す
ような欠点があり、とれが磁気記録材の高密度化の妨げ
となっている。
一つは黒点欠陥といわれるも・のでアルミニウムまたは
アルミニウム素材中に存在する鉄、珪素等の不純物が金
属間化合物として晶出し、これが木材表面に点在してア
ルマイト処理に際してこの部が極く微小なアルマイト膜
欠落部となるものであって、この欠落部は当初はサブミ
クロンのオーダーの極く微小なものであるがアルマイト
膜の成長と共に拡大し、5μm以上の膜厚のチルマイト
層にあっては5〜10μmのビット状微小欠陥を示すの
で、この数が多い程磁気記録材における信号エラーが多
くなり好ましくない。
またもう一つの欠点は高密度磁気記録材とする場合にア
ルマイト基板工にα−Pa304をスパッタその他の方
法によシ被着させて300〜400℃に加熱しγ−Fe
10g化する必要があるが。
このような高温加熱を行った場合、アルマイト膜に亀裂
を生じ、このため製品不良を起し易いことである。この
ためアルマイト層の膜厚を1〜δμん程度と極端に薄く
したすせねばならずアルマイト基板の耐ヘツドクラツシ
ユ性低下の原因となるのでこれまた好ましくない。
発明者らはこれらの欠点について改善すべく研究を重ね
た結果、アルマイト処理に際して。
クロム酸溶液を使用し、定電圧法によってアルマイト処
理を行うに際し2通常行われる電解電圧より高い電圧に
よって処理を施した場合に。
黒点発生の防止と加熱時のクラック発生のないアルマイ
ト基板゛を製造することができることを見出した。
即ち本発明はアルミニウムまたはアルミニウム合金材に
重量で3.5〜15チの濃度のクロム酸溶液を使用して
、定電圧法により60Vよシ高い電圧、好ましくは70
〜100V間の電圧でアルマイト処理を施こすことを特
徴とする高密度磁気記録材用アルマイト基板の製造法で
ある。
本発明においてアルマ1ト用電解液として用いられるク
ロム酸溶液の濃度は6.5〜15チであって、液温も3
5〜50’Cと従来グツサード法と呼ばれる定電圧、ク
ロム酸アルマイト法における条件とほぼ同様であるが電
圧はグツサード法の40Vより高<60Vを超え、好ま
しくは70V〜1oovの間でアルマイト処理を行なう
。なお、クロム酸電解液中に液の導電性を改善するため
に少量の硫酸を添加してもよい。
このようにして得られたアルマイト基板は殆んど微少黒
点の発生が見られず、また耐ヘッドクラツシユ性を高゛
めるために皮膜厚さを10μm以上に成長させても大き
く成長した黒点が見当らない。また耐熱性もすぐれてい
て磁性膜形成のため300〜400’Cに加熱保持する
もクラックの発生が起らない。
次に本発明を完成するに当って発明者らの行った実験に
ついて述べる。
第1表はアルミニウム合金材(At−3%Mg合金)を
40℃に保持した10%クロム酸溶液中で直流定電圧法
によりアルマイト処理した場合の電圧とアルマイト基板
における黒点発生および350℃2時間加熱によるクラ
ック発生状況ならびに耐ヘッドクラツシユ性に関連する
皮膜硬度を−示すものである。
また、比較の虐め従来性われている硫酸溶液によるアル
マイト基板について、同様の評価試験を行った結果を併
せて示しだ。
なお1M厚はすべて6μmである。
黒点の評価は顕微鏡視野、(o、 S 6 tnjll
 )において0は25μm以下、Δは6.5μm以下、
×は5μm以下の黒点が1ケ以下であること、またクラ
ックの評価は加熱処理後のアルマイト基板を顕微鏡観察
し、Oはクララ、りが全くないもの。
Δは部分的にクラックを生じたもの、×は全面的にクラ
ックが生じたものを示す。
硬度の評価は微少硬度計を使用した結果で。
○は125Hマ以上、Δは100 N125Hマ。
×は100 Hv以下を示す。
第1表 また、第2表は第1表で行ったのと同様ノのアルミニウ
ム合金試料を用い、第1表と同様の温度および濃度のク
ロム酸溶液を用い直流定電圧法7(IVでアルマイト処
理をしたときのアルマイト膜厚と黒点発生およびアルマ
イト基板を300℃、350℃および400℃と温度を
変えて各2時間加熱保持した場合のアルマイト基板にお
けるクラック発生の状況を観察した結果を示すものであ
る゛。
黒点および硬度の評価基準は第1表の通りである。
第2表 第1表および第2表の結果から次のことが判る。
即ち2本発明の方法、即ちクロム酸溶液を用い直流定電
圧法によp6ovより篩い電圧でアルマイト処理を施し
だ基板においては、黒点や加熱によるクラック発生は全
く、あるいは殆んど見られず、また基板の耐ヘッドクラ
ツシユ性を高めるために膜厚を大、・きくし7ても、黒
点やクラックの発生が見られないが、従来の典型的なア
ルマイト処理法である硫酸溶液を使用した場合や、クロ
ム酸溶液を使用しても、従来一般に行われるような条件
、即ちaOV前後の電圧でのアルマイト処理を施した基
板では黒点、クラック、硬度の三条性をすべて満たすこ
とは困難である。
以上述べたように本発明によるときは高密度磁気記録材
用アルマイト基板において最も問題ノ とされていた、黒点の発生、高温処理時のクラック発生
および耐ヘッドクラツシユ性について解決することがで
きるので工業的にすぐれた発明であるといえる。
実施例 高密度磁気記録用アルミニウム合金材(At−ろチMg
合金、内径75謔、外径200 rtm 、厚さ2町)
を所定の表面研摩を施した後、非侵食性洗浄剤にて洗浄
して、アルマイト処理を行った。
ア・ルマイト処理は40℃に加熱17た5チクロム酸溶
液中に、前記アルミニウム材を浸漬し。
アノードとして直流にて電解処理を行った。
電圧は80V一定とし、約60分の電解で10μmの乳
白色の平滑なアルマイト皮膜が生成した。
この皮膜を顕微鏡で観察したが、黒点欠陥は見当らなか
った。
またこの皮膜をさらに350℃に2時間加熱した後、ガ
1微鏡で観察したがクラ多りは皆無であった。
特許出願人  日本軽金属株式会社 手続補正IF(自発) 昭和59年6月t5−日 特許庁長官若杉和夫 殿 1、事件の表示 昭和58年特許願第、44364号 2発明の名称 高密度磁気記録材用アルマイト基板の製造法五補正をす
る者 事件との関係 特許出願人 住所   東京都中央区銀座7丁目3番5号5、補正に
よシ増加する発明の詳細な説明補正の内容 1. 明細書1頁第5行〜9行の特許請求の範囲の記載
を次の通り訂正する。
[2、特許請求の範囲 アルミニウムまたはアルミニウム合金材、を1.5〜1
5チクロム酸溶液中で定電圧法により60Vよジ高い電
圧でアルマイト処理を施こすことを特徴とする高密度磁
気記録材用アルマイト基板の製造法。」 2 同3頁第17行および同4頁4行の「3,5Jを1
1.5」に訂正する。
以上 114−

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. アルミニウムまたはアルミニウム合金材を5゜5〜15
    %クロム酸溶液中で定電圧法により60vよシ高い電圧
    でアルマイト処理を施こすことを特徴とする高密度磁気
    記録材用アルマイト基板の製造法。
JP58044364A 1983-03-18 1983-03-18 高密度磁気記録材用アルマイト基板の製造法 Granted JPS59171023A (ja)

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DE3408753A DE3408753C2 (de) 1983-03-18 1984-03-09 Verfahren zur Herstellung eines Aluminiumsubstrats mit anodischer Oxidschicht für magnetische Aufzeichnungsmedien
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FR (1) FR2542901B1 (ja)
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