JPS59171023A - 高密度磁気記録材用アルマイト基板の製造法 - Google Patents
高密度磁気記録材用アルマイト基板の製造法Info
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- JPS59171023A JPS59171023A JP58044364A JP4436483A JPS59171023A JP S59171023 A JPS59171023 A JP S59171023A JP 58044364 A JP58044364 A JP 58044364A JP 4436483 A JP4436483 A JP 4436483A JP S59171023 A JPS59171023 A JP S59171023A
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- C25D11/06—Anodisation of aluminium or alloys based thereon characterised by the electrolytes used
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は磁気ディスク等、磁気記録材用アルマイト基板
の製造法に係り、実質的に黒点欠陥なく平滑度、耐熱性
のすぐれた高密度磁気記録材用のアルマイト基板の製造
法に関するものである。
の製造法に係り、実質的に黒点欠陥なく平滑度、耐熱性
のすぐれた高密度磁気記録材用のアルマイト基板の製造
法に関するものである。
磁゛気ディスク等の磁気記録材基板にはアルマイトを施
したアルミニウムまたはアルミニウム合金材が用いられ
ている。
したアルミニウムまたはアルミニウム合金材が用いられ
ている。
このようにアルマイト基板が用いられる理由はアルマイ
トは硬質で耐摩耗性にすぐれ、また研摩性も良好で高精
度の平滑面が得られ易く。
トは硬質で耐摩耗性にすぐれ、また研摩性も良好で高精
度の平滑面が得られ易く。
容易にその表面に薄膜の磁性層を形成することができる
からでへる。ところがこのアルマイト基板にも次に示す
ような欠点があり、とれが磁気記録材の高密度化の妨げ
となっている。
からでへる。ところがこのアルマイト基板にも次に示す
ような欠点があり、とれが磁気記録材の高密度化の妨げ
となっている。
一つは黒点欠陥といわれるも・のでアルミニウムまたは
アルミニウム素材中に存在する鉄、珪素等の不純物が金
属間化合物として晶出し、これが木材表面に点在してア
ルマイト処理に際してこの部が極く微小なアルマイト膜
欠落部となるものであって、この欠落部は当初はサブミ
クロンのオーダーの極く微小なものであるがアルマイト
膜の成長と共に拡大し、5μm以上の膜厚のチルマイト
層にあっては5〜10μmのビット状微小欠陥を示すの
で、この数が多い程磁気記録材における信号エラーが多
くなり好ましくない。
アルミニウム素材中に存在する鉄、珪素等の不純物が金
属間化合物として晶出し、これが木材表面に点在してア
ルマイト処理に際してこの部が極く微小なアルマイト膜
欠落部となるものであって、この欠落部は当初はサブミ
クロンのオーダーの極く微小なものであるがアルマイト
膜の成長と共に拡大し、5μm以上の膜厚のチルマイト
層にあっては5〜10μmのビット状微小欠陥を示すの
で、この数が多い程磁気記録材における信号エラーが多
くなり好ましくない。
またもう一つの欠点は高密度磁気記録材とする場合にア
ルマイト基板工にα−Pa304をスパッタその他の方
法によシ被着させて300〜400℃に加熱しγ−Fe
10g化する必要があるが。
ルマイト基板工にα−Pa304をスパッタその他の方
法によシ被着させて300〜400℃に加熱しγ−Fe
10g化する必要があるが。
このような高温加熱を行った場合、アルマイト膜に亀裂
を生じ、このため製品不良を起し易いことである。この
ためアルマイト層の膜厚を1〜δμん程度と極端に薄く
したすせねばならずアルマイト基板の耐ヘツドクラツシ
ユ性低下の原因となるのでこれまた好ましくない。
を生じ、このため製品不良を起し易いことである。この
ためアルマイト層の膜厚を1〜δμん程度と極端に薄く
したすせねばならずアルマイト基板の耐ヘツドクラツシ
ユ性低下の原因となるのでこれまた好ましくない。
発明者らはこれらの欠点について改善すべく研究を重ね
た結果、アルマイト処理に際して。
た結果、アルマイト処理に際して。
クロム酸溶液を使用し、定電圧法によってアルマイト処
理を行うに際し2通常行われる電解電圧より高い電圧に
よって処理を施した場合に。
理を行うに際し2通常行われる電解電圧より高い電圧に
よって処理を施した場合に。
黒点発生の防止と加熱時のクラック発生のないアルマイ
ト基板゛を製造することができることを見出した。
ト基板゛を製造することができることを見出した。
即ち本発明はアルミニウムまたはアルミニウム合金材に
重量で3.5〜15チの濃度のクロム酸溶液を使用して
、定電圧法により60Vよシ高い電圧、好ましくは70
〜100V間の電圧でアルマイト処理を施こすことを特
徴とする高密度磁気記録材用アルマイト基板の製造法で
ある。
重量で3.5〜15チの濃度のクロム酸溶液を使用して
、定電圧法により60Vよシ高い電圧、好ましくは70
〜100V間の電圧でアルマイト処理を施こすことを特
徴とする高密度磁気記録材用アルマイト基板の製造法で
ある。
本発明においてアルマ1ト用電解液として用いられるク
ロム酸溶液の濃度は6.5〜15チであって、液温も3
5〜50’Cと従来グツサード法と呼ばれる定電圧、ク
ロム酸アルマイト法における条件とほぼ同様であるが電
圧はグツサード法の40Vより高<60Vを超え、好ま
しくは70V〜1oovの間でアルマイト処理を行なう
。なお、クロム酸電解液中に液の導電性を改善するため
に少量の硫酸を添加してもよい。
ロム酸溶液の濃度は6.5〜15チであって、液温も3
5〜50’Cと従来グツサード法と呼ばれる定電圧、ク
ロム酸アルマイト法における条件とほぼ同様であるが電
圧はグツサード法の40Vより高<60Vを超え、好ま
しくは70V〜1oovの間でアルマイト処理を行なう
。なお、クロム酸電解液中に液の導電性を改善するため
に少量の硫酸を添加してもよい。
このようにして得られたアルマイト基板は殆んど微少黒
点の発生が見られず、また耐ヘッドクラツシユ性を高゛
めるために皮膜厚さを10μm以上に成長させても大き
く成長した黒点が見当らない。また耐熱性もすぐれてい
て磁性膜形成のため300〜400’Cに加熱保持する
もクラックの発生が起らない。
点の発生が見られず、また耐ヘッドクラツシユ性を高゛
めるために皮膜厚さを10μm以上に成長させても大き
く成長した黒点が見当らない。また耐熱性もすぐれてい
て磁性膜形成のため300〜400’Cに加熱保持する
もクラックの発生が起らない。
次に本発明を完成するに当って発明者らの行った実験に
ついて述べる。
ついて述べる。
第1表はアルミニウム合金材(At−3%Mg合金)を
40℃に保持した10%クロム酸溶液中で直流定電圧法
によりアルマイト処理した場合の電圧とアルマイト基板
における黒点発生および350℃2時間加熱によるクラ
ック発生状況ならびに耐ヘッドクラツシユ性に関連する
皮膜硬度を−示すものである。
40℃に保持した10%クロム酸溶液中で直流定電圧法
によりアルマイト処理した場合の電圧とアルマイト基板
における黒点発生および350℃2時間加熱によるクラ
ック発生状況ならびに耐ヘッドクラツシユ性に関連する
皮膜硬度を−示すものである。
また、比較の虐め従来性われている硫酸溶液によるアル
マイト基板について、同様の評価試験を行った結果を併
せて示しだ。
マイト基板について、同様の評価試験を行った結果を併
せて示しだ。
なお1M厚はすべて6μmである。
黒点の評価は顕微鏡視野、(o、 S 6 tnjll
)において0は25μm以下、Δは6.5μm以下、
×は5μm以下の黒点が1ケ以下であること、またクラ
ックの評価は加熱処理後のアルマイト基板を顕微鏡観察
し、Oはクララ、りが全くないもの。
)において0は25μm以下、Δは6.5μm以下、
×は5μm以下の黒点が1ケ以下であること、またクラ
ックの評価は加熱処理後のアルマイト基板を顕微鏡観察
し、Oはクララ、りが全くないもの。
Δは部分的にクラックを生じたもの、×は全面的にクラ
ックが生じたものを示す。
ックが生じたものを示す。
硬度の評価は微少硬度計を使用した結果で。
○は125Hマ以上、Δは100 N125Hマ。
×は100 Hv以下を示す。
第1表
また、第2表は第1表で行ったのと同様ノのアルミニウ
ム合金試料を用い、第1表と同様の温度および濃度のク
ロム酸溶液を用い直流定電圧法7(IVでアルマイト処
理をしたときのアルマイト膜厚と黒点発生およびアルマ
イト基板を300℃、350℃および400℃と温度を
変えて各2時間加熱保持した場合のアルマイト基板にお
けるクラック発生の状況を観察した結果を示すものであ
る゛。
ム合金試料を用い、第1表と同様の温度および濃度のク
ロム酸溶液を用い直流定電圧法7(IVでアルマイト処
理をしたときのアルマイト膜厚と黒点発生およびアルマ
イト基板を300℃、350℃および400℃と温度を
変えて各2時間加熱保持した場合のアルマイト基板にお
けるクラック発生の状況を観察した結果を示すものであ
る゛。
黒点および硬度の評価基準は第1表の通りである。
第2表
第1表および第2表の結果から次のことが判る。
即ち2本発明の方法、即ちクロム酸溶液を用い直流定電
圧法によp6ovより篩い電圧でアルマイト処理を施し
だ基板においては、黒点や加熱によるクラック発生は全
く、あるいは殆んど見られず、また基板の耐ヘッドクラ
ツシユ性を高めるために膜厚を大、・きくし7ても、黒
点やクラックの発生が見られないが、従来の典型的なア
ルマイト処理法である硫酸溶液を使用した場合や、クロ
ム酸溶液を使用しても、従来一般に行われるような条件
、即ちaOV前後の電圧でのアルマイト処理を施した基
板では黒点、クラック、硬度の三条性をすべて満たすこ
とは困難である。
圧法によp6ovより篩い電圧でアルマイト処理を施し
だ基板においては、黒点や加熱によるクラック発生は全
く、あるいは殆んど見られず、また基板の耐ヘッドクラ
ツシユ性を高めるために膜厚を大、・きくし7ても、黒
点やクラックの発生が見られないが、従来の典型的なア
ルマイト処理法である硫酸溶液を使用した場合や、クロ
ム酸溶液を使用しても、従来一般に行われるような条件
、即ちaOV前後の電圧でのアルマイト処理を施した基
板では黒点、クラック、硬度の三条性をすべて満たすこ
とは困難である。
以上述べたように本発明によるときは高密度磁気記録材
用アルマイト基板において最も問題ノ とされていた、黒点の発生、高温処理時のクラック発生
および耐ヘッドクラツシユ性について解決することがで
きるので工業的にすぐれた発明であるといえる。
用アルマイト基板において最も問題ノ とされていた、黒点の発生、高温処理時のクラック発生
および耐ヘッドクラツシユ性について解決することがで
きるので工業的にすぐれた発明であるといえる。
実施例
高密度磁気記録用アルミニウム合金材(At−ろチMg
合金、内径75謔、外径200 rtm 、厚さ2町)
を所定の表面研摩を施した後、非侵食性洗浄剤にて洗浄
して、アルマイト処理を行った。
合金、内径75謔、外径200 rtm 、厚さ2町)
を所定の表面研摩を施した後、非侵食性洗浄剤にて洗浄
して、アルマイト処理を行った。
ア・ルマイト処理は40℃に加熱17た5チクロム酸溶
液中に、前記アルミニウム材を浸漬し。
液中に、前記アルミニウム材を浸漬し。
アノードとして直流にて電解処理を行った。
電圧は80V一定とし、約60分の電解で10μmの乳
白色の平滑なアルマイト皮膜が生成した。
白色の平滑なアルマイト皮膜が生成した。
この皮膜を顕微鏡で観察したが、黒点欠陥は見当らなか
った。
った。
またこの皮膜をさらに350℃に2時間加熱した後、ガ
1微鏡で観察したがクラ多りは皆無であった。
1微鏡で観察したがクラ多りは皆無であった。
特許出願人 日本軽金属株式会社
手続補正IF(自発)
昭和59年6月t5−日
特許庁長官若杉和夫 殿
1、事件の表示
昭和58年特許願第、44364号
2発明の名称
高密度磁気記録材用アルマイト基板の製造法五補正をす
る者 事件との関係 特許出願人 住所 東京都中央区銀座7丁目3番5号5、補正に
よシ増加する発明の詳細な説明補正の内容 1. 明細書1頁第5行〜9行の特許請求の範囲の記載
を次の通り訂正する。
る者 事件との関係 特許出願人 住所 東京都中央区銀座7丁目3番5号5、補正に
よシ増加する発明の詳細な説明補正の内容 1. 明細書1頁第5行〜9行の特許請求の範囲の記載
を次の通り訂正する。
[2、特許請求の範囲
アルミニウムまたはアルミニウム合金材、を1.5〜1
5チクロム酸溶液中で定電圧法により60Vよジ高い電
圧でアルマイト処理を施こすことを特徴とする高密度磁
気記録材用アルマイト基板の製造法。」 2 同3頁第17行および同4頁4行の「3,5Jを1
1.5」に訂正する。
5チクロム酸溶液中で定電圧法により60Vよジ高い電
圧でアルマイト処理を施こすことを特徴とする高密度磁
気記録材用アルマイト基板の製造法。」 2 同3頁第17行および同4頁4行の「3,5Jを1
1.5」に訂正する。
以上
114−
Claims (1)
- アルミニウムまたはアルミニウム合金材を5゜5〜15
%クロム酸溶液中で定電圧法により60vよシ高い電圧
でアルマイト処理を施こすことを特徴とする高密度磁気
記録材用アルマイト基板の製造法。
Priority Applications (8)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58044364A JPS59171023A (ja) | 1983-03-18 | 1983-03-18 | 高密度磁気記録材用アルマイト基板の製造法 |
GB08405910A GB2136448B (en) | 1983-03-18 | 1984-03-07 | Anodising aluminium substrate for magnetic recording media |
DE3408753A DE3408753C2 (de) | 1983-03-18 | 1984-03-09 | Verfahren zur Herstellung eines Aluminiumsubstrats mit anodischer Oxidschicht für magnetische Aufzeichnungsmedien |
FR8403879A FR2542901B1 (fr) | 1983-03-18 | 1984-03-12 | Procede de fabrication d'un substrat d'aluminium pour support d'enregistrement magnetique et substrat ainsi obtenu |
CA000449707A CA1237694A (en) | 1983-03-18 | 1984-03-15 | Process of producing aluminum substrate for magnetic recording media |
KR1019840001318A KR840007910A (ko) | 1983-03-18 | 1984-03-15 | 고밀도 자기기록매체용 알루미늄기판의 제조방법 |
NL8400849A NL8400849A (nl) | 1983-03-18 | 1984-03-16 | Werkwijze voor het vervaardigen van een aluminiumsubstraat voor een magnetisch registratiemedium. |
IT8420101A IT1206136B (it) | 1983-03-18 | 1984-03-16 | Procedimento per la produzione di un substrato di alluminio per mezzi di registrazione magnetica. |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58044364A JPS59171023A (ja) | 1983-03-18 | 1983-03-18 | 高密度磁気記録材用アルマイト基板の製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59171023A true JPS59171023A (ja) | 1984-09-27 |
JPH0346890B2 JPH0346890B2 (ja) | 1991-07-17 |
Family
ID=12689451
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58044364A Granted JPS59171023A (ja) | 1983-03-18 | 1983-03-18 | 高密度磁気記録材用アルマイト基板の製造法 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59171023A (ja) |
KR (1) | KR840007910A (ja) |
CA (1) | CA1237694A (ja) |
DE (1) | DE3408753C2 (ja) |
FR (1) | FR2542901B1 (ja) |
GB (1) | GB2136448B (ja) |
IT (1) | IT1206136B (ja) |
NL (1) | NL8400849A (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62149029A (ja) * | 1985-09-04 | 1987-07-03 | Furukawa Alum Co Ltd | アルマイト磁気デイスク基板とその製造方法 |
GB0208642D0 (en) | 2002-04-16 | 2002-05-22 | Accentus Plc | Metal implants |
GB0405680D0 (en) | 2004-03-13 | 2004-04-21 | Accentus Plc | Metal implants |
AU2008306596B2 (en) | 2007-10-03 | 2013-04-04 | Accentus Plc | Method of manufacturing metal with biocidal properties |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CH287575A (fr) * | 1951-01-27 | 1952-12-15 | S A Vernal | Procédé d'oxydation électrolytique de l'aluminium et de ses alliages. |
NL6609803A (ja) * | 1966-07-13 | 1968-01-15 | ||
NL6612707A (ja) * | 1966-09-09 | 1968-03-11 | ||
US4109287A (en) * | 1972-04-14 | 1978-08-22 | Pilot Man-Nun-Hitsu Kabushiki Kaisha | Process for recording information or sound and process for preparation of recording materials used therefor |
GB1464857A (en) * | 1974-05-08 | 1977-02-16 | Nat Res Dev | Chromic acid anodising of aluminium and its alloys |
-
1983
- 1983-03-18 JP JP58044364A patent/JPS59171023A/ja active Granted
-
1984
- 1984-03-07 GB GB08405910A patent/GB2136448B/en not_active Expired
- 1984-03-09 DE DE3408753A patent/DE3408753C2/de not_active Expired
- 1984-03-12 FR FR8403879A patent/FR2542901B1/fr not_active Expired
- 1984-03-15 CA CA000449707A patent/CA1237694A/en not_active Expired
- 1984-03-15 KR KR1019840001318A patent/KR840007910A/ko not_active Application Discontinuation
- 1984-03-16 IT IT8420101A patent/IT1206136B/it active
- 1984-03-16 NL NL8400849A patent/NL8400849A/nl not_active Application Discontinuation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR840007910A (ko) | 1984-12-11 |
FR2542901B1 (fr) | 1987-11-13 |
GB8405910D0 (en) | 1984-04-11 |
DE3408753C2 (de) | 1986-04-17 |
GB2136448A (en) | 1984-09-19 |
NL8400849A (nl) | 1984-10-16 |
GB2136448B (en) | 1986-09-17 |
IT8420101A0 (it) | 1984-03-16 |
IT1206136B (it) | 1989-04-14 |
DE3408753A1 (de) | 1984-09-20 |
FR2542901A1 (fr) | 1984-09-21 |
JPH0346890B2 (ja) | 1991-07-17 |
CA1237694A (en) | 1988-06-07 |
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