JPS59170286A - 銅電解液の処理法 - Google Patents

銅電解液の処理法

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JPS59170286A
JPS59170286A JP58044998A JP4499883A JPS59170286A JP S59170286 A JPS59170286 A JP S59170286A JP 58044998 A JP58044998 A JP 58044998A JP 4499883 A JP4499883 A JP 4499883A JP S59170286 A JPS59170286 A JP S59170286A
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copper
dialysis
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leaching
diffusion dialysis
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JP58044998A
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Tatsuichiro Abe
阿部 辰一郎
Masato Aso
麻生 正登
Tatsuo Imamura
今村 龍男
Yoichi Takazawa
高沢 洋一
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Nippon Mining Co Ltd
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  • Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、粗銅の電解精製に際して生成する電解液、い
わゆる銅電解液の処理法に関する。
従来、銅製錬法として、銅精鉱を溶錬して得た粗銅を電
解精製して電気銅を製造する方法が広く行われており、
且つ上記電解精製に際して生成する銅電解液の浄液処理
としては、該銅電解液から丹ばん(CuSO4・5I(
20)を晶析してF別した後液を脱銅および脱砒電解工
程に付して電解沈殿銅と電解液の浄液とに分け、得られ
た電解沈殿銅を銅精鉱の溶錬工程(例えば自溶P)へ循
環させ、一方電解液の浄液はそれから硫酸ニッケルを晶
析させて渥別し、得られた硫酸を上記電解精製へ循環さ
せることから成る処理が一般に行われている。
しかしながら、上記鋼重1M液の晶析抜液を脱銅および
脱砒電解工程に付する処理は、その作業の煩雑さ、作業
環境の汚染およびそれに伴なう健康管理の観点から開院
が多く、し7たがって、電解沈殿銅を析出させることか
ら成る上記脱銅および脱砒電解工程に代わる銅電解液の
浄液処理法の提供が強く要望されていた。
まだ、近年、砒素含量の高い銅鉱石の製錬上における脱
砒処理の効率化と共に高い純度の亜砒酸の回収も課題と
なっている。すなわち、含砒素銅精鉱の溶錬工程で発生
する排ガス中の砒素を固定して得られる硫化砒”I= 
(、As25s )を利用して高品位な亜砒酸を製造す
る方法を上記銅の製錬法に組合わせて行なう技術の確立
が望まれるようになった。
本発明は、上述したごとき現状に鑑みなされたものであ
って、上記粗銅の電解精製に際して生成する銅電解液を
拡散透析の手法を用いて処理することにより、従来の沈
殿銅を電解析出することから成る脱銅および脱砒処理に
みられた問題点を解消し得ると共に、高品位の亜砒段を
回収するのに適した、上記銅電解液の浄液処理法を提供
することを目的とする。
以下本発明の詳細な説明する。
本発明の構成上の特徴は、粗銅の電解精製に際して生成
する電解液から丹ばんを晶析させた抜液を拡散透析に付
し、得られる透析抜液を用いて銅源を浸出処理すること
にある。
本発明で処理の対象となる銅電解液は、通常、含砒素銅
精鉱を製錬して電気銅を製造する過程で。
いわゆる粗銅の電解精製に際して生成するものであって
、一般に下記組成を有する。
銅電解液の組成: (F/)) Cu       4Q〜5O N1     10〜20 As        2〜6 H2SO4,180〜200 本発明では、まず上記銅電解液を真空結晶蒸発缶を用い
て蒸発処理しだ後急速冷却することにより丹ばん(Cu
SO4・5H20)を析出(晶析)させて戸別する。こ
の晶析した丹ばんを戸別した抜液(結晶缶浸液と称せら
れる)は一般に下記組成を有する。
結晶缶浸液の組成: <&/G Cu        20〜3O N1       15〜30 A8        8〜15 H2SO4250〜300 次に、本発明では上述のようにして得られる結晶缶浸液
を拡散透析に付する。この拡散透析は、多数の陰イオン
交換膜を配設した拡散透析槽内に上記結晶缶浸液を、水
を用い水/原液の比を0.9〜1.1に、および液流速
を0.5〜1.0ノ/Hr−rltlC調整しながら行
なうとよく、この透析により70〜80チの硫酸が回収
される。
このようにして得られる透析抜液ならびに回収硫酸の典
型的な組成は下記のとおりである。
透析抜液の組成: (Il/)) Cu      20 〜25 N1        16 〜20 As           4D 〜  8DH2SO
450〜100 Cu         O2−1,5 N1        0.1〜 1.0AS2.0〜 
6.0 H2SO4200〜280 上述のようにして得られる回収硫酸は若干の(::u、
:NiおよびAsを含んでいるので硫化水素などを用い
てこれらを硫化処理して除去した後電気銅を製造するだ
めのアノードの電解精製工程へ循環させて使用し得る。
一方、上述のようにして得られる透析抜液は、該抜液を
用いて各種銅源、例えば銅粉、銅屑、その他の銅スクラ
ツプ等を浸出処理する。ここで銅源としては、止揚のも
ののほかに銅製錬の過程で生成する電解沈殿銅、その他
の銅化合物も適用し得るが、電解沈殿銅の場合はその浸
出に用いる透析後液中のH2SO4濃度を低減させるこ
とが好ましい。この浸出処理は、被処理物のスラリー濃
度100〜250117)において1〜5ノ/分/ノの
割合の空気を吹込みながら、1000〜2000 rp
mの攪拌下で常温乃至90℃の温度で行なうとよく、通
常6〜8時間で浸出を完了する。浸出終了時のPHは1
.0〜1.5になる。
なお、このようにして浸出処理した後の残渣は繰返して
浸出を行なってもよい。
上記浸出処理により銅源中のAsが有効に溶出されるの
で、得られる浸出抜液に硫化砒素(As2S3 )と過
酸化水素水溶液を添加して該浸出後液中の(:uSO4
との間に脱銅反応(3CuSO,i +As2S3+4
H20−→3CuS−t−2HAs02 +3H2S0
4 )を行わせ、次いで得られる脱銅抜液に亜(#L酸
ガス(so2)を尋人3+   5+ してイ夜中の砒素イオン(As、As)をAS205と
して晶出させる。この際、本発明によシ浸出処理して得
られる後液を用いると上記脱銅反応が実質上100%で
進行するので脱銅効率上極めて有利である。
因みに、上記浸出後に脱銅反応を行わせ、次いで還元処
理することにより亜砒酸を製造する方法は、本発明者等
が、さきに、開発しだI亜砒酸の製造方法#(特願昭5
7−194080号)に開示されだ方法、すkわち、金
離素鋼精鉱の製錬過程における電解精製工程より得らh
る電解沈殿銅を低濃度の硫酸溶液で浸出処理した後液に
、過酸化水素および硫化砒素を添加、混合して得られる
液に亜硫酸ガスを導入して該液中の砒素全亜砒酸として
晶出させる方法に準拠して行ない得るものであるが、本
発明によると上記電解沈殿銅のほかに種々の銅源を用い
て高品位の亜砒酸をさらに有利に回収し得ろようになる
利点がある。
狭止のように、本発明によると、銅製錬において粗銅の
電解精選に晶して生成する電解R′y、(銅i徨解液)
に、処理上多くの問題点がみられる沈殿銅の析出による
脱銅および脱砒電解を行なうことなく、拡散透析の手法
を適用するのみでその浄液を有効に行ない得ると共に、
高品位な亜砒酸を回収するのに適した銅の浸出液を提供
することが可能となる利点がある。
以下に実施例を示して本発明を更に具体的に説明する。
実施例 銅電解液の組成”    <II/13)Cu    
         45.0As          
    −5・5H2SO4191 上記組成を有する銅電解液を真空結晶蒸発缶を用いて濃
縮した後、急速冷却して丹ばん(CuSO4・5H20
)を析出させ、戸別した。得られた結晶缶抜液の組成は
下記のとおりであった。
結晶缶抜液の組成: C9/Ik) Gu        25.O As        11.0 H2SO4282,6 上記組成の結晶缶抜液の1ノを陰イオン交換膜(2<1
mj )の20枚を配設した拡散透析槽へ水1ノを用い
て0.6 A / Hr /yjの流速で通液して72
%の硫酸を0.9ノ回収した。
回収された硫酸の組成は下記のとおシであった。
回収硫酸の組成: (V)) Cu        o、o 3 Aa        5.87 H2S04     、232.67 この回収硫酸は硫化水素を用いて硫化処理してCuおよ
びA8を除去した後電解精製工程へ給送した。
一方、透析後液は1,1ノ得られその組成は下記のとお
りであった。
透析後液の組成: (Vり Cu       22.7 八85・2 H2SO466,0 次に、上記透析後液を用い、銅屑65Fを3v発句の空
気を吹き込みながら常温で8時間浸出を行なつた。浸出
終了時の液のpHは1.5で、浸出率は76.6%であ
った。なお、浸出後のF別残渣は15gであり、これを
繰返して上記浸出処理に付した。
出願人 日本鉱業株式会社 代理人  宮  1) 広  豊

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)  粗銅の電解精製に際して生成する電解液から
    丹ばんを晶析した後液を拡散透析に付し、得られる透析
    抜液を用いて銅源を浸出処理することを特徴とする上記
    電解液の処理法。
  2. (2)拡散透析は陰イオン交換膜を用いて行なうもので
    ある特許請求の範囲第(1)項記載の処理法。
  3. (3)銅源を浸出処理した後の残渣を繰返して浸出処理
    する特許請求の範囲第(1)項又は第(2)項記載の処
    理法。
JP58044998A 1983-03-17 1983-03-17 銅電解液の処理法 Granted JPS59170286A (ja)

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JPS6147212B2 JPS6147212B2 (ja) 1986-10-17

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102815821A (zh) * 2012-08-20 2012-12-12 云南天恒通泰腐植酸有限公司 褐煤蜡、脱树脂褐煤蜡、泥炭蜡或脱树脂泥炭蜡氧化脱色产生的含铬氧化废液分离回收方法
JP2014159633A (ja) * 2014-02-03 2014-09-04 Pan Pacific Copper Co Ltd 銅電解液からのニッケル回収方法
CN104894607A (zh) * 2015-05-22 2015-09-09 铜陵有色设计研究院 一种净化废硫酸铜电解液的方法
CN111778520A (zh) * 2020-05-22 2020-10-16 西北矿冶研究院 一种并流沉淀法降低铜电解过程漂浮阳极泥的方法

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