JPS5916899A - 血圧降下剤としてのホスホニルヒドロキシアシルアミノ酸誘導体 - Google Patents
血圧降下剤としてのホスホニルヒドロキシアシルアミノ酸誘導体Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は血圧降下剤としてのホスホニルヒドロ4アシル
アミノ酸誘導体、更に詳しくは、アンギオテンシン変換
酵素抑制活性を有し、これによって血圧降下剤として有
用で、下記式〔■〕によって示される新規なホスホネー
ト置換アミノ゛またはイミノ酸およびそれらの医薬的に
許容しうる塩に関する。
アミノ酸誘導体、更に詳しくは、アンギオテンシン変換
酵素抑制活性を有し、これによって血圧降下剤として有
用で、下記式〔■〕によって示される新規なホスホネー
ト置換アミノ゛またはイミノ酸およびそれらの医薬的に
許容しうる塩に関する。
k20
II l n
R3
暇
0OR6
1
1,1R
12−4は水素、曝・級アルキlし、ノXロゲン、ケト
、ヒ1 ドロギ/、−5ll−C−低級アルキル、アジド、アの
1−または2−ナフチルチオ、 または2−ナフチルオキシ、−5−低級アルギル、また
は2−す7チlレチオ、 〜はそれぞれ同一もしくは異なって/%ロゲンまtは−
Y −R14 R9、R9’ 、 kloおよびRtoはそれぞれ独立
して水素および低級アルキルから選ばれるもの、まだは
”9’ 、 J o 、 RloIは水素でR9は1ζ
11は水素、1Δ素数1〜4の低級アルキル、炭素数1
〜4の低級アルコキシ、炭素数1〜4の低級アルギルチ
オ、クロロ、ブロモ、フルオロ、トリフルオロメチル、
ヒドロキシ、フェニル、フェノキシ、フェニルチオまだ
はフェニルメチル、Iζ12は水素、炭素数1〜4の低
級アルキル、炭素数1〜4の低級アルコキシ、炭素数1
〜4の低級アルギルチオ、クロロ、ブロモ、フルオロ、
トIJ 71Vオロメチ)Vまたはヒドロキシ、rTl
は0.1.2まだは3、 I)は1.2または3(但し、R11または1(12が
水素、メチル、メトキシ、クロロまたはフルオロの場介
のみPは1より大)、 1(13は水素または炭素数1〜4の1ル級アルキルY
は酸素または硫醍、 Iζ14は炭素数1〜4の低級アルキルもしくけに結合
して非置換5員もしくは6員環または鎖環において1つ
もしくはそれ以上の炭素が炭素数1〜4の低級アルキル
またはジ(炭素数1〜4の低級アルキ)v )置換基を
有するもの、R21は水素、低級アルキル、シクロアル
キル、1 Hl−1 −((:R2)r−NR2、−(CI−12)r−51
−1rは1〜4の整数。
、ヒ1 ドロギ/、−5ll−C−低級アルキル、アジド、アの
1−または2−ナフチルチオ、 または2−ナフチルオキシ、−5−低級アルギル、また
は2−す7チlレチオ、 〜はそれぞれ同一もしくは異なって/%ロゲンまtは−
Y −R14 R9、R9’ 、 kloおよびRtoはそれぞれ独立
して水素および低級アルキルから選ばれるもの、まだは
”9’ 、 J o 、 RloIは水素でR9は1ζ
11は水素、1Δ素数1〜4の低級アルキル、炭素数1
〜4の低級アルコキシ、炭素数1〜4の低級アルギルチ
オ、クロロ、ブロモ、フルオロ、トリフルオロメチル、
ヒドロキシ、フェニル、フェノキシ、フェニルチオまだ
はフェニルメチル、Iζ12は水素、炭素数1〜4の低
級アルキル、炭素数1〜4の低級アルコキシ、炭素数1
〜4の低級アルギルチオ、クロロ、ブロモ、フルオロ、
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は0.1.2まだは3、 I)は1.2または3(但し、R11または1(12が
水素、メチル、メトキシ、クロロまたはフルオロの場介
のみPは1より大)、 1(13は水素または炭素数1〜4の1ル級アルキルY
は酸素または硫醍、 Iζ14は炭素数1〜4の低級アルキルもしくけに結合
して非置換5員もしくは6員環または鎖環において1つ
もしくはそれ以上の炭素が炭素数1〜4の低級アルキル
またはジ(炭素数1〜4の低級アルキ)v )置換基を
有するもの、R21は水素、低級アルキル、シクロアル
キル、1 Hl−1 −((:R2)r−NR2、−(CI−12)r−51
−1rは1〜4の整数。
■(1は炭素数1〜10のアルキル、アミノアルキ−(
CII2)q−シクロアクギル、−(Ql 2) 「眠
1、または−C1l−NU−C−R20(qは0または
1〜7の整1(19 数、1(11およびPは前記と同意義)、およびI(1
9とR20はそれぞれ独立して水素、低級ア!レキル、
ハロ置換低級アルキル、 1(11およびPは前記と同意義)、 1(2は水素、低級アルキル、ハロ置換叱級アルキル、 −(CH2)r−C−Nl(2(rは前記と同意義)、
R?よび穐はそれぞれ独立して水素、低級アルキル、ベ
ンジル、ベンズヒドリル、アルカリ金属(Li、Naま
たはKなど)まだは −CH−0−C−R16(R15は水素、低級アルキル
、素、低級アIレキル、低級アルコキシまたはフエニR
17は低級アルキル、ベンジルまたはフェネチル、およ
び 1(18は水素、低級アルキル、ベンジルまたはフェネ
チルである〕 本発明はその最も広い特徴において、上記式〔■〕のホ
スホネート置換イミノまたはアミノ酸化合物、該化合物
を含む組成物、および該化合物を血圧降下剤として使用
する方法に関係する。
CII2)q−シクロアクギル、−(Ql 2) 「眠
1、または−C1l−NU−C−R20(qは0または
1〜7の整1(19 数、1(11およびPは前記と同意義)、およびI(1
9とR20はそれぞれ独立して水素、低級ア!レキル、
ハロ置換低級アルキル、 1(11およびPは前記と同意義)、 1(2は水素、低級アルキル、ハロ置換叱級アルキル、 −(CH2)r−C−Nl(2(rは前記と同意義)、
R?よび穐はそれぞれ独立して水素、低級アルキル、ベ
ンジル、ベンズヒドリル、アルカリ金属(Li、Naま
たはKなど)まだは −CH−0−C−R16(R15は水素、低級アルキル
、素、低級アIレキル、低級アルコキシまたはフエニR
17は低級アルキル、ベンジルまたはフェネチル、およ
び 1(18は水素、低級アルキル、ベンジルまたはフェネ
チルである〕 本発明はその最も広い特徴において、上記式〔■〕のホ
スホネート置換イミノまたはアミノ酸化合物、該化合物
を含む組成物、および該化合物を血圧降下剤として使用
する方法に関係する。
上記R1の定義に用いる語句「アルキル」とは、炭素数
10以下の直鎖または分枝鎖灰化水素基を指称し、例え
ばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、
イソブチル、【−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ヘ
プチル、オクチル、デシ/V等が挙げられる。各種記号
の定義に用いる語句「低級アルキル」とは、炭素数7以
下の直鎖または分枝鎖承を指称する。好ましい低級アル
キル基は炭素数4以下で、メチルおよびエチルが最も好
ましい。同様に語句「低級アルコキシ」および「低級ア
ルキルチオ」とは、上記アルキル基が酸素まだは硫黄に
結合したものを指称する。
10以下の直鎖または分枝鎖灰化水素基を指称し、例え
ばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、
イソブチル、【−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ヘ
プチル、オクチル、デシ/V等が挙げられる。各種記号
の定義に用いる語句「低級アルキル」とは、炭素数7以
下の直鎖または分枝鎖承を指称する。好ましい低級アル
キル基は炭素数4以下で、メチルおよびエチルが最も好
ましい。同様に語句「低級アルコキシ」および「低級ア
ルキルチオ」とは、上記アルキル基が酸素まだは硫黄に
結合したものを指称する。
語句「シクロアルキルJとは、炭素数3〜7の飽和環を
指称し、シクロペンチルおよびシクロヘキシルが最も好
ましい。
指称し、シクロペンチルおよびシクロヘキシルが最も好
ましい。
語句「ハロ」とは、CI、 BrおよびFを指称する。
語句「ハロ置換低級アルキル」とは、上記低級アルキル
基において1つもしくはそれ以上の水素がクロロ、ブロ
モまたはフルオロ基で置換されているものを指称し、例
えばトリフルオロメチ)v (これが好ましい)、ペン
タフルオロエチル、2.22−トリクロロエチル、クロ
ロメチル、ブロモメチル等が挙げられる。同様に語句「
アミノ置換低級アルキル」とは、1つもしくはそれ以上
の水素が−NH2で置換された低級アルキルチオ、即ち
アミノメチル、2−アミノエチル等を指称する。
基において1つもしくはそれ以上の水素がクロロ、ブロ
モまたはフルオロ基で置換されているものを指称し、例
えばトリフルオロメチ)v (これが好ましい)、ペン
タフルオロエチル、2.22−トリクロロエチル、クロ
ロメチル、ブロモメチル等が挙げられる。同様に語句「
アミノ置換低級アルキル」とは、1つもしくはそれ以上
の水素が−NH2で置換された低級アルキルチオ、即ち
アミノメチル、2−アミノエチル等を指称する。
子に結合していることを示す。
ソーセットらのU、S、特許第4316896号に、プ
ロリンを包含するアミノ酸類のホスホリル@導体が開示
きれている。これらの化合物は、そのアンギオテンシン
変換酵素抑制活性に基づき血圧降下剤である旨開示され
ている。
ロリンを包含するアミノ酸類のホスホリル@導体が開示
きれている。これらの化合物は、そのアンギオテンシン
変換酵素抑制活性に基づき血圧降下剤である旨開示され
ている。
ペトリロのU、S、特許第4168267号において、
各種のホスフイニルアルカノイ)V置換プロリン類かア
ンギオテンシン変換酵素を抑制する能力に基づき血圧降
下剤として有用である旨開示されている。
各種のホスフイニルアルカノイ)V置換プロリン類かア
ンギオテンシン変換酵素を抑制する能力に基づき血圧降
下剤として有用である旨開示されている。
オンデツテイらのU、S、特許第4151172号にお
いて、各種のホスホノアシルプロリン類がアンギオテン
シン便換酵素を抑制する能力に基づき血圧降下剤として
有用である旨開示されている。
いて、各種のホスホノアシルプロリン類がアンギオテン
シン便換酵素を抑制する能力に基づき血圧降下剤として
有用である旨開示されている。
プロリンおよび置換プロリン類のメルカプトアシル肉導
体は、そのアンギオテンシン変換酵素抑制活性に基づき
血圧降下剤として有用であることが知られている。オン
デツテイらのU、S、特許第4105776号には、上
記化合物においてプロリン環が非置換またはアルキル基
もしくはヒドロキシ承で置換されたものが開示されてい
る。まだ上記化合物においてプロリン環カ月つもしくは
それ以上のハロゲンで置換されたものが開示されている
。オンデツテイらのU、に、特許出願明細書筒2028
327に、プロリン環が各種エーテルまたは千オニーチ
ルで置換された化合物が開示されている。クラプチョの
U、S、特許第4217359tK、プロリン環がカル
バモイルオキシ置換基を有する化合物が開示されている
。クラプチョのU。
体は、そのアンギオテンシン変換酵素抑制活性に基づき
血圧降下剤として有用であることが知られている。オン
デツテイらのU、S、特許第4105776号には、上
記化合物においてプロリン環が非置換またはアルキル基
もしくはヒドロキシ承で置換されたものが開示されてい
る。まだ上記化合物においてプロリン環カ月つもしくは
それ以上のハロゲンで置換されたものが開示されている
。オンデツテイらのU、に、特許出願明細書筒2028
327に、プロリン環が各種エーテルまたは千オニーチ
ルで置換された化合物が開示されている。クラプチョの
U、S、特許第4217359tK、プロリン環がカル
バモイルオキシ置換基を有する化合物が開示されている
。クラプチョのU。
に、特許出願明細書筒2039478に、プロIJン環
が4位にジエーテル、ジチオエーテル、ケタ−1vまた
はチオケタール置換基を有する化合物が開示されている
。クラプチョのU、S、特許第43169059に、プ
ロリン環がシクロアルキル、フエニルマタハフェニルー
低級アルキレン置換基を有する化合物が開示されている
。オンデツテイらのU、S、特許第4234489号に
、プロリン環が5位にケト置換基を有する化合物が開示
されている。クラゾチョらのU、S、特許第43104
61号に、プロリン環が4位にイミド、アミドまたはア
ミノ置換基を有する化合物が開示されている。イワ・オ
頓U 、K 、特許出願明細書第2027025に、プ
ロl)ン環が5位に芳香族置換基を釘する化合物か開示
されている。オンデッティらのU、S、特許第4053
651および4199512号において、プロリン以外
の各種アミノ酸類のメルカプトアン/l/ 誘r−q体
もアンギオテンシン変換酵素抑制剤として有用である旨
開示されている。
が4位にジエーテル、ジチオエーテル、ケタ−1vまた
はチオケタール置換基を有する化合物が開示されている
。クラプチョのU、S、特許第43169059に、プ
ロリン環がシクロアルキル、フエニルマタハフェニルー
低級アルキレン置換基を有する化合物が開示されている
。オンデツテイらのU、S、特許第4234489号に
、プロリン環が5位にケト置換基を有する化合物が開示
されている。クラゾチョらのU、S、特許第43104
61号に、プロリン環が4位にイミド、アミドまたはア
ミノ置換基を有する化合物が開示されている。イワ・オ
頓U 、K 、特許出願明細書第2027025に、プ
ロl)ン環が5位に芳香族置換基を釘する化合物か開示
されている。オンデッティらのU、S、特許第4053
651および4199512号において、プロリン以外
の各種アミノ酸類のメルカプトアン/l/ 誘r−q体
もアンギオテンシン変換酵素抑制剤として有用である旨
開示されている。
カラニュースギイおよびぺl・リロのヨーロッパ特π1
′出願明細書82401459.1に、ホスホンアミデ
ート置換アミンまたはイミノ酸が開示されている。
′出願明細書82401459.1に、ホスホンアミデ
ート置換アミンまたはイミノ酸が開示されている。
3.4 −デヒドロプロリンのメルカプトアシル誘4体
は、オンデツティのU、S、特許第41241566号
によればアンギオテンシン変換酵素抑制剤として開示さ
れている。チアゾリジンカルボン酸および置換チアプリ
ジンカルボン酸のメルカプトアシル誘導体は、オンデッ
テイのIJ、S、特許第41923789およびヨント
モ・ファーマソイテイカル・インダストIJイのベルギ
ー特許第868532によればアンギオテンシン変換酵
素抑制剤として開示されている。
は、オンデツティのU、S、特許第41241566号
によればアンギオテンシン変換酵素抑制剤として開示さ
れている。チアゾリジンカルボン酸および置換チアプリ
ジンカルボン酸のメルカプトアシル誘導体は、オンデッ
テイのIJ、S、特許第41923789およびヨント
モ・ファーマソイテイカル・インダストIJイのベルギ
ー特許第868532によればアンギオテンシン変換酵
素抑制剤として開示されている。
■〕の化合物は、以下の手順に従って製造される。
式: 0
%式%
)
のホスホン酸を不活性有機溶媒(例えばベンゼン)中、
塩素化剤(例えば五塩化リン)で処理して式:0 %式%[ の化合物を形成し、これを有機塩基(例えばトリエチル
アミン)の存在下式: %式%) のラクテートと反応させた後、アルコ−7v:R30H
(R3は低級アルキル、ベンジ/L/まだはベンズヒド
リル)と反応させて式: %式% ( (3 の化合物を形成する。次いで、式〔■〕の化合物を水と
有機溶vl(例えばジオキサン)の混合物中水酸化ナト
リウムまたは水酸化リチウムなどの強塩占(で処理して
対応する式: %式% の酸を形成する。
塩素化剤(例えば五塩化リン)で処理して式:0 %式%[ の化合物を形成し、これを有機塩基(例えばトリエチル
アミン)の存在下式: %式%) のラクテートと反応させた後、アルコ−7v:R30H
(R3は低級アルキル、ベンジ/L/まだはベンズヒド
リル)と反応させて式: %式% ( (3 の化合物を形成する。次いで、式〔■〕の化合物を水と
有機溶vl(例えばジオキサン)の混合物中水酸化ナト
リウムまたは水酸化リチウムなどの強塩占(で処理して
対応する式: %式% の酸を形成する。
次に、酸[Vl 〕またはその活性型を式: I−1−
XCVl+ 〕のイミノ酸もしくはアミノ酸またはエス
テルとカップリングする。上記語句「活性型」とは、酸
の混合無水物、l(称無水物、酸りCI IJドまたは
活性化エステルへの置換を指称する〔ホウベン−ウニイ
ル著「Mcthoden der Organisch
enChemi cl (Vo I 、 XV 、パー
ト■、1頁以下、1974年、アシル化法の検討)参照
〕。反応は、カップリング剤(例えば1,1−カルボニ
ルジイミダゾール、燻化チオニルまたはジシクロへキ/
ル力ルポジイミド)の存在下で行うのが好ましい。
XCVl+ 〕のイミノ酸もしくはアミノ酸またはエス
テルとカップリングする。上記語句「活性型」とは、酸
の混合無水物、l(称無水物、酸りCI IJドまたは
活性化エステルへの置換を指称する〔ホウベン−ウニイ
ル著「Mcthoden der Organisch
enChemi cl (Vo I 、 XV 、パー
ト■、1頁以下、1974年、アシル化法の検討)参照
〕。反応は、カップリング剤(例えば1,1−カルボニ
ルジイミダゾール、燻化チオニルまたはジシクロへキ/
ル力ルポジイミド)の存在下で行うのが好ましい。
上記反応において、埒か
H
リル、メルカプタンまだはグアニジニル官能爪を保護す
べきである。適当な保護爪としては、ベンジルオキシカ
ルボニル、t−ブトキシカルボニル、ベンジル、ベンズ
ヒドリル、トリチル等、およびグアニジニルの場合ニト
ロが包含される。かかる保護基は反応の終了後、水素添
加、酸処理または他の公知法により除去される。
べきである。適当な保護爪としては、ベンジルオキシカ
ルボニル、t−ブトキシカルボニル、ベンジル、ベンズ
ヒドリル、トリチル等、およびグアニジニルの場合ニト
ロが包含される。かかる保護基は反応の終了後、水素添
加、酸処理または他の公知法により除去される。
まだ上記反応においてに1がアミノアルキルの場合、同
様に該アミノ基を好ましくはフタリジルで保護すべきで
ある。保護基は反応の終了後、ヒドラジンによる処理で
除去される。
様に該アミノ基を好ましくはフタリジルで保護すべきで
ある。保護基は反応の終了後、ヒドラジンによる処理で
除去される。
顯と1殆の一方または両方か低級アルキル、ベンジルま
たはベンズヒドリルである式〔1〕の生成物を例えば、
パラジウム/炭素触媒の存在下水素で処理して水素添加
するか、または水性ジオキサン中の水酸化ナトリウムあ
るいはジクロロメタン中のトリメチルシリルプロミドな
どで化学処理しで、19および1粕が水素である式C’
I)の生成物を得ることができる。
たはベンズヒドリルである式〔1〕の生成物を例えば、
パラジウム/炭素触媒の存在下水素で処理して水素添加
するか、または水性ジオキサン中の水酸化ナトリウムあ
るいはジクロロメタン中のトリメチルシリルプロミドな
どで化学処理しで、19および1粕が水素である式C’
I)の生成物を得ることができる。
1
チル生成物は、」二記反応において式〔v〕のイミノま
たはアミノ酸(既にエステル基を適所に具備)を用いる
ことにより得られる。かかるエステル反厖体は、ペプチ
ド、イミノ酸またはアミノ酸を0 ◎−C,,II I+ 2−(J−C−CIまり(d (H2C)3−C−0
−C−clなどの酸クロリドで処理してN−原子を保護
することにより製造することができる。次いて、保護し
た酸化合物を塩基の存在下、式: (式中、Lは脱離基(例えば塩素、す素、トリルスルホ
ニルオキシ等)である) の化合物と反応させた後、N−保護基を例えば酸処理ま
たは水素添加で除去する。
たはアミノ酸(既にエステル基を適所に具備)を用いる
ことにより得られる。かかるエステル反厖体は、ペプチ
ド、イミノ酸またはアミノ酸を0 ◎−C,,II I+ 2−(J−C−CIまり(d (H2C)3−C−0
−C−clなどの酸クロリドで処理してN−原子を保護
することにより製造することができる。次いて、保護し
た酸化合物を塩基の存在下、式: (式中、Lは脱離基(例えば塩素、す素、トリルスルホ
ニルオキシ等)である) の化合物と反応させた後、N−保護基を例えば酸処理ま
たは水素添加で除去する。
)1
また礼が−CI−1−07C−R16である式CI〕の
15 エステル生成物も、kが水素である式〔■〕の生成物を
モル当量の式〔■〕の化合物で処理することにより得る
ことができる。R31%−よび穐が同一で1 ■(15 顯と穐が共に水素またはアルカリ金属である式〔1〕の
生成物を2当量またはそれ以上の式〔■〕の化合物で処
理することにより得ることができる。
15 エステル生成物も、kが水素である式〔■〕の生成物を
モル当量の式〔■〕の化合物で処理することにより得る
ことができる。R31%−よび穐が同一で1 ■(15 顯と穐が共に水素またはアルカリ金属である式〔1〕の
生成物を2当量またはそれ以上の式〔■〕の化合物で処
理することにより得ることができる。
1
即が−Cトド0−C−Rl6 である式〔■〕のニス
1(15 チル生成物は、即が水素またはアルカリ金属およ(J
R67)(ベンジ)Vまたはベンズヒドリルである式〔
■〕の生成物を塩基の存在下、式〔■〕の化合物で処理
)することにより得ることかできる。i4エステル基を
例えば水素添加により除去して、R3か1 1(]5 を得る。
1(15 チル生成物は、即が水素またはアルカリ金属およ(J
R67)(ベンジ)Vまたはベンズヒドリルである式〔
■〕の生成物を塩基の存在下、式〔■〕の化合物で処理
)することにより得ることかできる。i4エステル基を
例えば水素添加により除去して、R3か1 1(]5 を得る。
す<アミンである式〔■〕の生成物は、内がアジドであ
る式〔1〕の対応生成物を還元することにより得られる
。
る式〔1〕の対応生成物を還元することにより得られる
。
式[’lの各種イミノ酸、アミノ酸およびエステル類は
、上述の文献や特許およびU、S、係属出願に記載され
ている。また種々の置換プロリン類はモウガーら著「C
C11e、ReviewJ (Vol、56.47〜8
6頁、1966年)に開示されている。
、上述の文献や特許およびU、S、係属出願に記載され
ている。また種々の置換プロリン類はモウガーら著「C
C11e、ReviewJ (Vol、56.47〜8
6頁、1966年)に開示されている。
アミノ酸またはイミノ酸が公知の場合、通常の方法でエ
ステルに容易に変換することができる。例えば、R6が
【−ブチルであるエステルは、対応するN−カルボベン
ジルオキシイミノ酸を酸性条件下イソブチレンで処理し
、次いでN−カルボベンジルオキシ保護基を接触水素添
加で除去することにより得ることができ、顯がベンジル
であるエステルは、イミノ酸をベンジルアルコールおよ
び1焦化チオニルで処理することにより得ることができ
る。
ステルに容易に変換することができる。例えば、R6が
【−ブチルであるエステルは、対応するN−カルボベン
ジルオキシイミノ酸を酸性条件下イソブチレンで処理し
、次いでN−カルボベンジルオキシ保護基を接触水素添
加で除去することにより得ることができ、顯がベンジル
であるエステルは、イミノ酸をベンジルアルコールおよ
び1焦化チオニルで処理することにより得ることができ
る。
または−(C1]2)m−シクロアルキルである置換プ
OIJノン類、式: 11 の4−ケトプロリンを式: R4−Mg−ハロまたはI
ζ4〜LiCX:[1’、4は前記と同意義、ハロはB
rJ・たはCI)のグリニヤ試薬まだはリチウム試薬の
溶Rりと反1心させて式: %式% をe)ることにより製造される。このrヒ合物ケ脱水剤
(例えばl)−ト/レニンスルホン酸、硫酸、重硫酸カ
リウムまたはトリフルオロ酢酸)で処理して、式=R4 1(1−) i の3,4−デヒドロ−4−置換プロリンを得る。N−ペ
ンジルオキシ力ルポニル保護基を除去シ、式〔X■〕の
化合物を水素添加して所定の出発物質を得る。lqがシ
クロヘキシルである置換プロリンは、4−フェニルプロ
リン化合物を更に水素添加することにより製J告するこ
とかできる。
OIJノン類、式: 11 の4−ケトプロリンを式: R4−Mg−ハロまたはI
ζ4〜LiCX:[1’、4は前記と同意義、ハロはB
rJ・たはCI)のグリニヤ試薬まだはリチウム試薬の
溶Rりと反1心させて式: %式% をe)ることにより製造される。このrヒ合物ケ脱水剤
(例えばl)−ト/レニンスルホン酸、硫酸、重硫酸カ
リウムまたはトリフルオロ酢酸)で処理して、式=R4 1(1−) i の3,4−デヒドロ−4−置換プロリンを得る。N−ペ
ンジルオキシ力ルポニル保護基を除去シ、式〔X■〕の
化合物を水素添加して所定の出発物質を得る。lqがシ
クロヘキシルである置換プロリンは、4−フェニルプロ
リン化合物を更に水素添加することにより製J告するこ
とかできる。
ロリン類は、式〔IX〕の4−ケトプロリンを水素の存
在下またはンアノトリヒドリド硼酸ナトリウにより製造
される。
在下またはンアノトリヒドリド硼酸ナトリウにより製造
される。
物、即ち式:
%式%
の化合物は、式:
のアミノポスホン酸を不活性有機溶vi−(例えばジオ
キサン)および弱何機哩基(例えばトリエチ/L/アミ
ン)の存在下、式: ( %式% の酸クロリドと反応させて、式: OO をT1)ることにより製造される。次いで、式CXVI
〕の化合物を」−1本のカップリング剤(例えばジシク
ロへギシル力ルポジイミド)の存在下、式:(2 ( %式%] のイミノ酸もしくはアミノ酸捷たはエステルとカップリ
ングして、式: %式% ( を形成する。
キサン)および弱何機哩基(例えばトリエチ/L/アミ
ン)の存在下、式: ( %式% の酸クロリドと反応させて、式: OO をT1)ることにより製造される。次いで、式CXVI
〕の化合物を」−1本のカップリング剤(例えばジシク
ロへギシル力ルポジイミド)の存在下、式:(2 ( %式%] のイミノ酸もしくはアミノ酸捷たはエステルとカップリ
ングして、式: %式% ( を形成する。
Xが保護基を包含する場合、該保護基がフェニルメトキ
シカルボニルの時は水素添加で、あるいは該保護基かフ
タリジルの時はヒドラジンによる処理でそれを除去して
、式CX III )の化合物を得る。
シカルボニルの時は水素添加で、あるいは該保護基かフ
タリジルの時はヒドラジンによる処理でそれを除去して
、式CX III )の化合物を得る。
式〔X■〕の化合物は、式:
2
1−10− CI−I −CO2I−I
CXIX 〕のヒドロキシ酸を遊
離酸または文・1応女ナトリウム嘱で好ましくはカップ
リング剤(例えばジフェニルホスホリルアジド)の存在
下、式〔■〕のイミノまたはアミノエステルとカップリ
ングすることによシ製造される。
CXIX 〕のヒドロキシ酸を遊
離酸または文・1応女ナトリウム嘱で好ましくはカップ
リング剤(例えばジフェニルホスホリルアジド)の存在
下、式〔■〕のイミノまたはアミノエステルとカップリ
ングすることによシ製造される。
本発明の化合物において1式〔王〕の構造のアミノ酸も
しくはイミノ酸またはエステル部に関し好ましい化合物
としては、 R21カ水、IN、メチル、フェニル、シクロペンチル
41’tはシクロヘキシル、 R22が水素、炭素数1〜4の低級アルキル、)
1 (I tl 1 1殆が水素、アルカリ金属または−CH−0−C−R1
61(15 ,1q5が水素、メチルまたはイソプロピル、R16が
炭素ii〜4の直鎖もしくは分枝鎖低級アルキ/Vまた
はフェニル、 1(か水素、 穐がヒドロキシ、 Iqがクロロまたはフルオロ、 人が炭素数1〜・4の低級アルキ)viだはシクロヘキ
シル、 顯がアミン、 R4が一〇−低級アルキル(低級アルキ)vは炭素数1
〜4の直鎖または分枝鎖基)、 は2、R11は水素、メチル、メトキシ、メチルチオ、
クロロ、ブロモ、フルオロまたはヒドロキシ)、 は2・1(11は水素、メチル、メトキシ、メチルチオ
、クロロ、ブロモ、フルオロまたはヒドロキシ)、1−
ナフチルオキシまたは2−ナフチルオキシ、 R41(’−8−晧級アルキ/L/(低級アルキルは炭
素数1〜4の直鎖まだは分枝鎖基)、 は2、R11は水素、メチル、メトキシ、メチルチオ、
クロロ、ブロモ、フルオロまタハヒドロキシ)、1−ナ
フチルチオまたは2−ナフチルチオ、1ζが −u−+
ILfl及アルキル 数1〜4の直鎖まだは分枝鎖基)、 たは2、R11は水素、メチル、メトキシ、メチルチオ
、クロロ、ブロモ、フルオロまたはヒドロキシ)、 1触かーSー低級アルキル(低級アルキルは炭素数1〜
4の直鎖または分枝鎖基)、 たば2、■(12は水素、メチル、メトキシ、メチルチ
オ、クロロ、ブロモ、フルオロまたはヒドロキシ)、 勺カフェニル、2−ヒドロキシフエニ/L/ ’! l
ニー id4−ヒドロキシフェニル、 掬がそれぞれ独立してフルオロまたはクロロ、IQかそ
れぞれ独立して一Y−R14(Yは0またはS,lL1
4は炭素数1〜4の直鎖もしくは分枝鎖アルキル、まだ
はR1 4は相互に結合して非置換5員もしくは6@環
または鎖環において1つもしくはそれ以上の炭素がメチ
ルまたはジメチ)V賄換基を有するもの)、 Rg・kg′・l(10およびR10′が全て水素・ま
たはへかフェニル、2−ヒドロキシフェニ/L/”lり
(d。
しくはイミノ酸またはエステル部に関し好ましい化合物
としては、 R21カ水、IN、メチル、フェニル、シクロペンチル
41’tはシクロヘキシル、 R22が水素、炭素数1〜4の低級アルキル、)
1 (I tl 1 1殆が水素、アルカリ金属または−CH−0−C−R1
61(15 ,1q5が水素、メチルまたはイソプロピル、R16が
炭素ii〜4の直鎖もしくは分枝鎖低級アルキ/Vまた
はフェニル、 1(か水素、 穐がヒドロキシ、 Iqがクロロまたはフルオロ、 人が炭素数1〜・4の低級アルキ)viだはシクロヘキ
シル、 顯がアミン、 R4が一〇−低級アルキル(低級アルキ)vは炭素数1
〜4の直鎖または分枝鎖基)、 は2、R11は水素、メチル、メトキシ、メチルチオ、
クロロ、ブロモ、フルオロまたはヒドロキシ)、 は2・1(11は水素、メチル、メトキシ、メチルチオ
、クロロ、ブロモ、フルオロまたはヒドロキシ)、1−
ナフチルオキシまたは2−ナフチルオキシ、 R41(’−8−晧級アルキ/L/(低級アルキルは炭
素数1〜4の直鎖まだは分枝鎖基)、 は2、R11は水素、メチル、メトキシ、メチルチオ、
クロロ、ブロモ、フルオロまタハヒドロキシ)、1−ナ
フチルチオまたは2−ナフチルチオ、1ζが −u−+
ILfl及アルキル 数1〜4の直鎖まだは分枝鎖基)、 たは2、R11は水素、メチル、メトキシ、メチルチオ
、クロロ、ブロモ、フルオロまたはヒドロキシ)、 1触かーSー低級アルキル(低級アルキルは炭素数1〜
4の直鎖または分枝鎖基)、 たば2、■(12は水素、メチル、メトキシ、メチルチ
オ、クロロ、ブロモ、フルオロまたはヒドロキシ)、 勺カフェニル、2−ヒドロキシフエニ/L/ ’! l
ニー id4−ヒドロキシフェニル、 掬がそれぞれ独立してフルオロまたはクロロ、IQかそ
れぞれ独立して一Y−R14(Yは0またはS,lL1
4は炭素数1〜4の直鎖もしくは分枝鎖アルキル、まだ
はR1 4は相互に結合して非置換5員もしくは6@環
または鎖環において1つもしくはそれ以上の炭素がメチ
ルまたはジメチ)V賄換基を有するもの)、 Rg・kg′・l(10およびR10′が全て水素・ま
たはへかフェニル、2−ヒドロキシフェニ/L/”lり
(d。
4−ヒドロキシフェニルでRg ’ 、 Rlgおよび
R10′が水素 であるものか挙げられる。
R10′が水素 であるものか挙げられる。
本発明の化合物において、式〔丁〕の構造のアミノ酸も
しくはイミノ酸またはエステル部に関し最も好せしい化
合物としては、 1l −N−C−GOOR6 1(L) II 0 0
111 1殆か水素、−CI−1−0−C−CI−13、−CH
2−0−C−C(C1−13)3、■ LI 3 1 −CI−1−0−C−C2L15 i タハ7 /l
/ h IJ 金属、■ Cl1(C113) 2 I9が水素、 1qかシクロヘキシル、 1<4カ灰素数1〜4の低級アルコキシ、チオ、CI、
lsr、 Fまたはヒドロキシ、Yが酸素°または硫
黄および(が2または3(特にYが硫黄および【が2) 本発明の化合物において、式〔■〕の構造のホスホニル
側鎖に関し奸才しい化合物としては、R7)(水素、炭
素数1〜4の低級アルキル、CF3、または炭素数1〜
4のアミン置換低級アルキル(特に水素、メチルまたは
−(CH2)4 NH2)、〜4の直鎖または分枝鎖低
級アルキル)、特に均カ水素、アルカリ金属、エチル、 CH30 1 CH((:R3)2 に1が炭素数1〜1oのアルキル、 整数、1q1は水素、メチル、メトキシ、メチルチオ、
クロロ、ブロモ、フルオロまたはヒドロキシ)、−(C
112) q−シクロアルキ)v (シクロアルキルの
炭素数5まだは6.9はR11捷たは2)、数)、 数)丑だii −CIl −Nil −C−R2o。
しくはイミノ酸またはエステル部に関し最も好せしい化
合物としては、 1l −N−C−GOOR6 1(L) II 0 0
111 1殆か水素、−CI−1−0−C−CI−13、−CH
2−0−C−C(C1−13)3、■ LI 3 1 −CI−1−0−C−C2L15 i タハ7 /l
/ h IJ 金属、■ Cl1(C113) 2 I9が水素、 1qかシクロヘキシル、 1<4カ灰素数1〜4の低級アルコキシ、チオ、CI、
lsr、 Fまたはヒドロキシ、Yが酸素°または硫
黄および(が2または3(特にYが硫黄および【が2) 本発明の化合物において、式〔■〕の構造のホスホニル
側鎖に関し奸才しい化合物としては、R7)(水素、炭
素数1〜4の低級アルキル、CF3、または炭素数1〜
4のアミン置換低級アルキル(特に水素、メチルまたは
−(CH2)4 NH2)、〜4の直鎖または分枝鎖低
級アルキル)、特に均カ水素、アルカリ金属、エチル、 CH30 1 CH((:R3)2 に1が炭素数1〜1oのアルキル、 整数、1q1は水素、メチル、メトキシ、メチルチオ、
クロロ、ブロモ、フルオロまたはヒドロキシ)、−(C
112) q−シクロアルキ)v (シクロアルキルの
炭素数5まだは6.9はR11捷たは2)、数)、 数)丑だii −CIl −Nil −C−R2o。
11
R4g 0
1(19およびR20がそれぞれ独立して炭素数1〜9
は0寸たけ1〜4の整数、R11は水素、メチル、メト
キシ、メチルチオ、クロロ、ブロモ、フルオロ捷たはヒ
ドロキシ)から選ばれるもの、特に1(19がフェニル
エチルでR2Oがフェニルであるものが挙げられる。
は0寸たけ1〜4の整数、R11は水素、メチル、メト
キシ、メチルチオ、クロロ、ブロモ、フルオロ捷たはヒ
ドロキシ)から選ばれるもの、特に1(19がフェニル
エチルでR2Oがフェニルであるものが挙げられる。
顯または悔の少なくとも一方が水素である本発明の化合
物は、各種の無機および有機塩基と塩基性鳴を形成する
が、これらも本発明の技術的範囲に属する。かかる塩と
しては、アンモニウム塩、リチウム、ナトリウムおよび
カリウムなどのアルカリ金属塩(これらが好ましい)、
カルシウムおよびマグネシウムなどのアルカリ土類金属
塩、有機塩基との塩(例えばジシクロヘキシルアミン塩
、ベンザチン4、N−メチル−1)−グルカミン塩、ヒ
ドラバミン鳴)、アルギニン、リシン等などのアミノ酸
との塩が包含きれる。非唐性の生理学的に許容しうる鳴
が好ましいか、他の塩も例えば生成物を単離または精製
するのに有用である。これらの塩は通常の埼法を用いて
形成される。
物は、各種の無機および有機塩基と塩基性鳴を形成する
が、これらも本発明の技術的範囲に属する。かかる塩と
しては、アンモニウム塩、リチウム、ナトリウムおよび
カリウムなどのアルカリ金属塩(これらが好ましい)、
カルシウムおよびマグネシウムなどのアルカリ土類金属
塩、有機塩基との塩(例えばジシクロヘキシルアミン塩
、ベンザチン4、N−メチル−1)−グルカミン塩、ヒ
ドラバミン鳴)、アルギニン、リシン等などのアミノ酸
との塩が包含きれる。非唐性の生理学的に許容しうる鳴
が好ましいか、他の塩も例えば生成物を単離または精製
するのに有用である。これらの塩は通常の埼法を用いて
形成される。
上述の如く、式〔■〕の生成物の分子中Xで示されるア
ミノ酸もしくはイミノ酸まだはエステル部は、L−立体
配置にある。〜および1(19の定義に基づき、他の不
斉中心はホスホニル側鎖に存在する。従って、化合物の
幾つかはジアステレオ異枕体形状またはその混合体で存
在しうる。上記製造プロセスは出発物質としてラセミ化
合物、エナンチオマーまたはジアステレオマーを用いる
ことかできる。ジアステレオマー生成物を製aする場合
、1Ifl常のクロマトグラフィまたは分別結晶法によ
りそれらを分離することができる。
ミノ酸もしくはイミノ酸まだはエステル部は、L−立体
配置にある。〜および1(19の定義に基づき、他の不
斉中心はホスホニル側鎖に存在する。従って、化合物の
幾つかはジアステレオ異枕体形状またはその混合体で存
在しうる。上記製造プロセスは出発物質としてラセミ化
合物、エナンチオマーまたはジアステレオマーを用いる
ことかできる。ジアステレオマー生成物を製aする場合
、1Ifl常のクロマトグラフィまたは分別結晶法によ
りそれらを分離することができる。
イミノvW4がモノ置換されている式〔■〕の生成物は
、シス−トランス異性を起こす。最終生成物の立体V配
置は、出発物質のR4,R5および1匁置換jAのケ体
配置に左右される。
、シス−トランス異性を起こす。最終生成物の立体V配
置は、出発物質のR4,R5および1匁置換jAのケ体
配置に左右される。
式〔■〕の化合物およびその生理学的に許容しうる塩類
は血圧降下剤である。それらはデカペプチドアンギオテ
ンシン■のアンギオテンシン■への変換を抑制し、この
ためアンギオテンシン関連高血圧症を減少まだは緩和す
るのに有用である。
は血圧降下剤である。それらはデカペプチドアンギオテ
ンシン■のアンギオテンシン■への変換を抑制し、この
ためアンギオテンシン関連高血圧症を減少まだは緩和す
るのに有用である。
酵素レニンのアンギオテンシノーゲン(血漿中のプソイ
ドグロブリン)に対する作用によって、アンギオテンン
ンIが生成する。アンギオテンシンtは、アンギオテン
シン変換酵素(ACE)によってアンギオテンシン■に
変換される。後着は、各種哺乳動物種(例えば人)の高
血圧症の各種症状の原因物質としてかかわり合う活性な
外圧物質である。本発明の化合物は、アンギオテンシン
変換酵素を抑制し、昇圧物質のアンギオテンシン1■の
形成を減少または削除することにより、アンギオテンシ
ノーゲンー(レニン)→アンギオテンシンI→アンギオ
テンシン■連鎖を干渉する。このように本発明化合物の
1種(寸たはこれらの混合物)を含有する組成物を投与
することにより、アンギオテンシン依存高血圧症に悩む
哺乳動物種(例えば人)の高血圧は軽減される。血圧ケ
減少きせるには、約0.1〜100り/体重(Kg )
/日に基づくことを条件として、1回用量または好捷
しくは2〜4回分割1日用量が適当である。かかる物質
は経口投与することが好ましいが、皮下経路、筋肉内経
路、静脈内経路または1復腔内注射経路などの非経口経
路も採用することができる。
ドグロブリン)に対する作用によって、アンギオテンン
ンIが生成する。アンギオテンシンtは、アンギオテン
シン変換酵素(ACE)によってアンギオテンシン■に
変換される。後着は、各種哺乳動物種(例えば人)の高
血圧症の各種症状の原因物質としてかかわり合う活性な
外圧物質である。本発明の化合物は、アンギオテンシン
変換酵素を抑制し、昇圧物質のアンギオテンシン1■の
形成を減少または削除することにより、アンギオテンシ
ノーゲンー(レニン)→アンギオテンシンI→アンギオ
テンシン■連鎖を干渉する。このように本発明化合物の
1種(寸たはこれらの混合物)を含有する組成物を投与
することにより、アンギオテンシン依存高血圧症に悩む
哺乳動物種(例えば人)の高血圧は軽減される。血圧ケ
減少きせるには、約0.1〜100り/体重(Kg )
/日に基づくことを条件として、1回用量または好捷
しくは2〜4回分割1日用量が適当である。かかる物質
は経口投与することが好ましいが、皮下経路、筋肉内経
路、静脈内経路または1復腔内注射経路などの非経口経
路も採用することができる。
本発明の化合物は、高血圧症治療用利尿薬と併用して配
合することもできる。本発明化合物と利尿薬からなる併
用生成物は、それを必要とする哺乳動物種に71シて、
本発明化合物の総1日用量約30〜600mfJ、好ま
しくは約30〜33(IVで、および利尿薬の場合杓1
5〜300グ、好ましくけ15〜200町からなる有効
量で投与することができる。本発明化合物との併用使用
に企図される利尿薬の具体例は、チアジド利尿薬(例え
ばクロルチアジド、ヒドロクロロチアジド、フルメチア
ジド、ヒドロフルメチアジド、ペンドロフルメチアジド
、メチクロチアジド、トリクロロメチアジド、ポリチア
ジドまたはベンズチアジド)、加えてエタクリニック酸
、チクリナフエン、クロルクリトン、70セミド、ムソ
リミン、ブメタニド、トリアムテレン、アミロリドおよ
びスピロノラクトン、並ひにそれらの塩類である。
合することもできる。本発明化合物と利尿薬からなる併
用生成物は、それを必要とする哺乳動物種に71シて、
本発明化合物の総1日用量約30〜600mfJ、好ま
しくは約30〜33(IVで、および利尿薬の場合杓1
5〜300グ、好ましくけ15〜200町からなる有効
量で投与することができる。本発明化合物との併用使用
に企図される利尿薬の具体例は、チアジド利尿薬(例え
ばクロルチアジド、ヒドロクロロチアジド、フルメチア
ジド、ヒドロフルメチアジド、ペンドロフルメチアジド
、メチクロチアジド、トリクロロメチアジド、ポリチア
ジドまたはベンズチアジド)、加えてエタクリニック酸
、チクリナフエン、クロルクリトン、70セミド、ムソ
リミン、ブメタニド、トリアムテレン、アミロリドおよ
びスピロノラクトン、並ひにそれらの塩類である。
式〔1〕の化合物は、血圧の減少に、使用するため経1
」投与の場合錠剤、カプセル剤またはエリキシル剤など
の組成物に、あるいは非経口投与の場合滅菌溶液もしく
は懸濁液に配合することができる。式〔■〕の化合物約
10〜500〜を、許容医薬プラクテイス(accep
ted pharmaceuticalpractic
e)で要求される単位用量形態の、生理学的に許容しう
るビヒクル、相体、賦形剤、結合剤、保存剤、安定化剤
、芳香剤等と調剤する。これらの組成物まだは調製物の
活性物質の砥は、上記指示範囲の適当な用量が得られる
ように設定される。
」投与の場合錠剤、カプセル剤またはエリキシル剤など
の組成物に、あるいは非経口投与の場合滅菌溶液もしく
は懸濁液に配合することができる。式〔■〕の化合物約
10〜500〜を、許容医薬プラクテイス(accep
ted pharmaceuticalpractic
e)で要求される単位用量形態の、生理学的に許容しう
るビヒクル、相体、賦形剤、結合剤、保存剤、安定化剤
、芳香剤等と調剤する。これらの組成物まだは調製物の
活性物質の砥は、上記指示範囲の適当な用量が得られる
ように設定される。
以下に示す実施例は例示のだめのもので、本発明の好捷
しい実施訴様である。温度は°C単位で表示する。FA
G−50W−X8Jとは、架橋ポリスチレン−ジビニル
ベンゼンスルホン酸カチオン交換樹脂を指称する。JH
P−20Jとは、多孔性架橋ポリスチレン−ジビニルベ
ンゼンポリマー樹脂を指称する。
しい実施訴様である。温度は°C単位で表示する。FA
G−50W−X8Jとは、架橋ポリスチレン−ジビニル
ベンゼンスルホン酸カチオン交換樹脂を指称する。JH
P−20Jとは、多孔性架橋ポリスチレン−ジビニルベ
ンゼンポリマー樹脂を指称する。
実施例1
(±)−1−Cz−CC(ヒドロキシ〔4−フェニルブ
チル)ホスフィニル〕オキシ〕−1−オキソプロピル〕
−L−プロリン・ジリチウム塩の製J告二 − A、(4−フェニルブチル)ホスホン酸の製造4−フェ
ニルブチルクロリド(8,OP、47.5111モル)
およびトリエチルホスファイト(15,0+++/!、
72mモル)の混合物をアル17141.5時間還流(
浴温185℃)加熱する。混合物を蒸留して純粋なジエ
チル(4−フェニルブチル)ホスホネート(IO,8F
!、84%)を無色液体で得る。
チル)ホスフィニル〕オキシ〕−1−オキソプロピル〕
−L−プロリン・ジリチウム塩の製J告二 − A、(4−フェニルブチル)ホスホン酸の製造4−フェ
ニルブチルクロリド(8,OP、47.5111モル)
およびトリエチルホスファイト(15,0+++/!、
72mモル)の混合物をアル17141.5時間還流(
浴温185℃)加熱する。混合物を蒸留して純粋なジエ
チル(4−フェニルブチル)ホスホネート(IO,8F
!、84%)を無色液体で得る。
l>、p、 152〜154℃(1,O朋Hg−) a
T L C(L t 。
T L C(L t 。
Ac)シングルスボッ) ; Rf=0.55゜ジエチ
ル(4−フェニルブチル)ホスボネート(3,5F、1
3.0mモル)および6N−H(J(45ml )の混
合物をアルゴン下16時間還流する。
ル(4−フェニルブチル)ホスボネート(3,5F、1
3.0mモル)および6N−H(J(45ml )の混
合物をアルゴン下16時間還流する。
冷却した反応混合物をEtoAcで抽出する。有機相を
飽和N a Ci テ洗い、乾燥(Mg S O4)
L、蒸発させる。粗生成物C2,3りをジイソプロピル
エーテルより再結晶して、純粋な(4−フェニルブチル
)ホスホン酸(1,7P、61%)を白色針状体で得る
。m、p、92〜93℃。
飽和N a Ci テ洗い、乾燥(Mg S O4)
L、蒸発させる。粗生成物C2,3りをジイソプロピル
エーテルより再結晶して、純粋な(4−フェニルブチル
)ホスホン酸(1,7P、61%)を白色針状体で得る
。m、p、92〜93℃。
元墓分近(C□。1−1□503Pとして)計算値二C
56,07、H7,06、PI3.46実測値:C55
,83、H7,04、PI3.34B、(±)−2−1
:Cフェニルメトキシ(4−フェニルブチル)ホスフィ
ニル〕オキシ〕プロピオン酸エチルエステルの製?i
: − 上記Aの4−フェニルブチルボスホン酸(0,70ii
!、3.27mモル)、ベンゼン(10m1)およびP
Ci5(1,36’! 16.54mモル) (7)混
合物ヲアルゴン下30分間還流する。ベンゼンおよびP
OCi3を減圧除去し、残渣をCH2Cノ。(5rnl
)に吸収せしめる。0℃(氷浴)に冷却後、トリエチル
アミン(1,3m7.9.39 mモル)を加え、次イ
テCFI2Cノ2(3mA)中ノd、A−X−f−ルラ
クテ−) (0,39r++l、3.3mモル)を5分
にわたって滴下して処理する。1時間後CH2Cj!
2 (37)中のベンジルアルコール(0,35mJ、
3.3 mモル)を2分にわたって滴下し、水浴を取
除き、反応混合物を2時間攪拌する。反応混合物をEL
OACで希釈し、I−I 20.5%K I(S O4
、飽和N a I r C03、塩水で洗い、乾燥(、
Mg5O4)L、蒸発させる。残渣(1,3g−)をシ
リカ(701にてヘキサン/EtoAc (2/1)て
溶離するクロマトグラフィに付し、標記化合物(0,8
0g、1.98mモノへ収率60%)を油状物で得る。
56,07、H7,06、PI3.46実測値:C55
,83、H7,04、PI3.34B、(±)−2−1
:Cフェニルメトキシ(4−フェニルブチル)ホスフィ
ニル〕オキシ〕プロピオン酸エチルエステルの製?i
: − 上記Aの4−フェニルブチルボスホン酸(0,70ii
!、3.27mモル)、ベンゼン(10m1)およびP
Ci5(1,36’! 16.54mモル) (7)混
合物ヲアルゴン下30分間還流する。ベンゼンおよびP
OCi3を減圧除去し、残渣をCH2Cノ。(5rnl
)に吸収せしめる。0℃(氷浴)に冷却後、トリエチル
アミン(1,3m7.9.39 mモル)を加え、次イ
テCFI2Cノ2(3mA)中ノd、A−X−f−ルラ
クテ−) (0,39r++l、3.3mモル)を5分
にわたって滴下して処理する。1時間後CH2Cj!
2 (37)中のベンジルアルコール(0,35mJ、
3.3 mモル)を2分にわたって滴下し、水浴を取
除き、反応混合物を2時間攪拌する。反応混合物をEL
OACで希釈し、I−I 20.5%K I(S O4
、飽和N a I r C03、塩水で洗い、乾燥(、
Mg5O4)L、蒸発させる。残渣(1,3g−)をシ
リカ(701にてヘキサン/EtoAc (2/1)て
溶離するクロマトグラフィに付し、標記化合物(0,8
0g、1.98mモノへ収率60%)を油状物で得る。
T L C(ヘキサン/ E t o A C= 27
1)2異性体i Rf =0.25.0.20゜C0(
±)−2−C[フェニルメトキシ(4−フェニルブチル
)ホスフィニル〕オキシ〕プロピオン酸の製造ニー 上記11のエチルエステル(0,8(1,1,、98m
モル)、IN−NaUtl (3,0ml、 3.0m
モル)およびジオキサン(lom/)の混合物をアルゴ
ン雰囲気中、25℃で2時間攪拌する。反応混合物を水
で希釈し、EvoAcで洗う。水性相を@ HC4でp
H1,0に酸性化し、得られる油状物をEtoAcに抽
出する。EtoAc抽出物を塩水で洗い、乾燥(Mg
S 04 ) L 、g 発すe テ標記化合物(0,
709,1,86mモル、収率94%)を油状物で得る
。TLC(CH30H/cH2c)2=l/9)主要ス
ホット;Rf=0.5゜ D、 (±)−1−C2−[フェニルメトキシ(4−
フェニルブチル)ホスフィニル〕オキシ〕−1−、tキ
ソプロビル〕−L−プロリン・フェニルメチルエステル
の製造ニー 上記cノモノe (0,70y、1.86mモル)、1
゜l−カルボニルジイミダゾール(0,30!、1.8
5mモル)および乾燥TI(F(Ioml)の混合物を
アルゴン雰囲気中、0℃で1時間攪拌する。得られるイ
ミダゾリドにトリエチルアミン(0,26mz、1.8
8mモル)およびL−プロリン・フェニルメチルエステ
ル・塩酸塩(市販品、0.45P、1.86mモル)を
加え、水浴を取除く。60時間後反応混合物をEtoA
cで希釈し、次いで■I2o、5%Kl(SO4、飽和
N a I4 CO3、塩水で洗い、乾燥(M g S
04) L、蒸発サセル。残渣(650mW)をシリ
カ(45F)にてヘキサン/アセトン(5/2)で溶離
するクロマトグラフィに付し、標記化合物(0,409
,0,71mモノペ収率38%)を油状物で得る。TL
C(ヘキサン/アセトン−5/2 )シングルスポット
1Rf=0.2゜ E、 (±)−1−[2−1:Cヒドロキシ〔4−フ
ェニルブチル)ホスフィニル〕オキシ〕−1−オキンプ
口ピル〕−■、−プロリン・ジリチウム塩の製造ニー 上記1)のジベンジルエステル(0,40F、0.71
+hモ/lz)、10 % pd/c (50”P)お
よヒCr]30■■(40ynl)の混合物をパール(
Part)装置ニテ50psiで3時間水素添加する。
1)2異性体i Rf =0.25.0.20゜C0(
±)−2−C[フェニルメトキシ(4−フェニルブチル
)ホスフィニル〕オキシ〕プロピオン酸の製造ニー 上記11のエチルエステル(0,8(1,1,、98m
モル)、IN−NaUtl (3,0ml、 3.0m
モル)およびジオキサン(lom/)の混合物をアルゴ
ン雰囲気中、25℃で2時間攪拌する。反応混合物を水
で希釈し、EvoAcで洗う。水性相を@ HC4でp
H1,0に酸性化し、得られる油状物をEtoAcに抽
出する。EtoAc抽出物を塩水で洗い、乾燥(Mg
S 04 ) L 、g 発すe テ標記化合物(0,
709,1,86mモル、収率94%)を油状物で得る
。TLC(CH30H/cH2c)2=l/9)主要ス
ホット;Rf=0.5゜ D、 (±)−1−C2−[フェニルメトキシ(4−
フェニルブチル)ホスフィニル〕オキシ〕−1−、tキ
ソプロビル〕−L−プロリン・フェニルメチルエステル
の製造ニー 上記cノモノe (0,70y、1.86mモル)、1
゜l−カルボニルジイミダゾール(0,30!、1.8
5mモル)および乾燥TI(F(Ioml)の混合物を
アルゴン雰囲気中、0℃で1時間攪拌する。得られるイ
ミダゾリドにトリエチルアミン(0,26mz、1.8
8mモル)およびL−プロリン・フェニルメチルエステ
ル・塩酸塩(市販品、0.45P、1.86mモル)を
加え、水浴を取除く。60時間後反応混合物をEtoA
cで希釈し、次いで■I2o、5%Kl(SO4、飽和
N a I4 CO3、塩水で洗い、乾燥(M g S
04) L、蒸発サセル。残渣(650mW)をシリ
カ(45F)にてヘキサン/アセトン(5/2)で溶離
するクロマトグラフィに付し、標記化合物(0,409
,0,71mモノペ収率38%)を油状物で得る。TL
C(ヘキサン/アセトン−5/2 )シングルスポット
1Rf=0.2゜ E、 (±)−1−[2−1:Cヒドロキシ〔4−フ
ェニルブチル)ホスフィニル〕オキシ〕−1−オキンプ
口ピル〕−■、−プロリン・ジリチウム塩の製造ニー 上記1)のジベンジルエステル(0,40F、0.71
+hモ/lz)、10 % pd/c (50”P)お
よヒCr]30■■(40ynl)の混合物をパール(
Part)装置ニテ50psiで3時間水素添加する。
触媒を濾過(セライト床)除去し、P液を蒸発させる。
残渣をH2O(2ml)およびo、 1 M −Lt
2CO3(3,5ml、 o、 35m モ/l/ )
jc吸収せしめ、これをAG 50W−X8 (Li
)(、40ml )カラムに通す。所定画分を集め、濾
過(ミリポア)し、凍結乾燥して標記生成物(245m
2.0.62mモル、収率87%)をガラス状固体で得
る。T L C(インプロパツール/濃NH4OHハ1
20=7/2/1)シングルスポットi Rf=0.8
゜元素分析(C□8l−i24N06P 、2Li 、
1.01−120として)計算値: C52,31SH
6,34、N3.39、P7.5 実測値:C52,44、)I 6.14、N3.63、
P7.2 実施例2 1− C(S) −2−CCCC±)−1−(ベンゾイ
ルアミノ)−3−フェニルプロピル〕ホスフィニル〕オ
キシ〕−1−オキソプロピル〕−L−プロリン・ジリチ
ウム塩の製造ニー A、(1−アミノ−3−フェニルプロピル)ホスホン酸
の製造ニー 氷酢酸(25rnl)中のベンジルカルバメート(15
P、0.1モル)および三塩化リン(9ml、0.1モ
ル)の攪拌溶液に0℃(水浴)で、3−フェニルプロパ
ナール(207,0,149モル)を30分にわたって
滴下する。得られる混合物を0℃で15分間攪拌し、次
いで室温に加温せしめる。次に混合物を30分間還流し
、4N−塩酸(125m/)で処理し、再度1時間還流
する。冷却後、暗色有機層より水溶液をデカントし、酢
酸エチルで洗い、蒸発乾固する。残渣を水(50mj)
に吸収せしめ、再度蒸発乾固する。この操作を更に2回
繰返す。最後に固体残渣をアセトニl−IJル/水でト
リチュレートし、五酸化リン上で減圧乾燥して10.0
55’の(1−アミノ−3−フェニルプロピル)ホスホ
ン酸を白色結晶固体で得る。m、p、 274〜27
8° (分解)。
2CO3(3,5ml、 o、 35m モ/l/ )
jc吸収せしめ、これをAG 50W−X8 (Li
)(、40ml )カラムに通す。所定画分を集め、濾
過(ミリポア)し、凍結乾燥して標記生成物(245m
2.0.62mモル、収率87%)をガラス状固体で得
る。T L C(インプロパツール/濃NH4OHハ1
20=7/2/1)シングルスポットi Rf=0.8
゜元素分析(C□8l−i24N06P 、2Li 、
1.01−120として)計算値: C52,31SH
6,34、N3.39、P7.5 実測値:C52,44、)I 6.14、N3.63、
P7.2 実施例2 1− C(S) −2−CCCC±)−1−(ベンゾイ
ルアミノ)−3−フェニルプロピル〕ホスフィニル〕オ
キシ〕−1−オキソプロピル〕−L−プロリン・ジリチ
ウム塩の製造ニー A、(1−アミノ−3−フェニルプロピル)ホスホン酸
の製造ニー 氷酢酸(25rnl)中のベンジルカルバメート(15
P、0.1モル)および三塩化リン(9ml、0.1モ
ル)の攪拌溶液に0℃(水浴)で、3−フェニルプロパ
ナール(207,0,149モル)を30分にわたって
滴下する。得られる混合物を0℃で15分間攪拌し、次
いで室温に加温せしめる。次に混合物を30分間還流し
、4N−塩酸(125m/)で処理し、再度1時間還流
する。冷却後、暗色有機層より水溶液をデカントし、酢
酸エチルで洗い、蒸発乾固する。残渣を水(50mj)
に吸収せしめ、再度蒸発乾固する。この操作を更に2回
繰返す。最後に固体残渣をアセトニl−IJル/水でト
リチュレートし、五酸化リン上で減圧乾燥して10.0
55’の(1−アミノ−3−フェニルプロピル)ホスホ
ン酸を白色結晶固体で得る。m、p、 274〜27
8° (分解)。
B、[3−フェニル−1−〔(ベンゾイルアミノ)プロ
ピル〕ホスホン酸の製造ニー 」1記Aで製造したアミノホスホン酸(3,2グ、14
.9mモル)、ジオキサン(20m1)、FI20(s
、 o ml)およびトリエチルアミン(7,5Tn!
、、54゜2mモル)の混合物に0℃(水浴)で、ジオ
キサン(4,0−)中の塩化ベンゾイル(2,8ml、
19゜4 +nモル)を5分にわたって滴F処理す
る。水浴を取除き、反応混合物を2時間攪拌し、H2O
で希釈1次いでEt20で洗う。水性相を濃HCノでp
H1,0に酸性化し、得られる油状物をEtOAc(3
倍)に抽出し、塩水で洗い、乾燥(Mg SO,i )
し、蒸発させる。残渣をE L 20 /ヘキサン下で
攪拌して、ガム状固体を得、これをIPE(2倍)でト
リチュレートして標記化合物(4,0g、12゜5mモ
ル、収率84%)を白色結晶固体で得る。
ピル〕ホスホン酸の製造ニー 」1記Aで製造したアミノホスホン酸(3,2グ、14
.9mモル)、ジオキサン(20m1)、FI20(s
、 o ml)およびトリエチルアミン(7,5Tn!
、、54゜2mモル)の混合物に0℃(水浴)で、ジオ
キサン(4,0−)中の塩化ベンゾイル(2,8ml、
19゜4 +nモル)を5分にわたって滴F処理す
る。水浴を取除き、反応混合物を2時間攪拌し、H2O
で希釈1次いでEt20で洗う。水性相を濃HCノでp
H1,0に酸性化し、得られる油状物をEtOAc(3
倍)に抽出し、塩水で洗い、乾燥(Mg SO,i )
し、蒸発させる。残渣をE L 20 /ヘキサン下で
攪拌して、ガム状固体を得、これをIPE(2倍)でト
リチュレートして標記化合物(4,0g、12゜5mモ
ル、収率84%)を白色結晶固体で得る。
m、p、166〜168℃。TLC(インプロパツール
/lNHOH/H20=7:2:1)主要スポット;R
f=0.4゜ 元素分析(C1d−■□3N04Pとして)計算値:N
4.39、C60,10、H5,68、P9.7 実測値:N4.34、C60,30、H5,83、P9
.6 C,1−C(S) −2−ヒドロキシ−1−オキソプロ
ピル]−L−プロリン−フェニルメチルエステルの製造
ニー 乳酸ナトリウム(1,79,15,0mモル)、ジフェ
ニルホスホリルアジド(3,6m/!、 16.5mモ
ル)およびDMF (30m1)の混合物をアルゴン雰
囲気中O℃(氷浴)で、トリエチルアミン(2゜1rn
l、15.2mモル)およびL−プロリン・フエニルメ
チルエステル塩酸塩(3,6!i’、]、 5.0 m
モル)で処理する。24時間後、反応混合物をEt。
/lNHOH/H20=7:2:1)主要スポット;R
f=0.4゜ 元素分析(C1d−■□3N04Pとして)計算値:N
4.39、C60,10、H5,68、P9.7 実測値:N4.34、C60,30、H5,83、P9
.6 C,1−C(S) −2−ヒドロキシ−1−オキソプロ
ピル]−L−プロリン−フェニルメチルエステルの製造
ニー 乳酸ナトリウム(1,79,15,0mモル)、ジフェ
ニルホスホリルアジド(3,6m/!、 16.5mモ
ル)およびDMF (30m1)の混合物をアルゴン雰
囲気中O℃(氷浴)で、トリエチルアミン(2゜1rn
l、15.2mモル)およびL−プロリン・フエニルメ
チルエステル塩酸塩(3,6!i’、]、 5.0 m
モル)で処理する。24時間後、反応混合物をEt。
AcおよびH20間に分配する。水性相を逆抽出し、有
機抽出物を集め、5%KH3O4、塩水で洗い、蒸発さ
せる。残渣(5,01をシリカ(13(1)にてEto
Ac/ヘキサン(]:1)で溶離するクロマトグラフィ
に付し、蒸発後標記化合物(2゜59.9. Q tn
モル、収率60%)を白色結晶固体で得る。m、P、8
6〜88℃。
機抽出物を集め、5%KH3O4、塩水で洗い、蒸発さ
せる。残渣(5,01をシリカ(13(1)にてEto
Ac/ヘキサン(]:1)で溶離するクロマトグラフィ
に付し、蒸発後標記化合物(2゜59.9. Q tn
モル、収率60%)を白色結晶固体で得る。m、P、8
6〜88℃。
元素分析(C05H09N04として)計算値:H5,
05、C64,97、H6,91実測値:H5,02、
C64,70、I−I 6.851)、 1− C(
S) −2−CCC(±)−1−(ベンゾイルアミノ)
−3−フェニルプロピル〕ヒドロキシホスフィニル〕オ
キシ〕−1−オキンプロピルーL−プロリン・フェニル
メチルエステルの製造ニー 」1記Bのホスホン酸(0,605’、1.9 mモル
)、上記Cのラクトイルプロリン・フェニルメチルエス
テル(0,52グ、1.9 m モル)および乾燥T)
IF(5rnl)の混合物をアルゴン下0℃で、ジシク
ロへキシルカルボジイミド(0,39P、1.9 mモ
ル)で処理する。15分後、反応混合物をEtoAcで
希釈し、ジシクロヘキシル尿素を濾過除去する。
05、C64,97、H6,91実測値:H5,02、
C64,70、I−I 6.851)、 1− C(
S) −2−CCC(±)−1−(ベンゾイルアミノ)
−3−フェニルプロピル〕ヒドロキシホスフィニル〕オ
キシ〕−1−オキンプロピルーL−プロリン・フェニル
メチルエステルの製造ニー 」1記Bのホスホン酸(0,605’、1.9 mモル
)、上記Cのラクトイルプロリン・フェニルメチルエス
テル(0,52グ、1.9 m モル)および乾燥T)
IF(5rnl)の混合物をアルゴン下0℃で、ジシク
ロへキシルカルボジイミド(0,39P、1.9 mモ
ル)で処理する。15分後、反応混合物をEtoAcで
希釈し、ジシクロヘキシル尿素を濾過除去する。
F液を5%KH5O4、塩水で洗い、乾燥(Mg 5o
4)し、蒸発させる。残渣をシリカ(601にてCH2
C12/CH30H/HOAc(20:1=1)で溶離
するクロマトグラフィに侍史。所定の両分を集め、蒸発
乾固して標記化合物(1,(1,1,7mモル、収率9
0%)を泡状物で得る。T L C(CI−(2C〕2
/CH301−1/HOAC=20 : 1 : 1
) 2異性体iR[=0.15.0.20゜ E、 1− C(S) −2−CC[(±)−1−(
ベンゾイルアミノ)−3−フェニルプロピル〕ホスフィ
ニル〕オキシ’11−1−オキンプロピル)−L−プロ
リン・ジリチウム塩の製造ニー 上記りのホスホン酸モノエステル(1,OfJ、1゜7
mモル)、lO%pd/c (400rny)およびC
H30[I(50rnl)の混合物をパール装置にて5
Qpsiで1.5時間水素添加する。触媒を濾過(セラ
イト床)して除去し、溶媒を蒸発する。残渣をI N
−Ltoo(2,5rnl、 2.5mモル)に吸収せ
しめ、■−■20で溶離しながらAG 5Q W−X
8 (Li、50 rnl)カラムに付す。所定画分を
集め、小容量に蒸発せしめ、LIP−20(200ml
)カラムにて直線勾配I(20/CH3CN(0−90
%CH3CN)で溶離するクロマトグラフィに付す。所
定画分を集め、蒸発乾固し、H20に吸収せしめ、濾過
(ミリボア)し、凍結乾燥して標記生成物(0,51グ
、1.0mモル、収率60%)を白色固体で得る。
4)し、蒸発させる。残渣をシリカ(601にてCH2
C12/CH30H/HOAc(20:1=1)で溶離
するクロマトグラフィに侍史。所定の両分を集め、蒸発
乾固して標記化合物(1,(1,1,7mモル、収率9
0%)を泡状物で得る。T L C(CI−(2C〕2
/CH301−1/HOAC=20 : 1 : 1
) 2異性体iR[=0.15.0.20゜ E、 1− C(S) −2−CC[(±)−1−(
ベンゾイルアミノ)−3−フェニルプロピル〕ホスフィ
ニル〕オキシ’11−1−オキンプロピル)−L−プロ
リン・ジリチウム塩の製造ニー 上記りのホスホン酸モノエステル(1,OfJ、1゜7
mモル)、lO%pd/c (400rny)およびC
H30[I(50rnl)の混合物をパール装置にて5
Qpsiで1.5時間水素添加する。触媒を濾過(セラ
イト床)して除去し、溶媒を蒸発する。残渣をI N
−Ltoo(2,5rnl、 2.5mモル)に吸収せ
しめ、■−■20で溶離しながらAG 5Q W−X
8 (Li、50 rnl)カラムに付す。所定画分を
集め、小容量に蒸発せしめ、LIP−20(200ml
)カラムにて直線勾配I(20/CH3CN(0−90
%CH3CN)で溶離するクロマトグラフィに付す。所
定画分を集め、蒸発乾固し、H20に吸収せしめ、濾過
(ミリボア)し、凍結乾燥して標記生成物(0,51グ
、1.0mモル、収率60%)を白色固体で得る。
’r L C(イア )oハ/ −)Lt/濃N1−1
40H/H20=7:2:1)シングルスポット; R
(= 0.7 。”、P。
40H/H20=7:2:1)シングルスポット; R
(= 0.7 。”、P。
248〜255℃。
L1分丘(C24■=■27N207PLi2・0.7
4 H20として) 計算値:H5,45、C56,12、H5,59、P6
.0 実測値:H5,35、C56,12、H5,66、P6
.0 実施例3〜105 下記欄■に示すホスホン酸、欄■の乳酸塩、欄■のイミ
ノ酸もしくはアミノ酸またはエステル、およびアルコー
ルR30Hを用いる以外は、実施例1と同様にして欄■
に示すジエステルを得る。R3および〜エステル基の両
方を除去して実施例IEに記載の如き対応ジ酸または塩
を得るか、あるし1はカルボン酸エステル基−のみを除
去するかまたは実施例77〜87の場合R3エステル基
のみを除去されてよい。
4 H20として) 計算値:H5,45、C56,12、H5,59、P6
.0 実測値:H5,35、C56,12、H5,66、P6
.0 実施例3〜105 下記欄■に示すホスホン酸、欄■の乳酸塩、欄■のイミ
ノ酸もしくはアミノ酸またはエステル、およびアルコー
ルR30Hを用いる以外は、実施例1と同様にして欄■
に示すジエステルを得る。R3および〜エステル基の両
方を除去して実施例IEに記載の如き対応ジ酸または塩
を得るか、あるし1はカルボン酸エステル基−のみを除
去するかまたは実施例77〜87の場合R3エステル基
のみを除去されてよい。
H
R3
刃岬 −R3
k
R2X
実施例 RIR3
R2X
実施例 IL IR3
2X
実施例 RlR3
R2X
実施例 町 1(3
2x 実施例 ■(1に3 R2x 実施例 RlR3 R2X 実施例 R1R3 L2X 実施例 R113 実施例 RI
RaR2x H H3 に2 XR2X (C)I2)2.S −CH3 に2X CトI3 実施例106〜124 F記欄■に示すホスホン酸、欄■の酸クロリドおよび欄
11【のヒドロキシアシルイミノエステルを用いる以外
は、実施例2と同様にして欄■に示す中間体を得る。カ
ルボン酸の保護基を除去して欄Vの化合物を得、これを
処理して実施例2Eに示を如き塩を得る。
2x 実施例 ■(1に3 R2x 実施例 RlR3 R2X 実施例 R1R3 L2X 実施例 R113 実施例 RI
RaR2x H H3 に2 XR2X (C)I2)2.S −CH3 に2X CトI3 実施例106〜124 F記欄■に示すホスホン酸、欄■の酸クロリドおよび欄
11【のヒドロキシアシルイミノエステルを用いる以外
は、実施例2と同様にして欄■に示す中間体を得る。カ
ルボン酸の保護基を除去して欄Vの化合物を得、これを
処理して実施例2Eに示を如き塩を得る。
19011
欄■
欄■
190H
実施例 k□9R2
実施例 に□g
R2113、−C113−CH3 !礁−−−11[−−R2 xR20 一一!呵i−−□□□□1.1□□11111.2.1
711.11.。
R2113、−C113−CH3 !礁−−−11[−−R2 xR20 一一!呵i−−□□□□1.1□□11111.2.1
711.11.。
実施例 k工。
R2実施例125 (±クー1−[l2−C[C(2,z−ジメチル−1−
オキソプロポキシ)メトキシ〕(4−フェニルブチル)
ホスフィニル〕オキシ〕−1−オキソプロピル〕−1,
−プロリンの製造ニー A、 (±)−1−[l2−(ICフェニルメトキシ
(4−フェニルブチル)ホスフィニル〕オキシ〕−x−
tキソプロビル〕−L−プロリン・1.1−ジメチルエ
チルエステルの製造ニー L−プロリンOフェニルメチルエステルの代わりにL−
プロリン・1,1−ジメチルエチルエステルを用い実施
例1Dと同様にして標記化合物を得る。
R2実施例125 (±クー1−[l2−C[C(2,z−ジメチル−1−
オキソプロポキシ)メトキシ〕(4−フェニルブチル)
ホスフィニル〕オキシ〕−1−オキソプロピル〕−1,
−プロリンの製造ニー A、 (±)−1−[l2−(ICフェニルメトキシ
(4−フェニルブチル)ホスフィニル〕オキシ〕−x−
tキソプロビル〕−L−プロリン・1.1−ジメチルエ
チルエステルの製造ニー L−プロリンOフェニルメチルエステルの代わりにL−
プロリン・1,1−ジメチルエチルエステルを用い実施
例1Dと同様にして標記化合物を得る。
B、(±)−1−[2−[ヒドロキシ(4−フェニルブ
チル)ホスフィニル〕オキシ〕−1−オキソプロピル〕
−L−プロリン・1,1−ジメチルエチルエステルの製
造ニー 上記へのベンジルエステル(1,039,2,0mモル
)、10%Pd/c (0,20’;I )およびメタ
ノール(50d)の膣合物をパール装置にて50PSi
の圧力で3時間水素添加する。触媒をセライトでp過除
去し、涙液を蒸発乾固して標記化合物を得る。
チル)ホスフィニル〕オキシ〕−1−オキソプロピル〕
−L−プロリン・1,1−ジメチルエチルエステルの製
造ニー 上記へのベンジルエステル(1,039,2,0mモル
)、10%Pd/c (0,20’;I )およびメタ
ノール(50d)の膣合物をパール装置にて50PSi
の圧力で3時間水素添加する。触媒をセライトでp過除
去し、涙液を蒸発乾固して標記化合物を得る。
C,(±)、−1−C2−CCC(2,2−ジメチル−
1−オキソプロピル)メトキシ〕(4−フェニルブチル
)ホスフィニル〕オキシ、1−1−オキソプロピル]−
L−プロリンa1,1−ジメチルエチルエステルの製造
ニー 乾燥ジメチルホルムアミド(5mlり中の上記Bのモノ
酸(0,64P、1.5mモル)、トリエチルアミン(
0,42ml、 3.0 mモル)およびクロロメチル
ピバレート(0,45g、3.0mモル)の溶液を、ア
ルゴン下室温で16時間攪拌する。次いで、混合物をE
toAc−水間に分配する。有機相を5%KH504、
飽和NaI(COaおよび飽和NaCJで連続的に洗い
、N a 2 S O、i上で乾燥し、蒸発させる。
1−オキソプロピル)メトキシ〕(4−フェニルブチル
)ホスフィニル〕オキシ、1−1−オキソプロピル]−
L−プロリンa1,1−ジメチルエチルエステルの製造
ニー 乾燥ジメチルホルムアミド(5mlり中の上記Bのモノ
酸(0,64P、1.5mモル)、トリエチルアミン(
0,42ml、 3.0 mモル)およびクロロメチル
ピバレート(0,45g、3.0mモル)の溶液を、ア
ルゴン下室温で16時間攪拌する。次いで、混合物をE
toAc−水間に分配する。有機相を5%KH504、
飽和NaI(COaおよび飽和NaCJで連続的に洗い
、N a 2 S O、i上で乾燥し、蒸発させる。
粗生成物をシリカゲルにてフラッシュクロマトグラフィ
に付して精製し、標記化合物を得る。
に付して精製し、標記化合物を得る。
D、 (±)−1−[2−[[[(2,2−ジメチル
−1−オキソプロポキシ)メトキシ〕(4−フェニルブ
チル)ホスフィニル〕オキシ〕−1−オキソプロピル]
−L−プロリンの製造ニーCI−I Cノ (10mj
り中の上記Cのジエステル(2 0,541i’、■、Omモル)およびアニソール(2
イ)の溶液を、0℃(水浴)にてトIJフルオロ酢酸(
5m1)で処理する。0℃で1時間後、混合物をEto
Ac−水間に分配する。有機相を水および飽和NaCj
!、で洗い、N a 2 S O、i上で乾燥し、蒸発
させる。粗生成物をシリカゲルにてフラッシュクロマト
グラフィに付して精製し、標記化合物を?葬る。
−1−オキソプロポキシ)メトキシ〕(4−フェニルブ
チル)ホスフィニル〕オキシ〕−1−オキソプロピル]
−L−プロリンの製造ニーCI−I Cノ (10mj
り中の上記Cのジエステル(2 0,541i’、■、Omモル)およびアニソール(2
イ)の溶液を、0℃(水浴)にてトIJフルオロ酢酸(
5m1)で処理する。0℃で1時間後、混合物をEto
Ac−水間に分配する。有機相を水および飽和NaCj
!、で洗い、N a 2 S O、i上で乾燥し、蒸発
させる。粗生成物をシリカゲルにてフラッシュクロマト
グラフィに付して精製し、標記化合物を?葬る。
実施例126〜130
クロロメチルピバレートの代わりに下記欄IGコ示すア
ルキル化剤を用い実施例125と同様番こして、欄■の
生成物を得る。
ルキル化剤を用い実施例125と同様番こして、欄■の
生成物を得る。
欄工
(実施例126)
13 r C)I OC−CM 3
(実施例127)
CH3
(実施例128)
(実施例129)
(実施例130)
1
C11(CH3)2
欄■
実施例126:(±)−1−[2(C1:(アセチルオ
キシ)メトキシ〕(4−フェニルブチル)ホスフィニル
〕オキシ〕−1−オキソプロピル〕−L−プロリン 実施例127:(±)−1−[2−[I〔CI−(エト
キシカルボニルオキシ)エトキシ〕(4−フェニルブチ
ル)ホスフィニル〕オキシIF −1−、tキソプロビ
ル]−L−プロリン 実施例128:(±)−1−C2−11:(3−オキソ
−1−インベンゾフラニルオキシ)(4−フェニルブチ
ル)ホスフィニル〕オキシ〕−1−tキソプロビル]
−L−プロリン 実施例129:(±)−1−+:2−CCC(ベンゾイ
ルオキシ)メトキシ〕〔4−フェニルブチル)ホスフィ
ニル〕オキシ〕−1−オキソプロピル〕−L−プロリン 実施例130:(±)−x−〔2−〔〔〔2−メチル=
1−(1−オキソプロポキシ)プロポキシ)(4−フェ
ニルブチル)ホスフィニル〕オキシ〕−1−オキソプロ
ピル〕−L−プロリン同様に、実施例1〜124の適当
に保護した化合物と共に実施例125〜130のアルキ
ル化剤を用いて、本発明の技術的範囲に属する他の化合
物を得ることができる。プロリンのカルボキシル基が【
−ブチルエステルよりはむしろフェニルメチルエステル
として保護されている場合、最終工程でP d /cの
存在下水素添加して除去する。
キシ)メトキシ〕(4−フェニルブチル)ホスフィニル
〕オキシ〕−1−オキソプロピル〕−L−プロリン 実施例127:(±)−1−[2−[I〔CI−(エト
キシカルボニルオキシ)エトキシ〕(4−フェニルブチ
ル)ホスフィニル〕オキシIF −1−、tキソプロビ
ル]−L−プロリン 実施例128:(±)−1−C2−11:(3−オキソ
−1−インベンゾフラニルオキシ)(4−フェニルブチ
ル)ホスフィニル〕オキシ〕−1−tキソプロビル]
−L−プロリン 実施例129:(±)−1−+:2−CCC(ベンゾイ
ルオキシ)メトキシ〕〔4−フェニルブチル)ホスフィ
ニル〕オキシ〕−1−オキソプロピル〕−L−プロリン 実施例130:(±)−x−〔2−〔〔〔2−メチル=
1−(1−オキソプロポキシ)プロポキシ)(4−フェ
ニルブチル)ホスフィニル〕オキシ〕−1−オキソプロ
ピル〕−L−プロリン同様に、実施例1〜124の適当
に保護した化合物と共に実施例125〜130のアルキ
ル化剤を用いて、本発明の技術的範囲に属する他の化合
物を得ることができる。プロリンのカルボキシル基が【
−ブチルエステルよりはむしろフェニルメチルエステル
として保護されている場合、最終工程でP d /cの
存在下水素添加して除去する。
実施例131
(±)−〔2−[ヒドロキシ(4−フェニルブチル)ホ
スフィニル]オキシ]−1−オキソプロピル)−L−プ
ロリン・ジナトリウム塩の製造ニー実施例1Eのリチウ
ム樹脂に代えてAC−50W−X8(Na)を用いる以
外は、同様にして標記化合物を得る。
スフィニル]オキシ]−1−オキソプロピル)−L−プ
ロリン・ジナトリウム塩の製造ニー実施例1Eのリチウ
ム樹脂に代えてAC−50W−X8(Na)を用いる以
外は、同様にして標記化合物を得る。
この操作を実施例2〜130て採用して対応するモノま
たはジナトリウム塩を得ることができる。また同様に、
カリウム型樹脂を用いることにより対応するモノまたは
ジカリウム塩が得られる。
たはジナトリウム塩を得ることができる。また同様に、
カリウム型樹脂を用いることにより対応するモノまたは
ジカリウム塩が得られる。
実施例132
成分:
(±)−[2−[ICヒドロキシ(4−フェニルブチル
)ホスフィニル〕オキシ]−1−オキソプロピル〕−L
−プロリン・ジナトリウム塩・・・100m7コーンス
ターチ ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・ 50”gセラーf−ン
・・・・・・出出・・・・山−山・・山・・・山・・
・・・・・・ 7.5 m9アビセル(微結晶セルロー
ス)萌・・曲・・25mゲステアリン酸マグネシウム・
・・・・・・・・萌・・萌・・ 2.5 m9185’
Q 」二記成分をそれぞれ含有する1000個の錠剤をを十
分なバルク量から調製する。即ち、(±)−〔2−[ヒ
ドロキシ(4−フェニルブチル)ホスフィニル〕オキシ
〕−1−オキソプロピル〕−L−プロリン・ジナトリウ
ム塩およびコーンスターチを、ゼラチンの水溶液と混合
する。混合物を乾燥し、微粉末に粉砕する。これにアビ
セル、次いでステアリン酸マグネシウムを混合造粒する
。次にこの混合物を打錠して活性成分100m!?をそ
れぞれ含む1000個の錠剤を作る。
)ホスフィニル〕オキシ]−1−オキソプロピル〕−L
−プロリン・ジナトリウム塩・・・100m7コーンス
ターチ ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・ 50”gセラーf−ン
・・・・・・出出・・・・山−山・・山・・・山・・
・・・・・・ 7.5 m9アビセル(微結晶セルロー
ス)萌・・曲・・25mゲステアリン酸マグネシウム・
・・・・・・・・萌・・萌・・ 2.5 m9185’
Q 」二記成分をそれぞれ含有する1000個の錠剤をを十
分なバルク量から調製する。即ち、(±)−〔2−[ヒ
ドロキシ(4−フェニルブチル)ホスフィニル〕オキシ
〕−1−オキソプロピル〕−L−プロリン・ジナトリウ
ム塩およびコーンスターチを、ゼラチンの水溶液と混合
する。混合物を乾燥し、微粉末に粉砕する。これにアビ
セル、次いでステアリン酸マグネシウムを混合造粒する
。次にこの混合物を打錠して活性成分100m!?をそ
れぞれ含む1000個の錠剤を作る。
同様に実施例2〜130のいずれがの生成物100mg
を含む錠剤を作ることができる。
を含む錠剤を作ることができる。
実施例133
成分:
1−[(S)−2−[C(±)−1−(ベンゾイルアミ
ノ)−3−フェニルプロピル〕ポスフィニル〕オキシ〕
−1−オキソプロピル]−L−プロリン・ナトリウム塩
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・曲・・曲・
・・50m7ラクトース ・・・・・・・・出
出重重・・・山・・・・・・・・・ 25m!?アビセ
ル ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・ 38m
7コーンスターチ ・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・ 15m
ゲステアリン酸マグネシウム・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・ 2 ”1930m9 上記成分をそれぞれ含有する1000個の錠剤を十分な
バルク量から調製する。即ち、1−[I(S)−2−[
C(±)−1−(ベンゾイルアミノ)−3−フェニルプ
ロピル]ホスフィニル〕オキシ〕−1−オキソプロピル
〕−L−プロリン・ナトリウム塩、ラクトースおよびア
ビセルを混合し、次いでコーンスターチとブレンドする
。ステアリン酸マグネシウムを加え、乾燥混合物を打錠
して活性成分50m7をそれぞれ含む1000個の錠剤
を作る。かかる錠剤を、着色剤としてイエロー#6含有
レーキを含むMethocel E 15 (メチルセ
ルロース)の溶液で被覆する。
ノ)−3−フェニルプロピル〕ポスフィニル〕オキシ〕
−1−オキソプロピル]−L−プロリン・ナトリウム塩
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・曲・・曲・
・・50m7ラクトース ・・・・・・・・出
出重重・・・山・・・・・・・・・ 25m!?アビセ
ル ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・ 38m
7コーンスターチ ・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・ 15m
ゲステアリン酸マグネシウム・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・ 2 ”1930m9 上記成分をそれぞれ含有する1000個の錠剤を十分な
バルク量から調製する。即ち、1−[I(S)−2−[
C(±)−1−(ベンゾイルアミノ)−3−フェニルプ
ロピル]ホスフィニル〕オキシ〕−1−オキソプロピル
〕−L−プロリン・ナトリウム塩、ラクトースおよびア
ビセルを混合し、次いでコーンスターチとブレンドする
。ステアリン酸マグネシウムを加え、乾燥混合物を打錠
して活性成分50m7をそれぞれ含む1000個の錠剤
を作る。かかる錠剤を、着色剤としてイエロー#6含有
レーキを含むMethocel E 15 (メチルセ
ルロース)の溶液で被覆する。
同様に実施例1および3〜130のいずれかの生成物5
(3m9を含有する錠剤を作ることができる。
(3m9を含有する錠剤を作ることができる。
実施例134
100mgの1−C(S)−2−CI[l:(+)−1
−(ベンゾイルアミノ)−3−フェニルプロピル〕ホス
フィニル]オキシ〕−1−オキソプロピル〕−L−プロ
リン・ナトリウム塩をそれぞれ含有するツーピース#1
ゼラチンカプセル剤に、下記成分の混合物を充填する。
−(ベンゾイルアミノ)−3−フェニルプロピル〕ホス
フィニル]オキシ〕−1−オキソプロピル〕−L−プロ
リン・ナトリウム塩をそれぞれ含有するツーピース#1
ゼラチンカプセル剤に、下記成分の混合物を充填する。
成分:
l−C(S) −2−[I CC(±)=1−(ベンゾ
イルアミノ)−3−フェニルプロピル〕ホスフィニル]
オキシ]−1−オキソプロピル〕−L−プロリン・ナト
リウム塩 ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・ 100 m9ステアリン酸マグ
ネシウム・山・・・・・・・・・・・ 7 myラ
クトース ・・・・・・・・・−・・・・・・・・・
山−”・’−・・・・・−・193 m9300 mf
l 同様に実施例1および3〜130のいずれかの生成物1
00 ”7を含有するカプセル剤を作ることができる。
イルアミノ)−3−フェニルプロピル〕ホスフィニル]
オキシ]−1−オキソプロピル〕−L−プロリン・ナト
リウム塩 ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・ 100 m9ステアリン酸マグ
ネシウム・山・・・・・・・・・・・ 7 myラ
クトース ・・・・・・・・・−・・・・・・・・・
山−”・’−・・・・・−・193 m9300 mf
l 同様に実施例1および3〜130のいずれかの生成物1
00 ”7を含有するカプセル剤を作ることができる。
実施例135
以下の手順に従って、注射液を調製する。
〔±)−1−C2,−1:Cヒドロキシ(4−フェニル
ブチル)ホスフィニル〕オキシ〕−1−オキソプロピル
]−L−プロリン・ジナトリウム塩−・・・・・・・・
・・・・・・・500グメチルパラベン ・・・−・・
・・−・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・ 5ii2プロピルパラベン ・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・ lp
塩化ナトリウム ・・・−・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・・・ 25グ注射用水
・・・・・・・−・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・ 5ノ上記
活性物質、保存剤および塩化ナトリウムを3ノの注射用
水に溶解し、次いで容量を5iに増量する。溶液を滅菌
フィルターで濾過し、滅菌バイアルに無菌的に充填し、
滅菌ゴム栓で密閉する。各バイアルは100mf!活性
成分/注射液(rnl)の濃度溶液5−を含有する。
ブチル)ホスフィニル〕オキシ〕−1−オキソプロピル
]−L−プロリン・ジナトリウム塩−・・・・・・・・
・・・・・・・500グメチルパラベン ・・・−・・
・・−・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・ 5ii2プロピルパラベン ・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・ lp
塩化ナトリウム ・・・−・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・・・ 25グ注射用水
・・・・・・・−・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・ 5ノ上記
活性物質、保存剤および塩化ナトリウムを3ノの注射用
水に溶解し、次いで容量を5iに増量する。溶液を滅菌
フィルターで濾過し、滅菌バイアルに無菌的に充填し、
滅菌ゴム栓で密閉する。各バイアルは100mf!活性
成分/注射液(rnl)の濃度溶液5−を含有する。
同様に実施例2〜130のいずれの生成物に対しても、
1ml当り100”IP活性成分を有する注射液を調製
することができる。
1ml当り100”IP活性成分を有する注射液を調製
することができる。
実施例136
成分:
〔±)−1−C2−CCヒドロキシ〔4−フェニルブチ
ル)ホスフィニル〕オキシ〕−1−オキソプロピル]−
L−プロリン・ジナトリウム塩・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・100 Tn9アビセ
ル ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・100#1gヒドロクロ
ロチアジド・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・ 12.5 ’Wgラクトース ・・・
・・°パ°・・・・・・°゛・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・113 ■コーンスタ
ーチ ・山・・・・・・山・・−・・出出・・・・・
・山・・ 17.5 malステアリン酸 ・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・ 7 m?50mLj 」1記成分をそれぞれ含有する1000個の錠剤を十分
なバルク量から調製する。(±)−1−[:2−[ヒド
ロキシ(4−フェニルブチル)ホスフィニル]オキシ、
1−1−オキソプロピル1)−L−プロリン・ジナトリ
ウム塩、アビセルおよび一部のステアリン酸をスラグす
る。スラグを粉砕し、#2スクリーンに通し、次いでヒ
ドロクロロチアジド、ラクト−ス、コーンスターチおよ
び残りのステアリン酸と混合する。混合物を打錠して3
50mgのカプセル型錠剤とする。錠剤を半分に分割す
る創口を入れる。
ル)ホスフィニル〕オキシ〕−1−オキソプロピル]−
L−プロリン・ジナトリウム塩・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・100 Tn9アビセ
ル ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・100#1gヒドロクロ
ロチアジド・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・ 12.5 ’Wgラクトース ・・・
・・°パ°・・・・・・°゛・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・113 ■コーンスタ
ーチ ・山・・・・・・山・・−・・出出・・・・・
・山・・ 17.5 malステアリン酸 ・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・ 7 m?50mLj 」1記成分をそれぞれ含有する1000個の錠剤を十分
なバルク量から調製する。(±)−1−[:2−[ヒド
ロキシ(4−フェニルブチル)ホスフィニル]オキシ、
1−1−オキソプロピル1)−L−プロリン・ジナトリ
ウム塩、アビセルおよび一部のステアリン酸をスラグす
る。スラグを粉砕し、#2スクリーンに通し、次いでヒ
ドロクロロチアジド、ラクト−ス、コーンスターチおよ
び残りのステアリン酸と混合する。混合物を打錠して3
50mgのカプセル型錠剤とする。錠剤を半分に分割す
る創口を入れる。
同様に実施例2〜130のいずれかの生成物100〜を
含有する錠剤を作ることができる。
含有する錠剤を作ることができる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 19式、 OR20 II l11 R】−P−0−CI(−C−X 01(3 1量
1−1Cα水6 1 K21内は水素、イ
氏吸アルキル、ハロゲン、ケト、ヒ0 1 ドロキシ、−Nll −C−低級アルキル、アジド、ア
2−す7チル、−(CH2)m−シフ07 /V キ/
V、または2−ナフチルオキシ、−5−低級アルキル、
IQはそれぞれ同一もしくは異なってノ10ゲンまたは
−Y −R14、 顯、 R9’、 ”illおよびR1(jはそれぞれ独
立して水素および低級アルキルから選ばれるもの、また
はRg’、 1シ1 g 、 R1o’は水素で顯はR
11は水素、炭素数1〜4の低級アルキル、炭素数1〜
4の低級アルコキシ、炭素数1〜4の低級アルキルチオ
、クロロ、ブロモ、フルオロ、トリフルオロメチル、ヒ
ドロキシ、フエニノプ、フェノキシ、フェニルチオまた
はフェニルメチル、”12は水素、炭素数1〜4の低級
アルキル、炭素数1〜4の低級アルコキシ、炭素数1〜
4の低級アルキルチオ、クロロ、ブロモ、7/L/71
−口、トリフルオロメチルまたはヒドロキシ、 盲11は0.1.2または3、 Pは1.2または3(但し、R11またはR12が水素
、メチル、メトキシ、クロロまたはフルオロの場合のみ
l)は1より大)、 R13は水素または炭素数1〜4の弐級アルキルYは酸
素まだは硫黄、 R14は炭素数1〜4の低級アルキルもしくは互に結合
して非置換5員もしくは6員環または該環において1つ
もしくはそれ以上の炭素が炭素数1〜4の低級アルキル
またはジ(炭素数1〜4の低級アルキル)置換基を有す
るもの、 R21ハ水素、低級アルキル、シクロアルキル、1 HH −(CH2)r−NO3、−(CH2)r−5H、=(
CI−12)r−5−低−(CI 12 ) r −C
−Nl−12、rは1〜4の整数、 1(1は炭素数1〜jOのアルキル、アミノアルキ−(
CI 12 )q−シクロアルキル、 −(CI−1
2)q−[]、°\S 1ζ19 整数、1(11およびPは前記と同意義)、およびRH
)とR20はそれぞれ独立して水素、低級アルキ)Ii
、ハロ置換低級アルキル、 前記と同意義)、 )、 顯および相はそれぞれ独立して水素、低級アルキル、ベ
ンジル、ベンズヒドリル、アルカリ金属1 または−Q−I−0−C−R16(R15は水素、低級
アルキ15 ル、シクロアルキルまたはフェニル、およ(J R16
ハ水素、低級アルキル、低級アルコキシまたはフェニル
、あるいはI(15と1(16は共に合して−(CI屹
)2−艮17は低級アルキル、ベンジルまたはフェネチ
ル、および 1(18は水素、低級アルキル、ベンジ/viたはフェ
ネチルである〕 で示きれる化合物、またはその医薬的に許容しうる鳴。 2、 R4カ水素、ヒドロキシ、クロロ、フルオロ、炭
素数1〜4の1氏級アルキル、シクロヘキシル、アミン
、−〇−低級アルキ/I/(低級アルキルの炭五$か一
〇−1氏級アルキ)v (低級アルキルの炭素数1〜4
)、−3−低級アルキル(低級アルキルR7カ71ニル
、2−ヒドロキソフェニルまだは4−ヒドロキシフェニ
ル、 相がそれぞれフルオロ、クロロまたは−Y−R,14Y
が酸素または硫黄、 RI4が炭素数1〜4の低級アルキル、またはR14基
が相互に結合して非置換5@もしくは6員環または線環
において1つもしくはそれ以上の炭素がメチ/L/″!
、だはジメチ/vlFM、換基を有するもの、Rg、
Rg’ 、 R10およびR1((か全て水素、まだは
丙がフェニル、2−ヒドロキシフェニルまたは4−ヒド
ロキシフェニルで、Rg’ 、 RloおよびRIO’
が水素、 Inが0.1または2、 R11が水素、メチル、メトキシ、メチルチオ、クロロ
、ブロモ、フルオロまたはヒドロキシ、顯か水素、炭素
数1〜4の低級アルキル、CF3捷たけ炭素数1〜4の
アミ/置換低級アルキル、1ζ】が炭素数1〜10のア
ルキル、 キ/L/(シクロアルキルの炭素数5または6)、1 丑たけ−CH−N11−C−R2O(qは0または1〜
4■ I(19 の整数、1(11は前記と同意義)、 1狛および1忙がそれぞれ独立して水素、アルカリ金属
、炭素数1〜4の低級アルキ/Vまたは1 −CI+−0−C−R16から選ばれるもの、■ 1(15 R15カ水素、メチルまたはイソプロピル、および R16が炭素数1〜4の低級アルギルまたはフェニルで
ある前記第1項記載の化合物。 〜が水素、シクロヘキシル、炭素数1〜4の低りが2ま
たは3、 0 j 悔が水素、−CH−0−C−CI(3、CH3 0 111 −CH−Nil−C−R2O。 1(19 1127J(水素まだは低級アルキル、および1勺カ水
素、アルカリ金属またはフェニルアルキルであるAil
記第1項または第2項記載の化合物。 4、R1カフェニルアルキルまたは 1 −CIl−Nll−C−R2g (R4gは7 エ=
/L/ 7 /L/キ)v1ζ19 R2gはフ エニン )、 1(ヅS水素、メチルまたは−(CH2)4−Nl−1
2、および 01( 1(3が水素、フェニルメチル、−CH−0〜C−Cl
−13C1l (C1l 3 ) 2 またはアルカリ金属である前記第1項、第2項または第
3項d1.!載の化合物。 5、Xか 4 第1項乃至第4項のいずれか1つに記載の化合物。 1 至第4項のいずれか1つに記載の化合物。 7、R1が炭素数1〜10のアルギルである11J記第
1項乃至第6項のいずれか1つに記載の化合物。 8、R1がフェニルブチル、R275:メチル、R3お
よび礼がアルカリ金属である前記第1項乃至第6項のい
ずれか1つに記載の化合物。 よび穐かアルカリ金属である前記第1項乃至第6項のい
ずれか1つに記載の化合物。 1り3かエチル、1殆かアルカリ金属である前記第1項
乃全第6項のいずれか1つに記載の化合物。 R3および1殆かアルカリ金属である11J記第1項乃
至第6項のいずれか1つに記載の化合物。 R3カーCI 120−C−C(C113)3、R6カ
7 tli ty IJ 金属である前記第1項乃至第
6項のいずれか1つに記載の化合物。 よび橢がアルカリ金属である前記列1項乃至第6項のい
ずれか1つに記載の化合物。 がアルカリ金属である前記第1項乃至第6項のいずれか
1つに記載の化合物。 よび1殆がアルカリ金属である111記第1項乃至第6
項のいずれか1つに記載の化合物。 び穐アルカリ金属であるMiJ記第1項乃至第6項のい
ずれか1つに記載の化合物。 び穐がアルカリ金属である11iJ記第1項乃至第6項
のいずれか1つに記載の化合物。 よび穐がアルカリ金属である前記第1項乃至第6項のい
ずれか1つに記載の化合物。 1 19、 R1が−CH−N1(−C−R2O,R1gお
よび”20が19 それぞれ独立して炭素数1〜4の低級アルキルまたは の整数、R11は水素、メチル、メトキシ、メチルチオ
、クロロ、ブロモ、フルオロまたはヒドロキン)から選
ばれるものである前記第1項乃至第6項のいずれか1つ
に記載の化合物。 20、 Xか−N −CI−I−GOOR6、R21が
水素、1 R21R22 メチル、フェニル、シクロペンチtv捷kld、シクロ
ヘ−¥−ン#、1(22か水素、炭素数1〜4の低級ア
ル1 −CI+2 胃、−(Q−12)4−NH2、−Cf■
2SH1−QI2−C−NH2i f4バー(Q10)
2−C−NII2である前記第1項または第2項記戦の
化合物。 穐が水素、 −CH−0−C−(JI3 、蒐 CH3 1 −CII2−U−C−C(CII3 )3 またはア
ルカリ金属である1111記4)1項または第2項記載
の化合物。 22、医薬的に許容しうる担体と、式、01(3 21 ζは水素、低級アルキル、ハロゲン、ケト、ヒ1 ドロキシ、−NH−C−睡級アルキル、アジド、アたは
2−ナフチルオキシ、−5−低級アルキル、I狛はそれ
ぞれ同一もしくは異なってハロゲンまたは−Y−R14
、 R9、a9/ 、 RIOおよびRloはそれぞれ独立
)て水素および低級アルキルから選ばれるもの、または
Rg’ 、 R10、艮10′は水素で相は1(11は
水素、炭素数1〜4の低級アルキル、炭素数1〜4の低
級アルコキシ、炭素数1〜4の低級アルキルチオ、クロ
ロ、ブロモ、7ルオロ、トリフルオロメチル、ヒドロキ
シ、フェニル、フェノキシ、フェニルチオまたはフェニ
ルメチル、1(12は水素、炭素数1〜4の低級アルキ
ル、灰素i!il〜4の1氏級アルコキシ、炭素数1〜
4の低級アルキルチオ、クロロ、ブロモ、7)vオロ、
トリフルオロメチルまたはヒドロキシ、 nlは0.1.2または3、 Pは】、2まだは3(但し、R11またはR12が水素
、メチル、メトキシ、クロロまたはフルオロの場合のみ
Pは1より大)、 R13は水素または炭素数1〜4の低級アルキルYは酸
素または硫黄、 艮14は炭素数1〜4の低級アルキルもしくはに結合し
て非置換5員もしくは6員環または鎖環において1つも
しくはそれ以上の伏素が炭素数1〜4の低級アルキルま
たはジ(炭素数1〜4の低級アルキ)v )置換基を有
するもの、R21は水素、低級アルキル、シクロアルキ
ル、フエニ/Vまたは−(CI−12)、((わR22
は水素、低級アルキル、−(Cl−12) 、つ1 Htl −(Ck42) r −NH2、−(CH2) r−5
H1または −(CI(2)r −C−NH2、rは1
〜4の整数、 技1は炭素数1〜10のアルキル 1 または −ox−Nt=I−c−lt20( qは0ま
たは1〜7の19 整数、R11およびPは前記と同意義)、およびR19
とR20はそれぞれ独立して水素、低級アルキル、ハロ
置換低級アルキル、 ( m 、艮11およびPは前記と同意義)、1 −(CH2)r−C−NH2 ( rは前記と同意義)
、R3j,−よび穐はそれぞれ独立して水素、低級アル
キル、ベンジル、ベンズヒドリル、アルカリ金属1 または−CI4 − 0 − C − R1 6 (
R15は水素、低級アルは水素,低級アルキル、低級
アルコキシまたは)R17は低級アルキル、ベンジルま
たはフェネチル、および 1楡は水素、低級アルキル、ベンジ)Vまたはフェネチ
ルである〕 で示される血圧降下剤から成ることを特徴とする高血圧
症治療用組成物。 23、利尿薬をも包含する前記第22項記載の組成物。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0538638A (ja) * | 1991-08-01 | 1993-02-19 | Kawaju Tekko Koji Kk | ボツクス柱の組立ライン用ボツクス柱仮組装置 |
Also Published As
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