JPS5916887A - ケテンチオアセタ−ル化合物及びその製造方法、並びに該化合物を含有する医薬 - Google Patents

ケテンチオアセタ−ル化合物及びその製造方法、並びに該化合物を含有する医薬

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JPS5916887A
JPS5916887A JP58113672A JP11367283A JPS5916887A JP S5916887 A JPS5916887 A JP S5916887A JP 58113672 A JP58113672 A JP 58113672A JP 11367283 A JP11367283 A JP 11367283A JP S5916887 A JPS5916887 A JP S5916887A
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JP
Japan
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optionally
phenyl
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lower alkyl
group
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JP58113672A
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アンドレ・ジヤン・ベト
フイリペ・マルセル・ナルベ
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TSUIMA SA
Original Assignee
TSUIMA SA
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （発明の分野） この発明は、肝疾患治療用ノチオ化合物の使用、この化
合物を含有する医薬、新規なノチオ化合物、及びこれら
の製造方法に関する。これらの化合物は価値ある医薬と
しての性質を有する。
（発明の概要） この発明は、次の式（１）、 （０）ｎ ↑ 〔式中、Ｒ１はアリール又はへテロアリールであ’）　
＊　Ｒ２は水素、場合によっては置換されている炭化水
素基、ヘテロアリール、アシル基、式−８（０）ｍ−Ｒ
ａ　（式中ｍはｏ、ｉ又は２で１）、そしてＲ８はＪＶ
よ・ては置換されている炭化水素基である）又は場合に
よっては機能的に変性されたスルホであり；Ａは場合に
よっては置換されている２価脂肪族炭化水素基であシ；
そしてｎは０又は１である。〕 で表わされるケテンチオアセタール、及び塩形成基を有
するこの化合物の医薬として許容される塩の、肝臓疾患
、呼吸器疾患及び血管疾患、治療用医薬の製造のだめの
使用に関する。
（発明の詳細な説明） この明細書における定義は、好ましくは次の意味を有す
る。
アリール基Ｒ１は、例えば単環又は多環の、例えば二環
のアリール基、特に炭素原子数２０以下の、例えばフェ
ニル又はナフチル基である。これらの基は、例えばモノ
−もしくは多室環されていてもよく、例えば、ヒドロキ
シ、エーテル化ヒドロキシ、例えば低級アルコキシ（場
合によりてはカルゼキシ、エステル化力ルデキシ、ジー
置換アミン、ハロゲン、スルホ、もしくはヒドロキシに
ょジ置換されている）、例えばアルコキシ、カルゲキシ
ー低級アルコキシ、低級−アルコキシヵルゲニルー低級
アルコキシ、ジー低級アルキルアミノ−低級アルコキシ
、ハロー低級アルコキシ、スルホ−低級アルコキン又は
ヒドロキン−低級アルコキン；エステル化ヒドロキシ、
例えばハロゲン、低級アルカノイルオキシ又はノー低級
アルキルアミノ−低級アルカノイルオキシ：２０個以下
、特に１４個以下の炭素原子含有するアルキル；ヒドロ
キ／、エステル化ヒドロキシ、エーテル化ヒドロキン又
はジ置換アミンにより置換された低級アルキル、例えば
ハロー低級アルキル、低級アルコキシ−低級アルキル又
はノー低級アルキルアミノ−低級アルキル；低級アルカ
ノイル；カルゲキン：低級アルコキンカルボニル（場合
によってはアミンにより置換されている）、例えば低級
アルコキシカルづ？ニル又はノー低級アルキルアミノル
低級′ｒルコキン力ル？ニル；場合によっては低級アル
キル、低級アルコキ／、ハロゲン及び／又はニトロによ
り置換されたフェニル；ニトロ及び／又は場合によって
は置換されたアミン、例えばアミン、低級アルキルアミ
ノ、ジー低級アルキルアミノ、低級アルキレンアミノ、
低級アルキレンアミノ（低級アルキル化されている場合
がある窒素原子、又は酸素原子もしくは硫黄原子によシ
中断されている）、及び／又はアシルアミノ、例えば低
級アルカノイルアミノ、又はカルゲキンー低級アルカノ
イルアミノによジ置換されていてもよい。
ヘテロアリールＲ１は、例えば二環、又は特に単環基で
あシ、これらは好ましくは環原子によシ二重結合の炭素
原子に結合している。対応する単環基としてのＲ１は特
に１，２．又は３個の窒素原子及び／又は酸素もしくは
硫黄原子を含み、そして、例えば５員環のアゾ、オキサ
−、チア−、シアデー、オキサデーもしくはチアデー壌
基であシ、又は６員環のモノアゾ−もしくはノアデー環
基である。対応する二環基Ｒ１は、例えば環中に２個の
炭素原子、又は１個の窒素原子及び／又は酸素もしくは
硫黄原子を有する芳香族性の５員複素環と縮合ベンゼン
環とから成ｐ、又は環中に２個、特に１個の窒素原子を
有する芳香族性の６員−複素環と縮合ベンゼン環とから
成る。これらの基は、ヒドロキシ、エーテル化ヒドロキ
シ、例えハ低級アルコキシ、エステル化ヒドロキシ、例
えばハロケ９ン、低級アルキル、・・ロー低級アルキル
及び／又はニトロにより、例えばモノ−又はポリ−置換
、例えばジー又はトリー置換されている４心へある。
場合によっては置換されている炭化水素基Ｒ２は例えば
対応する炭素原子数２０個以下、特に１２以下の脂肪族
、環状脂肪族、環状脂肪族−低級脂肪族、芳香族、芳香
族−低級脂肪族又は複素芳香族−低級脂肪族基である。
場合によっては置換されている脂肪族基Ｒ２は低級アル
ケニル、低級アルキニル又は、特に低級アルキルである
。低級アルケニル、低級アルキニル、及び特に低級アル
キル基Ｒ２の置換基は、例えばヒドロキシ、エステル化
ヒドロキシ、例えば低級アルカンカルデン酸により、（
場合によっては＝１０、ハロゲン、低級アルキル及び／
又は低級アルコキシにより置換きれている９安息香酸に
より、又はハロダン化水素酸によりエステル化されたヒ
ドロキシ、例えば低級アルカノイルオキシ、対応して置
換されたベンゾイルオキシ又はハロゲン、エーテル化ヒ
ドロキシ、例えば低級アルコキシ又は低級アルケニルオ
キシ、エーテル化メルヵグト、例えば低級アルキルチオ
又はフェニルチオ、低級アルキルスルホニル、フェニル
スルフィニル、低級アルキルスルホニル、ニトロ、カル
ボキシ、機能的に変形されたカルボキシ、例えば低級ア
ルコキシカルゲニル、シアノ又は場合によってはＮ−モ
ノ−もしくはＮ　、　Ｎ　−／−低級アルキル化カルバ
モイル、又は場合によっては置換されたアミン、例えば
アミン、低級アルキル−もしくはノー低級アルキルアミ
ノ、アミノ−低級アルキルアミノ〔ここで、末端アミノ
基は場合によっては低級アルキル、低級アルキレン、又
は低級アルキレン（このアルキレンは、低級アルキル化
されている場合がある窒素原子、又は酸素もしくは硫黄
原子によシ中断されている）により置換されている〕、
低級アルキレンアミノ、又は低級アルキレンアミノ（こ
の低級アルキレンアミノは、低級アルキル化されている
場合がある窒素原子、又は酸素もしくは硫黄原子により
中断されている）である。
環状脂肪族基Ｒ２は、例えばシクロアルキルである。
環状脂肪族−低級脂肪族基Ｒ２は特にシクロアルキル−
低級アルキルである。
環状脂肪族及び環状脂肪族−低級脂肪族基Ｒ２は、環状
脂肪族部分又は低級脂肪族部分において、例えば低級ア
ルキル、ヒドロキシ、エーテル化ヒドロキシ、例えば低
級アルコキシ、エステル化ヒドロキシ、例えばハロケ９
ン、カルボキシ、又ハエステル化カル♂キシ、例えば低
級アルコキシカル♂ニルによりｌ又は複数置換されてい
てもよい。
場合によ多置換されている芳香族基Ｒ２は、例えばＲ１
の定義において記載したアリール基のいずれかである。
芳香族−低級脂肪族基Ｒ２は、１〜３個の芳香族基、特
にＲ１の定義において記載したアリール基のいずれかに
ょ多置換された上記の低級脂肪族基のいずれかである。
これらの基は、芳香族部分において上記のように一置換
又は多置換されていてもよい。この基は、例えば、場合
によっては低級アルキル、エーテル化ヒドロキシ、例え
ば低級アルコキシ、エステル化ヒドロキシ、例工ばハロ
ダン、又はニトロによ多置換されたフェニル−低級アル
キルである。
複素芳香族−低級脂肪族基Ｒ２は、Ｒ１の定義において
記載した、１．２又は３個の窒素原子及び／又は酸素も
しくは硫黄原子を含有する、場合によっては置換されて
いる単環へテロアリール基のいずれか、例えばフリル、
例えば２−もしくは３−フリル、チェニル、例えば２−
もしくは３−チェニル、又はピリジル、例えば２−１３
−１もしくは４−ピリジルによ多置換された、好ましく
は一置環された低級脂肪族基、特に低級アルキルであっ
て、例えば、対応するフリル−、チェニル−又はピリジ
ル−低級アルキル、特にメチルである。
ヘテロアリール基は、場合によっては、例えば低級アル
キル、低級アルコキシ、ハロダン又はハルー低級アルキ
ルによ多置換されている。
ヘテロアリール基Ｒ２は、１．２又は３個の窒素原斗及
び／又は酸素を含有する単環へテロアリール基、２個の
窒素原子を有し、又は１個の−素原子及び／又は酸素も
しくは硫黄原子ｉｌｌ員として有する芳香族性の５員複
素壌と締金ベンゼン項とから成る二環へテロアリール基
、又は１個又は２個の窒素原子を環員として有する芳香
族性の６員複素壌と縮合ベンゼン壌とから成る二環ヘテ
ロアリールである。このようなヘテロアリールは、例え
ばＲ１の定義において列挙したヘテロアリール基である
。
アシル基Ｒ２は、例えば、特に２０個以下の炭素原子を
有する、場合によっては置換されている低級脂肪族、環
状脂肪族、芳香族、芳香族−低級脂肪族、又は複素芳香
族のカルピン酸のアシル基であり、例えば場合によって
は置換されているアルカノイル、シクロアルカノイル、
アロイル、アリール−低級アルカノイル又はヘテロアロ
イル、又はこれらのへテロジ條ｉ導木例えば対応するチ
オ−もしくはイミノ−アシル基である。これらの基の適
当な置換基は、例えばヒドロキシ、エステル化ヒドロキ
シ、例えばハロゲン、エーテル化ヒドロキシ、例えば低
級アルコキシ、低級アルキル、ハロー低級アルキル、低
級アルケニル、カルボキシ、エステル化カルボキシ、例
えば低級アルコキシ力ルゲニル、シアノ、ニトロ及び／
又は、場合によっては、例えば低級アルキルにより置換
されたフェニルである。さらにアシル基Ｒ２は、例えば
、場合によっては機能的に変形されたカルピン酸のアシ
ル基、例えばカルボキシ、機能的に変形されたカルボキ
シ、例えばエステル化カルボキシ、特にアルコキシカル
Ｒニル、例えば炭素原子数２０個以下、好ましくは９個
以下の前記の基、シアノ又はアミド化力ルゲキシ、特に
カルバモイル、モノ−４，Ｌ、、＜はジー低級アルキル
化カルバモイル基、又は低級アルキレン、低級アルケニ
ル、低級アルカノイルもしくはベンゾイルにょジ置換さ
れたカルバモイル、又は機能的に変形されたチオカルｚ
　：ｙ　酸のアシル基、例えばアミド化チオカル？キシ
、例えば、場合によっては低級アルキルにょシモノーも
しくはノー置換された、又は低級アルキレンによジ置換
されたチオヵルパモイルテある。
式−８（０）ｍ−Ｒａの基中の場合によっては置換され
ている炭化水素基Ｒ３は、例えば、場合によっては置換
されている炭化水素基Ｒ２の定義において記載したもの
のいずれかであり、例えば低級アルキル基、アリール又
はアリール−低級アルキル、例えばフェニル−又はフェ
ニル−低級アルキル（場合によっては、それぞれが低級
アルキル、エーテル化ヒドロキシ、例えば低級アルコキ
シ、エステル化ヒドロキシ、例えば−・口ダン、及び／
又はニトロで置換されている）である。式−Ｓ−（０）
ｍ　Ｒａの基は、例えば低級アルキルチオ、フェニルチ
オ、フェニル−低級アルキルチオ、フヱニルスルフィニ
ル、フェニル−低級アルキルスルフィニル、低級アルキ
ルスルホニル、フェニルスルホニル又ハフェニルー低級
アルキルスルホニル（ここで、）□ニル基は場合によっ
ては上記のように置換されている）である。
場合によっては機能的に変形されているスルホ基Ｒ２ｔ
ｒｉ、　、例えばスルホ、エステル化スルホ、特ＫＩＪ
Ｉアルコキシスルホニルもしくハフェニルー低級アルコ
キシスルホニル、又は特にアミド化スルホ、例えば場合
によっては低級アルキル化又はフェニル化されたアミノ
スルホニルである。
場合によっては置換されている二価脂肪族炭化水素基Ａ
は、例えば対応する低級アルキレン、低級アルキリデン
又は低級アルケニレン基（これらの基は、１〜５個、特
に２〜４個の炭素原子によシ硫黄原子を分離しておシ、
そして場合によっては１又は複数置換されている。これ
らの基の置換基は、例えばオキソ、ヒドロキシ、エステ
ル化ヒドロキシ、例えばハロダン、低級アルカノイルオ
キシ、ハロー低級アルカノイルオキシ、又ハ場合によっ
ては例えばニトロ、低級アルキル及び／又は低級アルコ
キシによジ置換されているベンゾイルオキシ、又はエー
テル化ヒドロキシ、例えば低級アルコキシ、場合によっ
てはフェニル部分において、例えばニトロ、−・ロダン
、低級アルキル及び／又は低級アルコキシによジ置換さ
れているフヱニルー低級アルコキシ、又は場合によって
は例えばニトロ、低級アルキル、低級アルコキシ及び／
又はハロゲンによジ置換されているフェノキシである。
他の置換基は、例えばエステル化メルカノト基、例えば
低級アルキルチオ、フェニルチオもしくはフェニル−低
級アルキルチオ、場合によっては機能的に変形されてい
るカルボキシ、例えばカルボキシ、低級アルコキシ−カ
ルビニル、シアン、カルバモイル、もしくはモノ−もし
くはノー低級アルキル化カルバモイル、アミノもしくは
置換アミン、例えば低級アルキルアミノ、ジー低級アル
ギルアミノ、低級アルキレンアミノ、低級アルケニルア
ミノ、アニリノ、フェニル−低級アルキルアミノ、低級
アルカノイルアミノもしくは有機スルホニルアミノ、例
えば低級アルカンスルホニルアミノ、又は場合によって
は例えば低級アルキルもしくは・・ロダンによジ置換さ
れているベンゼンスルホニルアミノである。さらに、こ
レラの基Ａは、例えば、ニトロ、シクロアルキル、アリ
ール、例えば′γアリール１の定義において記載した場
合によっては置換されているアリールのいずれかにより
、又はヘテロアリール、例えばヘテロアリールＲ１の定
義において記載したヘテロアリール基のいずれかによジ
置換されていてもよい。
この明細書において、置換基又は化合物に関して使用す
る「低級」なる語は、特にことわらない限り、対応する
置換基又は化合物が７個以下、好ましくは４個以下の炭
素原子金含有することを意味する。
低級アルコキシは、例えばメトキシ、エトキシ、ｎ−グ
ロポキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブトキシ又はｔａｒｔ
−ブトキシである。
カルブキシ−低級アルコキシは、例えばカルボキシエト
キシ又は２−カルボキシエトキシである。
低級アルコキシカルボニル−低級アルコキシは、例えば
メトキシカルぎニルメトキシ又はエトキシカルボニルメ
トキシである。
ジー低級アルキルアミノ−低級アルコキシは、例えば２
−（Ｎ、Ｎ−ツメチル−アミノ）−エトキシ又は２−（
Ｎ、Ｎ−ジエチルアミノ）−エトキシである。
ハロー低級アルコキシは、例えばトリフルオロメトキシ
である。
スルホ低級アルコキシは、例えばスルホメトキシ又は２
−スルホエトキシである。
ヒドロキン−低級アルコキシは、例えば２−ヒドロキシ
メトキシ、２−ヒドロキシメトキシ又は２，３−ノヒド
ロキシノロポキシである。
・・ロダンは、例えば弗素、塩素、臭素又はヨウ素であ
る。
低級アルカノイルオキシは、例えばホルミルオキシ、ア
セトキシ、グロビオニルオキシ、ブチリルオキシ、イソ
！チリルオキシ、ピ／ｆロイルオキシ又はバレロイルオ
キシである。
ノー低級アルキルアミノ−低級アルカノイルオキシは、
例えばＮ、Ｎ−ツメチルグリシルオキシ、Ｎ、Ｎ−ノエ
チルグリシルオキシ、Ｎ、Ｎ−ツメチルアラニルオキシ
又はＮ、Ｎ−ツメチルβ−アラニルオキソである。
アルキルは、例えば低級アルキル、例えばメチル、エチ
ル、ｎ−７’口ビル、イソグロビル、ｎ−ブチル、イソ
ジチル、８ｅＱ−ブチル、ｔｅｒｔ−グチル、ｎ−ペン
チル、ｎ−ヘキシルもＬ＜はｎ−ヘゲチル、又は炭素原
子数８〜２０個のアルキル、例えばｎ−オクチル、ｎ−
ノニル、ｎ−デシル、ｎ−ドデシルもしくはｎ−テトラ
デシル、さらにはｎ−ヘキサデシルもしくはｎ−オクタ
デシルである。
ハロー低級アルキルは、例えばトリフルオロメチルであ
る。
低級アルコキシ−低級アルキルは、例えばメトキシメチ
ル、メトキシエチル、エトキシメチル又はエトキシエチ
ルである。
ジー低級アルキルアミノ−低級アルキルは、例えばジメ
チルアミンメチル、２−ツメチルアミノエチル又は２−
ジエチルアミノエチルである◎低級アルカノイルは、例
えばホルミル、アセチル、グロピオニル、ｎ−ブチリル
、ビ／ｅロイル又はバレロイルである。
低級アルコキシカルボニルは、例えばメトキシカルボニ
ル、メトキシカルボニル、ｎ−グロポキシ力ルデニル、
イソゾロポキシカルボニル、ｎ−メトキシカルボニル、
１ｌ１９０−メトキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブトキシ
カルブニル、ｎ−梗ントキシカルゲニル、ｎ−へキシル
オキシカルブニル又ハｎ−ヘノチルオキシカルボニルで
ある。
ジー低級アルキルアミノ−低級アルコキシカルボニルは
、例えば２−（Ｎ、Ｎ−ノーメチルアミノ）−又は２−
（Ｎ、Ｎ−ジエチルアミノ）−エトキシ力ルゼニルであ
る。
低級アルキルアミノは、例えばメチルアミン、エチルア
ミノ、ｎ−ゾロビルアミン、イソゾロビルアミノもしく
はｎ−ブチルアミノであυ、ジー低級アルキルアミノは
、例えばツメチルアミノ、ジエチルアミノ、ノーｎ−ノ
ロビルアミノ、ソイソグロビルアミノ、又はメチルソイ
ソグロピルアミノである。
低級アルキレンアミノは、特に炭素原子数４〜６個の鎖
を有し、例えばピロリジン−１−イル又はビベリゾノで
ある。
低級アルキル化されている場合がある窒素原子又は酸素
もしくは硫黄原子によシ中断されている低級アルキレン
アミノは、例えば炭素原子数４〜６個の鎖を有し、例え
ばビペラ・ツノ、４−低級アルキルビ４２ツノ、例えば
４−メチル−もしくは４−エチルーピベラノノ、−モル
ホリノ又はチオモルホリノである。
低級アルカノイルアミノは、例えばホルミルアミノ、ア
セチルアミノ、ゾロビオニルアミノ又はブチリルアミノ
である。
カルブキシ−低級アルカノイルアミノは、例えばマロニ
ルアミノ又はサクシニルアミノである。
単環５−員ヘテロアリールＲ１は、例えばＩＨ−ピロリ
ル、例えばＩＨ−ピロロ−２−イルモジくは−３−イル
、フリル、例えば２−もしくは３−フリル、チェニル、
例えば２−もしくは３−チェニル、ＩＨ−ピラゾリル、
例えばＩＨ−ビラロゾルー３−イルもしくは−４−イル
、ＩＨ−イミダゾリル、例えばＩＨ−イミダゾルー２−
イル、オキサシリル、例えば２−オキサシリル、イソキ
サゾリル、例えば３−もしくは５−イソキサゾリル、又
はチアゾリル、例えば２−もしくは４−チアゾリルであ
る。単環６−員へテロアリールＲ１は、例えばビリノル
、例えば２−１３−もしくは４−ビリゾル、ピリダジニ
ル、例えば３−ピリダジニル、ピラジニル、例えば２−
ピラジニル、又はビリミノニル、例えば２−１４−もし
くは５−ビリミノニルである。二環へテロアリールＲ１
は、例えばＩＨ−インドリル、例えばＩＨ−インドルー
２−イル、−３−イルもしくは−４−イル、１１（−イ
ミダゾリル、例えばＩＨ−インダシルー３−イル、ＩＨ
−ベンズイミダゾリル、例えばＩＨ−ベンズイミダゾル
ー２−イル、ベンゾフラニル、例えば２−１３−もしく
は５−ベンゾフラニル、ペンツチェニル、例エバ２−１
３−４　Ｌ＜ハ４−　ペンツチェニル、ベンゾキサゾリ
ル、例えば２−（ンゾキサゾリル、ベンゾチアゾリル、
例えば２−ベンゾチアゾリル、又は対応するキノリニル
、例えば２−１４−１５−もしくは６−キノリニル、イ
ンキノリニル、例えば１−もしくは４−イソキノリニル
、キナゾリニル、例えば２−１４−もしくは６−キナゾ
リニル、又はキノキサリニル、例えば２−もしくは６−
キノキサリニルである。これらの基は置換されておらず
、又は上記のように置換されている。
低級アルケニルは、例えばビニル、アリル、１−！ロペ
ニル、イソプロペニル、２−４＋Ｌ＜ハ３−メチルアリ
ル又は３−ブテニルである。
低級アルキニルは、例えばノロエチルギル又は２−ブチ
ニルである。
低級アルケニルオキシは、例えばビニルオキシ又はアリ
ルオキシである。
低級アルキルチオは、例えばメチルチオ、エチルチオ、
ｎ−ゾロピルチオ、インゾロビルチオ、ｎ−ブチルチオ
又はｔａｒｔ−エチルチオである。
低級アルキルスルフィニルは、例えばメチルスルフィニ
ル、エチルスルフィニル、ｎ−ゾロビルスルフィニル、
ｎ−ｆｆルスルフィニル又ハｔ　ｓ　ｒ　ｔ−！チルス
ルフィニルでアル。
低級アルキルスルホニルは、例えばメチルスルホニル、
エチルスルホニル、ｎ−７’口ピルスルホニル、イソブ
チルスルホニル、ｎ−ブチルスルホニル、イソブチルス
ルホニル又はｔｅｒｔ−グチルスルホニルである。
Ｎ〜モモノ低級アルキル化カルバモイルは、例えばＮ−
メチル−１Ｎ−エチル−もしくはＮ−ゾロビルーカルパ
モイルであｊ５、Ｎ、Ｎ−ノー低級アルキル化カルバモ
イルは、例えばＮ、Ｎ−ツメチル−もＬ＜はＮ、Ｎ−ノ
エテルーカルパモイルである。
アミノ−低級アルキルアミノ〔末端アミノ基は場合によ
っては低級アルキル基、低級アルキレン、又は低級アル
キレン（低級アルキル化されている場合がある窒素原子
、又は酸素もしくは硫黄原子により中断されている）に
よ多置換されている〕は、例えばノー低級アルキルアミ
ノ−低級アルキルアミノ、例えば２−（Ｎ、Ｎ−ジメチ
ルアミノ）−もしくは２−（Ｎ、Ｎ−ジエチルアミノ）
−エテルアミン、低級アルキレンアミノ、例えば２−（
ピロリノン−１−イル）−もしくは２−ピペリツノ−エ
チルアミノ、２−モルホリノ−エチルアミノ、又は２−
（４−低級アルキルビペラジノノー低級アルキルアミノ
、例えば２−（４−メチルピー（２ツノ）−エテルアミ
ノでめる。
置換された低級アルキル基Ｒ２は、例えばヒドロキシ−
低級アルキル、例えばヒドロキシメチル、２−ヒドロキ
シエチルもしくは２，３−ゾヒドロキシゾロビル、ハロ
ー低級アルキル−１例えばトリフルオロメチル、低級ア
ルカノイルオキシ−低級アルキル、例えば２−アセトキ
シメチル、場合によっては置換されているベンゾイルオ
キシ−低級アルキル、例えばぺ／ジイルオキシメチルも
しくは４−メトキシベンゾイルオキシメチル、低級アル
コキシ−低級アルキル、例えばエトキシメチル、低級ア
ルケニルオキシ−低級アルキル、例えば２−アリルオキ
シエチル、低級アルキルチオ−低級アルキル、例えばｎ
−ブチルチオメチル、フェニルチオ−低級アルキル、例
えばフェニルチオメチル４Ｌ＜はｌ−フェニルチオエチ
ル、フェニルスルフィニル−低級アルキル、例えばフェ
ニルスルフィニルメチル４Ｌ＜は２−７エニルスルフイ
ニルエチル、低級アルキルスルホニル−低級アルキル、
例えばメチルスルホニルメチルもしくは２−メチリスル
ホニルエチル、シアノ−低級アルキル、例えばシアンメ
チルもしくはシアンエチル、カルブキシ低級アルキル、
例えばカルブキシメチル、２−カルブキシもしくは１，
２−ジカル♂キシエチル、低級アルコキシカルゲニルー
低級アルキル、例えばエトキシカルブニルメチルもシく
ハ２−イノゾロボキシカルゲニルエチル、場合によりモ
ノ−もしくはノー低級アルキル化されたカルバモイル−
低級アルキル、例えばカル・９モイルメチルもしくはＮ
、Ｎ−ノエチルカルバモイルメチル、低級アルキルアミ
ノ−もしくはノー低級アルキルアミノ−低級アルキル、
例えばエチルアミンエチル、ジメチルアミノエチル、２
−ジメチルアミノエチルもしくはメチルーイソゾロビル
アミノメチル、低級アルキレンアミノ−低級アルキル、
例えばピロリジノメチルもしくは２−ピペリジノエチル
、モルホリノ−低級アルキル、例えばモルホリノメチル
、又はモルホリノ−低級アルキルアミノ−低級アルキル
、例えば２−モルホリノエチルアミノメチルである。置
換低級アルケニル基Ｒ２は、例えば、低級アルコキシカ
ルボニル−低級アルケニル、例えば２−エトキシカルブ
ニルビニル、又は低級アルキルスルフィニル−低級アル
ケニル、例、ｔｉｊ２−エチルスルフィニルビニルであ
る。
シクロアルキルは、例えば３〜８員壌、特に５又は６員
環であり、特にシクロペンチルもしくはシクロヘキシル
であシ、又はさらにシクロゾロピルもしくはシクロヘゲ
チルである。
シクロアルキル−低級アルキルは、例えばシクロインチ
ルメチル、シクロインチルメチル、シクロヘキシルメチ
ル又は２−シクロヘキシルエチルである。
フェニル−低級アルキルは、例えばベンジル、ジフェニ
ルメチル、トリフェニルメチル又は２−フェニルエチル
である。
シクロアルカノイルは、例えばシクロペンタノイル、シ
クロヘキサノイル又はシクロへゲタノイルである。
アロイルハ、例えば、低級アルキル、ヒドロキシ、エス
テル化ヒドロキシ、例エバハロダン、工−チル化ヒドロ
キシ、例えば低級アルコキシ、場合によっては七ノーも
しくはノー置換されているアミノ、例えばアミン、低級
アルキルアミノ、ノー低級アルキルアミノもしくは低級
アルカノイルアミノ、カルボキシ、機能的に変形された
カルボキシ、例えば低級アルコキシカルボニル、モジく
は場合によっては七ノーもしくはノー低級アルキル化さ
れているカルバモイル、及び／又はニトロによりモノ−
、ノー又はトリー置換されている場合があるベンゾイル
又はナフトイルである。
アリール−低級アルカノイルは、例えばフェニル−低級
アルカフィル、例えばフェニルアセチル又ハフェニルゾ
ロピオニルでおる。
ヘテロアロイルは、例えば、窒素原子、硫黄原子及び／
又は酸素原子を含有する単環５−員ヘテロアレンカルボ
ン酸のアシル基であって、場合によっては、例えば低級
アルキル、又はエステル化ヒドロキシ、例えばハロゲン
によって置換されており、例えばフロイル、例えば２−
もしくは３−フロイル、又はモノイル、例えば２−もし
くは３−モノイル、又は２もしくは３個の窒素原子を含
有する単４６−員へテロアレンカルボ／酸のアシル基で
おって、特にピリドイル、例えば２−１３−もしくは４
−ピリドイル、又は例えばヒドロキシ、エーテル化ヒド
ロキシ、例えば低級アルコキシ、ハロー低級アルキル及
び／又はシアノによ多置換された対応するピリドイルで
ある。
チオアシル基Ｒ２は、式Ｒ３−Ｃ（＝Ｓ）−の基（式中
、Ｒ５は例えば水素、低級アルキル、フェニル又はフェ
ニル−低級アルキルである）である。
イミノアシル基Ｒ２は、例えば式Ｒ３−Ｃ（−ＮＲ４）
−の基（式中、Ｒ３は上記の意味を有し、そしてＲ４は
例えば低級アルキル、フェニル又ハフェニルー低級アル
キルである）である。
炭素原子２０個以下のアルコキシカルボニルＲ２は、例
えば上記の低級アルコキシカルボニル、ｎ−オクチルオ
キシカルボニル、ｎ−ノニルオキシカルゲニル又はｎ−
デシルオキシカルゲニル、さらにｎ−ドデシルオキシカ
ルブニル、又はセチルオキシカルボニルである。
アミド化力ルゲキゾ又はチオカルノｆモイル基中の低級
アルキレンは、例えば４〜６個の炭素鎖を有シ、例えば
１．４−ブチレン、１，５−ペンテレン又は１．６−ヘ
キシレンである。
基Ａ中の低級アルキレンは、例えばエチレン、１．２−
及び１．３−ｆロビレン、１．２−１１．３−１１，４
−及び２，３−プチレ／、１．４−１２．３−又は２．
４−−（メチレン、並びにこれらに類するものである。
低級アルキルチオは、例えばメチルチオ、エチルチオ、
ｎ−ゾロピルチオ、・イソブチルチオ、ｎ−グチルチオ
、イソブチルチオ又はｔｅｒｔ−ブチルチオである◇ フェニル−低級アルキルチオは、例えば４／ジルチオ又
は２−フェニル−エチルチオである。
フェニル−低級アルキルスルフイニルハ、例ｊｃ−ばペ
ンノルスルフィニル又は２−フェニルエチルスルフィニ
ルである。
低級アルキルスルホニルは、例えばメチルスルホニル、
エチルスルホニル、ｎ−、ａ口２ルスルホニル、イノゾ
ロビルスルホニル又はｎ−エチルスルホニルである。
フェニル−低級アルキルスルホニルハ、例工ｉｉ’ベン
ジルスルホニル又は２−フェニルスルホニルである。
低級アルコキシスルホニルは、例えばメトキシスルホニ
ル又はエトキシスルホニルでメジ、フエ＝に一低級アル
コキシスルホニルは、例エバヘンシルオキシスルホニル
である。
低級アルキル化アミノスルホニルは、例えばＮ−低級ア
ルキルアミノスルホニル、例えばＮ−メチルアミノスル
ホニルもしくはＮ−エテル−アミノスルホニル、又はＮ
、Ｎ−ジー低級プルキルアミノスルホニル、例えばＮ、
Ｎ−ツメチルアミノスルホニルもしくはＮ、Ｎ−ジエチ
ルアミノスルホニルでアシ、フェニル化アミンスルホニ
ルは、例りばＮ−フェニルアミノスルホニルでおる。
不飽和でもよい低級アルキリデン基Ａは、例えばメチレ
ン、エチリデン、１−もしくは２−プロ２リデン、２−
エチリデン、ビニリデン又はｌ−ノロベン−１，−，１
リデンである。
二重結合がノテア複素環中に存在してもよく、ＪＲ外に
存在してもよい低級アルケニレン基Ａは、例ｔｌｄ’ビ
ニレン、Ｉ　、　２−及ヒｌ　、３−プロペニレン、１
，２−１１．３−及び１，４−ブタ−１−エニレン、１
．３−及び２，３−ブタ−２−エニレン、又ｆｄ２−メ
チレンー１．３−グロピレンである。
ハロー低級アルカノイルオキシは、例えばクロロアセト
キシ又はトリフルオロアセトギシである。
フェニル−低級アルコキシμ、例えばペンツルオキシ、
２−フェニルエトキシ又はノフェニルメトキシである。
低級アルケニルアミノは、例えばアリルアミノ又は２−
メチルアリルアミノである。
フェニル−低級アルキルアミノは、例えハヘンソルアミ
ノ又は２−フ、ニル−エトキンアミノである。
低級アルカンスルホニルアミノは、例えばメタンスルホ
ニルアミノ又はエタンスルボニルアミノである。
式（１）の化合物の塩は、医薬として許容される非毒性
塩、例えば、酸性基、例えば遊離力ルデキシ基又はスル
ホ基を有する式（υの化合物の塩である。
これらの塩は、特に金属塩又はアンモニウム塩、例えば
アルカリ金属又はアルカリ土類金属塩、例えばナトリウ
ム、カリウム、マグネシウム又はカルシウム塩、並びに
、アンモニア又は適当な有機アミンと共に形成されるア
ンモニウム塩である。
塩形成のためには、特に脂肪族、環状脂肪族、環状脂肪
族−脂肪族もしくは芳香族−脂肪族の第一、第二もしく
は第三モノ−、ノーもしくはポリアミン、及び複素環塩
基、例えば低級アルキルアミン、例えばノーもしくはト
リーエチルアミン、ヒドロキシ−低級アルキルアミン、
例えば２−ヒドロキシエチルアミン、ビス−（２−ヒド
ロキンエチル）−アミンもしくはトリス−（２−ヒドロ
キシエチル）−アミン、塩基性脂肪族エステルもしくは
カルがン酸、例えば４−アミノ安息香酸、２−ノエチル
アミノエチルエステル、低級アルキレンアミン、例えば
Ｉ−エチルーピ被りシン、シクロアルキルアミン、例え
ばノシクロヘキシルアミン、又はベンジルアミン、例え
ばＮ　、　Ｎ’−ジベンジルエチレンジアミンが挙げら
れる。
塩基性基を有する式（１）の化合物は、例えば無機酸、
例えば塩酸、硫酸もしくは燐酸、又は適当な有機カルボ
ン酸もしくはスルホン酸例えば酢酸、コハク酸、フマル
酸、酒石酸、メタンスルホン酸、及びトルエンスルホン
酸と共に塩を形成する。複数の酸性基又は塩基性基の存
在下では、モノ−又はポリ−塩を形成することができる
。酸性基、例えば遊離カルブキシ２．基と塩基性基、例
えばアミノ基とを有する式（１）の化合物は、白基、す
なわち二イオンの形で存在することができ、あるいは又
分子の一部が白基の形で存在し、他の部分が通常塩の形
で存在することもできる。
分離又は純化のためには、医薬として許容される塩以外
の塩を使用することもできる。
基Ｒ１及びＲ２が異なっておシ、そしてＡが非対称な又
は非対称に置換されている二価脂肪族炭化水素基である
式（υの化合物は−７フートランス異性体として存在す
る場合がある。さらに、１個又は複数個の不斉炭素原子
を有する式（１）の化合物は何個の立体異性体として、
例えば、エナンチオマーとして、又は少なくとも２種の
立体異性体の混合物として、例えばノアステレオマ−混
合物又はエナンチオマー混合物、例えばラセミ体として
存在し得る。
犬山の化合物は、種々の価値ある薬理的性質を有し、驚
くべきことにこれらは同一の構造に関連している。
特に、これらの化合物は肝壊死及び肝線維症を予防する
のに興味ある活性を示す。これらの化合物は又、免疫調
節作用を有する。これらの化合物は粘液分泌の粘弾性を
変化せしめ、粘液繊毛輸送を刺激し、そして気管支中の
平滑筋を弛緩せしめる。これらの化合物は又抗炎症効果
及び血管保護効果を有する。
これらの化合物の抗肝壊死性は、ラットにおけるガラク
トサミン肝炎テストにより示される。このテストは、ヒ
トウィルス性肝炎の形態的及び生化学的変化を良く再現
するだめの周知のモデルである。これらの物質を１０〜
２００　ｍ？Ａ９の投与量で腹腔内投与又は経口投与さ
れたラットは、ガラクトサミンにより誘導される肝壊死
から保護式れる。肝臓効果は、血漿内のトランスアミナ
ーゼレベルの測定、及び肝臓の組織学的試験によシ評価
きれる。
これらの化合物の抗肝臓線維症性は、四塩化炭素による
ラットの慢性中毒のモデルにおいて示される。投与量０
．５　ｍ／Ａｙ　（１週間に２回ずつ９週間）で四塩化
炭素をラットに投与することにより、肝線維症を伴う毒
性肝炎が生ずる。投与量５０〜２００　ｍ９４ｇでこの
発明の化合物により予防処置（９週間の中毒処理を通じ
て）を行うことにより、又は治療処置（第６週・〜第９
週の中毒処理中）を行うことによシ肝機能の変化、及び
この慢性中毒を伴う肝線維症が軽減される。肝機能は、
実験の終点においてＢＳＰ　（プロンコスルホフタレイ
ン）テスト、ビリルビンの血漿中レイル、及びトランス
アミナーゼの血漿中レベルにより評価する。肝線維症の
重症度は、コラ−ダンのＸ−＋反映する肝ヒドロキシ！
ローリン含量の測定、及び肝臓の組織学的試験によシ評
価する。これらすべての・やラメ−ターは、この発明の
物質による処置により有利な影響を受ける。
これらの化合物による治療中に肝線維症が軽快すること
によシ、これらの物質はコラーゲン代謝を変化せしめる
ことができることが示唆される。
コラ−ダン代謝に対する直接作用は、動物又はヒト由来
の線維芽細胞の生体内培養に対するこれらの物質の効果
を調べることによシ示される。培地に１〜１０μＩ〜の
濃度でこれらの物質を加えることにより、線維芽細朧に
より合成されたコーラ−ダンへの　Ｃ−！ローリンの取
シ込みが減少する。この活性は、非コラーゲン性蛋白質
の生合成の変化を伴なわないで生じ、このことは、これ
らの化合物によるコラ−ダン生合成の特異的阻害に相当
する。
これらの化合物の免疫調節性は免疫学において通常用い
られる試験によシ示される。
（ａ）　　液性免疫試験：マウスにおける、ウシ・アル
ブミンに対する抗体の産生 抗原（ウシ・アルブミン）投与１５分後に１０〜１００
　ｍｙ／ｙ、ｇの投与量で投与されたこの発明の化合物
は、１５〜２８日後に受身赤血球凝集テストによυ測定
した場合、前記の抗原に対する抗体の産生を刺激する。
（ｂ）　　細胞性免疫試験：モルモットにおけるウシ・
アルブミンに対する遅延過敏症反応 投与ｉ１０・〜ｘｏｏｍＶ′に９で皮下投与されたこの
発明の化合物の２１日後に抗原の皮下注射によシ引き起
こされた遅延過敏症反応に対する作用。
（ｃ）　　腫瘍細胞に対するマウスマクロファージの細
胞傷害効果二 この発明の化合物ｌＯ〜１００　ｍｐ／Ｋ１７によ多処
理されたマウスから、集めたマクロファージは、腫瘍標
的細胞に対して、刺激きれた細胞傷害性を有する。
これらの試験により、免疫的防御（液性免疫、細胞性免
疫及びマクロファージ）がこれらの化合物によシ変化し
たことが確立され、これらの化合物の免疫調節能が示さ
れる。
式（１）の化合物は、従って、ウィルス、毒物又はアル
コールによシ誘導された急性及び慢性疾患の治療に使用
することができる。肝壊死及び肝繊維疾によシ生ずる肝
機能の障害はこれらの化合物によシ低下する。
これらの化合物はコラーゲンの生合成を阻害するために
、これらの化合物には、慢性肝臓疾患、そして特に肝硬
変の治療において特別な関心がよせられる。
これらの化合物によって誘導される免疫的防御の刺激は
、急性及び慢性のウィルス性肝炎の治療に有用であるが
、しかしさらに、免疫的防御反応が変化するあらゆる症
例、例えば反復的細菌又はウィルス感染、又は癌性疾患
の症例において有用である。後者の場合において、この
発明の化合物の重要性は、腫瘍細胞に対するマクロファ
ージの細胞傷害効果の活性化によシ特に示される。
これらの化合物は粘液分泌の粘弾性を変化せしめ、気管
支中での粘液繊毛輸送を刺激し、そして気管支の平滑筋
金弛緩せしめる。これらの性質のため、化合物は呼吸器
疾患、例えば慢性気管支炎の治療に有用である。
これらの化合物による粘液試料の粘弾性の変化はミクロ
レオメータによシ測定される。
粘液は新鮮な豚の胃から得、使用する前に生化学的に純
化する。被験化合物を、特定の溶剤、蒸留水、燐酸緩衝
液、メタノール水溶液又はＤＭＳＯ（ツメチルスルホキ
シド）に溶解スる。
粘液の５　Ｑ　ｍ９のアリコートに５〜１０μｌの被験
溶液音訓える。試料を混合し、遠心分離し、そして反応
のために３０分間インキュベートする。
次に試料を、撮動する球状マグネチック・ミクロレオメ
ータのセルに入れ、そして試料の中心に２００μｍの鉄
球を置き、弛緩全行うために５分間置く。２５℃にて、
０．１〜２０　Ｈｚの同波数にわたって流動学的挙動を
評価する。
粘液繊毛輸送の刺激は、かえるの口蓋の薬理学的モデル
を用いて示される。この系においては、かえるの口蓋の
繊毛を有する上皮による粒子の輸送速度を測定する。か
えるの口蓋に被験化合物の溶液（０，１〜ｌ　ｔｎｙ／
ｍｌ　）を加えることによシ、輸送速度の上昇が測定さ
れる。
気管支の平滑筋に対するこの発明の化合物の弛緩効果は
、モルモットにおける、ヒスタミンのエーロゾルによシ
誘導された気管支痙縮に対するこれらの化合物によシ供
される保護作用によシ示される。
新規化合物（１０〜１００η／ｇｇ　）を腹腔内に投与
することによシ予備処理されたモルモットは、ヒスタミ
ン・エーロゾルに対して５分間より長期間抵抗する。こ
れに対して、対照動物は１分間及び３０秒間よシ長く抵
抗することができない。
この発明の化合物は又、静脈又は動脈の循環系疾患の治
療のためにも有用である。
この化合物の抗炎症性、血管性、及び保護作用は、次の
検討によシ示される。
（１）１００〜５００を勺の投与量で非経口的又は経口
的に投与、した場合、この発明の化合物は、ガラクトサ
ミン、熱又はうつ血によシ生じた水腫を縮小することが
できる。さらに重要なことには、これらの有利な効果は
、中枢加液流動にいかなる作用も及はすことなく生ずる
。これらの化合物は又、末梢血液循環（足）の改善をも
行うことができる。最後にこれらの物質は、内皮細胞の
培養においてヒスタミンの毒作用を妨害する。
（２）　　コレステロール過多は血管疾患を悪化せしめ
る要素である。このため、７日間にわたシ高コレステロ
ールーコール酸餌を供与したマウスの血清コレステロー
ルのレベルに対する新規化合物の効果を試験した。１０
０〜５００Ｔｎ９／に９で経口投与した新規化合物は血
清コレステロールのレベルを有意に低下せしめることが
見出された。さらに、この低下は、低いそして非常に低
い脂質蛋白質密度に伴うコレステロールの減少によって
生ずるここの発明は特に、Ｒ１が、場合によっては、ヒ
ドロキシ、低級アルコキシ、カルボキシ−低級アルコキ
シ、低級アルコキシカルボニル−低級アルココシ、ジー
低級アルキルアミノ−低級アルコキシ。
ハロー低級アルコキシ、スルホ−低級アルコキシ。
ヒ）Ｉロキシー低級アルコキシ、ハロダン、低級アルカ
ノイルオキシ、ジー低級アルキルアミノ−低級アルカノ
イルオキシ、炭素原子数２０以下のアルキル、（ヒドロ
キシ、ハロダン、低級アルコキシもしくはノー低級アル
キルアミノで置換された）低級アルキル、低級アルカノ
イル、カルボキシ。
場合によってはジー低級アルキルアミノによ多置換され
た低級アルコキシカルボニル、（ｍｌ：よっては低級ア
ルキル、低級アルコキシ、ハロダン及び／もしくはニト
ロによυ置換された）フェニル、ニトロ、アミン、低級
アルキルアミン、ジー低級アルキルアミノ、低級アルキ
レンアミノ。
（場合によっては低級アルキル化されている窒素原子、
又は酸素原子もしくは硫黄原子によシ中断されている）
低級アルキレンアミノ、低級アルカノイルアミノ、及び
／又はカルボキシ−低級アルカノイルアミノによυ置換
されている炭素原子数２０個以下の単環又は多環アリー
ル基であシ；あるいは１，２もしくは３個の窒素原子及
び／又は。
酸素原子もしくは硫黄原子を含有する単環の５−又は６
−員へテロアリール基；又は、２個の窒素原子を環中に
有し又は１個の窒素原子及び／又は、酸素原子もしくは
硫黄原子を環中に有する芳香族性の５−員複素環と縮合
ベンゼン環とからなる２環ヘテロアリール基；又は、１
個又は２個の窒素原子を環中に有する芳香族性の６−員
複素環と縮合ベンゼン環とからなる２環ヘテロアリール
基（これらのへテロアリール基は環炭素原子により２重
結合の炭素原子に結合しており、そして場合によっては
ヒドロキシ、低級アルコキシ、ハロダン、低級アルキル
、ハロー低級アルキル及び／又はニトロにより置換され
ている）であυ；Ｒ２はＲ１と同じ意味を有し、又は水
素；場合によっては、ヒドロキシ、低級アルカノイルオ
キシ、場合ニよってはニトロ、ハロダン１．低級アルキ
ル及び／又は低級アルコキシにより置換されているベン
ゾイルオキシ、ハロダン、低級アルコキシ、低級アルケ
ニルオキシ、低級アルキルチオ、フェニルチオ、低級ア
ルキルスルフィニル、フェニルスルフィニル、低級アル
キルスルホニル、ニトロ、カルボキシ、シアン、低級ア
ルコキシカルボニル、場合によってはモノ−もしくはジ
ー低級アルキル化されているカルバモイル、アミン、低
級アルキルアミノ、アミノ−低級アルキルアミノ〔ここ
で、末端アミノ基は、場合によっては、低級アルキル基
。
低級アルケニル基、又は（場合によっては低級アルキル
化されている窒素原子、又は酸素原子もしくＦｉ硫黄原
子により中断されている）低級アルキレン基により置換
されている。〕、ジー低級アルキルアミノ、低級アルキ
レンアミノ、又は場合によっては低級アルキル化された
窒素原子、又は酸素原子もしくは硫黄原子によシ中断さ
れている低級アルキレンアミノによシ、各々が置換され
ている場合がある低級アルキル、低級アルケニル、又は
低級アルキニル；場合によっては、低級アルキル、ヒド
ロキシ、低級アルコキシ、７１０７７％カルボキシ又は
低級アルコキシカルボニルによシ、各々が置換されてい
るシクロアルキル又はシクロアルキル−低級アルキル；
場合によっては低級アルキル、低級アルキル、ノーログ
ン又ハ二トロによジ置換されでいるフェニル低級アルキ
ル；場合によっては低級アルキル、低級アルコキシ、ノ
ーロダン又はハロー低級アルキルにより置換されている
場合があるフリル−、チェニル−又はビリジルー低級ア
ルキル；場合によってはヒドロキシ、ノーロダン、低級
アルコキシ、カルボキシ、低級アルコキシカルボニル、
７７ノ及び／又は（場合によっては低級アルキルにより
置換されている）フェニル、によυ置換されている低級
アルカノイル；シクロアルカノイル；場合によっては低
級アルキル、ヒドロキシ、ノーロダン、低級アルコキシ
、アミン、低級アルキルアミノ、ノー低級アルキルアミ
ノ、低級アルカノイルアミノ、カルボキシ、低級アルコ
キシカルボニル、（場合によってはモノ−もしくはノー
低級アルキル化されている）カルバモイル及び／又はニ
トロにより各々が置換されている場合があるベンゾイル
又はナフトイル；フェニル−低級アルカノイル；場合に
よっては低級アルキル基又はハロダンによシ各々が置換
されている７０イル又はモノイル；場合によってはヒド
ロキシ、低級アルコキシ、ハロー低級アルキル及び／又
はシアノによジ置換され七いるピリドイル；式Ｒ３−Ｃ
（＝８）−のチオアシル基又は式Ｒ３−Ｃ（＝ＮＲ４）
−のイミノアシル基（式中、Ｒ３は水Ｌ　低級アルキル
、フェニル又Ｌフェニルー低級アルキルであシ、セして
Ｒ４は低級アルキル、フェニル又はフェニル−低級アル
キルである）；カルボキシ；炭素原子数２０個以下のア
ルコキシカルボニル；シアノ；（低級アルキレン、低級
アルケニル、低級アルカノイル又はベンゾイルにより置
換された）カルバモイル、又は場合によってはモノ−又
はジー低級アルキル化されているカルノ々モイル；場合
によっては低級アルキル又は低級アルキレンによジ置換
されているチオカルノ々モイル；低級アルキルチオ、フ
ェニルチオ、フェニル−低級アルキルチオ、フェニルス
ルフィニル、フェニルｉｆｔ級アルキルスルフィニル、
低級アルキルスルホニル、フェニルスルホニル又ハフェ
ニ＃−低ｉアルキルスルホニル（ここで、フェニルＳｔ
ｔ場合によっては低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ
ゲン及び／又はニトロによ多置換されている。）；スル
ホ；低級アルコキシスルホニル；フェニル−低級アルコ
キシスルホニル、又は場合によっては低級アルキル化も
しくはフェニル化されたアミノスルホニルであシ；Ａは
、それぞれが１〜５個の炭素原子によシ硫黄原子を分離
しており、そして場合によってはオキソ、ヒドロキシ、
ハロダン、低級アルカノイルオキシ、ハロー低級アルカ
ノイルオキシ、（場合によってはニトロ、低級アルキル
及び／又は低級アルコキシにより置換されている）ベン
ゾイルオキシ、低級アルコキシ、場合によってはフェニ
ル部分がニトロ、ハロゲン、低級アルキル及び／又は低
級アルコキシによ多置換されているフェニル低級アルコ
キシ、場合によってはニトロ、低級アルキル、低級アル
コキシ及び／又ハハロダンによ多置換されているフェノ
キシ、低級アルキルチオ、フェニルチオ、フェニル−低
級アルキルチオ、カルボキシ、低級アルコキシカルボニ
ル、シアノ、場合によってはモノ−又はノー低級アルキ
ル化されているカルバモイル、アミン、低級アルキルア
ミノ、ジー低級アルキルアミノ。
低級アルキレンアミノ、低級アルケニルアミノ。
アニリノ、フェニル−低級アルキルアミノ、低級アルカ
ノイルアミノ、低級アルカンスルホニルアミノ、場合に
よっては低級アルキル又にし・ログンＫｌｆＨｉＩＬさ
れているベンゼンスルホニルアミノ、シクロアルキル、
ニトロ、あるいは場合によってはヒドロキシ、低級アル
コキシ、ハロゲン、低級アルキル、カルボキシ、低級ア
ルコキシカルボニル又はジー低級アルキルアミノにより
置換されているフェニル、によ多置換されている場合が
ある低級アルキレン、低級アルキリデン又は低級アルケ
ニレン基であシ；そしてｎが０又は１である式（ｌ＆）
の化合物、及び酸形成基を肩するこの化合物の医薬とし
て許容妊れる塩の肝臓疾患の治療のための使用に関する
。
さらに詳しくは、この発明は、Ｒ４が、各々場合によっ
ては、ヒドロキシ、低級アルコキシ、カルボキシ−低級
アルコキシ、・ノー低級アルキルアミノ−低級アルコキ
シ、スルホ−低級アルコキシ、ヒドロキシ−低級アルコ
キシ、ノ飄ロダン、低９アルカノイルオキシ、ジー低級
アルキルアミノ−低級アルカノイルオキシ、炭素原子数
１４個以下のアルキル、ノ・ロー低級アルキル、ジー低
級アルキルアミノ−低級アルキル、低級アルカノイル、
カルボキシ、低級アルコキシカルボニル、アミン。
低級アルキルアミノ、ジー低級アルキルアミノ、低級ア
ルキレンアミノ、（場合によっては低級アルキル化され
ている窒素原子、又は酸素原子もしくは硫黄原子によシ
中断されている）低級アルキレンアミノ、低級アルカノ
イルアミノ及び／又はカルボキシ−低級アルカノイルア
ミノにより置換されている場合があるフェニル又はナフ
チル；あるいはフリル、チェニル、ピラゾリル、イミダ
ゾリル、オキサシリル、イソキサゾリル、チアゾリル、
ピリジル、ピリミジル、インドリル、ベンズイミダゾリ
ル、ベンゾフラニル、ベンゾチェニル、ベンゾキサゾリ
ル、ベンゾチアゾリル又はキノリニル（これらのへテロ
アリール基は環炭素原子によシ２重結合の炭素原子に結
合しておシ、そして場合によってはヒドロキシ、低級ア
ルコキシ、ハロダン、低級アルキル及び／又はハロー低
級アルキルによ多置換されている）であり；Ｒ２がＲ５
と同じ意味を有し、又は水素；低級アルキル；ヒドロキ
シ−低級アルキル；ノ・ロー低級アルキル；低級アルコ
キシ−低級アルキル；低級アルキル−チオー低級アルキ
ル；フェニルチオ−低級アルキル；フェニルスルフィニ
ル−低級アルキル；低級アルキルスルホニル−低級アル
キル；カルボキシ−低級アルキル；低級アルコキシカル
ボニル−低級アルキル；場合によってはモノ−又はジー
低級アルキル化されているカルバモイル−低級アルキル
；ジー低級アルキルアミノ−低級アルキル；低級アルキ
レンアミノ−低級アルキル（低級アルキレン基は場合に
よっては、低級アルキル化されている場合がある窒素原
子、又は酸素原子もしくは硫黄原子によシ中断されてい
る、）；アミノ−低級アルキルアミノ−低級アルキル〔
末端アミン基は、場合によっては低級アルキル又は低級
アルキレン（この低級アルキレンは場合によっては、低
級アルキル化されている場合がある窒素原子、又は酸素
原子もしくは硫黄原子によシ中断さｈている）により置
換されている。〕；低級アルクニル；シクロアルキル；
場合によっては低級アルキル、低級アルコキシ又はハロ
ダンによシ泗１換されているフェニル−低級アルキル；
各々場合によっては低級アルキル又はハロ’ｒ”：／Ｉ
／Ｃよす置換されているフリル−、チェニル−又はピリ
ジル−低級アルキル；場合によってはハロダン、カルボ
キシ、シアノ及び／又はフェニルによυ置換されている
低級アルカノイル；場合によっては低級アルキル、ヒド
ロキシ、ハロダン、低級アルコキシ、ジー低級アルキル
アミノ、低級アルカノイルアミノ、カルボキシ及び／又
は（場合によってはモノ−もしくはノー低級アルキル化
されている）カルバモイルによりｆｔ換されているベン
ゾイル；フェニル−低級アルカノイル；式Ｒ３−Ｃ（＝
＝８＞のチオアシル基（式中Ｒ３は低級アルキル又はフ
ェニルである。）；カルボキシ；炭素原子数２０個以下
のアルコキシカルボニル；シアノ；場合ニよってはモノ
−もしくはジー低級アルキル化されているカルバモイル
、又は低級アルキレンもしくは低級アルケニルによυ置
換されているカルバモイル；場合によっては低級アルキ
ルにより置換されているチオカルバモイル；低級アルキ
ルチオ、フェニルチオ、フェニル−低級アルキルチオ、
フェニルスルフィニｓ、低Ｒアルキルスルホニル又はフ
ェニルスルホニル（これらのフェニル基は、場合によっ
てはアルキル又はハロダンによりｍ換されている）；ス
ルホ、又は場合によっては低級アルキル化もしくはフェ
ニル化されているアミノスルホニルであシ；Ａが１各々
が１〜５個の炭素原子により硫黄原子を分離しておシ、
そして場合によってはオキソ、ヒドロキシ、低級アルカ
ノイルオキシ、ハロー低級アルカノイルオキシ、場合に
よっては低級アルギルによ＃）置換されているベンゾイ
ルオキシ、シアン、カルボキシ、又は場合によっては千
ノーもしくはノー低級アルキル化されているカルバモイ
ルにより置換されている低級アルキレン、低級アルケニ
レン又は、低級アルキリデン基であり；そして口がＯ又
は１である式（Ｉａ）の化合物、及び塩形成基を有する
この化合物の医薬として許容される塩の肝臓疾患の治療
のだめの使用に関する。
この発明は、さらに詳しくはＲ１が、場合によってはヒ
ドロキシ、低級アルコキシ、例えばメトキシ、カルボキ
シ−低級アルコキシ、例えばカルボキシメトキシ、スル
ホ−低級アルコキシ、例エバ２−スルホエトキシ、ジー
低級アルキルアミノ−ｆｌアルコキシ、例えば２−ジ−
メチルアミノエトキシ、ハロダン、例えば弗素又は塩素
、低級アルカメイル、例えばバレロイル、低級アルキル
。
例えばメチル、ハロー低級アルキル、例えばトリフルオ
ロメチル、カルボキシ、アミノ、ジー低級アルキルアミ
ノ、例えばジメチルアミノ、４−低級アルキルビペラ・
ジノ、例えば４−メチルビ４ラゾノ、低級アルカノイル
アミノ例えばアセチルアミノ及び／又はカルボキシ−低
級アルカノイルアミノ、例えばサクシニルアミノにょｌ
’換されているフェニル；ピリジル、例えば２−又は３
−ピリジル；又は、チェニル、例えば２−チェニルであ
υ；Ｒ２が、水素；場合によってはヒドロキシ。
低級アルコキシ、例えばメトキシ、ハロダン１例えば弗
素又は塩素、ハロー低級アルキル、例えはトリフルオロ
メチル、及び／又はノー低級アルキルアミノ、例えばジ
メチルアミノによ多置換されているフェニル；低級アル
キル、例えばメチル；ハロー低級アルキル、例えばトリ
フルオロメチル；カルボキシ−低級アルキル、例えばカ
ルボキシメチル；低級アルコキシカルボニル−低級アル
キル。
例えばエトキシカルボニルメチル；ジー低級アルキルア
ミノ−低級アルキル、例えばジメチルアミノメチル、２
−ジメチルアミノエチル、又はメチル−イソノロピルア
ミノメチル；（低級アルキル化されている場合がある窒
素原子、又は酸素原子もしくは硫黄原子によシ中断され
ている）低級アルキレンアミノにより置換されている低
級アルキル、例えばピロリジノメチル又はモルホリノメ
チル；フェニル低級アルキル、例えばベンジル；低級ア
ルカノイル、例えはアセチル；ヒドロキシ又は低級アル
コキシ、例えばメトキシにょ多置換されたベンゾイル；
カルボキシ；炭素原子数９個以下のアルコキシカルボニ
ル１例えばメトキシカルボニル、インゾロポキシカルボ
ニル又はｎ−オクチルオキシカルボニル；シアノ；又り
、ジー低級アルキルアミンスルホニル、例えばジメチル
アミノスルホニルで４ｆｉ：Ａが、各々が２〜４個の炭
素原子、例えばエチレン、■、３−グロピゾロもしくは
１．４−ブチレン（これらは場合によってはオキソ又は
ヒドロキシによりｉ換されている）、又はビニレンによ
シ硫黄原子を分離している低級アルキレン又は低級アル
チニレン基であシ；そしてｎが０又は１である式（Ｉａ
）の化合物、及び塩形成基を有するこの化合物の医薬と
して許容される塩の肝臓疾患の治療のだめの使用に関す
る。
この発明はＩＰ＃に、　Ｒが、ハロダンにより、例えは
弗素によシ、ジー低級アルキルアミノにょシ、例えばジ
メチルアミノにより、低級アルコキシによシ１例えばメ
トキシにょシ、又はハロー低級アルキルによシ１例えば
トリフルオ目メチルにょ多置換されているフェニル；又
はピリジル、例えば２−ピリジルであＪＩＪ：Ｒ２が、
水素；場合によってはハロダン、例えば弗素によ多置換
されたフェニル；低級アルキル、例えばメチル；低級ア
ルコキシにより、例えばメトキシにょ多置換されたベン
ゾイル；又は、炭素原子数９個以下のアルコキシカルボ
ニル、例えばイソゾロポキシヵルボニル又はｎ−オクチ
ルオキシカルボニルであ！ｔ：Ａが。
各々が２〜４個の炭素原子にょシ硫黄原子を分離してい
る低級アルキレン又は低級アルケニレン。
例エバエチレン、ｌ、３−ノロピレン。１．４−ブチレ
ン又はビニレンであシ；そして口が０である式（１ｍ）
の化合物、及び塩形成基を有するこの化合物の医薬とし
て許容される塩の肝臓疾患の治療のための使用に関する
。
この発明は又、Ｒ１がアリール又はヘテロアリールであ
り；Ｒ２が水素、場合によっては置換されている炭化水
素基、ヘテロアリール、アシル基、式−８（０）ｍ−Ｒ
ａ（式中ｍＦｉ０，１又は２であり、そしてＲａは場合
によっては置換されている炭化水素基である）又は場合
によっては機能的に変性されたスルホであシ；Ａが場合
によっては置換されている２価脂肪族炭化水素基であり
；そしでｎはＯ又は１であるが、さらに；Ｒ１及びＲ２
が同一であって。
場合によっては４位においてヒドロキシによシ１又は（
場合によっては低級アルコキシもしくはジー置換アミン
により置換されている）低級アルコキシによ多置換され
ているフェニル基であシ、そしてｎが０である場合には
、Ａは１，３−ノロピレン。２−７エールー　４　Ｌ＜
ハ２−低級アルキルー１．３−ノロピレン以外であシ、
さらにＲ１が３−ピリジルであυ、　　１１２が水素で
あり、そしてｎが０である場合にはＡは３−ピろルビニ
レン以外であシ、さらにＲ１がフェニルであｉ）、Ｒ２
がベンゾイルであり、そしてｎがＯの場合はＡはフェニ
ルビニレン以外であることを条件とする式（１）のケテ
ンチオアセタール、又は塩形成基を有するこの化合物の
医薬として許容される塩を含有する医薬に関する。
この発明は特に、Ｒが、場合によっては、ヒドロキシ、
低級アルコキシ、カルボキシ−低級アルコキシ、低級ア
ルコキシカルボニル−低級アルコキシ、ジー低級アルキ
ルアミノ−低級アルコキシ。
ハロー低級アルコキシ、スルホ−低級アルコキシ。
ヒドロキシ−低級アルコキシ、ハロダン、低級アルカノ
イルオキシ、ジー低級アルキルアミノ−低級アルカノイ
ルオキシ、炭素原子数２０以下のアルキル、（ヒドロキ
シ、ハロダン、低級アルコキシもしくはジー低級アルキ
ルアミノで置換された）低級アルキル、低級アルカノイ
ル、カルボキシ。
場合によってはジー低級アルキルアミノにょ多置換され
た低級アルコキシカルボニル、＜ｓ合によっては低級ア
ルキル、低級アルコキシ、ハロダン及び／もしくはニト
ロによ多置換された）フェニル、ニトロ、アミノ、低級
アルキルアミノ、ジ−低級アルキルアミノ、低級アルキ
レンアミノ。
（場合によっては低級アルキル化されている窒素原子、
又−１酸素原子もしくは硫黄原子によシ中断されている
）低級アルキレンアミノ、低級アルカノイルアミノ、及
び／又はカルボキシ−低級アルカノイルアミノによｌ）
　ｋ換されている炭素原子数２０個以下の単環又は多環
アリール基であシ；あるいは１．２もしくは３個の窒素
原子及び／又は。
酸素原子もしくは硫黄原子を含有する単環の５−又は６
−員へテロアリール基；又は、２個の窒素原子を環中に
有し、又は１個の窒素原子及び／又は、酸素原子もしく
は硫黄原子を環中に有する芳香族性の５員複素環と縮合
ベンゼン環とからなる２環へテロアリール基；又は、１
個又は２個の窒素原子を環中に有する芳香族性の６員複
素環と縮合ベンゼン環とからなる２環へテロアリール基
（これらのヘテロアリール基は環炭素原子によシ２＆結
合の炭素原子に結合しておシ、そして場合によってはヒ
ドロキシ、低級アルコキシ、ハロゲン、低級アルキル、
ハロー低級アルキル及び／又はニトロにより置換されて
いる。）であり：Ｒ２はＲ１と同じ意味を有し、又は水
素；場合によっては、ヒドロキシ、低級アルカノイルオ
キシ、場合によってはニトロ、ハロダン、低級アルキル
及び／又は低級アルコキシにょｐ置換されているベンゾ
イルオキシ、へロダン、低級アルコキシ、低級７Ａ’ｒ
ニルオキシ、低級アルキルチオ、フェニルチオ、低級ア
ルキルスルフィニル、フェニルスルフィニル、低級アル
キルスルホニル、ニトロ、カルボキシ、シアン、低級ア
ルコキシカルボニル。
場合によってはモノ−もしくはノー低級アルキル化され
ているカルバモイル、アミン、低級アルキルアミノ、ア
ミノ−低級アルキルアミノ〔ここで。
末端アミノ基は、場合によっては、低級アルキル基、低
級アルケニル基、又は（場合によりては低級アルキル化
窒素原子又は酸素原子もしくは硫黄原子によシ中断され
ている）低級アルキレン基によジ置換されている、〕、
ジー低級アルキルアミノ、低級アルキレンアミノ、又は
場合によっては低級アルキル化された窒素原子又は酸素
原子もしくは硫黄原子によシ中断されでいる低級アルキ
レンアミノによシ、各々が置換されている場合がある低
級アルキル、低級アルケニル、又は低級アルキニル；場
合によっては、低級アルキル基、ヒドロキシ、低級アル
コキシ、ハロダン、カルボキシ又は低級アルコキシカル
ボニルにより、各々が置換されているシクロアルキル又
はシクロアルキル−低級アルキル；場合によっては低級
アルキル。
低級アルコキシ、ハロゲン又は二）０によジ置換されて
いるフェニル低級アルキル；場合によっては低級アルキ
ル、低級アルコキシ、ハロダン又はハロー低級アルキル
により置換されている場合があるフリル−、チオフェニ
ル−又はピロリル−低級アルキル；場合によってはヒド
ロキシ、ハロダン、低級アルコキシ、カルボキシ、低級
アルコキシカルボニル、シアン及び／又は（場合によっ
ては低級アルキルによジ置換されている）フェニル。
によりｉ換されている低級アルカノイル；シクロアルカ
ノイル；場合によっては低級アルキル、ヒドロキシ、ハ
ロゲン、低級アルコキシ、アミノ。
低級アルキルアミノ、ノー低級アルキルアミノ、低級ア
ルカノイルアミノ、カルボキシ、低級アルコキシカルボ
ニル、（場合によってはモノ−もしくｈジー低級アルキ
ニルされている）カルバモイル及び／又はニトロにょシ
各々が置換されている場合があるベンゾイル又はナフト
イル；フェニル−低級アルカノイル；場合によっては低
級アルキル基又はハロダンによシ各々が置換はれている
フロイル又はモノイル；場合によってはヒドロキシ。
低級アルコキシ、ハロー低級アルキル及び／又は’／”
！’によジ置換されているピリドイル；式Ｒ３Ｃ（＝１
９　）−のチオアシル基又は式Ｒ３−Ｃ（＝ＮＲ４）−
のイミノアシル基（式中、Ｒ３は水素、低級アルキル、
フェニル又はフェニル−低級アルキルでアシ。
そしてＲ４は低級アルキル、フェニル又はフェニル−低
級アルキルである）；カルボキシ；炭素原子？２０個以
下のアルコキシカルボニル；シアノ；（低級アルキレン
、低級アルケニル、低級アルカノイル又はベンゾイルに
よ多置換された）カルバモイル、又は場合によってはモ
ノ−又はノー低級アルキル化されているカルバモイル；
場合によって目、低級アルキル又は低級アルキレンによ
ジ置換されｔいるチオカルバモイル；低級アルキルチオ
、フェニルチオ、フェニル−低級アルキルチオ、フェニ
ルスルフィニル、フェニル−低級アルキルスルフィニル
ｉＭＲｙルキルスルホニル、フェニルスルボニル又ハフ
ェニルー低級アルキルスルホニル（ここで、フェニル基
は場合によっては低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ
ゲン及ヒ／又１ｄニトロによりｆｍ換されでいる、）；
スルホ；低級アルコキシスルホニル；フェニル−低級ア
ルコキシスルホニル、又は場合によっては低級アルキル
化もしくはフェニル化されたアミノスルホニルであり；
Ａが、それぞれが１〜５個の炭素原子により硫黄原子を
分離しており、そして場合によってはオキソ、ヒドロキ
シ、ハロダン、低級アルカノイルオキシ、ハロー低級ア
ルカノイルオキシ、（場合によってはニトロ、低級アル
キル及び／又は低級アルコキシによ＃）置換されている
）ベンゾイルオキシ、低級アルコキシ、場合によっては
フェニル部分がニトロ、ハロダン、低級アルキル及び／
又は低級アルコキシによりｔｔｉｔ換されているフェニ
ル低級アルコキシ、場合によってはニトロ、低級アルキ
ル、低級アルコキシ及び／又はハロダン妬よジ置換され
ているフェノキシ、低級アルキルチオ、フェニルチオ、
フェニル−低級アルキルチオ。
カルボキシ、低級アルコキシカルボニル、シアン。
場合によってはモノ−又はジー低級アルキル化されてい
るカルバモイル、アミン、低級アルキルアミノ、ジー低
級アルキルアミノ、低級アルキレンアミノ、低級アルケ
ニルアミノ、アニリノ、フェニル−低級アルキルアミノ
、低級アルカノイルアミノ、低級アルカンスルホニルア
ミノ、場合によっては低級アルキル又はハロダンによジ
置換されているベンゼンスルホニルアミノ、シクロアル
キル、ニトロ、あるいは場合によってはヒドロキシ、低
級アルコキシ、ハロダン、低級アルキル、カルボキシ、
低級アルコキシカルボニル又はノー低級アルキルアミノ
によジ置換されているフェニル、Ｋよジ置換されている
場合がある低級アルキレン。
低級アルキリデン又は低級アルケニレン基であυ：そし
でｎがＯ又は１であるが；さらに、Ｒ４及びＲ２が同一
であって、場合によっては４位においてヒドロキシによ
り、又は（場合によっては低級アルコキシも］〜くはノ
ー置換アミノによジ置換されている）低級アルコキシに
より置換されているフェニル基であり、ｎがＯである場
合には、Ａは１゜３−ゾロビレン、２−フェニル−もＬ
＜ｌ−１２−低級アルキルー１．３−７’ロピレン以外
であり、さらにＲ１がフェニルであシ、Ｒ２がベンゾイ
ルであシ、そしで１１が０である場合には、Ａはフェニ
ルビニレン以外であることを条件とする式（１）の化合
物、又は塩形成基を含有するこの化合物の医薬として許
容される塩を含有する医薬に関する。
以下余白 この発明は特に、Ｒ１が、各々場合によっては、ヒドロ
キシ、低級アルコキシ、カルブキシ−（１アルコキシ、
ジー低級アルキルアミノ−低級アルコキシ、ヌルホー低
級アルコキシ、ヒドロキシ−低級アルコキシ、ハロダン
、低級アルカノイルオキシ、ジー低級アルキルアミノ−
低級アルカノイルオキシ、炭素原子数１４個以下のアル
キル、ハロー低級アルキル、ジー低級アルキルアミノ−
低級アルキル、低級アルカノイル、カルボキシ、低級ア
ルコキシカルボニル、アミン、低級アルキルアミノ、ジ
ー低級アルキルアミノ、低級アルキレンアミノ、（場合
によっては低級アルキル化されている窒素原子、又は酸
素原子もしくは値１黄原子により中断されている）低級
アルキレンアミノ、低級アルカノイルアミノ及び／又は
カルボキシ−低級アルカノイルアミノにより置換されて
いる場があるフェニル又はす７チル：あるいは７リル、
チェニル、ピラゾリル、イミダグリル、オキサシリル、
インキサゾリル、チアゾリル、ピリジル、ピリミジル、
インドリル、ベンズイミダグリル、ペンツフラニル、ベ
ンゾチェニル１，４ンソキ−ｙ−グリル、ベンゾチアゾ
リル又Ｖｉキノリニル（これらのへテロアリール基目環
炭素原子により２重結合の炭素原子に結合しており、そ
して場合によりてはヒドロキシ、低級アルコキシ、ハロ
ゲン、低級アルキル及び／又はハロー低級アルキルによ
り置換されている）であり；Ｒ２がＲ４と同じ意味を有
し、又は水素；低級アルキル；ヒドロキシ−低級アルキ
ル；ハロー低級アルキル；低級アルコキシ−低級アルキ
ル；低級アルキル−チオー低級アルキル；フェニルチオ
−低級アルキル；フェニルスルフィニル−低級アルキル
；低級アルキルスルホニル−低級アルキル；カルボキシ
−低級アルキル；低級アルコキシカルボニル−低級アル
キル；場合によっては七ノー又はジー低級アルキル化さ
れているカルバモイル−低級アルキル；ジー低級アルキ
ルアミノ−低級アルキル；低級アルキレンアミノ−低級
アルキル（低級アルキレン基は場合によっては、低級ア
ルキル化されている場合がある窒素原子、又は酸素原子
もしくは硫黄原子により中断されていイ）；アミノ−低
級アルキルアミノ−低級アルキル〔末端アミノ基は、場
合によっては低級アルキル又は低級アルキレン（この低
級アルキレンは場合によっては、低級アルキル化されて
いる場合がある窒素原子、又Ｖｉ酸素原子もしくは硫黄
原子により中断されている）によ、！７ｒｊＩｊ、換さ
れている、〕電低級アルケニル；シクロアルキル；場合
によっては低級アルキル、低級アルコキシ又はハロゲン
により置換されているフェニル−低級アルキル；各々場
合によっては低級アルキル又はハロゲンにより置換され
ているフリル−、チェニル−又はビリジルー低級アルキ
ル；場合によってはハロゲン、カルボキシ、シアノ及び
／又はフェニルによりｔｇ換されている低級アルカノイ
ル：場合によっては低級アルキル、ヒドロキシ、ハロケ
９ン、低級アルコキシ、ジー低級アルキルアミノ、低級
アルカノイルアミノ、カルボキシ及び／又ハ（場合によ
ってはモノ−もしくはジー低級アルキル化されている）
カルバモイルにより置換されているベンゾイル：フェニ
ルー低級アルカノイル：式Ｒ，，−Ｃ（＝Ｓ）のチオア
シル基（式中Ｒ５は低級アルキル又はフェニルである、
）；カル？キシ；炭素原子数２０個以下のアルコキシカ
ルボニル；シアノ；場合によってはモノ−もしくはジー
低級アルキル化されているカルバモイル、又は低級アル
キレンもしくは低級アルケニルにより置換されているカ
ルバモイル；場合によっては低級アルキルによりｔＷ換
されているチオカルバモイル；低級アルキルチオ、フェ
ニルチオ、フェニル−低級アルキルチオ、フェニルスル
フィニル、低級アルキルスルホニル又はフェニルスルホ
ニル（コレラ（７）フェニル基は、場合によってはアル
キル又はノ・ログンにより置換されている）；スルホ、
又は場合によってｂ低級アルキル化もしくけフェニル化
されているアミノスルホニルであり；Ａが各々が１〜５
個の炭素原子により備、黄原子を分離しており、そして
場合によってはオキシ、ヒドロキシ、低級アルカノイル
オキシ、ハロー低級アルカノイルオキシ、場合によって
は低級アルキルにより置換されているベンゾイルオキシ
、シアノ、カルボキシ、又は場合によってはモノ−もし
くはジー低級アルキル化されているカルバモイルにより
置換されている低級アルキレン、低級アルケニレン又は
低級アルキリデン基であシ；そしてｎが０又は１である
が；さらにＲ及びＲ２が同一であり、そして場合によっ
ては４位においてヒドロキシにより、又は（場合によっ
てはジー置換アミノにより置換されている）低級アルコ
キシにより置換されている７エ二ルであり、そしてｎが
Ｏである場合には、Ａは１．３−プロピレン又は２−低
９＋３７’。
ピレン以外であることを条件とする式＜１）の化合物又
は塩形成基を有するこの化合物の医薬として許容される
塩を含有する医薬に関する。
この発明は特に、Ｒ１が、場合によってはヒドロキシ、
低級アルコキシ、例えばメトキシ、カルボキシ−低級ア
ルコキシ、例えばカルボキシメトギシ、ヌルホー低級ア
ルコキシ、例えば２−スルホエトキシ、ジー低級アルキ
ルアミノ−低級アルコキシ、例えば２−ジ−メチルアミ
ノエトキシ、ノ・ログン、例えば弗素又は塩素、低級ア
ルカノイル、９１１えばバレロイル、低級アルキル、例
えばメチル、ハロー低級アルキル、例えばトリフルオロ
メチル、カルボキシ、アミノ、ジー低級アルキルアミノ
、例えばジメチルアミノ、４−低級アルキルピイラジノ
、例えは４−メチルピペラジノ、低級アルカノイルアミ
ノ例えばアセチルアミノ及び／又はカルボキシ−低級ア
ルカノイルアミノ、例えばサクシニルアミノにより置換
されているフェニル；ピリジル、例えば２−又は３−ピ
リジル：又は、チェニル、例えば２−チェニルであ＃）
　：　Ｒ２が、水素；場合によってはヒドロキシ、低級
アルコキシ、例えばメトキシ、ハロゲン、例えば弗素又
Ｖｉ塩。率、ハロー低級アルキル、例えばトリフルオロ
メチル、及び／又はジー低級アルキルアミノ、例えばジ
メチルアミノにより置換されているフェニル；低級アル
キル、例えばメチル；ハロー低級アルキル、例えばトリ
フルオロメチル；カルボキシ−低級アルキル、例えばカ
ルがキシメチル；低級アルコキシカルブニル−低級アル
キル、例えばエトキシカルブニルメチル：ジー低級アル
キルアミノ−低級アルキル、例えばジメチルアミノメチ
ル、２−ジメチルアミノエチル、又はメチル−イソプロ
ピルアミノメチル１低級アルキル化されている場合があ
る窒素原子、又は酸素原子もしくＶｉ硫黄原子により中
断されている低級アルキレンアミノにより置換されてい
る低級アルキル、例えばピロリソノメチル又はモルホリ
ノメチル；フェニル低級アルキル、例えばベンジル；低
級アルカノイル、例えばアセチル；ヒドロキシ又は低級
アルコキシ、例えばメトキシによジ置換されたベニ／ジ
イル；カルボキシ；炭素原子数９個以下のアルコキシカ
ルテニル、例えばメトキシカル？ニル、イソゾロボキシ
カルメニル又１１ｎ−オクチルオキシカルビニル；シア
ノ；又はジー低級アルキルアミンスルホニル、例えばジ
メチルアミノスルホニルであり；Ａが、各々が２〜４個
の炭素原子、例えばエチレン、１．３−プロピレンもし
く１１．４−ブチレン（これらは場合によってはオキソ
又はヒドロキシによジ置換されている）、又はビニレン
によシ硫黄原子を分離している低級アルキレン又は低級
アルケニレン基であり；そしてｎが０又は１であるが；
但し、Ｒ１及びＲ２が同一であり、そして場合によって
は４位においてヒドロキシ又は低級アルコキシによ＃）
置換されているフェニルであり、そしてｎが０である場
合には、ＡＶｉ、１．３−プロピレン又は２−低級アル
キルー１．３−プロピレンで以外であることを条件とす
る式（１）の化合物、又は塩形成基を有するこの化合物
の医薬として許容される塩を含有する医薬に関する。
この発明は特に、Ｒ１が、７１０グンにより、例えば弗
素により、ジー低級アルキルアミノにより、例えばジメ
チルアミノにより、低級アルコキシにより、例えばメト
キシにより、又はノ１０−低級アルキルにより、例えば
トリフルオロメチルにより置換されているフェニル；又
はピリジル、例えば２−ピリジルであり；Ｒ２が、水素
；場合によってはハロダン、例えば弗素により置換され
たフェニル低級アルキル、例えばメチル；低級アルコキ
シにより、例えばメトキシにより置換されたベンゾイル
；又は、災素原子数９個以下のアルコキシカルテニル、
例エハイソゾロ？キシカルボニル又ｔａｎ−オクチルオ
キシカルボニルで、Ｔｈ、ｊ！７：Ａカ、各々が２〜４
個の炭素原子により硫黄原子を分離している低級アルキ
レン又は低級アルケニレン、例エバエチレン、１，３−
プロピレン、１．４−ブチレン又はビニレンであシ；そ
してｎが０である式（１−ＩＦ−）の化合物、又は塩形
成基を有するこの化合物の医薬として許容される塩を含
有する医薬に関する。
この発明はさらに、Ｒ１がアリール又はヘテロアリール
であり、Ｒ２が置換フェニル、場合によっては置換され
ている多環アリール基、１．２又は３個の窒素原子及び
／又は酸素原子を含有する単環へテロアリール、二環ヘ
テロアリール、場合によっては置換されている脂肪族−
１環状脂肪族−１環状脂肪族−低級脂肪族−、芳香族−
低級脂肪族−もしくは複素環芳香族−低級脂肪族一炭化
水素基、式−８（０）ｍ−Ｒ，の基（式中ｍは０．１又
は２であシ、そしてＲ１は、場合によっては置換されて
いる炭化水素基である）、場合によつ℃は置換されてい
る脂肪族−５環状脂肪族−１芳香族−１芳香族−低級脂
肪族−もしくＶｉ複素芳香族カルボン酸のアシル基、チ
オカルがン酸もしくはイミノカルＰン酸のアシル基、場
合によってはエステル化もしくはアミド化されているカ
ルブキシ基、場合によっては低級アルキル又は低級アル
キレンによジ置換されているチオカルバモイル基、又は
場合によっては機能的に変性されているヌルホ基であり
、Ａは場合によってｌｄ装ｔＪａれている二価脂肪族炭
化水素基であり、そしてｎ　ｉｊ　Ｏ又は１であり；あ
るいは又、Ｒ１は（場合によってはエーテル化もしくは
エステル化された）ヒドロキシにより置換されたフェニ
ル基であり、Ｒ２は水素であシ、そしてＡ及びｎは手記
の意味を有し、さらに、Ｒ４及びＲ２が同一であって、
４位においてヒドロキシにより、又Ｖｉ＜　場合によっ
て（−ｉ置換アミノもしくは低級アルコキシにより装置
されている）低級アルコキシにより置換されているフェ
ニルであυ、そしてｎが０の場合には、Ａｔ−１１，３
−プロピレン、２−フェニル−もしく’　ｉ、１２−低
級アルキルー１．３−７’ロピレン又はオキサリル以外
であり、Ｒ４がアリール又はヘテロアリールであり、Ｒ
２が場合によってはエステル化又はアミド化されている
カルボキシルであり、そしてｎが０の場合には、Ａはカ
ルボキシメチレン又は低級アルコキシカルビニルメチレ
ン以外であり、Ｒ１がフェニルであり、Ｒ２がメチル、
ｔａｒｔ−ブチル又はフェニルチオメチルであシ、そし
てｎが０の場合には、Ａは１．３−プロピレン、ジベン
ゾイルビニレン又ｆ′ｉ２−フェニル−２−ｔ＠ｒｔ−
ブチルエチリデン以外であり、Ｒ１が２−トリルであＦ
）、Ｒ２が４−メトキシ−フェニルであり、そしてｎが
０の場合にはＡＰ、１ｌ−（２−）リル）−２−（４−
メトキシフェニル）−ビニレン以外であり、Ｒ１が場合
によっては４−位において弗素又は臭素により置換され
ているフェニルであり、Ｒ２が場合によっては４−位に
おいて弗素もしくは臭素により置換されているベンゾイ
ル、又はホルミルもしくはアセチルであシ、そしてｎが
０の場合には、ＡＶｉモノ−もしくはノー置換ビニレン
、２．２−ジー置換エチリデン又Ｆｉｌ、１−ジ置換２
−オキソエチレン以外であ、！！１１ＳＲ，がフェニル
であＣ１Ｒ２がカルボキシ又はメトキシフル？ニルであ
り、そしてｎが０の場合にｌｉＡは場合によってはメチ
ル−エステル化されｆｃｌ−フェニル−１−カル＞Ｎキ
シエチリデン以外であシ、又は１−７ヱニルー２−メト
キシカルぎニルビニレン以外であり、Ｒ４が場合によっ
ては４−位において塩素又はメチルによｌ換されたフェ
ニルであシ、Ｒ２がチオホルミル、チオアセチル、フェ
ニルチオカルバモイル、フェニルイミノメチル、メチル
イミノメチル、Ｎ−７エニルカルパモイル、又ｔｉ場合
によってＶｉｆ換されているチオカルバモイル基コキ ｆｉダシ−換ビニレン又はテトラメチルエチレン以外で
あり、Ｒ４がフェニル又は２−ピリジルであり、Ｒ２が
ベンゾイルであり、そしてｎが００場合には、１１エチ
レン以外であり、Ｒ４が２−ピリジルであり、Ｒ２がイ
ンブチリル又Ｖｉ３−メチルブチリルであり、そしてｎ
が０の場合にはＡｌ１１　、３−７’０ピレン以外であ
り、そして、Ｒ１がフェニルであシ、Ｒ２がフェニルス
ルホニル、メチルヌルホニル又ハペンジルスルホニルで
あり、そしてｎが０の場合ＫＵＡｔｉエチレン以外であ
ることを条件とする、式（１）で示される新規なγテン
チオアセクール、及び塩形成基を有するこの化合物の塩
、並びにその製造方法に関する。
この発明は特にＲ１が、場合によっては、ヒドロキシ、
低級アルコキシ、カルブキシ−低級アルキル、低級アル
コキシカル？ニルー低級アルコキシ、ジー低級アルキル
アミノ−低級アルコキシ、ハロー低級アルコキシ、ヌル
ホー低級フルコキシ、ヒドロキシ−低級アルコキシ、ハ
ロゲン、低級アルカノイルオキシ、ジー低級アルキルア
ミノ−低級アルカノイルオキシ、炭素原子数２０以下の
アルキル、（ヒドロキシ、ハロゲン、ｉｉフルコキシも
しくはジー低級アルキルアミノで置換された）低級アル
キル、低級アルカノイル、カルボキシ、場合によっては
ジー低級アルキルアミノによジ置換された低級アルコキ
シカルゲニル、（場合によっては低級アルキル、低級ア
ルコキシ、ハログン及び／もしくはニトロによジ置換さ
れた）フェニル、ニトロ、アミノ、低級アルキルアミノ
、ジー倶級アルキルアミノ、低級アルキレンアミノ、（
場合によっては低級アルキル化されている窒素原子、又
は酸素原子もしくは硫黄原子によシ中断されている）低
級アルキレンアミノ、低級アルカノイルアミノ、及び／
又はカルボキク−低級アルカノイルアミノにより置換さ
れている炭素原子数２０個以下の単環又は多環アリール
基であり：あるいは１．２もしくは３個の窒素原子及び
／又は、酸素原子もしくは硫黄原子を含有する単環の５
〜又Ｆｉ６−員ヘテロアリール基；又は、２個の窒素原
子を環中に有し、又は１個の窒素原子及び／又は、酸素
原子もしくは硫黄原子を環中に有する芳香族性の５員複
素環と縮合ベンゼン環とからなる２環へテロアリール基
；又は、１個又は２個の窒素原子を環中に有する芳香族
性の６員複素環と縮合ベンゼン環とからなる２環へテロ
アリール基（これらのヘテロアリール基は環炭素原子に
より２重結合の炭素原子に結合しており、そして場合に
よってはヒドロキシ、低級アルコキシ、ハロゲン、低級
アルキル、ハロー低級アルキル及び／又はニトロにより
置換されている）であり：Ｒ２が、ナフチル：それぞれ
が、ヒドロキシ、低級アルコキシ、カルボキク−低級ア
ルコキシ、低級アルコキシカルブニル−低級アルコキシ
、ジー低級アルキルアミノ−低級アルコキシ、ハロー低
級アルコキシ、ヌルホー低級アルコキシ、ヒドロキシ−
低級アルコキシ、ハロゲン、低級アルカノイルオキシ、
ノー低級アルキルアミノ−低級アルカノイルオキシ、炭
素原子数２０個以下のアルキル、（ヒドロキシ、ハロゲ
ン、低級アルコキシ又はノー低級アルキルアミノにより
置換され工いる）低級アルキル、低級アルカノイル、カ
ルボキク、場合によってはジー低級アルキルアミノによ
ジ置換されている低級アルコキシカルボニル、場合によ
っては低級アルキル、低級アルコキシ、ハロゲン及び／
又はニトロにより置換されているフェニル、アミン、低
級アルキルアミノ、ジー低級アルキルアミノ、低級アル
キレンアミノ、（低級アルキル化されている場合がある
窒素原子、又は酸素原子もしくは硫黄原子により中断さ
れている）低級アルキレンアミノ、及び／又は低級アル
カノイルアミノにより置換されているフェニル又はナフ
チル；１．２もしくは３個の窒素原子及び／又は、酸素
原子もしくは硫黄原子を含有する単環の５−又は６−員
ヘテロアリール基、又は、２個の窒素原子を環中に有し
、又ｔ−１１個の窒素原子及び／又は、酸素原子もしく
は硫黄原子を環中に有する芳香族性の５員複素環と縮合
ベンゼン環とからなる２環へテロアリール基、又は１個
又Ｖｉ２個の窒素原子を環中に有する芳香族性の６員複
素環と縮合ペンメン環とからなる２環へテロアリール基
（これらのへテロアリール基は環炭素原子により２重結
合の炭素原子に結合しており、そして場合によってはヒ
ドロキシ、（ＪｔＭフルコキシ、ハロゲン、低級アルキ
ル、ハロー低級アルキル及び／又はニドｏによジ置換さ
れている）；場合によっては、ヒドロキシ、低級アルカ
ノイルオキシ、場合によってはニトロ、ハロダン、低級
アルキル及び／又は低級アルコキシにより置換されてい
るベンゾイルオキシ、ハロゲン、低級アルコキシ、低級
アルケニルオキシ、低級アルキレン基、フェニルチオ、
低級アルキルヌルフィニル、フェニルスルフィニル、低
級アルキルスルホニル、ニトロ、カルボキク、シアン、
低級アルコキシカルボニル、場合によってはモノ−もし
くはジー低級アルキル化されているカルバモイル、アミ
ノ、低級アルキルアミノ、アミノ−低級アルキルアミノ
〔ここで、末端アミノ基は、場合によっては、低級アル
キル基、低級アルキレン基、又は（場合によっては低級
アルキル化されている窒素原子又は酸素原子もしくは硫
黄原子により中断されている）低級アルキレン基により
置換されている〕、ジ−低級アルキルアミノ、低級アル
キレンアミノ、又は低級アルキル化されている場合があ
る窒素原子又は酸素原子もしくは硫黄原子により中断さ
れている低級アルキレンアミノにより、各々が置換され
ている場合がある低級アルキル、低級アルケニル、又は
低級アルキニル；場合によっては、低級アルキル、ヒド
ロキシ、低級アルコキシ、ハロゲン、カルボキシ又ハ低
級アルコキシカルボニルにより、各々が置換されている
シクロアルキル又はシクロアルキル−低級アルキル；場
合によっては低級アルキル、低級アルコキシ、ハロゲン
又はニトロにより置換されているフェニル低級アルキル
；場合によっては低級アルキル、低級アルコキシ、へロ
グン又ハノミロー低級アルキルにより置換されている場
合があるフリル−、チェニル−又はピリジル−低級アル
キル：低級アルキルチオ、フェニルチオ、フエ＝　ルー
　低級７　ルキルチオ、フェニル２ルフイニル、フヱニ
ルー低級アルキルヌルフィニル、低級アルキルスルホニ
ル、フェニルヌルホニル又りフェニル−低級アルキルス
ルホニル（ここで、フェニル基Ｖｉ場合によっては低級
アルキル、低級アルコキシ、）・ログン及び／又はニト
ロにより置換されている）；場合によってはヒドロキシ
、ハロゲン、低級アルコキシ、カルボキシ、低級アルコ
キシカルボニル、シアン及び／又は（場合によっては低
級アルキルにより置換されている）フェニル、により置
換されている低級アルカノイル；シクロアルカノイル；
場合によってハ低級アルキル、ヒドロキシ、ハロゲン、
低級アルコキシ、アミン、低級アルキルアミノ、ノー低
級アルキルアミノ、低級アルカノイルアミノ、カルボキ
シ、低級アルコキシカルビニル、（Ｊｌによってはモノ
−もしくはジー低級アルキル化されている）カルバモイ
ル及び／又はニトロにより各々が置換されている場合が
あるベンゾイル又はナフトイル；フェニル−低級アルカ
ノイル；場合によっては低級アルキル基又はハロゲンに
より各々が置換されているフロイル又はモノイル；場合
によってはヒドロキシ、低級アルコキシ、ノ、。−低級
アルキル及び／又はシアノにより置換されているピリド
イル；式Ｒｓ　Ｃ（＝ｓ）−のチオアシル基又は弐Ｒ３
−Ｃ（＝ＮＲ４）−のイミノアシル基（式中、Ｒ，ハ水
素、低級アルキル、フェニル又はフェニル−低級アルキ
ルであシ、そしてＲ４は低級アルキル、フェニル又はフ
ェニル−低級アルキルである）：カルボキシ；炭素原子
数２０個以下のアルコキシカルブニル；低級アルキレン
、低級アルケニ′ル、低級アルカノイル又はベンゾイル
により置換されたカルバモイル又は場合によってはモノ
−又はジー低級アルキル化されているカルバモイル；場
合によっては低級アルキル又Ｕ低級アルキレンにより置
換されているチオカルバモイル；スルホ；低級アルコキ
シヌルホニル：フェニルー低Ｒフルコキシスルホニル、
又は場合によっては低級アルキル化もしくはノエニル化
されたアミノスルホニルであり：Ａが、それぞれ１〜５
個の炭素原子により候黄原子を分離し又おり、そして場
合によってはオキソ、ヒドロキシ、ノ１０デン、低級ア
ルカノイルオキン、ハロー低級アルカノイルオキシ、（
場合によってけニトロ、低級アルキル及び／又−低級ア
ルコキシにより置換されている）ベンゾイルオキシ、低
級アルコキシ、場合によってはフェニルｆ’Ａ　分力ニ
トロ、ノ・ログン、低級アルキル及び／又は低級アルコ
キシにより置換されているフェニル−低級アルコキシ、
場合によってはニトロ、低級アルキル、低級アルコキシ
及び／又ｄノ・ログンにより置換されているフェノキシ
、低級アルキルチオ、フェニルチオ、フェニル−低級ア
ルキルチオ、カルボキシ、低級アルコキシカルビニル、
シアノ、場合によってはモノ−又はノー低級アルキル化
されているカルバモイル、アミン、低級アルキルアミノ
、ジー低級アルキルアミノ、低級アルキレンアミノ、低
級アルケニルアミノ、アニリノ、フェニル−低級アルキ
ルアミノ、低級アルカノイルアミノ、低級アルカンスル
ホニルアミノ、場合によっては低級アルキル又はハロゲ
ンにより置換されているベンゼンスルホニルアミノ、シ
クロアルキル、ニトロ、あるいＶｉ場合によってはヒド
ロキシ、低級アルコキシ、ハロゲン、低級アルキル、カ
ルボキシ、低級アルコキシカルボニル又はジー低級アル
キルアミノにより置換されているフェニル、により置換
されている場合がある低級アルキレン、低級アルキリデ
ン又は低級アルケニレン基であシ；そしてｎがＯ又は１
であり；あるいは又、Ｒ４がヒドロキシ、低級アルコキ
シ、カルボニル低級アルコキシ、ジー低級アルキルアミ
ノ−低級アルコキシ、スルホ−低級アルコキシ及ヒ／又
ｔｉ”１０グンにより置換されているフェニルであり、
食が水素であり、そしてＡ及びｎが上記の意味′を有し
、さらに、Ｒ１及びＲ２が同一であって、４位において
ヒドロキシに、より、又Ｖｉ（場合によっては置換アミ
ノもしくは低級アルコキシにより装置されている）低級
アルコキシにより置換されているフェニルであり、そし
てｎか０の場合には、ＡＶｉｌ、３−プロピレン、２−
７ヱニルーモＬ＜ｉ、ｉ２−低級アルキルー１．３−７
’ロビレン又はオキサリル以外であり、Ｒ１がアルール
又はヘテロアリールであす、Ｒ２がカルブキシ、アルコ
キシカルブニル又は場合によっては置換されたカルバモ
イルであυ、そしてｎが０の場合ＫＶｉ、Ａはカルブキ
シメチレン又ハ低級アルコキシカルボニルメチレン以外
であり、Ｒ４がフェニルであり、Ｒ２がメチル、ｔｅｒ
ｔ−ブチル又はフェニルチオメチルであり、そしてｎが
０の場合には、Ａは１．３−７’ロピレン又［２−７エ
＝　ルー　２−　ｔａｒｔ−ブチルエチリデン以外であ
り、Ｒ１が２−トリルであり、Ｒ２が４−メトキシ−フ
ェニルであシ、そしてｎが０の場合にはＡは１−（２−
トリル）−２−（４−メトキシ−フェニル）−ビニリデ
ン以外であ、Ｑ、Ｒ１が場合によっては４−位において
弗素もしくは臭素によジ置換されているフェニルであシ
、Ｒが場合によっては４位において弗素もしくは臭素に
より置換されたベンゾイル、又はホルミルもしくはアセ
チルであり、そしてｎが０の場合には、ＡＶｉ上記のよ
うにモノ−もしくはジー置換されたビニレン、２．２−
ジ置換されたエチリデン、又は上記のように１．１−ジ
置換された２−オキソエチレン以外であシ、Ｒ１がフェ
ニルであゃ、Ｒ２がカルブキシ又はメトキシカル？ニル
でアシ、そしてｎが０である場合には、Ａは場合によっ
てはメチルーエｘチル化すした１−７エニルー１−カル
？キシエチリデン以外であシ、又は１−７エニルー２−
メトキシカルがニルビニレン以外でｔ、ｐ、Ｒ１１ｒｓ
場合によっては４位において塩素又はメチルにより置換
されたフェニルであ、！ｌ１％Ｒ２がチオホルミル、チ
オアセチル、フェニルチオカルブニル、フェニルイミノ
メチル、メチルイミノメチル又は場合によりては上記の
ように置換されたチオカルバモイルであり、そしてｎが
０の場合ＫＶｉ、Ａは上記のようにモノ−もしくはジー
置換されたビニレン又はテトラメチルエチレン以外であ
り、Ｒ４がフェニル又Ｈ２−ビリ・ゾルであり、Ｒ２が
ベンゾイルであシ、そしてｎがＯである場合Ｋｔｉ、Ａ
はエチレン以外であり、Ｒ４がフェニルであＣ１Ｒ２が
７エ二ルスルホニル、メチルスルホニル又ハペンゾルス
ルホニルであり、そしてｎが００場合には、ＡＶｉエチ
レン以外であることを条件とする式（１）の化合物、及
び塩形成基を有するこの化合物の塩、並びにその製造方
法に関する。
以下全白 この発明は特に、Ｒ５が、各々場合によっては、ヒドロ
キシ、低級アルコキシ、カルブキシ−低級アルコキシ、
ジー低級アルキルアミノ−低級アルコキシ、ヌルホー低
級アルコキシ、ヒドロキシ−低級アルコキシ、ハロゲン
、低級アルカノイルオキシ、ジー低級アルキルアミノ−
低級アルカノイルオキシ、炭素原子数１４個ｖ下のアル
キル、ノ・ロー低級アルキル、ジー低級アルキルアミノ
−低級アルキル、低級アルカノイル、カルブキシ、低級
アルコキシカルがニル、アミノ、低級アルキルアミノ、
ジー低級アルキルアミノ、低級アルキレンアミノ、（場
合によっては低級アルキル化されている情累原子、又は
酸累原子もしくは硫黄原子により中断きれている）低級
アルキレンアミノ、低級アルカノイルアミノ及び／又は
カルブキシ−低級アルカノイルアミノによジ置換されて
いる場合があるフェニル又はナフチル：あるいはフリル
、チェニル、ピラゾリル、イミダゾリル、オキサシリル
、イソキサゾリル、チアノリル、ピリジル、ピリミジル
、インドリル、ベンズイミダゾリル、ベンゾフラニル、
ベンゾチェニル、ペンゾキサソリル、ベンゾチアゾリル
又はキノリニル（これらのへテロアリール基は重炭素原
子により２１結合の炭素原子に結合しており、そして場
合によってはヒドロキシ、低級アルコキシ、ハロゲン、
低級アルキル及び／又はハロー低級アルキルにより置換
さｈている）であり；Ｒ２が、それぞれがヒドロキシ、
低級アルコキシ、カル−キシ−低級アルコキシ、シー低
級アルキル−アミノ−低級アルキル、スルホ−低級アル
コキシ、ヒドロキシ−低級アルコキシ、ハロゲン、低級
アルカノイルオキシ、ジー低級アルキルアミノ−低級ア
ルカノイルオキシ、ＷＷ原子数１４個以下のアルキル、
ハロー低級アルキル、ジー低級アルキルアミノ−低級ア
ルキル、低級アルカノイル、カルボキシ、低級アルコキ
シカルブニル、アミノ、低級アルキルアミノ、ジー低級
プルキルアミノ、低級アルキレンアミノ、（場合によっ
ては低級アルキル化されている９素坤子、又は酸素原子
もしくけ硫黄原子により中断嘔れている）低級アルキレ
ンアミノ、低級アルカノイルアミノ及び／又はカルボキ
シ−低級アルカノイルアミンにより信Ｊ換されているフ
ェニル又はナフチル；あるいけフリル、チェニル、ピラ
ゾリル、イミダゾリル、オキサシリル、インキサゾリル
、チアゾリル、ピリジル、ピリミジル、インドリル、ベ
ンズイミダゾリル、ベンゾフラニル、ベンゾチェニル、
ペンゾキサソリル、ベンゾチアゾリル又はキノリニル（
これらのへテロアリール基は壌炭票原子により２見納合
の炭素原子に結合しており、そして場合によってはヒド
ロキシ、低級アルコキシ、ハロゲン、低級アルキル及ヒ
／又はハロー低級アルキルによ多置換されている）；低
級アルキＡ弓ヒドロキシー低級アルキル；ハロー低級ア
ルキル；低級アルコキシ−低級アルキル；低級アルキル
チオ−低級アルキル；フェニルチオ−低級アルキル；フ
ェニルスルフィニル−低級アルキル；低級アルキルスル
ホニル−低級アルキル；カルがキシー低級アルキル；低
級アルコキシカルが；ルー低級アルキル；場合によって
けモノ−又はジー低級アルキル化されているカルバモイ
ル−低１アルキル；ジー低級アルキルアミノ−低級アル
キル；低級アルキレンアミノ−低級アルキル（低級アル
キレン基は場合によりてけ、低級アルキル化はｆｌてい
る場合がある窒素原子、又はｒｌｌ、素原子もしくｔｉ
硫黄原子により中断されている、）；アミノ−低級アル
キルアミノ−低級アルキル〔末端アミノ基は、場合によ
っては低級アルキル又は低級アルキレン（この低級アル
キレンは場合によっては、低級アルキル化されている場
合がある空累原子、又は＠素原子もしくは硫黄原子によ
り中断づれている）Ｋよ多置換されている、〕；但低級
ルケニル；シクロアルキル；場合によってハ低級アルキ
ル、低級アルコキシ又はハロゲン圧よ！７楢換さねてい
るフェニル−低級アルキル；各各間〜今によっては低級
アルキル又はハロ）ｒ’ｙＫより置換されている７リル
ー、チェニル−又はピリジル−低級アルキル：低級アル
キルチオ、７エ二ルチオ、フェニル−低級アルキルチオ
、フェニルスルフィニル、低級アルキルヌルホニル又ハ
フェニルスルホニル（これらの２エニル基は、場合によ
ってはアルキル又はハロダンにより置換されている）；
場合によってはハロゲン、カルボキシ、シアン及び／又
はフェニルにより置換きれている低級アルカノイル；場
合によっては低級アルキル、ヒドロキシ、ハロゲン、低
級アルコキシ、シー低級アルキルアミノ、低級アルカノ
イルアミノ、カルボキシ及び／又は場合によってはモノ
−もしくはジー低級アルキル化されているカルバモイル
により＃捗されているベンゾイル；フェニル−低級アル
カノイル；式Ｒ，−Ｃ（−８）のチオアシル基（式中Ｒ
３は低級アルキル又はフェニルである）；カルがキシ；
灰素原子数２０個以下のアルコキシカルビニル；場合に
よりてはモノ−もしくはジー低級アルキル化されている
カルバモイル、又は低級アルキレンもしくは低級アルク
ニルにより置換されているカルバモイル；場合によって
は低級アルキルにより置換されているチオヵルパモイル
：スルホ、又は場合によっては低級アルキル化もしくＦ
ｉフェニル化されているアミノスルホニルテアυ；Ａが
各々が１〜５個の炭素原子により硫黄原子を分触してお
り、そして場合によってはオキソ、ヒドロキシ、低級ア
ルカノイルオキシ、ノ＼ロー低級アルカノイルオキシ、
賓合によっては低級アルキルにより１に換゛さノ１てい
るベンゾイルオキシ、シアノ、カルボキシ、又は場合に
よっては千ノーもしくはジー低級アルキル化これている
カルノ々モイルにより置換づハている低級アルキｌメン
、低級アルケニレン又は低級プルキリデン基であり；そ
してｎが０又け１であり；あるいは又、Ｒ１がヒドロキ
シにより、低級アルコキシ基により又はノ・ロケ９ンに
よりＩＮ換ネれだフェニルであり、Ｒ２が水軍でま〕す
、ぞしてＡ及びｎは上記の意味含有し、芒らＫＨ２及び
Ｒ２が同一でおって、４−位においてヒドロキシにより
、又は（場合によってはジー漸換アミノにより置換され
た）低級アルコキシにより交換−Ｊｔ］たフェニル基で
あり、そしてｈが０である＃ｔ；１合にはＡは１．３−
プロピレン、２−低娑冒ン ％ｄ７にギに−１＋　３−プロピレン又はオキサリルで
ｔ）す、Ｒ７がアリール又はペテロアリールであす、Ｒ
２がカルボキシ、アルコキシカルボニル又は場合によっ
て＃″ｌｔｌｔ置換いるプ１ルバモイルであり、そして
ｎがＯの場合には、八はカルボキシメチレン以外であり
、Ｒ４がフェニルであり、Ｒ２がメチル、ｔｅｒｔ−ブ
チル又はフェニルチオメチルであり、そしてｎがＯの場
合には八け１，３−プロピレン以外であり、Ｒ１が場合
によっては４″″位において弗素もしくは臭紫により置
換さハているフェニルであり、Ｒ２が場合によってけ４
−位において弗素もしくは臭紫により置換されたベンゾ
イル、又はホルミルもしくはアセチルであり、そしてｎ
がＯの場合ＶＣ＃ｉ、八は前記のようにモノ−もしくは
ジー置換されたビニレン、前記のように２．２−ジー置
換され几エチリデン又け１．ｌ−ジー置換された２−オ
キソエチレン以外であり、Ｒ１が場合によっては４−位
において塩素又はメチルにより置換されたフェニルであ
り、Ｒ２がチオア七チル、フェニルチオカルブニル又は
場合によっては上記のように置換されたチオカル・々至
イルであり、そしてｎが０の場合には、Ａは上記のヨウ
ニモノーもしくはジー置換されたビニレン、又を」テト
ラメチルエチレン以外であＪ、Ｒ，がフェニル又け２−
ピリジルであり、Ｒ２がベンゾイルであり、そして゛。
が０の場合にけＡはエチレンＪジ外であり、Ｒ４か２−
ピリジルであり、Ｒ２がイソブチリル又け３−メチル−
ブチリルであり、そしてｎがＯの場合にはＡは１，３−
プロピレン以外であり、干してＲ１がフェニルであり、
Ｒ２がフェニルスルホニル又はメチルヌルホニルテアリ
、そしてｎが００場合に＃−１Ａｉｉエチレン以外であ
ること全条件とする式（Ｉ）の化合物及び地形成基を有
するこの化合物の塩、廉びにその與造方法に６（１する
。
この発明は唱に、Ｒ１が、場合によってはヒドロ片シ、
低級アルコキシ、例えばメトキシ、カルブキシ−低級ア
ルコキシ、例えはカルがキシメトキシ、ヌルホー低級ア
ルコキシ、例えば２−スルホエトキシ、ジー低級アルキ
ルアミノ−低級アルコキシ、例、（ｉｌｆ２−ジ−メチ
ルアミノエトキシ、ハロゲン、例えば弗素又は塩素、低
級アルカノイル、例えばバレロイル、低級アルキル、例
えばメチル、ハロー低級アルキル、例えば）　ｌ）　７
　ル、ｊ−ｔ’メチル、カルボキシ、アミノ、ジー低級
アルキルアミノ、例スはジメチルアミノ、４−低アルキ
ルピイラジノ、例えば４−メチルピペラジノ、低級アル
カノイルアミノ例えばア七チルアミノ及び／　　　　′
又はカルブキシ−低級アルカノイルアミノ、例えばサク
シニルアミノにより置換てれているフェニル；ピリジル
、例えば２−又け３−ピリジル；ヌは、チェニル、例え
ば２−チェニルであり；Ｒ２が場合によってけヒドロキ
シ、低級アルコキシ、例えばメトキシ、カルボキシ−低
級アルコキシ、例えばカルがキシメトキシ、ノ・ロダン
、例えば弗素又は塩素、ハロー低級アルキル、例えばト
リフルオロメチル、カルボキシ、及び／又はジー低級ア
ルキルアミノ、例えばジメチルアミノにより置換されて
いるフェニル；低級アルキル、例えばメチル；フェニル
低級アルキル、ｆｌ＃−Ｊ’ベンジル；ハロー低級アル
キル、例えばトリフルオロメチル；カルボキシ−低級ア
ルキル、例えばカルボキシメチル；低級アルコキシカル
がニルー低級アルキル、例メはエトキシカルボニルメチ
ル；ジー低級アルキルアミノ−低級アルキル、例えばジ
メチルアミノメチル、２−ジメチルアミノメチル、又は
メチル−イソプロピルアミノメチル：（（ｌアルキル化
されている場合がある窒素原子、又は酸累原子もしくは
硫黄原子により中断さｉｌている）低級アルキレンアミ
ノによりｇ抄されている低級アルキル、例λはピロリジ
ノメチル又はモルホリノメチル；ヒドロキシ又は低級ア
ルコキシ、例えばメトキシにより横挽さｔ］たベンゾイ
ル；カルゼキシ；峡緊原子数９個以下のアルコキシカル
ブニル、例ヌはメトキシカルがニル、イソプロ式キシカ
ルがニル又はｎ−オクチルオキシカルボニル；又はジー
低級アルキルアミノスルホニル、例えばジメチルアミノ
メルホニルであり；Ａが、各りが２〜４個の炭素原子が
硫黄原子を分離している低級アルキレン又は低級ブルケ
ニレン、例えばエチレン、１．３−プロピレンもしくけ
１．４−ブチレン（これらは場合によってはオキソ又は
ヒドロキシにより愕換寧れている）、又はビニレンであ
り；そしてｎが０又け１であり；あるいは又Ｒ４が低級
アルコキシ、例えばメトキシによりジー置換これている
フェニルであり、Ｒ２が水素であり、イしてＡ及びｎが
上記の意味を有し、さらＫＲｌ及びＲ２が同一であって
、４−位においてヒドロキシ又は低級アルコキシによジ
置換されているフェニル基であシ、そしてｎがＯの場合
は、Ａが１．３−プロピレン、２−メチル−１，３−プ
ロピレン又はオキサリル以外であり、Ｒ１がフェニルで
あり、Ｒ２がメチル又はｔ＠ｒｔ−ブチルであや、セし
てれが（）の場合は、Ａが１．３−ゾロピレン以外であ
ることを条件とする式（１）の化合物、及び塩形成基を
有するこの化合物の医薬として許容さハる塩、並びにそ
の製造方法に関する。
この発明は特に、Ｒ１か、ハロゲンにより、例えば弗素
によシ、又はハロー低級アルキルによシ、例えばトリフ
ルオロメチルにより置換されているフェニル；又はピリ
ジル、例えは２−ピリジルであり；Ｒ２が場合によって
はハロゲン、例えば弗素により置換はれたフェニル；低
級アルキル、例えはメチル；フェニル低級アルキル、例
ｆｔｆベンジル；低級アルコキシにより、例えばメトキ
シにより４換でれたベンゾイル；又は、炭ｙ；原子数９
個以下のアルコキシカルブニル、ｆｔ１ｆハイソグロポ
キシ力ルゲニル又はｎ−オクチルオキシカルボニルであ
り；Ａが、各ｋが２〜４個の炭素原子により硫黄原子を
分離している低級アルキレン又は低級アルケニレン、例
えばエチレン、１，３−プロピレン、Ｊ、４−ブチレン
又はビニレンであす；子してｎがＯであり；あるいは又
、Ｒ１がフェニルであり、Ｒ２がジー低級アルキルアミ
ノ、例えばジメチルアミノによフ置換されたフエ；２ル
であり、子してＡ及びｎが上記の意味を有し；あるいは
又、Ｒ５が低級アルコキシにより、例えばメトキシに」
：り詔換ジねたフェニルであ勺、Ｒ２が水素であり、干
してＡ及びｎが上記の意味を有する式（ｒ）の化合物、
及び塩形成基を有するこの化合物の医薬として許容きれ
る塩、並びにその製造方法に関する。
この発明の化合物に、それ自体公知の方法に従って製造
することができる。
式（Ｉ）の化合物、及び塩形成基金有するこの化合物の
塩は、例えば次のようにして製造することができる。
（、）次の式（Ｕ）、 （式中、Ｒ５は除去される基であり、Ｍ、Ｆｉ金属基で
あり、そしてＡ及びｎは式（１）において記載した意味
？有する、） で表わされる化合物を、次の式（ト）、Ｒ，−Ｃ（−０
）　−Ｒ２側 （式中、Ｒ１及びＲ２は式（１）　において記載した意
味を有する、） て表わきれる化合物と反応せしめ；又は（ｂ）　　ｎが
０である式（Ｉ）の化合物ｔｔシ造するために、次の式
（ＩＶ）、 （式中、Ｍ２Ｏ−Ｉ金属基でｔ）す、そしてＲ，及びＲ
２は式（１）ＶＣおいて記した意味を有する、）で表わ
場れる化合物を、基Ａを誘導し得る試薬と反応せしめ；
又は ｘ３ｘ’。
（式中、Ｘ、及びに３の一方は除去される基でらり、他
方は水素であり、そしてＲ，、Ｒ−２、八及びｎは式（
１）ＶＣおいて記した意味金石する、）で表わされる化
合物を除去剤て処理し；又は（ｄ）　　、が０である式
（１＋）の化合物′ｆ：和造する／ヒめに、次の式（Ｖ
ｌ　）、 Ｒ１１２Ｃ−Ｒ６（Ｖｌ） で表わ寧ネる化合物を、次の式（Ｖｌｌ）、（式中、Ｒ
及びＲ７の一方はホヌホルアニリデン基であり、他方は
酸素又は硫黄でを）シ、そしてＲ，、Ｒ２及びＡは式（
１）において配船した蒼味全有する、） で表わされる化合物で処理し；又け （、）　　ｎが０である式（Ｉ）の化合物を與造するた
めに、次の式（Ｖｌｆｆ）、 （式中、Ｘ４け轡能的に変形でれたヒドロキシ基又はエ
ーテル化きれたメルカプト基でおり、Ｙ。
＃′ｉＲ２であり、そしてＹ２は榛能的ＩＬ変形された
ヒドロキシ基又は二置換アミノ基であり；あるいＩ／ｉ
Ｙ、及びＹ２は一緒に炭素−炭素結合を表わし、ナして
Ｘ４は権能的に変形したヒドロキシ蕪であり、そしてＩ
ｔ、及びＲ２は伏（１）において記した意味金石する、
） で散・わされる化合物を、次の式（ＩＸ）、Ｈ８−Ａ　
−ＳＨ（ＩＸ） （式中、Ａは式（１）において記した意味を有する、）
で表わさＪするジチオール化合物と反応せしめ；又は （ｆ）　　ｎがＯである式（１）の化合物全製造するた
めに、次の式ω、 １ ＼ ２ （式中、Ｒ１及びＲ２は式（Ｉ）において記した意味を
有する、） で表わさハるニトリルを、次の式（ＩＸ）、ｕｓ−Ａ−
ｓＨＯＸ） （式中、Ａ１１式（１）において記した意味金石する、
）で表わネれる化合物と反応せしめ；又け（ｇ）　　ｎ
が０である式（１）の化合物全製造するために、次の式
（ＸＩ）、 （式中、八は式（１）において記した意味を有する、）
で表わされるモノチオカルポネートヲ、次の式（） （式中、Ｒ１及びＲ２け式（１）において記載した意味
を有する、） で表わされるチオアミドと反応せしめ；又は、（ｈ）　
　次の式（ＸＩ［Ｉ）、 であＪ、Ｘ”ｉｌｔ陰イオンであシ、そしてＡけ式０）
においてｒ［；シた湾味全不する、） で表わ寧ｉするカルペニウム塩を、次の式（ｆＶｅ）、
Ｒ，−（Ｊｌ、、−Ｒ２（ｆＶｅ） （式中、Ｒ４及びＲ２ｕ式（１）において記Ｐした意味
を有する、） で表わツカるメチレン化合物と反応せしめ；又は、（１
）　　ｎが０である式（１）の化合物を製造するために
、次の式（ＸＩＶ）、 ４ （式中、２は環化により基Ａに転換される基でまり、そ
してＲ４、Ｒ２及びＡは式（Ｉ）において記した意味を
有する、） で表わされる化合物を珍化し；又は、 （ｊ）ｎが０である式（１）の化合物を製造するために
、次の式（ＸＶ） （式中、Ｒ５、Ｒ２及びＡけ式（■）において記した意
味を有する、） で表わされる化合物を脱水草創で処理し；又は、伽）　
ｎが０である式（１）の化合物を製造するために、次の
式（ＸＶＩ）％ Ｒ１、 ：／ｃＨ−ｃｏｎ、　　　　（ＸＶＩ）２ （式中、Ｒｇけエーテル化きれたヒドロキシ基であり、
ナしてＲ１及びＲ２は式（１）において記した意味を有
する、） で表わされる化合物を、次の式＜　ｘｖｎ　）、ＡＣ−
ｇ−Ａｔ（Ｒ１゜）２〕２　　α■）（式中、Ｒ５゜け
低級アルキル基であり、そして八は式（Ｉ）において記
した意味１有する、）で表わされるアルミニウム化合物
で処理し；又け、（４Ｒ２が場合によっては置換されて
おり少なくとも１個のべ一水軍原子全有する炭化水素基
でありｎ−Ｊ及びＡが式（Ｔ）において記した意味を有
する弐０）の化合物を製造するために、次の式（８、（
式中、Ｒ′２け場合によっては置換づれているヒドロカ
ルビリデン基である、） で表わさ第１る化合物を異性化し；又は、←）　　Ｒ２
一式Ｒ３−Ｃ（＝Ｓ）−のチオアシル基、又は式Ｒ３−
Ｃ（−ＮＲ４）−のイミノアシル（式中、Ｒ５け水ｚ、
低級アルキル、フェニル又はフェニル−低級アルキルで
あり、そしてＲ４け低級アルキル、フェニル又はフェニ
ル−低級アルキルである。）、又は場合によっては低級
アルキルによ多置換されたチオカルバモイル基であり、
Ａが置換エチレン基又は置換ビご、レン基であり、ｎが
０であり、そしでＲ４か式（１）において記載した意味
を有する式（ｉ）の化合物音Ｖ：；造するために、次の
式（ＸＩＸ）。
以下余白 （式中、Ｒ１１はＲ３と同じ意味であり、又は場合によ
っては低級アルキルにより千ノーもしくけジー置換され
たも（、〈は低級アルキレンにより傷゛換されたアミン
基、又はメルカプト基であり、そしてＸ８は硫黄原子、
又は場合によっては低級アルキルにより置換されたイミ
ノ基である、）で表わされる化合物を、基Ａを誘導する
ことができる二価アルキル化剤で処理し；又は、（ｎ）
　　Ｒ２が水軍であり、ｎがＯであシ、そしてＡ及びＲ
１が式（１）Ｋお・いて記した意味を有する式（１）の
化合物ｖｉｌ−與造するために、次の式（ＸＸ）、（式
中、ｚ７けホヌホニウム基である、）で表わされる化合
物全加水分解剤で処理し；又は、（ｏ）　　Ｒ２が水１
、場合によっては置換された炭化水素基、アルール又は
ヘテロアリールであり、Ａか式−ＣＯｔ　１）＝Ｃ（Ｒ
２）−の二価基であり、ｎが０であり、イーし２てＲ１
が式（Ｄにおいて記した意味を有する式（Ｔ）の化合物
を瑯造するために、次の式（ＸＸＩ）、 ２ （式中、Ｒ４及びＲ２は相互交換することかできる、） て表わさｉするチアジアゾールから窒素を脱離し；又は
、 （ｐ）Ａ／・式−Ｃ（丁（、、Ｒ２）−Ｃｏ−のオキソ
エチレンであり、ｎがＯでありそしてＲ１及びＲ２が式
（１）（でおいて記した意味を有する式（Ｔ）の化合物
を製造するために、次の式（ＸＸＩｌ）、 Ｒ，−Ｃ（＝Ｏ）−Ｃ（＝Ｎ２）−Ｒ２、（ＸＸＩＩ）
（式中、Ｒ及びＲ２は相方交換し得る）（ｑ）　　ｎが
Ｏである式（１）の化合物全製造するために、次の式（
ＸＸＩＩｒ　）、 （式中、Ｒ１、Ｒ２及びＡは式０）において記した意味
金石する、） で表わされる化合物を脱硫剤で処理し；出発物質（式■
〜ＸＸｉ［Ｉ　）中の官能基ｆｆ１Ｎｉ望により保護し
、そして得られた式（１）の化合物中に存在する保護さ
れた官能基金遊離官能基に転化し、そして所望により、
得られた式■の化合物奮式（１）の他の化合物に転化し
、そして／又は、ｎｒ望によジ、得られた基金遊離化合
物に又は他の塩に転化し、ナして／又は、所望により、
得られた式（１）の塩形成基を有する遊離化合物金塩に
転化し、そして又は所望により、得られた式（１）の異
性体化合物全個々の異性体に分離する。
方法（、） 式■の化合物において、離脱基Ｒ５は、たとえば、有機
シリルまたはスタンニル基またはホウ素エステル基であ
る。有機シリル基Ｒ５ｔｊ：ことに三置換有機シリル基
であり、この基においてケイ素原子は置換基として好ま
しくは低級アルキル、たとえばメチル、エチルまたはｔ
ｅｒｔ−ブチル、アリール、たとえばフェニル、まだは
アリール−低級アルキル、たとえばベンジルを含有する
。対応するシリル基は、ことにトリー低級アルキルシリ
ル、たとえば、トリメチルシリル、またはトリアリール
シリル、たとえばトリフェニルシリルである。
有機スタンニル基Ｒ５はことにトリー低級アルキルスタ
ンニル＝％　、ｒｃ　トｊ（Ｌｔｆ、　）　’Ｊエチル
スタンニル、）　ＩＪ　−ｎ−ブチルスタンニルまだは
好ましくはトリメチルスタンニルである。ホウ素エステ
ル基Ｒ５は次の式 ％式％ （式中Ｚ′およびＺ“は同一まだは異なる低級アルキル
基、たとえばメチル、エチル、イソプロピルまだはイソ
ブチルであるか、あるいバー緒になって低級アルキレン
基、たとえばエチレン、１，３−プロピレンｔ７’ｃは
２．２−ジメチル−１，３−ゾロピレンを表わす、）の
環式または非環式のエステル基である。適当な金属基Ｍ
、は、ことにアルカリ金属基、好ましくはリチウムであ
る。
式（Ｉｔ）および（ＩＩＩ）の化合物の反応は、常法に
おいて、有利には不活性溶媒、たとえばエーテル、たト
エハジエチルエーテル、テトラヒドロフランまタハジメ
トキシエタン中で、あるいは炭化水素、たとえばヘキサ
ノまたベンゼン、またはそれらの混合物中で、室温にお
いて、あるいはそれよυ低い温度または高い温度、たと
えば−８０℃〜約６０℃において、必要に応じて、不活
性雰囲気、たとえば窒素雰囲気のもとで実施する。
この方法の好ましい実施態様は、とぐに、Ｒ５がトリメ
チルシリルであシ、かつＭ、がリチウムを表わす式（ｎ
）の化合物と式（ｍ）の芽キソ化合物との反応である。
式（ロ）および（１）の出発物質目゛、既知であシ、あ
るいけ新規である場合、それ自体既知の方法により製造
することができる。
式（ＩＩ）の有機金属化合物は、有利にその場で、たと
えば式 の化合物を、不活性溶媒、好ましくは引き続く反応にお
いて使用する溶媒、たとえばテトラヒドロフラン中で、
低温、たとえば約−２０℃〜約−８０℃において、金属
化剤、たとえば低級アルキルまたはフェニルアルカリ金
属化合物、たとえばｎ−ブチルリチウム、および弐Ｒ５
−Ｃｔ（ｎｂ）のシリル化剤またはスタンニル化剤で処
理することによって、製造される。ホウ素エステル法を
選択した場合、式（ｌ］ａ）の化合物を、たとえば、ト
リメチルプレートで処理し、引き続いて鉱酸、たとえは
塩酸で処理し、次いでエステル化削処理して基２／およ
びＺ〃を導入し、そして式のこのようにして得られた化
合物を、第２当量の金属化剤、たとえばｎ−ブチルリチ
ウムと、直後に反応させる。式（Ｉｔ）の得られる化合
物は、上の方法−）において直接使用できる。
方法（ｂ） 式（ＩＶ）の出発物質において、金属基Ｍ２は、たとえ
ば、式Ｍ杏　　またはＭ：＋／２　（式中Ｍ杏はことに
アルカリ金属陽イオン、たとえばリチウム、ナトリウム
またはカリウムの陽イオンであシ、そしてＭ２　＋７２
はことにアルカリ土類金属陽イオン、たとえばカルシウ
ム陽イオン）である。
基Ａを導入する反応成分は、たとえば式Ｘ、−Ａ−Ｘ、
’　（■ａ）　　（式中Ｘ、およびＸ、′は親核置換に
より置換できる同一または異なる基を表わす）の化合物
、または式Ｘ２−Ａ′−Ｘ２′（■ｂ）（式中Ｘ２およ
びＸ２′はチオール付加反応を受けやすい基であり、そ
し−（チオール付加反応の完了後、基Ａ′と一緒に基を
Ａを形成するか、あるいは基Ｘ２およびＸ２′の一方は
このような基であシ、そして他方は親核置換反応によ多
置換されるととができる基である）の基である。
式（４ｖａ）または（ＩＶｂ）の出発物質において、親
核反応により置換されうる基は、たとえば、反応性エス
テル化ヒドロキシル基、トくにハロダン、ことに塩素、
臭素またはヨウ素、芳香族まだは脂肪族スルホニルオキ
シ、ことにｐ−トルエンスルホニルオキシまたはメタン
スルホニルオキシ、またはアシロキシ、たとえば未置換
のもしくは置換された低級アルカノイルオキシまたはベ
ンゾイルオキシ、ことにアセトキシまたはｌ・リフルオ
ロアセトキシである。それ以外の置換可能な基は第四ア
ンモニウム基、ことにトリー低級アルキルアンモニウム
基、たとｔばトリエチルアンモニウム基、およびスルホ
ニウム法、ことにジー低級アルキルスルホニウム＆’、
ｋとえばジメチルスルホニウム基である。チオール付加
反応を受けやすい基Ｘ２および／またはＸ２１は、たと
えば、オキソ基まだは炭素−炭素の二重結合または三重
結合、ことに電子吸引置換基、たとえばカルブとル基ま
たはシアノ基に隣接するこのような基まだは結合を含有
する。
式（ｆＶｂ）の適当な出発化合物は、なかでも、α。
β−不飽和（オレフィン系またはアセチレン系）カルボ
ニル化合物、α、β−またはｒ−ハロカルブニル化合物
およびアセチレンジカル？ン酸誘導体を包含する。
置換および／または付加は、常法において、不活性溶媒
、たとえば低級アルカノール、たとえばメタノールまだ
はｔｅｒｔ−ペンタノール、エーテル、たとえばジエチ
ルエーテルまたはテトラヒドロフラン、二極性の非プロ
トン溶媒、たとえばジメチルスルホキシドまたはジメチ
ルポルムアミド、水またはそれらの混合物中で、室温に
おいであるいは高温または低温において、たとえば−５
０℃〜約１００℃、ことに２０℃〜約５０℃において実
施例 式（ＩＶ）、（■ａ）および（ＩＶｂ　）の出発物質は
、既知であるか、あるいは新規であるとき、それ自体既
知の方法によシ製造することができる。
式（ＩＶ）のジチオレート化合物は、有利にはその場で
、弐ａ　ｌ　−ＣＨ２−”　２　（Ｆ／　ｃ　）のメチ
レン化合物を、不活性溶媒、ことに上に述べたの１種中
で、２当号の塩基性縮合剤、たとえばアルカリ金属また
はアルカリ土類金属の水素化物、低級アルコキシド、フ
ェノキシト、アミドまたは水酸化物、たとえば水素化ナ
トリウム、ナトリウムメトキシド、ナトリウムｔｅｒｔ
−ｄンタノラート、リチウム２，６−シーｔｅｒｔ−ブ
チル−４−メチル−フェノキシト、ナトリウムアミド、
リチウムジイソプロピルアミド、リチウムジシクロへキ
シルアミドまたは水酸化カリウムおよび二硫化炭素で処
理することによって製造される。式（ＩＶ）の得られる
ジチオレートハ、前述ノＸ　ｓ　−Ａ−Ｘ　、’　（Ｍ
ａ　）ま、たけＸ２−”−Ｘ２′（ＩＶｂ）の化合物で
直接処理できる。
ほかのその場で生成せしめる方法において、不活性溶媒
例えば塩化メチレン又は過剰量の二硫化炭素中に溶かし
た式（■ｅ　）のメチレン化合物、二硫化炭素および式
（ｔＶａ　）または（ｆＶｂ　）の化合物から成る混合
物は、強水性塩基、たとえば５０％の水酸化す）　ＩＪ
ウムで、転相触媒、たとえば塩化テトラブチルアンモニ
ウムの存在下に処理する。あるいは、不活性溶媒中に溶
かした上の混合物をアルカリ金属炭酸塩、たとえば炭酸
カリウムで巨ｉｌｌポリエーテル〔１クラウンエーテル
（ｅｒｏｔｖｎｏｔｈｅｒ）〕の存在下に処理すること
ができる。
方法（ｃ） 式（Ｖ）の出発物質において、離脱基Ｘ３またはＸ３′
は、それぞれ、水素原子Ｘ３′およびＸ３と一緒にβ−
位置におけるα、β−除去を受けやすい基である。この
ような基ｘ３またはＸ５′は、たとえば、ヒドロキシ、
反応性エステル化ヒドロキシ、エーテル化ヒドロキシ、
シアン、エーテル化メルカプトまたは二置換アミノ、さ
らに第四アンモニウム基またはスルホニウム基および普
・通の陰イオン、たとえば無機陰イオン、ことに塩素イ
オンまたは臭素イオンであり、それぞれ窒素原子および
イオウ原子における正電荷を中和するものである。適当
な反応性エステル化ヒドロキシ基、第四アンモニウム基
およびスルホニウム基は、ことに方法（ｂ）において基
Ｘ、、Ｘ　、／、Ｘ２およびＸ２′の定義に関連して前
述したものである。エーテル化ヒドロキシは、たとえば
、脂肪族または芳香脂肪族アルコールでエーテル化され
たヒドロキシ、たとえばメトキシまたはエトキシのよう
な低級アルコキシ、またはベンジルオキシである。エー
テル化メルカプトは、たとえば、脂肪族または芳香脂肪
族基で置換されたメルカプト、たとえば低級アルキルチ
オ、たとえばメチルチオ、エチルチオ、ｎ−プロピルチ
オまたはｎ−ブチルチオ、またはベンジルチオである。
二置換アミンは、たとえば、ジ低級アルキルアミノ、た
とえばジメチルアミノまたはジエチルアミノ、または低
級アルキルチオばノ、たとえばピロリジン−１−イルま
たはピ（リジンである。とくに、Ｘ５またはＸ３′はヒ
ドロキシまたはハロゲノ、たとえば塩素を表わす。
除去剤は、基Ｘ３またはＸ３′をβ−位置における水素
原子と一緒に除去するのを促進する物質、たとえば、水
の除去を促進する物質、式Ｈ−Ｘ、　（式中Ｘ３は、た
とえば、シアノ、反応性エステル化ヒドロキシ、エーテ
ル化メルカプトまたはエーテル化ヒドロキシを表わす）
の化合物、または第三アミン、第三アミンまたは隣接水
素原子と一緒にサルファイドである。水の除去を生ずる
適当な物質は、たとえば、鉱酸、たとえば塩酸、硫酸ま
たはリン酸、アルカリ金属水素硫酸塩、たとえば硫酸水
素カリウム、または強有機酸、とくにｐ−トルエン−ス
ルホン酸である。対応する酸、メルカプタン、アルコー
ルまたは第二アミン、まだは第三アミンまたはサルファ
イドを隣接水素原子と一緒に除去する適当な物質は、た
とえば、有機塩基、たとえば第三アミン、たとえばピリ
ジン、またはトリー低級アルキルアミン、たとえばトリ
エチルアずン、またはアルカリ低級アルコキシド、たと
えばナトリウムエトキシドまたは、とくに、カリウムｔ
ｅｒｔ−ブトキシドである。
除去は常法により実施する。水を除去する場合、式（Ｖ
）の化合物は好ましくは触媒量の除去剤、たとえはｐ−
）ルエンスルホン酸で、不活性溶媒、たとえばハロダン
化炭化水素、たとえばクロロポルムまたは四塩化炭素、
または炭化水素、たとえばヘキサン、ベンゼンまたはト
ルエン中で、室温においであるいは１史用する溶媒の沸
点において、好ましくは生成される水を共沸的に除去し
ながら、処理する。酸、アルコール、メルカプタンまた
ｉｆ第ユニアミンまたは第三アミンまたはβ−位置の水
素原子と一緒にサルファイドを除去するとき、式（Ｖ）
の化合物をモル癒の有機塩基で、不活性溶媒、たとえば
低級アルカノール、たとえばエタノールまたはｔｅｒｔ
−ブタノール、脂肪族エーテル、たとえばテトラヒドロ
フランまたはジエチルエーテル、炭化水素、たとえばベ
ンゼン、またはハロダン化炭化水素、たとえば塩化メチ
レン、またはそれらの混合物中で、室温においてまたは
、必要に応じて、低温または高温において、たとえばＯ
Ｕ〜１２０℃において、有利には２０℃〜６０℃におい
て処理する。
式（Ｖ）の出発物質は既知であるか、あるいは新規の場
合において、それ自体既知の方法によシ製造できる。
Ｘ３がヒドロキシを表わす式（Ｖ）の化合物は、たとえ
ば、式（Ｉｌａ） の化合物を、金鴫化剤、たとえばｎ−ブチルリチウムで
処理し、そして生ずるリチウム塩を式Ｒ，−ｃ’（−ｏ
）−Ｒ２（ＩＩＩ）のカルゲニル化合物で処理すること
によって、得ることができる。
Ｘ３が反応性エステル化ヒドロキシル基を表わす式（Ｖ
）の化合物は、たとえば、対応するヒドロキシ誘導体を
エステル化剤、たとえば、塩化チオニル、三臭化リン、
塩化アセチルまたは塩化メタンスルホニルで、有機塩基
、たとえば前述の塩基の１種の存在下に処理することに
よって製造できる。
２当鮭の塩基を使用するとき、得られるアシル化生成物
はその場で式（１）の対応する化合物に転化される。
Ｘ　がシアン、エーテル化ヒドロキシ、エーテル化メル
カプト、第三アンモニウム基またはスルホニウム基を表
わす式（Ｖ）の化合物は、たとえば、対応するクロロま
だはメタンスルホニルオキシ誘導体をそれぞれシアニド
、アルコール、メルカプタン、第三アミンおよびサルフ
ァイドで処理することにより製造できる。
Ｘ３／が二置換アミノ基を表わす式（Ｖ）の化合物は、
たとえば、式（ＶＢ） （式中、たとえば、Ｒ，およびＲ１は一緒に低級アルキ
レン基を表わす、） のアンモニウム化合物を、弐Ｒ，−ｃｕ２−Ｒ，（ＩＶ
ｅ）の反応性メチレン化合物で、塩基の存在下に処理す
ることによって製造できる。式（Ｖ）の得られた中間体
（Ｘ、’　：　Ｒ，、Ｒ，−二置換アミノ）はその場で
式（１）の化合物に、使用する＠基の過剰量の存在下に
加熱することによって、転化することができる。
方法（ｄ） ホスホラニリデン基は、式＝ｐ（ｚヮｚ２．Ｚ３）（式
中２．．２２およびｚ３は同一または異なる低級アルコ
キシ基、例えばメトキシ、エトキシもしくはｎ−ブトキ
シ、低級アルキル爪、たとえばエチル、ｎ−プロピルも
しくはｎ−ブチル、まだは−　　＋ フェニル基を表わす）または式＝Ｐ（−０Ｍ、）（ｚ４
）（ｚ５）（式中Ｍ５　　は強塩基の陽イオン、たとえ
ばアルカリ金属の陽イオン、たとえばリチウム、ナトリ
ウムまたはカリウムでオシ、そしてｚ４およびｚ５は低
級アルコキシ、たとえばメトキシ、エトキシ、ｎ−ゾロ
Ｉキシまたはｎ−ブトキシおよび／またはフェニル基を
表わす）である。好ましいホスホラニリデン基は、アル
カリ金属イオン、たとえばナトリウムと一緒にジエチル
エーテルである。
この反応は、ウィツテイヒ（ｗ＋ｔｔｔｇ）縮合反応に
適当であることが知られている方法で、不活性溶媒、た
とえば、炭化水素、たとえばヘキサンもしくはトルエン
、ハロダン化炭化水累、たとえば１篇化メチレン、エー
テル、たとえばジエチルエーテルもしくはテトラヒドロ
フラン、ジメチルホルムアミド、まだは低級アルカノー
ル、たとえばメタノール、まだＵ、それらの混合物の存
在下に、反応成分の反応性および反応するホスホニウム
化合物の選択に依存して、約−８０℃〜約１３０℃の温
度範囲において、必要に応じて、不活性気体雰囲気、た
とえばアルゴンまだは窒素室囲気中で実施する。
対応するトリー低級アルコキシホスホラニリデン化合物
を除外して、式（Ｖｌ）または（■）のホスホラニリデ
ン化合物は、好ましくはその場で、弐以下余白 （Ｒ，、ｇ２）ｃｕ−ｙ５（■ａ）または陰イオン、た
とえば塩素または臭素の陰イオンである、） のホスホラン類から出発して製造される。適当な塩基性
反応成分で処理すると、式（■ａ）および（■ａ）の化
合物は、それぞれ式（■）および（■）のホスホラニリ
デン化合物に転化される。適当な塩基性反応成分は、た
とえば、アルカリ炭酸塩まだはアルカリ水酸化物、たと
えば炭酸す）　ＩＪウムまたは水酸化カリウム、アルカ
リ低級アルコキシド、たとえばカリウムｔａｒｔ−ブト
キシド、アルカリ金属水素化物、たとえば水素化ナトリ
ウム、金楕化炭化水素またはアミン、たとえばブチルリ
チウム、フェニルリチウムまたはナトリウムアミド、ま
たｆ′ｉ第三アミン、たとえばトリー低級アルキルアミ
ンまたはアミジン型の環式塩基、たとえばトリエチルア
ｉンまたは１．５−ジアザビシクロ［５，４，（＋）ウ
ンデク−５−エンである。転化は、前述の引き続くウィ
ツテイヒ縮合反応と同じ反応媒質中で実施する。
上の好ましい実癩怨椋において、開用する出発■　○ 物質はＹ３が式−Ｐ（−〇）（ＯＣ２■（５）２である
式（■ａ）　４たは（■ａ）の化合物であり、この出発
物質を不活性溶媒、たとえば前述のエーテルまたは炭化
水素の１種中において、強塩基、たとえばブチリチウム
まだは水酸化ナトリウムで、低温、たとえばほぼ−８０
℃〜−２０℃において処理し、引き続いて、中間ホスホ
ラニリデン化合物を単離せずに、式 ％式％ （式中Ｙ４は酸素まだはイオウである、）のオキソまた
はチオキソ化合物で処理する。
ホスホラニリデン化合物の先行する生成の必要性を回避
しかつ非常におだやかな条件下で実施できる別の方法は
、式（■ａ）または（■ａ）　（式中、■　Ｏ たとえば、Ｙ３は式−Ｐ　　（−０）（ＱＣ，、Ｈ５）
２の基である）の出発物質を適当なオキソまたはチオキ
ソ化合物で室温においで、有機水不混和性溶媒、たとえ
ば塩化メチレンと、塩基の水溶液、たとえば、通常の転
相触媒、たとえば塩化トリエチルベンジルアンモニウム
を含有する、水酸化ナトリウムの水溶液とから成る２相
系を用いて、処理することからなる。
ほかのワン・ｙＪ”、）法において、式Ｘ、−Ａ−Ｘ、
’（ｌＶａ）またはＸ２−Ａ’−Ｘ２’　（ｉＶｂ）　
［式中Ｘ　＋　ｒＸ、’　ｒＸ２　ｒＸ２′、Ａおよび
Ａ′は上に定義した（方法ｂ）とおりである〕の化合物
を、不活性溶媒、たとえばジエチルエーテル中の弐ＲＩ
　ＣＨＯ（■ｅ）のアルデヒド、二硫化炭素およびトリ
ー低級アルキルホスフィンから成る混合物へ、好ましく
は低温、たとえば−５０℃〜０℃の温度において加えて
、Ｒ２が水素である式（１）の化合物を生成せしめる。
式（Ｖｌ）および（■）の出発物質は既知であるが、あ
るいけ新規であるとき、それ自体既知の方法で製造でき
る。
式（■ａ）および（■ＩＬ）の化合物は、たとえば、対
応するハライド（Ｙ３はハロダンを表わす）を式ｐ（ｚ
、　、ｚ２．ｚ３）　ｏ三直侯ホスフィンで処理するこ
とによ＃）製造できる。
Ｒ６（またはＲ７）がトリー低級アルコキシホスホラニ
リデン基である式（■）（または■）の化合物は、たと
えば、式（Ｗｂ）または（■ｂ）の化合物を過剰端のト
リー低級アルコキシホスフィンで処理することにより製
造できる。
以下余白 方法（ｅ） 官能的に変性されたヒドロキシ基Ｘ４および／またはＹ
２は、エーテル化またはエステル化ヒドロキシ基である
。エーテル化ヒドロキシ基は、たとえば、ハロゲンおよ
び／またはニトロで置換されていてもよいフェノキシ基
、たとえば、フェノキシまたは４−ニトロフェノキシ、
またはことに低級７　／ｌ／　：ｌ　キシ、たとえばメ
トキシ、エトキシ’！ｆｃハｎ−ブトキシである。エス
テル化ヒドロキシはとくにハロダン、たとえば塩素また
は臭素、または脂肪族または芳香族のスルホニルオキシ
、たとえば、メタンスルホニルオキシ、ベンゼンスルホ
ニルオキシまたはｐ−）ルエンスルポニルオキシである
。ほかのエステル化ヒドロキシ基は、低級アルカノイル
オキシ基、たとえばアセトキシまたはベンジルオキシで
ある。エーテル化メルカプト基は、たとえば、低級アル
キルチオ、たとえばメチルチオ、エチルチオ、インゾロ
ビルチオまたはｎ−ブチルチオ、フェニル−低級アルキ
ルチオ、たとえばベンジルチオまたはフェニルチオであ
る。
二置換アミン基は低級アルキルによシニ置換されたアミ
ン基、たとえばジメチルアミノまたはジエチルアミン、
低級アルキレン、たとえばピロリジン−１−イルまたは
ピペリジノ、またはオキサ−またはチアー低級アルキレ
ン、たとえばモルホリノまたはチオ−モルホリノである
。
この反応は、常法において、たとえば２成分を、適当な
溶媒、たとえば低級アルカノール、たとえばメタノール
、エーテル、たとえばジエチルエーテル、炭化水素、た
とえばベンゼン、ハロゲン化炭化水素、たとえば塩化メ
チレン、ジメチルスルホキシドまたはそれらの混合物中
で、触媒剤、た−とえは触媒量の塩化水素の存在下に、
あるいは塩基、たとえば、アルカリ金属水酸化物、たと
えば、水酸化カリウム、アルカリ炭酸塩、たとえば炭酸
カリウム、アルカリ低級アルコキシド、たとえばナトリ
ウムエキシトまたはカリウムｔｅｒｔ−ブトキシド、ま
たは第三アミン、たとえばトリエチルアミンの存在下に
、必要に応じて冷却または加熱しながら、たとえば約−
２０℃〜約＋１２０℃の温度において、および／または
不活性雰囲気、たとえば窒素雰囲気中で実施する。
式（■）および（ＩＫ）の出発物質は既知であるが、あ
るいは新規であるとき、それ自体既知の方法で合成でき
る。
たとえば、ｘ４およびＹ２の両者が官能的に変性された
ヒドロキシ基であシかっＹ、が基Ｒ２である式（■）の
化合物は、式 Ｃ／、Ｈ の化合物を塩基性剤で処理することによって製造できる
。
Ｒ２が水素を表わす式（■ａ）の化合物は、塩基性剤で
さらに処理して、Ｙ、およびＹ２が一緒に炭素−炭素結
合を表わしがっＸ４が官能的に変性されたヒドロキシを
表わす、式（■）の化合物を生成させることができる。
Ｘ４がエーテル化されたメルカプト基であシがっＹ２が
二置換アミノ基であシかっＹｌが基Ｒ２である、式（■
）の化合物は、有利にはその場で、たとえば、式 のＳ−メチル−スルホニウム塩を塩基、たとえば、炭酸
カリウムで処理することによυ製造される。
方法（ｆ） この反応は、常法で、アンモニアを切シ離す条件下に、
好ましくは高温において、たとえば約り０℃〜約２００
℃、ことに約り３０℃〜約１８０℃、好ましくは触媒量
の塩基性縮合剤、たとえばピリジンまたは第三アミン、
ことに脂肪族第三アミン、たとえばトリエチルアミン、
トリーｎ−プロピルアミンまたはトリーｎ−ブチルアミ
ンの存在下に、相当に高沸点を有する不活性溶媒、たと
えばエーテル、たとえばジフェニルエーテルまたはジ−
ｎ−ブチルエーテル、または炭化水素、たとえばトルエ
ン、キシレンまたはデカリン中で、あるいはことに溶媒
を加えないで式（Ｘ）のニトリルを式（ＤＯのジチオー
ルとともに塩基性縮合剤の存在下に１必要に応じて不活
性ガス、たとえば窒素のもとに直接加熱することにょシ
、実施する。
方法（ｇ） 縮合は、常法において、二酸化炭素およびアンモニアを
切ル離す条件下に、好ましくは高温において、たとえば
１００℃〜２５０℃、ことに１３０〜１７０℃において
、不活性溶媒、たとえば前述（方法ｆ）の溶媒の１種中
で、あるいは好ましくは溶媒を添加せずに、必要に応じ
て不活性気体の雰囲気、たとえば窒素雰囲気のもとに実
施する。
式（ＸＩ）および（Ｘｌｌ）の出発物質は既知であるが
あるいは、新規である場合、それ自体既知の方法で製造
できる。
式（ＸＩ）のモノチオカーゼネートは、たとえば、弐Ｈ
Ｏ−Ａ−８Ｈ□（ａ　）の化合物を二、ケルテトラカル
ゲルニルで酸素の存在下にカルゲニル化するか、あるい
は化合物（膓）をホスゲンと反応させることによって、
得ることができる。
以下余白 方法（ｈ） エーテル化メルカグト基Ｒ８は、たとえば置換されてい
てもよい低級アルキルチオ基またはアリールチオ基であ
る。置換されていてもよい低級アルキルチオ基Ｒ８は、
たとえば、低級アルキル、ｔｆｃはフェニルで置換され
た低級アルキルを表わし、そしてことに低級アルキル、
たとえばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソゾロビル
、ｎ−ブチル。
イソブチルもしくはＩＩｅＣ−ブチル、またはフェニル
−低級アルキル、たとえばベンジルである。アリールチ
オ基は、たとえば、フェニルチオである。
陰イオン魁は陰イオン、たとえば、無機酸または有機酸
の１価の陰イオン、たとえば、ノ・ログンのイオン、た
とえば塩素イオン、臭素イオンまたはヨウ素イオン、過
塩素酸イオン、低級アルキル硫酸イオン、たとえばメチ
ル硫酸イオン、置換または非置換の低級アルカンスルホ
ン酸イオン、たとえばメタンスルホン酸イオン、置換ま
たは非置換のベンゼンスルホン酸イオン、たとえばｐ−
）ルエンスルホン酸イオン、またはテトラフルオロホウ
酸イオンである。
縮合反応は、常法において、すなわち、弐〇Ｖｅ）の出
発化合物をその陰イオンに変える適当な塩基、たとえば
アルカリ金属水素化物、たとえば水素化す）　ＩＪウム
、アルカリ金属水酸化物、たとえば水酸化カリウム、ア
ルカリ金属低級アルコキシド、たとえばナトリウムエト
キ４シトまたはカリウムｔａｒｔ−ブトキシドζまたは
アミン、たとえばピリジンの存在下に１不活性溶媒、た
とえばエーテル、たとえばエタノールまたはｔａｒｔ−
ブタノール、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
シド中であるいは、ピリジンを塩基として使用する場合
、例えば酢酸中で実施する。この反応は室温においであ
るいは低温または高温において、たとえば０℃〜８０℃
または使用する溶媒の沸点付近において、必要に応じて
不活性気体雰囲気、たとえば窒素雰囲気中で実施するこ
とができる。
式（Ｘ［Ｉｌ）の出発物質は既知であるかあるいは、新
規である場合、それ自体既知の方法で製造することがで
きる。
式（ＸＩ）のカルペニウム化合物は、たとえば、式ご のトリチオカーボネートをエーテル化剤、たとえばヨウ
化メチルまたはジメチル硫酸で処理することによシ製造
することができる。生ずるカルベニラム塩の陰イオン、
たとえばヨウ素イオンまたはメチル硫酸イオンは、他の
陰イオン、たとえば過塩素酸イオンと置換して、よシ安
定な結晶質の塩を得ることができる。式（Ｘｌｌｌ）の
カルベニラム塩は、同様に単離または精製せずに使用で
きる。
方法（１） 環化により基Ａに転化される基２は、たとえば、式−Ａ
’−Ｘ６の基であり、式中Ｘ６は親核置換によジ置換さ
れうる置換基であり、そしてＡＩはＡと同義であるか、
あるいはＸ６はチオール付加反応を受けやすくかつ、チ
オール付加が行われた後、基ＡＩと一緒に基Ａを形成す
る基である。こうして、第２の場合において、ＡＩは、
たとえば、４個までの炭素原子を有する低級アルキレン
基であシ、この基は１−位置がチオ基で置換され、ω−
位置がＸ６で置換されておりかつさらにＡの定義におい
て詳述したように置換されていてもよい。
式（ｘＩｖ）の出発物質において、親核置換にょ〕置換
されることができ、あるいはチオール付加反応を受けや
すい基Ｘ６は、ことに方法（ｆ）における基Ｘ、　、Ｘ
’、　、Ｘ２によヒＸ′２の定義において述べたもので
ある。
この環化け、常法において、不活性溶媒、たとえば低級
アルカノール、たとえば、エーテル、たとえばジエチル
エーテル、ジメチルホルムアミド。
水、またはそれらの混合物中で、必要に応じて塩基、た
とえばアルカリ金属水酸化物、たとえば水酸化カリウム
、金属水素化物、たとえば水素化す）　！Ｊ　ウムｒア
ルカリ金属低級アルコキシド、たとえばナトリウムエト
キシドまたはカリウムｔｅｒｔ　−ブトキシド、金属ア
ミド、たとえばリチウムアミド、ナトリウムアミドまた
はリチウムジイソゾロビルアミド、または第三アミン、
たとえばピリジンまたはトリエチルアミンの存在下に、
室温においであるいは高温または低温において、たとえ
ばｆｉｔ’ｓ’−２０℃〜に１＃’！＋１ｏ　ｏ℃の温
度範囲臼、ことに０℃〜５０℃において、あるいは別法
として溶媒の不存在下に、高温、たとえば１００℃〜１
５０℃において、あるいはことに出発物質の沸点におい
て減圧下に、たとえば水流ポンプの減圧下に実施する。
式（Ｘ１ｖ）の出発化合物は既知であるかあるいは、新
規である場合、それ自体既知の方法において、たとえば
、式 のジチオカルホン酸を、式ｚ−ｘ、　（ＸＩＶｂ）　（
式中Ｘ７ハ反応性エステル化ヒドロキシ基、たとえば臭
素である）のアルキル化剤で、塩基の存在下にエステル
化することによって製造することができる。
方法（ｊ） 脱水素反応は、常法において、脱水・素剤を使用して、
室温においであるいは高温または低温において、たとえ
ばほぼ−７０℃〜はぼ２００℃の温度範囲において、不
活性溶媒、たとえばエーテル、たとえばジエチルエーテ
ル、ジフェニルエーテルまたはテトラヒドロフラン、低
級アルカノール、たとえばメタノールまたはｔｅｒｔ−
ブタノール、炭化水素、たとえばヘキサンまたはキシレ
ン、またはハロダン化炭化水素、たとえばクロロベンゼ
ン中で、必要に応じて、塩基、たとえば金属化炭化水素
、たとえばブチルリチウム、アルカリアルコキシド、た
とえばナトリウムメトキシドまたはカリウムｔｅｒｔ−
ブトキシド、またはアルカリ水酸化物、たとえば水酸化
カリウムの存在下に、必要に応じて圧力下に閉じた容器
内でかっ、必要に応じて、不活性ガス、たとえば窒素の
もとに実施する。
適当な脱水素剤は、たとえば、遷移金属触媒、たとえば
■亜族の金属を含有する触媒、ことに白金−トリフェニ
ルホスフィンクロライドであシ、触媒は必要に応じて適
当な担体、炭素、酸化アルミニウムまたは二酸化ケイ素
に担持されている。これ以外の脱水素剤は、たとえば、
キノン、たとえばｐ−ベンゾキノン、たとえばテトラク
ロロ−ｐ−ベンゾキノンまたは２，３−ジクロロ−４，
５−シソアノ−ｐ−ベンゾキノン、またはフェナントレ
ン−９，１０−キノン、Ｎ−ハロゲン化スルポンアミド
、たとえばＮ−ハロダン化芳香族スルホンアミド、たと
えばクロラミン−Ｔ１または有機低原子価のイオウまた
はセレンの化合物、たとえばジスルフィド、たとえばジ
ンエニルジサルファイド、　２　、２’−ジピリジルジ
サルファイドまたＲ２，２’−ジチオ−ビス（ベンゾチ
アソール）、ｊたはセレン酸またはその誘導体、たとえ
ば無水ベンゼンセレン酸テアル。
好ましい脱水素剤は前述のジスルフィドであシ、低温た
とえば一７０℃〜−１０℃においてテトラヒドロフラン
またはヘキサン中で、強塩基、たとえばブチルリチウム
の存在下にかつ窒素雰囲気中で使用される。他の好まし
い脱水素剤はクロラミン−Ｔである。この脱水素剤を使
用するとき、反応は好ましくは２工程において実施する
。まず、式（ＸＶ）の出発物質をクロラミン−Ｔと低級
アルカノール、たとえばメタノール中でｏ℃〜２０℃の
温度範囲において反応させ、次いで式（式中、Ｔｏｓは
ｐ−）ルエンスルポニル（″シル）基を表わす。） の生ずるＳ−）シルイミノ化合物を、塩基、たとえばア
ルカリ水酸化物、たとえば水酸化カリウムで、低級アル
カノール、たとえばｔｅｒｔ−ブタノール中で室温にお
いて処理する。
式（ＸＶ）の出発物質は、それ自体既知の方法において
、たとえば式 のアルデヒドを、式Ｈ８−Ａ−８Ｈ（■）のジチオール
で処理することＫよル製造することができる。
方法（ｋ） 式（ｘ■）の出発化合物において、エーテル化ヒドロキ
シ基Ｒ７はことに低級アルコキシ基またはフェニル−低
級アルコキシ基、たとえはメトキシ、エトキシ、ｎ−プ
ロポキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブトキシ、インブトキ
シ、５ｅａ−ブトキシまたはＲンジルオキシである。
式（Ｘ■）の出発化合物において、低級アルキル基Ｒ４
゜は、たとえ目、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−
ブチルまたはｔｅｒｔ−ブチルである。
この反応は、常法において、不活性溶媒、たとえは炭化
水素、たとえばヘキサン、Δンゼンまたはトルエン、エ
ーテル、たとえばジエチルエーテル、ジオキサンまたは
テトラヒドロフラン、またはハロケ゛ン化炭化水素、た
とえは塩化メチレンまたは四環化炭素、またはそれらの
混合物中で、有利には湿気を排除して、不活性ガス、た
とえはアルゴンまたは窒素のもとに、常温または適度に
低温、たとえは−２０℃〜２５℃において実施する。
出発物質は既知であるかあるいは、新規である場合、そ
れ自体既知の方法において製造することができる。
たとえば、式（Ｘ■）の化合物は有利にはその場で、た
とえけ式）１ｓ−Ａ−８Ｈ（ＤＯのジチオールを２当量
のトリメチルアルミニウムと反応させることによって製
造される。
方法（１） 置換されていてもよいヒドロカルビリデンｆＲ’２は、
α炭素原子に少なくとも１つの水素原子をもつ置換され
ていてもよい炭化水軍基Ｒ２から銹導され、このα炭素
原子は隣接炭素原子と一緒にＣ（Ｒ１）−二重結合を形
成する・ 異性化反応は、常法において、たとえば式（ＸＭＩＩ）
の化合物を適当な異性化剤で、不活性溶媒、たとえば低
級アルカノール、たとえはエタノールまたはｔｅｒｔ−
ブタノール、エーテル、たとえけジメトキシエタンまた
はテトラヒドロフラン、アミド、たとえはジメチルホル
ムアミド、またｄアセトニトリル中において、常温、低
温または高部において、たとえは約−２０℃〜約１００
℃において、必要に応じて不活性力ス、たとえば窒素の
もとに実施する。適尚な異性化剤はことに無機まだＶま
有機の環基、たとえはアルカリ金属水酸化物、たとえは
水酸化カリウム、第三アミン、たとえはトリエチルアミ
ン、ピリジン、あるいは、とくにアルカリ金属低級アル
コキシド、たとえは水酸化ナトリウムまたはカリウムｔ
ｅｒｔ−ブトキシドである。
式（Ｘ■）の出発化合物は既知であるか、あるい口、新
規である場合、式 の化合物を式Ｒ′７＝Ｏ（ＸＭｌｌｂ）のオキソ化合物
で処理することによって製造することができる。
オた、式（ＸＭｌｌ）の化合物は、その場で、たとえば
式 （ （式中、ＲＳ　は炭化水素基Ｒ２であシ、ここでの炭素
原子は疎核基（ｎｕａｌｅｏｆｕｇｉａ　ｇｒｏｕｐ）
、たとえば塩素原子でＲ換されている、）の化合物を、
カリウムｔａｒｔ−ブトキシド、ｔｅｒｔ−ブタノール
中で処理することによって製造できる。
方法（へ） 式（ＸＩＸ）の出発物質において、Ｘ８がイオウ原子を
表わすとき、Ｒ１１は好ましくは水素、低級アルキル、
フェニル、フェニル−低級アルキルであるか、あるいは
低級アルキルまたは低級アルキレンで置換されていても
よいアミノ基である。
式（ＸＩＸ）の出発物質において、Ｘ８がことに非置換
のイミノ基を表わすとき、Ｒ１１はメルカプト基を表わ
す。
式（ＸＩＸ）の出発物質において、Ｘ８が低級アルキル
により置換されたイミノ基を表わすとき、”１１はこと
に水素、低級アルキル、フェニル、フヱニルー低級アル
キルまたはメルカプト基である。
基Ａｔ−導入できる２価のアルキル基は、たとえ１１１
式 （式中、Ｒ７２およびＲ′、２は水素であるが、あるい
は同一または異なる有機米、たとえば低級アルキル、た
とえばメチル、エチル、ｎ−プロピルまたはｎ−ブチル
、シクロアルキル、たとえばシクロヘンチルまたはシク
ロヘキシル、フェニルまたはファニル−倶糾アルキル、
たとえばΔンジルであシ、そしてＹ５θ、ハロゲン、た
とえば堪累、臭素オたはヨウ累を表わす、） のハロダン化オキソ化合物：または式 （表中、Ｒ１３およびＲ′、３はたとえば前述の基Ｒ１
２および”＋　２と同じ意味を有する、）のエチレン誘
導体；式 ％式％） （式中、Ｒ１４は三重結合を活性化する置換基、たとえ
ば置換されていてもよいフェニル基、たと工ばフェニル
、ｐ−クロロフェニルｔ　ｆｔｔｉ、　ｐ　−メトキシ
フェニル、第三アミノ基、たとえばジメチルアミノ、ジ
エチルアミノ寸たはピロリジン−１−イル、フェニル−
低級アルキル、たとえばイジル、シアノ、カルｄ？キシ
または低級アルコキシカルボニル、たとえばメｉ・キシ
カルボニルｔ；ＴｈＮ：エトキシカルボニルであυ、そ
してＲ′、４は水素、低級アルキル　たとえはメチルで
あるか、あるいけ”１４の意味を有する、）の置換され
たアセチレン化合物である。
この反応はそれ自体既知の方法でかっ２価のアルキル化
剤の性質に依存して実施する。
式（ＸＩＸａ）のオキソ化合物を２価のアルキル化剤と
して選択するとき、仁の反応は２工程で実施する。まず
、式（ｘｔｘ）のヂオノ化合物を不活性溶媒、たとえば
ケトン、たとえばアセトン、低級アルカノール、たとえ
ばメタノールまたはエタノール、アセトニトリルまたは
ジメチルホルムアミド中で、常温あるいは適度に低部ス
たは高温において、たとえｄ′約０り〜４０℃の温度範
囲において、式αＩＸｎ）のアルキル化剤で処理する。
次いで、式αＩＸｄ） の生ずる中間化合物を、必要に応じて単離せずに、塩基
、たとえはピリジンまたは第三アミン、たとえばトリエ
チルアミン、および硫化剤、たとえば五偏：化燐て、不
活性溶媒、たとえけエーテル、たとえばジメトキシエタ
ンまたはテトラヒドロフラン、アミド、たとえれ１°ジ
メチルホルムアミド、またはジメヂルスルポキシド、ア
セトニトリル中で、あるいは使用する過剰の液状地路、
たとえばピリジン中で、常温または高渦において、たと
えば約り０℃〜約１２０℃の温度範囲において、好まし
くは溶媒の沸点において環化する。
式（ＸＩＸｂ）のエチレン化合物を２価のアルキル化剤
として使用するとき、このアルキル化剤と式（ＸＩＸ）
の化合物とから成る混合物を不活性溶媒、たとえば炭化
水素、たとえはヘキサノ、インセン、トルエンまたはキ
シレン、またはハロダン化炭化水素、たとえは塩化メチ
レン、ジクロロエタンまたはクロロｄンゼン中において
紫外線で、たとえは高圧水銀燈で５０′Ｃを超えない温
度、好まし、くけθ℃〜２０℃において、必要に応じて
不活性気体、たとえは窒素雰囲気のもとに、照射する。
式（ＸＩＸｅ）のアセチレン系化合物によるアルギル化
は、不活性溶媒、たとえは炭化水素、たとえばインセン
、トルエンまタハキシレン、ハロダン化炭化水素、／辷
とえは塩化メチレンまたはクロロホルム、エーテル、た
とえはジせトキシエタン甘たけジオキサン、ジメチルホ
ルムアミドまたはアセトニトリル中で、常温又は高渦に
おいて、たとえは約り０℃〜約１３０℃の温度範囲にお
いて、ことに使用する沸点刊近において、実施する。
式（ＸＩＸ）　、（ＸＩＸａ）　−（ＸＩＸｂ）　ｈ　
ヨびＣ１）（ｃ）ノ出発物質は既知であるかあるいは、
新規である場合、それ自体既知の方法で製造できるＯ たとえは、Ｘ８がイメウ原子である、式（ＸＩＸ）の化
合物は、弐Ｒ，、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｃ１ｌ（−Ｒ，）−Ｃ
α）Ｃ２Ｈ５のβ−ケトエステルを五硫化燐と反応させ
ることによりて製造される。
Ｘ８が低級アルキルで置換されていてもよいイミノ基で
ある、式（ＸＩＸ）の化合物は、たとえば、式／ １ の化合物を、臭素と、引き続いてアンモニアまたはイハ
糾アルキルアミンと、反応させることによりで製造され
る。
方法（ｎ） ホスホニウム基ｚ、Ｕ、、たとえは、２回エステル化さ
れたホスボッ基または、ことに、３回置換されだホスホ
ニオ基と正に帯電したリン原子を中和す石陰イオンとの
組み合わせである。適当なホスホノまたはホスホニオ基
２７″は、ウィツテイヒ（Ｗｌｔｔｉｇ）縮合反応にお
いて臂通に使用される基、たとえは低級アルキル、たと
えばメヂルまたはエチルで２回エステル化されたホスホ
ノ基、またはフェニル−低級アルキル、たとえＦｉイン
ジル、または低級アルキル、たとえばｎ−ブチル、また
は、とくに了り−ル、たとえはフェニルで３回置換され
たホスホニオである。基ｚ７としてトリフェニルホスホ
ニオが好ましい。ホスホニオ基の正に＠電したリン原子
を中和する陰イオンは、ことに強い有様または無機の酸
の陰イオン、たとえはスルポン酸イオン、たとえばｄン
ゼンスルホン酸イオン、ｐ−）ルエンスルホン酸イオン
ｉたはメタンスルホン酸イオ／、あるいはとくにハロダ
ン隘イオン、たとえｌ−１’塩素または臭素の陰イオン
である。
加水分解剤は、地基性剤、ことに強無槻塩基、たとえは
アルカリ金属炭酸塩、たとえは／Ｘ！酸ナトリウム、ま
たはとくにアルカリ金属水酸化物、たとえば水酸化ナト
リウムまたは水酸化カリウムである。
この反毘；　ＩＩ：　、適当ガｍ媒中で、たとえは水中
で、あるいは水と混和性の有槙清婬、たとえば低級アル
カノール、たとえはメタノールまたはエタノール、また
は低級脂肪族ジエーテル、たとえばジメトキシエタン、
との溶媒混合物中で、ことに高温において、好ましくは
使用する溶媒または溶媒混合物の沸点において、かつ、
必要に応じて、不活性気体雰囲気中で、たとえは窒素写
囲気中におい実施例 式α痩の出発化合物は既知であるか、あるいはそれ自体
既知の方法において、たとえけ式Ｒ、ＣＢθ−２７（Ｘ
Ｘａ）　（式中、ｚ７がホスホノ基であるとき、負の電
荷は賃辿の陽イオン、たとえ―：ナトリウムで中和され
ている）のホスホニウム化合物を二硫化炭素で処理し、
そ１〜て式Ｚ、−ＣＨ（Ｒ，）−Ｃ８２θ（ＸＸｂ　’
）の生ずるジチオカルボキシレートを塩基性剤の存在下
に式Ｙ５−Ａ−Ｙ５（ＸＸｃ）　（式中Ｙ５は塩素また
は臭素である）のシバライドと反応させることによυ、
製造することができる。
式（ＸＸＩ）の化合物からの窒素の切り離しに好適な物
質は、たとえば、紫外線照射または塩基性剤である。
式（ＸＸＩ）のチアジアゾールは、紫外線照射に暴露す
ると、式（ＸＸ　Ｉａ）の窒素不含ジ−ラジカルに転化
され、これはある程度転位して式（ＸＸＩｂ）のチオケ
テンになると仮定される。引き続いて、式（ＸＸ１ａ）
および（ＸＸＩｂ）の仮定された中間体は結合して、式
（１）の化合物を生成するであろう（反応図１；Ａ、　
５ｈａｆｌｅｅ＋　Ｌ　Ｌａ１ｅｚａｒｌ＋　Ｊ、　ｌ
１ｅｔｅｒｏａｙｃ１．　ＣｈＩ！ｍ。
月し１１　（１９７３）参照）。
以下余白 反応図１ （ＸＸＩ　）　　　　　　　（ＸＸＪ：ｌ　ａ　）　　
　　　（ＸＸＩ　ｂ　）塩基性剤による式（ＸＸＩ）の
出発物質の式（１）の化合物への転化は、ガ１似の方法
で、式（ｘｘｔｃ）の陰イオンを経て進行すると思われ
る（反応図１；Ａ、　８ｈａｆｌｅｅ、　１．Ｌａ１ｅ
ｚａｒＬ　５ｕｐｒａ参照）Ｏこの道筋は、Ｒ２が水素
でありかつ水素供与溶媒、すなわち、プロトン溶媒を使
用するときにだけ有効であることが、明らかである。
この転化は常法で実施する。たとえば、式（ＸＸＩ）の
出発物質は、不活性溶媒、たとえば低級アルカノール、
たとえばメタノール中であるいは、好゛ましくは、炭化
水先、たとえばベンゼンまたはヘキサン中で、適当な紫
外線ラング、たとえば石英浸漬ランプまたは中圧水銀蒸
気ラングにより、常温または高温において、たとえば約
り０℃〜約８０℃の温度範囲において、必要に応じて不
活性がス、たとえば窒素のもとに照射することができる
。
塩基性剤、たとえばアルカリ水酸化物、たとえばナトリ
ウムメトキシドまたはカリ「シムエトキシＦ１または金
属化炭化水素、たとえばアルカ１）金属またはアルカリ
土類金属で金属化された低級アルカンまたはベンゼン、
たとえばブチルリチウムまたはフェニルリチウムを使用
するとき、反応はプロトン溶媒中であるいは少なくとも
１種のゾロトン成分、たとえば水または低級アルカノー
ルを含有する溶媒混合物中で、常温、低温ｔたは高温に
おいで、たとえば−２０℃〜−１−１００℃、コトに２
０℃〜６０℃の温度範囲において所望によυ不活性気体
、例えば窒素の存在下で実施する。反応全２工程で実施
することも可能である。たとえば、式（ＸＸりの１４」
元化合物を強塩基性剤、たとえばブチルリチウムで、不
活性溶媒、だとえはジメトキシエタンまたはテトラヒド
ロフラン中において、低温において、たとえば約−７０
℃〜約−２０℃の温度範囲において、処理することがで
き、そして得られた中間体（ＸＸＩｃ）の金に塩、たと
えば、リチウム塩を含有する溶液をプロトン溶媒、たと
えば前述の溶媒の１種へ、常温または高温において、た
とえば約２０℃−約１００℃、ことに２０℃〜６０℃の
温度師団において、必要に応じて不活性気体、たとえば
窒素のもとで、移すことができる。
式（ＸＸＩ）の出発化合物は既知であるかあるいは、新
規である場合、それ自体既知の方法で、たとえば、式ｎ
、−ｃ（ｃ）１２Ｒ２）＝ＮＮｎｃｏＮｎ２（ＸＸ１ｅ
）のセミカルバゾンを塩化チオニルと反応さ、止ること
によシ製造することができる。
方法（ｐ） 式（ｘｘｎ）のジアゾケトンと二硫化炭素との反応は、
常法において、−酸化炭素および窒素の切υ離しを生ず
る条件下に、たとえば不活性溶媒、たとえばエーテル、
たとえば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランまた
はジオキサン中で、あるいは、ことに過剰量の二硫化炭
素中で、常温またはわずかに高温において、たとえばほ
ぼ２０℃〜はぼ５０℃の温度範囲において、好゛ましく
け二硫化炭素の沸点付近において、必要に応じて不活性
ガス、たとえば窒素のもとに、実施する。
式（ＸＸＩＩ）の出発物質は既知であるかあるいは、新
規である場合、それ自体既知の方法において、たとえば
式Ｒ４−Ｃｏ−ｃｏ−Ｒ２（ＸＸ１１ｇ）の化合物をト
シルヒドラジンと反応させ、生ずる式 Ｒ、−Ｃ（−０）　＝Ｃ（＝Ｉ＝Ｎ−ＮＨ−Ｔ　ｏ　ｓ
　）　−Ｒ２（ＸＸＩｌｂ　）　（式中ＴＯｇはトシル
基を表わす）を塩基性剤で裂開することによって製造で
きる。
ｖ、Ｔ全白 方法（ｑ） 脱硫剤は、たとえば、強塩基、たとえば金属化炭化水素
、たとえばアルカリ金１ｔｆｃはアルカリ土類金ＩＲＫ
Ｊ：ｔ）金属化された低級アルカンまたはベンゼン、た
とえばブチルリチウムオたはフェニルリチウム、または
金属化第ニアミン、たとえば金属化ジー低級アルキルア
ミン、たとえばリチウムジイソプロぎルアミン、または
三価の燐化合物たとえばホスフィト、たとえばトリー低
級アルキルホスフィト、たとえばトリーエチルホスフィ
ト、またはトリー置換ホスフィン、たとえばトリー低級
アルキル−またはトリーアリールホスフィン、たとえば
トリーｎ−ブチルホスフィン、またはおだやかな条件下
で脱硫化できる金属、たとえば銅である。
脱硫化反応は、常法において、たとえば、不活性溶媒、
たとえば脂肪族または芳香族の炭化水嵩、たとえばヘキ
サン、ベンゼンまたはキシレン、脂肪族または芳香族の
エーテル、たとえばジエチルエーテル、ジ−ｎ−ブチル
エーテルまたはジフェニルエーテル、またはハロダン化
炭化水累、たとえばクロロホルム中で、常温、低温また
は高温において、たとえば、強塩基を脱硫剤として用い
る場合、−６０℃〜２０℃の温度範囲においであるいは
、金属または３価の燐化合物を使用する場合、２０℃〜
１５０℃の温度範囲において、ことに使用する溶媒の沸
点において、必要に応じて不活性気体の雰囲気中で、た
とえば窒素の雰囲気中で、実施例 式（ＸＸＤＩ）の出発物質は既知であるかあるいは、新
規である場合、それ自体既知の方法妃おいて、たとえば
式 ％式％） のジアゾ化合物を式 のトリチオカー？ネートで処理することによシ、製造す
ることができる。
式（［Ｉ）〜（ＸｘＩｌ）の出発化合物において、存在
する官能基、ことにカルボキシ、アミノおよびヒドロキ
シ基およびまたスルホ基は、必要に応じて製造有機化学
において慣用されている普通の保護基忙より保護する。
保護されたカルボキシ、アミノ、ヒドロキシおよびスル
ホ基は、分子の骨格を破壊せずにあるいは望ましくない
副反応を起こさないで、訃だやかな条件下に遊離のカル
ボキシ、アミノ、ヒドロキシおよびスルホ基に転化され
うるものである。
以下余白 保護基を導入する目的は、反応成分との望ましくない反
応から官能基を保護し、こうして反応成分の除去または
誘導体への転化を防止することである。他方において、
反応成分は望ましくない方法で保護されない官能基との
反応にょシ消費されまたは結合され、こうして実際の反
応のためにもはや存在することができないことがある。
特定の反応のだめの保護基の選択は、保護すべき官能基
（カルボキシ基、アミン基など）の性質、置換基が官能
基である分子の構造および安定性、および反応条件に依
存する。
これらの条件を満足する保護基およびそれらの導入およ
び除去は、既知であり、そして、たとえば、次の文献に
記載されている：　Ｊ、Ｆ、ＷｏＭｅ　０ｎｌｅ。
”Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ　Ｇｒｏｕｐｓ　ｉｎ　Ｏｒｇ
ａｎｉｃ　Ｃｈｅｍｌｓｔｒｙ（有機化学における保護
基）　”　、　Ｐｌｅｎｕｍ　Ｐｒ５ｓｓ。
Ｌｏｎｄｏｎ、Ｎ＠ｗ　Ｙｏｒｋ　１９７３゜Ｔ　、Ｗ
、Ｇｒｅ　＠ｎ、　Ｐｒｏｔｅｃｔｌｖｅ　　Ｇｒｏｕ
ｐｓ　　　ｌｎ　　ＯｒｇａｎｉｃＳｙｎｔｈｓ＋ｓ１
ｇ　　（有機合成における保護基）′。
Ｗｌｉｌｅｙ、　Ｎｅｗ　Ｙｏｒｋ　１９８１　、およ
びまた”Ｔｈｅ　Ｐｅｐｔｉｄｅｓ　（ペプチド類）　
”　、　Ｖｏｌ、Ｉ。
５ｃｈｒｏｅｄｓｒおよびＬｕｅｂｋｅ、Ａｃａｄｅｍ
Ｉｃ　Ｐｒｅｓｓ。
Ｌｏｎｄｏｎ、Ｎｅｗ　Ｙｏｒｋ１９６５．ならびにＨ
ｏｕｂｅｎ−Ｗｅｙｌ　。
ＩＩＭｅｔｈｏｄｅｎ　ｄｅｒ　Ｏｒｇａｎｉｓｈｅｎ
　Ｃｈｅｍｉｅ　（有機化学の方法）”、　Ｖｏｌ、１
５／１．Ｇｅｏｒｇ　Ｔｈｉｅｍｅ　Ｖｅｒｌａｇ。
Ｓｔｕｔｔｇａｒｔ、１９７４゜ すなわち、カルボキシ基は、たとえば、エステル化され
た形で保護され、このようなエステル基はおだやかな条
件、ことにアルカリ性条件のもとに容易に除去すること
ができる。このようなエステル化されたカルボキシ基に
は、エステル化基として、ことに１−ａ置において枝分
れしたあるいは１−または２−位置において適当に置換
された低級アルキル基が含まれる。エステル化された形
で存在する好ましいカルボキシ基は、なかでも、低級ア
ルコキシカルボニル、たとえば、メトキシカルボニル、
エトキソ力ルデニルまたはイソプロポキシカルビニル；
１〜３個のアリール基ヲモつアリールメトキ７カルボキ
ルまたはへテロアリール基（これらのアリール部分は、
たとえば、低級アルキル、たとえばｔａｒｔ−ブチルに
より、あるいはハロダン、たとえば塩素および／または
ニトロにより一置換または多置換されていてもよいフェ
ニル基を表わす〕、たとえば、前述の方法で置換されて
いてもよいベンジルオキシカルボニル、たと、ｔば４−
ニトロペンジルオキシカルブニル、りとえば前述の方法
で置換されていてもよいジフェニルメトキシカル？ニル
、たとえばジンェニルメトキシカルボニルまたはトリフ
ェニルメトキシカルボニル、または、たとえば前述の方
法で置換されていてもよいピコリルオキシカルボニル、
たとえば４−ピコリルオキシカルボニル；１−低級アル
コキシカルブニル、たとえばメトキシメトキンカルｙｊ
？　ニル、１−メチトキシエトキ７カルボニルまたはエ
トキシメトキシカル？ニル；アロイル基が、たとえば、
臭素のようなハロゲンにより置換されていてもよいベン
ゾイルを表わすアロイルメトキシカルブニル、たとえば
フェナシルオキシカルボニル；ハロー低級アルコキシカ
ルボニル、例えば２−ハロ低級アルコキシカルボニル、
タトエｔｒｘ、２．２　、２−　トリクロロエトキ７カ
ルポニル、２−ブロモエトキンカルブニルまたは２−ヨ
ードエトキシカルボニルｔまだは低級アルコキシが４〜
７個の炭素原子を含有するω−ハロー低級アルコキンカ
ルボニル、例えば４−クロロブトキシアルデニル；フタ
ルイミドメトキシ力ルデニル又は２−（トリ置換シリル
）−エトキシカルブニルにこで、各置換基が独立に脂肪
族、芳香脂肪族、環式脂肪族または芳香族の炭化水素基
を表わし、前記炭化水素基は、たとえば１５個までの炭
素原子を有しかつ、たとえば、低級アルキル、低級アル
コキシ、アリール、ハロゲンおよび／１７’ｃＨニトロ
、たとえば対応する置換されていてもよい低級アルキル
、フェニル−低級アルキル、シクロアルキルまたはフェ
ニルにより置換されていてもよい）、たとえば２−トリ
ー低級アルキルシリルエトキシカルボニル、たとえば、
２−トリメチルシリルエトキンカルビニルまたは２−（
ジ−ｎ−ブチル−メチル−シリル）−エトキシカルブニ
ル、マタハトリアリールシリルエトキシカルビニル、７
’Ｃ，！：、ｔば２−トリフェニルシリルエトキシカル
ボニルである。
エステル化された形で存在する他の保護されたカルボ・
キシ基は、対応するシリルオキシカルボニル基、ことに
有機シリルオキシカルボニル基、おヨヒマタ対応するス
タンニルオキ７カルボニル基である。これらにおいて、
それぞれケイ素およびスズの原子は、好ましくは、置換
基として、低級アルキル、ことにメチルまたはエチル、
まｆｃｔＵｔ＆アルコキシ、たとえばメトキシを含有す
る。適当なシリルおよびスタンニル保護基は、ことにト
リー低級アルキルシリル、ことにトリメチルシリルまた
はジメチル−ｔａｒｔ−ブチルシリル、または対応して
置換されたスタンニル基、たとえばトリーｎ−ブチルス
タンニルでアル。
保護されたアミノ基は、たとえば、裂開容易なアシルア
ミノ、シリルアミノまたはスタンニルアミノ基の形で存
在できる。
対応するアシルアミノ基において、アシルは、たとえば
、ハロダン、シアノまたはアリールで置換されていても
よく、たとえば１８個までの炭素原子を有する有機カル
ボン酸、ことにアルカンカルボン酸、または炭ｔＲ学エ
ステル、のアシル基である。このようなアシル基は、た
とえば、低級アルカノイル、たとえばホルミル、アセチ
ルまたはプロピオニル、ノ・ロー低級アルカノイル、た
とえば２−ハロアセチル、こ、！＝に２−クロロ−１２
−プロモー、２−ヨード−１２，２，２１リフルオロ−
まりｉ）：２　、２　、２−　）クロロロアセチル、フ
ェノキシカルボニル、低級アルコキシカルブニル、たと
えばメトキシカルボニル、イソブトキシカルボニルｔ７
’ｃｌｄｔｅｒｔ　−メトキシカルボニル、アリール−
低級アルコキシカルブニル、たとえば各々ニトロで置換
されていてもよいベンジルオキ７カルデニルまたはジフ
ェニルメトキシカルぎニル、またはｌ−位置において枝
分れしおよび／またはｌ−または２−位置において有機
ゾリル、スルホニル、ホスホニオ、シアノまたはアリー
ルで置換されていてもよい。ベンジルオキ７カルデニル
またはジフェニルメトキシカルブニル、たとえば２−ト
リー低級アルキルシリルエトキシカルボニル、タト、ｔ
Ｊ−１’２−　トリメチルシリルエトキンカルビニル、
２−スルホニルエトキシエトキシカルボニル、たとえば
２−メチルスルホニルエトキシカルボニル、２−ホスホ
ニオエトキシカルブニル、タトえば２−トリメチルホス
ホニオエトキシカルｚ＝ル、２−　シフ／−低級アルコ
キシ力ルボニル、たとえば１．１−ジメチル−２−シア
ノエトキシカルはニル、またはフルオレニルメトキシカ
ルボニルである。シリルアミノまたはスタンニルアミノ
基は、それぞれケイ素原子またはスズ原子が好ましくは
低級アルキル、例えばメチル又はエチル、さらに低級ア
ルコキシたとえばメトキシを置換基として含有する。対
応するシリルまたはスタンニル基は、ことにトリー低級
アルキル７リル、ことにトリメチルシリル、さらにジメ
チル−ｔａｒｔ　−ブチルシリル、または対応する置換
スタンニル、た、！：、ｔｉｆ）リーｎ−プチルスタン
ニルテある。
おだやかな条件下で除去できるヒドロキン保膿基は、た
とえば、アシル基、たとえばハロゲンまたはエーテル化
ヒドロキシによジ置換されていてもよい低級アルカノイ
ル、たとえば低級アルカノイル、たとえばホルミル、ア
セチルまたはぎパロイル、・・ロー低級アルカノイル、
たとえばクロロアセチル、ジクロロアセチル、トリクロ
ロアセチルまたはトリフルオロアセチル、低級アルコキ
シ−低級アルカノイル、たとえばメトキシブセチル、ア
リール−低級アルコキシ−低級アルカノイル、だとえげ
トリフェニルメトキシアセチル、あるいはアリールオキ
シ−低級アルカノイル、たとえばフヱノキシアセチル、
ベンゾイル、低級アルコキ７カルボニル、たとえばメト
キシカルブニル、エトキシカルブニルまたはｔａｒｔ　
−ゾトキシカルヂニル、アリール−低級アルコキシカル
？ニル、りとえば各々ニトロまたは有機シリル、たとえ
ば保護されたカルボキンまたはアミノ基に関連して前述
したシリル基の１つ、ことにトリー低級アルキルゾリル
基により置換されていてもよいペンジルオキンカルゴニ
ルまたはジフェニルメトキシカルがニルである。
保護されたスルホ基は、ことにエステル化されたスルホ
基、たとえば、脂肪族、環式脂肪族、環式脂肪族−脂肪
族、芳香族または芳香脂肪族アルコール、たとえば低級
アルカノールにより、あるいはシリル基またはスタンニ
ル基、たとえばトリー低級アルキルシリル基によシ、エ
ステル化されたスルホ基である。スルホ基において、ヒ
ドロキシ基ハ、りとえば、エステル化カルゼキンル基に
おけるヒドロキシ基と同じ方法で保護されることができ
る。
１つまたはそれ以上の官能基が保護されている式（１）
の得られた化合物において、これらの、たとえば保護さ
れたカルボキン、アミン、ヒドロキ７および／またはス
ルホ基は、それ自体既知の方法において、ソルボリシス
、たとえば加水分解またはアルコーリシスによル遊離す
ることができる。
すなわち、アミノまたはヒドロキシの保護基として使用
したアシル基は、それ自体既知の方法において、ことに
アルコーリシスにより、あるいはまた加水分解により除
去することができる。アシル基のアルコーリシスによる
除去は、たとえば強塩φ基性剤の存在下に実施できる。
この方法において、ことに低級アルカノール、たとえば
エタノールまだはｎ−ゲタノールおよび、強塩基として
、アルカリ金属アルコキシド、たとえばナトリウムまた
はカリウムの低級アルコキシド、たとえばナトリウムま
たはカリウムのエトキシドまたはｎ−ブトキシド、また
はアルカリ金属水酸化物、たとえばナトリウムまたはカ
リウムの水酸化物を使用する。
本発明の範囲内において、使用する保護基は、また加水
分解によって除去することができる。加水分解は、こと
に強塩基、たとえば前述のものの１種まだは窒素塩基、
たとえばトリー低級アルキルアミン、たとえばエチルジ
イソプロピルアミン、ピリジンまたは第四ア／モニウム
化合物、たとえばベンジルトリメチルアンモニウムヒド
ロキシドの存在下に実施できる。アミノ保護基として使
用する低級アルコキノカルブニル基、たとえばエトキ７
カル＋ｌ？ニルは、′まだおだやかな条件下に、アンド
リンスにより、たとえばトリスルオロ酢酸で処理するこ
とにより除去することができる。さらに、アミノまたは
カルボキンの保護基として使用しだ２−［％シリルエト
キ７カルビニル基ハ、マた、フッ素イオンを生ずるフッ
化水素酸の塩、たとえばアルカリ金属７ツ化物、たとえ
ばフッ化ナトリウムで、巨壌チリエーテルの存在下に、
あるいは有機第四塩基、たとえば弗化テトラ−ｎ−ブチ
ルアンモニウムで処理することによって除去することが
できる。有機シリル基またはスタンニル基、たとえばト
リー低級アルキル−ゾリルまたは一スタンニルで保護さ
れた官能基は、常法において、ソルボリシスによシ、た
とえば水またはアルコール、たとえば低級アルカノール
、たとえばメタノールで処理することにより、遊離する
ことができる。
本発明に従って得ることのできる式（１）の化合物は、
それ自体既知の方法において、式（１）の異なる化合物
に変えることができる。
たとえば、Ｒ１および／またはＲ２がヒドロキシで置換
されたアリール基を表わす式（１）の化合物において、
ヒドロキシは常法でエーテル化することができる。対応
する低級アルキル−アリールエーテルを生成する反応は
、たとえば、塩基、たとえばアルカリ金属の水酸化物ま
たは炭酸塩、たとえば水酸化す）　ｌ）ラムまたは炭酸
カリウムの存在下に、ジ低級アルキルサルフェートまた
は低級アルカリハライドにより、あるいは脱水剤、たと
えばシンクロへキシルカーポジイミドの存在下に、低級
アルカノールにより、実施する。
脂肪族的にまたは環式脂肪族的に結合したヒドロキシ基
が、たとえば基Ｒ＋、Ｒ２またはＡの置換基として存在
する式（１）の化合物において、このヒドロキシ基は常
法でエーテル化することができる。適当なエーテル化剤
は、たとえばジアゾ化合物、たとえば非置換まだは置換
のジアゾ−低級アルカン、タトえばジアゾメタン、ジア
ゾエタン、ジアゾｎ−ブタンまたはジアゾ酢酸エステル
である。これらのエーテル化剤は適当な不活性溶媒、た
とえば脂肪族、環式脂肪族または芳香族の炭化水素の存
在下に実施する。それ以外の適当なエーテル化剤は、対
応するアルコールのエステル、コとに強い無機酸または
有機酸、たとえば鉱酸、たとえばハロダン化水素酸、た
とえば塩酸、臭化水素酸またはヨウ化水素酸、およびま
だ硫酸、またはハロ硫酸、たとえばフルオロ硫酸、ある
いは有ｉ　２　ルホン酸、タトえば低級アルカンスルホ
ン酸（これらは、たとえば、低級アルキル、たとえばメ
チルによシ、ハロダン、たとえば臭素にょ弘および／ま
たはニトロによ多置換されていてもよい）、たとえばメ
タンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸ｔ’ｃ
ｌｄｐ−）ルエンスルホン酸のエステルである。このよ
うなエステルは、なかでも、置換されていてもよい低級
アルキル−１低級アルケニルーまだはアリール−低級ア
ルキル−ハライド、たとえばヨウ化メチル、臭化アリル
、臭化ベンジルまたはブロモ酢酸エチル、サルフェート
、たとえば硫酸ジメチル、またフルオロスルホネート、
たとえばフルオロスルホン酸メチル、または非置換また
はハロダン置換のメタンスルボネート、タトエハトリフ
ルオロメタンスルホネ−トである。それらは通常不活性
溶媒、たとえば非置換またはハロケ゛ン化、たとえば塩
素化、脂肪族、環式脂肪族または芳香族の炭化水素であ
る。さらに、適当な縮合剤、たとえばアルカリ金属の炭
酸塩まだは重炭酸塩、たとえばナトリウムまだはカリウ
ムの炭酸塩またはナトリウムまたはカリウムの重炭酸塩
（通常硫酸塩との組み合わせ）、または有機塩基、たと
えば立体的に障害されたトリー低級アルキルアミン、た
とえばＮ、Ｎ−ジイソプロピル−Ｎ−エチルアミン（好
ましくハフルオロスルホン酸低級アルキルエステルまた
は非置換またはハロゲン置換のメタンスルホン酸低級ア
ルキルエステルとの組み合わせ）を使用することが好ま
しい。前述のエーテル化反応は、転相触媒によりかなり
加速される［Ｄｅｈｍｌｏｗ、Ａｎｇｅｗａｎｄｔｅ　
Ｃｈｅｍｌｅ。
８６、（１９７４）参照〕。転相触媒として、第四ホス
ホニウム塩、ことに第四アンモニウム塩、たとえば非置
換捷たは置換のテトラアルキルアンモニウムハライド、
たとえばテトラブチルアンモニウムクロライド、ブロマ
イドまたはイオグイド、１だけ塩化ベンジルトリエチル
アンモニウムを触媒量ないし等モル量までの量で使用で
きる。有機相として、水と混和性でない溶媒の１種、た
とえば非置換またはハロゲン化、たとえば塩素化された
低級脂肪族、環式脂肪族または芳香族の炭化水素の１種
を使用できる。塩基に感受性の化合物を使用するとき、
縮合剤として適する、アルカリ金属の炭酸塩または重炭
酸塩、たとえばカリウムまだはナトリウムの炭酸塩また
はカリウムまたはナトリウムの重炭酸塩、アルカリ金属
リン酸塩、たとえば゛リン酸カリウム、訃よびアルカリ
金属水酸化物、たとえば水酸化ナトリウムを反応混合物
に、滴定的に、たとえば、エーテル化の間、ＰＨが約７
〜８．５の範囲内に維持されるような自動滴定装置によ
り、加えることができる。それ以外のエーテル化剤は、
残有機スルホン酸たとえばｐ−トルエンスルホン酸およ
び適当な溶媒たとえばジー低級アルキルスルホキシドま
たは低級アルキレンスルホキシドの存在下に使用する、
適当なアセタール化合物、たとえばｇｅｍ−ジー低級ア
ルコキシ−低級アルカン、たとえば２．２−ジメトキシ
プロノ！ン、あるいは強鉱酸、たとえば硫酸、または強
有機スルホン酸、たとえばｐ−１ルエンスルホン酸およ
び適当な溶媒、たとえばエーテルの存在下に使用する、
適当なオルトエステル、たとえばオルトギ酸のトリー低
級アルキルエステルである。
式（１）の化合物において、基Ｒ，，Ｒ，またはＡ中に
含有されるアミンまたは低級アルキルアミノ基はジー低
級アルキルアミ７基へ、たとえば、塩基性縮合剤の存在
下の反応性低級アルキルエステルとの反応により、転化
することができる。反応性低級アルキルエステルは、た
とえば、低級アルキル・・ライ１゛、たとえば塩化、臭
化またはヨウ化低級アルキル、低級アルキルスルホネー
ト、たとえば低級アルキル−低級アルカンスルホネート
、たとえば低級アルキルメタンスルホネートまたはエタ
ンスルホネート、低級アルキルベンゼンスルホネート、
たとえばべ／ゼンスルホネート、４−トルエンスルホ−
＋−トｔたは４−ブロモベンゼンス／ｌ／　ホネート、
’）：　ｋは低級アルキルフルオロスルホネ−１・また
はジー低級アルキルスルホネートである。塩基性縮合剤
は、たとえば、アルカリ金属またはアルカリ土類金属の
水酸化物または炭酸塩、たとえばナトリウム、カリウム
またはカル／ラムの水酸化物、ナトリウムまたはカリウ
ムの炭酸塩、または第三有機窒素塩基、たとえばトリー
低級アルキルアミン、たとえばトリエチルアミンまだは
ジイソプロピルエチルアミン、または複素芳香族窒素塩
基、たとえばピリジンである。類似方法において、基Ｒ
１＋Ｒ２またはＡ中のアミン基は、低級アルキレンシバ
ライドまだはジスルホネート、たとえば１．３−ジグロ
モプロ、ｆンｔたは１．４−シゾロモブタンとの反応に
よシ、低級アルキレンアミノ基に転化することができる
。
Ｒ，がアリールを表わしかつＲ２が水素を表わす式（Ｉ
）の化合物は、インシアネート、たとえば低級アルキル
イソシアネートまたは置換されていてもよいフェニルイ
ソ７アネート、またはケテン、たとえばジー低級アルキ
ルケテンまたはジフェニルケテンとの反応によ’）、Ｒ
ｚがアミド化カルヂキンまたはジー低級アルキル−また
はジフェニルアセチルを表わす式（１）の化合物に変え
ることができる。
以下余白 ｎが０である式（１）の化合物は、酸化剤によりｎが１
である式（Ｉ）の化合物に変えることができる。
適当な酸化剤は、だとえば、無機過酸、たとえば過ヨウ
素酸または過硫酸、有機過酸、たとえば過ギ酸、過酢酸
、トリフルオロ過酢酸、過マレイン酸、過安息香酸、３
−クロロ過安息香酸、モノ過フタル酸、４−トルエン過
スルホン酸または酸化性無機塩、たとえば過ヨウ素酸す
）　ＩＪウムであυ、前記酸類は、たとえば対応するカ
ルゲン酸と過酸化水素とから、その場で製造することが
できる。
逆に、ｎが１である式（Ｉ）の化合物を、還元剤の処理
によυ、ｎが０である式（１）の化合物に転化すること
ができる。還元剤として、次のものが考えられる。たと
えば、還元性スズ、鉄、銅またはマンガンの陽イオン（
これらは無機まだは有機の性質の対応する化合物まだは
錯塩の形、たとえばスズ（Ｉ［）の塩化物、フッ化物、
酢酸塩まだはギ酸塩、鉄Ｑｌ）の塩化物、硫酸塩、シュ
ウ酸塩またはコハク酸塩、銅（Ｉ）の塩化物、安息香酸
塩またはシーウ酸塩、またはマンガン（ＩＩ）の塩化物
、硫酸塩、酢酸塩またけ酸化物の形で、あるいは錯塩、
−たとえばエヂレンジアミン四酢酸またはニトロ三酢酸
との錯塩の形で、使用される）；還元性ジチオナイト、
ヨウ化物゛または鉄（ｎ）シアン化物の陰イオン（これ
らは対応する無機または有機の塩、たとえばアルカリ金
属、たとえばナトリウムまたはカリウムのジチオナイト
、ナトリウムまだはカリウムのヨウ化物またはナトリウ
ムまだはカリウム−鉄０１）シアン化物の形で使用され
る）；還元性３価の無機または有機のリン化合物、たと
えばホスフィン、またホスホナス酸、ホスフィナス酸ま
たはホスホラス酸のアミドおよびハライド、およびこれ
らのリン−酸素化合物に対応するリン−イオウ化合物（
ここで有機基はことに脂肪族、芳香族または芳香脂肪族
の基、たとえば置換されていてもよい低級アルキル、フ
ェニルまたはフェニル−低級アルキルで６る）、たとえ
ば、トリフェニルホスフィン、トリーｎ−ブチルホスフ
ィン、ジフェニルホスホナス酸メチルエステル、ジフェ
ニルクロロホスフィン、フェニルノクロロホスフィン、
ベンゼンホスホナス酸ジメチルエステル、ブタンホスホ
ナス酸メチルエステル、リン酸トリフェニルエステル、
ホスホラス酸トリメチルエステル、三塩化リン、三臭化
リンなど；ケイ素原子へ結合した少なくとも１個の水素
原子を含有しかつハロゲノ、たとえば塩素、臭素または
ヨウ素のほかに、有機基、たとえば脂肪族または芳香族
基、たとえば置換されていてもよい低級アルキルまたは
フェニルを含有できる、還元性ハロシラン化合物、たと
えばクロロシラン、ブロモシラン、ジーまたはトリーク
ロロシ５　”、’）　−４ｆｃｌｒｉ　）　ＩＪ−ブロ
モシラン、ソーフェニルクロロシランまたはジメチルク
ロロシラン；および還元性第四クロロメチレンイミニウ
ム塩、ことに塩化物または臭化物（ここでイミニウム基
は２価まだは２個の１価の有機基、たとえば置換されて
いてもよい低級アルキレンまたは低級アルキルである）
、たとえばＮ−クロロメチレン−Ｎ、Ｎ−ジエチルイミ
ニウムクロライドまたはＮ−クロロメチレンビロリジニ
ウムクロライトテある。
基Ｒ１、Ｒ２およびＡの少なくとも１つがエステル化ヒ
ドロキシにより置換され九式（１）の化合物は、基Ｒ４
、Ｒ２およびＡがヒドロキシによ多置換された式（１）
の化合物を、所望のアシル基を導入するアシル化剤で処
理することによシ得ることかで亀る。
このようなアシル化剤は、たとえば、置換されていても
よい低級アルカノールデン酸、置換されていてもよい安
息香酸またはその反応性誘導体、たとえば無水物または
酸−ヘライド、たとえば酸り、ロライドまたはブロマイ
ド、またけ−・ロダン化水素酸、ことに反応性エステル
、たとえば塩化チオニルおよび三臭化リンである。この
反応は必要に縮合剤の存在下に、置換されていてもよい
低級アルカンカルビン酸との反応のときは、たとえば、
カーデジイミド化合物、たとえばジシクロへキシルカー
デジイミド、またはジイミダゾリルカルゲニルの存在下
に、あるいけ酸誘導体、たとえば酸ハライドを使用する
ときは、たとえば塩基性剤、たとえばトリー低級アルキ
ルアミン、たとえばトリエチルアミン、または複素環式
塩基、たとえばピリジンの存在下に、実施できる。逆に
、基Ｒ１、Ｒ２およびＡの少なくとも１つがエステル化
ヒドロキシで置換されている式（１）の化合物は、基Ｒ
４、Ｒ２およびＡの少なくとも１つがヒドロキシで置換
されている式（１）の化合物に転化することができる。
ヒドロキシへの転化は、たとえば、低級アルカノール、
たとえばメタノールまたはエタノールを用いるアルコー
ルシスにより、あるいは好ましくは加水分解、たとえば
塩基を触媒とする加水分解によυ、たとえば水酸化す）
　ＩＪウムの存在下に、実施される。
さらに、基Ａが疎核離脱基で置換された低級アルキレン
を表わす式（１）の化合物は、基Ａが低級アルキレンで
ある式（１）の化合物に転化することができる。疎核離
脱基は、たとえば、エステル化ヒドロキシ、たとえばハ
ロダン化水素酸、低級アルカノールーン酸、ハロアルカ
ンカルボン酸１だは置換され１′いてもよい安息香酸で
エステル化されたヒドロキシ、たとえば−ヘロゲン、た
とえば塩素または臭素、低級アルカノイルオキシ、たト
エばアセトキシ、ハロー低級アルカノイルオキシ、たと
エバトリフルオロアセトキシ、まだは置換されていても
よいベンイイル、たとえばベンゾイルまたｄ２．４−ジ
ニトロベンゾイル、エーテル化ヒドロキシ、たとえば低
級アルコキシ、たとえばメトキシまたはエトキシ、置換
されていてもよいフェニル−低級アルコキシ、たとえば
ベンジルオキシ、まだは置換されていてもよいフェノキ
シ、たとえばフェノキシ、または′エーテル化メルカプ
ト、たトエば低級アルキルチオ、たとえばメチルチオ、
フェニルチオまたはフェニル−低級アルキルチオ、たと
えばベンジルチオである。疎核離脱基がβ−位置の水素
原子と一緒に除去される転化は、有利には塩基、たとえ
ばアルカリ金属またはアルカリ土類金属の水酸化物、た
とえばす）　ＩＪウムまたはカリウムの水酸化物、アル
カリ金属またはアルカリ土類金属の炭酸塩、たとえばナ
トリウムまたはカリウムの炭酸塩、アルカリ金属の低級
アルコキシド、たとえばカリウムｔａｒｔ−ブトキシド
またはカリウムｔａｒｔ−ベントキシド、アミン、こと
に立体的に障害された第二アミン、たとえばジシクロヘ
キシルアミン、脂肪族第三アミンたとえばトリー低級ア
ルキルアミン、たとえばジイソゾロビルエチルアミンま
たはトリエチルアミン、ビシクロ第三アミン、たとえば
１，５−ジアザビシクロ〔５゜４．０〕ウンデク−５−
エン、または芳香族アミン、たとえばピリジンの存在下
に実施する。
Ｒ２がカルボキシを表わすかあるいはＲ１、Ｒ２および
Ａの少りくとも１つが置換基としてカルボキシを含有す
る式（１）の化合物は、Ｒ２が官能的に変性されたカル
ぎキシまたはチオカルぎキシを表わすか、あるいはＲ，
、Ｒ２および／ｉたはＡが置換基として官能的に変性さ
れたカルボキシを含有する対応する化合物から、カルボ
キシ基を遊離した形にすることによって得ることができ
る。カルボキシ基は、それ自体既知の方法において、こ
とに加水分解により遊離した形にすることができる。加
水分解に適する官能的に変性されたカルボキシ基は、た
とえば、エステル化カルゲキシ、たとえばアルコキシカ
ルぎニル、アミド化カル？キシ、たとえば置換されてい
てもよいカルバモイル、およびまたシアノである。官能
的に変性されたチオカルボキシは、たとえば、置換され
ていてもよいチオカルバモイルである。加水分解は好ま
しくは水性または水性−有機塩基性媒質中で、たとえば
水性または水性−低級アルカノイル性アルカリ水酸化物
溶液あるいはまたアルカリ炭酸塩溶液中で実施する。
Ｒ２が官能的に変性されたカルボキシを表わすかあるい
は基Ｒ１、Ｒ２およびＡの少々くとも１つがこれを置換
基として含有する式（１）の化合物は、Ｒ１、Ｒ２およ
び／またはＡが遊離のあるいは異なって官能的に変性さ
れたカルボキシを表わすかあるいは含有する対応する化
合物から、それ自体既知の方法において後者の基の転化
によυ、得ることができる。官能的に変性され九カルゼ
キシは、たとえば、エステル化カル？キシ、ことに低級
アルコキシカルボニル、まだけアミド化カルゲキシ、こ
とに置換されていてもよいカルバモイルであるＯカルボ
キシまたはその反応性官能性誘導体、たとえば無水物、
ことに混合無水物、たとえば・−ロダン化水素酸と混合
無水物または炭酸のモノエステルとの混合無水物、さら
に、活性エステル、たとえばシアノメチルエステルまた
は４−ニトロベンジルエステル、ならびにまた低級アル
キルエステルの官能的に変性されたカルボキシへの転化
は、たとえば、ヒドロキシ化合物、たとえば低級アルカ
ノールを用いて、あるいはアンモニアまたは第一アミン
または第二アミンを用いて実施する。しかしながら、遊
離カルゲン酸の塩、ことにアルカリ金属、塩またはアル
カリ土類金属塩をヒドロキシ化合物、たとえば低級アル
カノールの反４ち性エステル、たとえば・・ロデン化水
素酸エステルまたは有機スルホン酸とのエステル、たと
えば低級アルカンスルホン酸またはアレンスルホン酸エ
ステル、たとえばメタンスルホン酸まだは４−トルエン
スルホン酸エステルと反応させること、あるいは遊離カ
ルゼン酸をまたジアゾ−低級アルカンと反応させてアル
カリエステルを生成すること、あるいはインシアネート
と反応させてＮ−モノー置換アミドを生成することも可
能である。さらＫ、ニトリルをそれ自体既知の方法にお
いてＮ−非置換アミドにあるいはエステル、ことに低級
アルキルエステルに転化することも可能である。遊離カ
ルデン酸とヒドロキシ化合物との反応は、有利には水結
合性縮合剤、たとえば炭化水素基で置換され九カーポジ
イミド、たとえばＮ　、　Ｎ’−ジシクロへキシルカー
ポジイミドの存在下に実施する。ハライドおよび他の混
合無水物は、たとえば、酸結合剤、たとえば、有機、こ
とに第三窒素塩基、たとえば、トリエチルアミン、エチ
ルジインプロピルアミンまたはピリジン、あるいはまた
無機塩基、たとえばアルカリ金属またはアルカリ土類金
属の水酸化物または炭酸塩の存在下に反応させる。遊離
カルどン酸とアンモニアまたは第一または第二アミンと
の反応は、たとえば、前述の水結合剤の存在下に実施す
る。しかしながら、遊離カルデン酸とアンモニアまだは
アミンとから生成したアンモニウム塩を、不活性溶媒中
の加熱および反応中遊離される水の蒸醒、必要に応じて
共沸゛蒸留にょ９、アミドに転化することも可能である
。
塩形成基をもつ式（１）の化合物の塩は、それ自体既知
の方法において製造できる。たとえば、酸性基をもつ式
（ｉ）の化合物の塩は、たとえば、金属化合物、たとえ
ば、適当な有機カルデン酸のアルカリ金属塩で処理する
か、あるいはアンモニアまたは適当な有機アミンの無機
アルカリ金属塩またはアルカリ土類金属塩で処理するこ
とにより、形成することができ、好ましくけ理論量まだ
はわずかに過剰量の塩形成剤を使用する。式（１）の化
合物の酸付加塩は、常法において、たとえば酸またけ適
当な陰イオン交換剤で処理することによシ、得られる。
たとえば、遊離カルゼキシ基を含有する式（りの化合物
の内部塩は、たとえば、塩、たとえば酸付加塩を、たと
えば弱塩基で、あるいは液状イオン交換の処理によシ、
等電点に中和することによって、形成できる。
塩は、常法において、遊離化合物に１例えば、金属塩お
よびアンモニウム塩は適当な酸で処理することＫよυ遊
離化合物に、そして酸付加塩は例えば適当な塩基剤で処
理することにより遊離の化合物に転化することができる
。
異性体の混合物は、それ自体既知の方法において、たと
えば分別結晶化、クロマトグラフィーなどによシ、個々
の異性体に分割することができる。
前述の反応は、それ自体既知の方法に従い、希釈剤の存
在または不存在下に、好ましくは反応成分に対して不活
性であシかつそれらを溶解する希釈中でおよび／または
不活性雰囲気中で、冷却しながら、室温においであるい
は高温において、たとえば、使用する溶媒の沸点におい
て、常圧または過圧において実施する。
式（１）の化合物は、その塩を含めて、水和物の形で得
ることができ、あるいは結晶化に使用した溶媒を含むこ
とができる。
遊離の形態および塩の形態の新規な化合物は密接な関係
をもつので、前の説明および後の説明において、遊離化
合物またはその塩は、意味および目的に関して適切な場
合、任意に対応する堪または遊離化合噂を意味すると理
解すべきである。
また、本発明は、この方法のいずれかの工程において中
間体として得ることができる化合物を出発物質として使
用しかつ残シの工程を実施するか、あるいは出発物質を
反応条件下において生成させるか、または誘導体、必要
に応じて塩の形態で使用する、この方法の形態に関する
。
本発明の方法において、好ましくは、この明細書の初め
にことに価値があるとして記載した化合物を生ずる出発
物質を使用する。まだ、本発明は、新規な出発物質およ
びその製造法に関する。
本発明の製剤は、活性成分として一般式Ｉの化合物また
はその塩の少なくとも１種を、常用の製薬学的担体と一
緒に含有する。担体の種類は、使用する分野に大きく依
存する。活性成分として、式（１）の化合物を含有する
本発明による医薬組成物は、経口的にあるいは非経口的
に投与することができる。
活性成分の適量は、温血動物の種、年令および個々の状
態、および投与方法に依存する。経口的投与の場合にお
いて、温血動物に対して推奨される１日の適量は、０．
１〜２５　ｏｍｙ／ｋｇ、好ましくは０．５〜５０η／
ｋｙ体重の範囲である。非経口的投与の場合において、
温血動物に対して推奨される１日の適量は００１〜１０
０ＩＱ／ゆ、好ましくは０．１〜２５ｍｙ／に１？体重
の範囲である。必要に応じて、１日の適量は３または４
０等しい投与量に分割することができる。
新規な製剤は、たとえば、はぼ１チ〜はぼ９５係、好ま
しくはほぼ１チ〜はぼ５０チの活性成分を含有する。本
発明の製剤は、たとえば、単位投与形態、たとえば糖剤
、錠剤、カプセル剤またはアンプル剤の形態である。
本発明の製剤は、それ自体既知の方法において、たとえ
ば、好適の混合、造粒、糖剤形成、可溶化またｔま凍結
乾燥により製造される・ す力わち、経口的に使用する製剤は、活性成分を固体の
単体と混合し、必要に応じて生じた混合物を造粒し、こ
の混合物または粒体を、必要に応じて適当な補助薬の添
加後、処理して錠剤または糖剤の心を形成する。適当な
担体は、ことに充填剤、たとえば糖類、たとえば、ラク
トース、サッカロース、マンニトールまたはソルビトー
ル、セルロール調製物および／またはカルシウムリン酸
塩、たとえばリン酸三カルシウムまたはリン酸水素カル
シウム、また結合剤、たとえばでん粉糊、ゼラチン、ト
ラがカント、メチルセルロースおよび／またはポリビニ
ルピロリドン、および／または、必要に応じて、崩壊剤
、たとえば前述のでん粉、さらにカル？キシメチルでん
粉、横方向に架橋されたポリビニルピロリドン、寒天、
アルギン酸またはその塩、たとえばアルギン酸ナトリウ
ムである。補助薬は、ことに流動調整剤および滑剤、た
とえばシリカ、タルク、ステアリン酸またはその塩、た
とえばステアリン酸のマグネシウム塩またはカルシウム
塩、および／またはポリエチレングリコールである。糖
剤の心に、適当な被膜、必要に応じて胃液に対して抵抗
性の被膜を施こすことができ、なかでも、アラビアゴム
、タルク、ポリビニルピロリドン、ｙｌ’）エチレング
リコールおよび／または二酸化チタンを含有してもよい
製砂糖溶液、適当な有機溶媒または溶媒混合物中のラッ
カー溶液を使用し、あるいけ胃液に対して抵抗性の被膜
を形成するために、適当なセルロース調製物、たとえば
アセチルセルロースフタレート、またはヒドロキシプロ
ピルメチルセルロースフタレートの溶液を使用する。活
性成分を識別し、または活性成分の特徴的な異なる投与
量を表示するだめに、たとえば、着色剤または顔料を錠
剤または糖剤の被膜に加えることができる。
経口的投与のためのこのほかの製剤は、ゼラチンから作
られた押込式カプセル剤およびまたゼラチンと可塑剤、
たとえばグリセリンまたはソルビトールから作られた軟
質のシールされたカプセル剤である。押込式カプセル剤
は、粒体の形態の活性成分を、たとえば充填剤、たとえ
ばラクトース、結合剤、たとえばでん粉、および／また
は滑剤、たとえば、タルクまたはステアリン酸マグネシ
ウム、および必要に応じて安定剤と混合して含有する。
軟質カプセル剤において、活性成分は好ましくは適当な
液体、たとえば、脂質、・母うフイン油または液状ポリ
エチレングリコール中に溶解または懸濁されており、こ
れに安定剤を必要に応じて加えることができる。
非経口的投与のため、水溶性の形、たとえば水溶性の塩
の形の活性成分の水溶液、まだ活性成分の懸濁液、たと
えば、適当な親油性溶媒またはビヒクル、たとえば油、
たとえばゴマ油、または合成脂肪酸エステル、たとえば
オレイン酸エチルまたはトリグリセリドを用いる対応す
る油状注射用懸濁液、あゐいは増粘剤、たとえばす）　
ＩＩウムヵルデキシメチルセルロース、ソルビトールお
よ謔ｉたはデキストランおよび必要に応じてまた安定剤
を含有する水性注射用懸濁液はことに適する。
次の実施例により本発明を説明するが、これらの実施例
は本発明を限定するものと解釈すべきではない。温度は
、セ氏である。
以下余白 例１ 乾燥テトラヒドロフラン（１７０ｍｊ）中（７）２−ト
リメチルシリル−１，３−ジチアン（１６，２１りの溶
液に、ヘキサン中のｎ−ブチルリチウムの１．９モル溶
液（４５ｍ／）を−６５℃において加える。この反応混
合物ｉ、３．５時間かけて０℃に除徐に加温し、そして
−６５℃に冷却する。次いで乾燥テトラヒドロフラン（
１００ｍ／り中（７）４−ジメチルアミノーベンゾフヱ
ノン（１９，２＃）の溶液をゆりくυ加える。反応混合
物を室温に一夜除徐に加温し、水（ｉｏｏｏｄ）とジク
ロロメタン（２ｏｏｍｚ）との混合物中に注ぐ。層を分
離した後、水溶液をジクロロメタン（３ｘ２ｏｏｍ／）
で抽出する。−鵜にした有機溶液を水（１００コ）で洗
浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する６溶媒を真空蒸発さ
せ、残留物を酢酸エチルから再結晶化する・生成物を一
定重量に真空乾燥すると、（４−ジメチルアミノフェニ
ル）−（１，３−ジチアン−２−イリデン）−フェニル
メタン、ｍ、ｐ、１７２〜１７４℃、が得られる。
例２ 例ＩＫおけるようＫし、但し、４，４′−ジフルオｉペ
ンゾノエノン（１８，４Ｉｌ）ｔ−４−ジメチルア２ノ
ぴンゾフェノンの・代ゎシに用いる・１−７Ｂロノリー
ルから再結晶化し、一定重量に真空乾燥すると、（１，
３−ジチアン−２−イリデン）−ビス−（４−フルオロ
フェニル）−メタンが得うれる、ｍ、ｐ、１６９　１７
Ｉ℃。
例３ 例１におけるようにし、但し、α、α、α−トリフルオ
ロアセト７！ｌ！、ノン（１４，７ｇ）を４−？）メチ
ルアミノベンゾフェノンの代わりに使用する。
ｎ−ヘキサンから２回再結晶化し、一定重量に真空乾燥
すると、１−（１，３−ジチアン−２−イリデン）−２
，２，２−）リフルオロ−１−フェニル−エタンが得ら
れる、ｍ−Ｐ、８７−８８℃。
例４ ヘキサン中のｎ−ブチルリチウムの１．３モル溶液（２
８ｍ／）を、乾燥テトラヒドロフラン（７０ｍｌ）中の
２−ジェトキシホスホリル−１，３−ジチオラン（ｓ、
ｉＩりの溶液に一７８℃において加える。この混合物を
一７８℃において１時間かきまぜ、そして４−フルオロ
アセトフェノン（４，３ｇ）を加える。混合物を同じ温
度でさらに１時間かへまぜ、室温にゆっくシ加温する。
溶媒の除去後、残留物をジクロロメタン（２００ｒｎｌ
）中に溶かす。この溶液を塩化アンモニウムの１０％水
溶液（３Ｘ　１００ｍ１）オヨび水（２Ｘ１００７ｕｌ
）で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、真空蒸発させ
る。油状残留物をシリカダルのクロマトグラフィーに付
し、ヘキサン／トルエン１：１で溶離する・生成物を一
定重量に真空乾燥すると、１−（１，３−ジチオラン−
２−イリデン）−１−（４−フルオロフェニル）−エタ
ン、ｍ、ｐ、２７〜３１℃、が得られる。
例５ ジクロロメタン（７０ｍ／）中の２−ジェトキシホスホ
リル−１，３−ジチオラン（２３，４１りおよび３．４
−ジメトキシ（ンズアルデヒド（１６，０９）の溶液を
、ジクロロメタン（ｓｓｍ）、水酸化ナトリウムの５（
ｌ水溶液（１７０ｍ／）およびトリエチルベンジルアン
モニウムクロライド（１，４ｇ）の混合物に加える。こ
の混合物を室温で２４時間かきまぜる。次いで２相を分
離する。水溶液をジクロロメタン（１００ｍｌ）で抽出
し、合わせた有機溶液を塩化アンモニウムの１０％水溶
液（３Ｘ１０（Ｉ＋／）：Ｔｈ！び水（２ｘｔ　ｏ　ｏ
Ｍ）で洗浄する。ジクロロメタンを硫酸マグネシウムで
乾燥し、真空蒸発させる。残留物をシリカダルのカラム
クロマトグラフィーに付し、クロロポルムで溶離する。
生成物を一定重量に真空乾燥すると、（１，３−ジチ第
２ンー２−イリデン）　−（３，４−ジメトキシフェニ
ル）−メタン、ｍ、ｐ、７４−７５℃、が得られる。
例６ 水素化ナトリウム（６，５１Ｉ、鉱油中の５５％懸濁液
）をヘキサン（３Ｘ１５ｍ））で洗浄する。次いで、乾
燥ジメチルスルホキシド（２ｏｍ））中の２−　（３−
）　ＩＪフルオロメチルフェニル）−１−（４−メトキ
シフェニル）−エタノン（２０，０，ｐ）の溶液を加え
る。この混合物を室温で２時間かきオぜ、１．２−、ジ
ブロモエタン（１９，２，９）とエーテル（４０ｍ／）
との（昆合物をゆっくり加える。
混合物を室温で１．５時間がきまぜる。次いで水（１ｏ
ｏ＊１）１ｆｔ加え、和音分離する。水相をエーテル（
３Ｘ１５０ｍｇ）で抽出し、合わせた有機溶液を水（５
Ｘ２０（１１？）で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥す
る。溶媒を真空蒸発させた後、残留換金イソゾロパノー
ルから再結晶化させるｅ生成物を一定重１［乾燥すると
、２−（ｔ、ａ−ジチオラン−２−イリデン）−２−、
（３−トリフルオロメチルフェニル）−１−（４−メト
キシフェニル）−エタノン、ｍ、ｐ、１３８　１３９℃
、が得られる。
出発物質は、次のようＫして製造できる。
Ｔ＝：／−ル（３２，４９）と三基化アルミニウム（３
６，０ｇ）を１　、２−？）クロロエタン（２４０ｍｌ
　）に加える。この混合物を一５℃に冷却し、塩化（−
３−）リフルオロメチルフェニル）−アセチル（６６，
８１りをゆりくシ加える。混合物を１．５時間かきまぜ
、砕氷（４００１と水（１５０ｍｌ）との混合物中へ注
ぐ。室温に加熱した後、化合物をエーテル（３Ｘ　２０
ｏｍｔ）で抽出する。合わせた有機相を水酸化ナトリウ
ムの２チ水溶液（２００ｍｌ）と水（３ｘ２ｏｏ＋ｕ／
）で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒ｔ−１ｌ
ｃ空除去する。残留物をへキサンから再結晶化する。生
成物音一定重量に真空乾燥すると、２−（３−）リフル
オロメチルフェニル）−１−、（４−メトキシフェニル
）−エタノン、ｍ、ｐ、９４−９５℃、が得られる。
例７ 乾燥ジメチルスルホキシド（１８０ｒｎｌ）を水軍化ナ
トリウム（９，０ｇ、鉱油中の５５％分散ｉ）へ加える
。３０分後、イソプロピル４−フルオロフェニルアセテ
−）（１７，７，ｌと二硫化炭素（８，２ｇ）を加える
。混合物を室屏で２時間かきまぜる。次いで１．２−ジ
ブロモエタン（１８，６ｇ）をゆりくシ加える。反応は
発熱性であり、温度を３０℃以下に維持する。混合物音
１時間かきまぜ、次いでエーテル＜２００ｍ１）’を加
える。０℃に冷却後、水（２００ｍ／）ｆｃゆっくシ加
える。
２相を分離する。水相をエーテル（２Ｘ　１００ｍ１．
）で抽出し、合わせた有機抽出液を水（２ｘｓｏｍ７Ｉ
）で洗浄する。硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を真空
蒸発させ、残留物をヘキサンから再結晶化させる。生成
物を一定重墳に乾燥すると、イソプロピル（１，３−ジ
チオラン−２−イリデン）−（４−フルオロフェニル）
−アセテ−）、ｍ、ｐ。
１０６〜１０７℃、が得られる。
出発・物質は、次のようにして製造できる。
４−フルオロフェニル酢酸（１２３，０１，２−プロノ
臂ノール（９６，ＯＦ）、ｐ−）ルエンスルホン酸（９
，６１およびベンゼン（１，３Ａりの混合ｌＦ／／Ｊを
、ディーン・スターク分離器によｐ７時間還流させる。
溶液を炭酸す）　ＩＪウムの１０％水溶液（２Ｘ５００
ｍｌ）と水（２ｘｓｏｏＭ）で洗浄する。（６１ｅ酸マ
グネシウムで乾燥後、溶媒と過剰の２−ゾロパノール金
真空蒸発させる。残留物を蒸留（５１〜ｂ プロピル４−フルオロフェニルアセテ−）カ得うれる。
例８ ジメチルスルホキシド（１，２１）中のイソ７６０ピル
４−フルオロフェニルアセテート（９Ｂ、１．９）の溶
液に、二硫化炭素（３８，０，９）ｉ加え、次いで水（
１５０ｍｌ）中の水酸化カリウム（８４，９Ｆ）の溶液
をゆっくシ加える。この混合物を４０℃で２時間かきま
ぜ、室温に冷却する。シス−１，２−ジクロロエチレン
（５０，９）を非常にゆっくり加え、この混合物ｔｌ−
４５℃で２時間かきまぜる。
水（１，５））とヘキサン（１１）を加え、２相金分離
し、水溶液をヘキサン（３Ｘ１１）で抽出する。合わせ
九有機相を水（２ＸＩＪ）で洗浄し、硫酸マグネシウム
で乾燥し、蒸発させる。残留物をへキサンから結晶化さ
せる。生成物音一定重駄に乾燥すると、イソプロピル（
１，３−ジｆ　オール−２−４！Ｊデン）−（４−フル
オロフェニル）−アセテート、ｍ、ｐ、　８６℃、が得
られる。
例９ 同じ化合物を、次の方法で製造できる。
水素化ナトリウム（２，２Ｌ鉱油中の５５−分散液）金
、乾燥テトラヒドロフラン（５０Ｍ）中のイソゾロピル
４−フルオロフェニルアセテート（３，９＃）の溶液に
加える。この混合物を２時間室溝においてかきまぜる。
過塩素酸２−メチルチオ−１，３−−，２チオリウム（
５，５Ｆ）？次いで加え、混合物ｔ７時間還流加熱する
。室温に冷却後、水（３ＱＱｍａ）１ゆっくυ加える。
溶液をエーテル（３，ｘ２ｏｏ＋ｎ／りで抽出する。合
わせた有機、溶液を水（１００ｍ、ｌ）で洗浄し、硫酸
マグネシウムで乾燥し、溶媒全真空蒸発する。残留物を
シリカダルのカラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサ
ン／トルエン１；９で沼離する。生成物をリグロインか
ら再結晶化し、一定重量に乾燥すると、イソプロピル（
ｉ、ａ−ジチオール−２−イリデン）−（４−フルオロ
フェニル）−アセデート、ｍ、９１８６℃（例８と同じ
）が得られる。
例１０ 例７におけるようにして、但し、ｎ−オクチル３−　）
　リフルオロメチルフェニルアセテ−）（２８，５１）
をイソプロピル４′−フルオロフェニルアセテートの代
わυに使用する。ｎ−オクチル（１，３−ジチオラン−
２−イリデン）−（３−）リフルオロメチルフェニル）
−アセテートが得られる９ｍ、ｐ、　４２−４３℃。
出発物質は、次のようにして襲造できる。
３−　）　ＩＪ　フルオロメチルフヱニル酢（Ｍ’ｌ　
（１５０，０Ｉ）、ｎ−オクタツール（１３０，０，！
ｉ’）、ｐ−トルエンスルホン酸（９，５，ｌおよびベ
ンゼン（８００ゴ）の混合物を、ディーン・スターク分
離器にょ９７時間還流させる。この溶液全炭酸ナトリウ
ムの１０％水溶液（３Ｘ５００プ）と水（３Ｘ５００ゴ
）で洗浄する。硫酸す）　ＩＪウムで乾燥後、ｍ媒を真
空蒸発する・残留物を蒸留（９５〜ｂ２　Ｘ　１０　　
Ｔｏｒｒ）すると、ｎ−オクチル３−トリフルオロメチ
ルフェニルアセテートが得られる。
例１１ 例７におけるようにし、但し、１．３−ジクロロプロツ
イン（１４，８１ｅｌ　、２−　ジクロロエタンの代わ
りに使用し、かつｎ−オクチル３−トリフルオロメチル
フェニルアセテート（２８，５，９）會イソゾロビル４
−フルオロフェニルアセテートの代わりに使用する。ｎ
−オクチル（１，３−ジチアン−２−イリデン）−（３
−トリフルオロメチルフヱニル）−アセテートが倒られ
る、ｍ、ｐ。
４９℃。
例１２ 同じ化合物を、次の方法で製造できる。
ジメチルスルホキシ）’（８５０ｆｆＬｌ）中のｈ−オ
クチル３−トリフルオロメチルフェニルアセテート（１
１２，２，？）の溶液に、二硫化炭素（３０，４１’（
ｒ加え、そして水（ｉｏｏｙ）中の水酸化カリウム（６
ｏ、ｏ、！ｉ＋）の溶液をゆっくυ加える。この混合・
Ｉ吻を４０℃で２時間かきまぜる。次いで１．３−ジク
ロロプロツイン（４０，１，ｌ音訓え、この混合−１５
０℃で３時間かきまぜる。水（８００ｍｅ）とへキザｙ
（ＲＯＯｔｎｌ）を加え、２相を分離し、水溶液會ヘキ
ザン（２Ｘ５００ｆｆ１．）で抽出する。合わせた有機
相を水（４ｏＯプ）で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥
し、蒸発させる。残留物？　（ンタンから結晶化する。
生成物を一定重量に真空乾燥すると、れ−オクチル（１
，３−ジチアン−２−イリデン）−（３−）リフルオロ
メチルフェニル）−アセテート、ｍ、ｐ、４９℃（例１
１と同一）が得られる。
例１３ 例７におけるようにし、但し、１．３−ジクロロアセト
ン（１７，１，ｌ’ｔｌ、２−ジブロモエタンの代わり
に使用し、かつｉ−オクチル３−トリフルオロメチルフ
ェニルアセテ−）（２８，５ｇ）をイソゾロぎル４−フ
ルオロフェニルアセテートの代わりに使用する。粗生成
物をシリカダルの力２ムクロマトグラフィーに付し、ヘ
キサン／酢酸エチル８０：２０で溶離する。ｎ−オクチ
ル（５−オヤソー１，３−ジチアンー２−イリデン）−
（３−）　ＩＪフルオロメチルフェニル）−アセテート
が液体、ｂ、ｐ、２２０−２２５℃／　１．５　Ｘ　１
Ｏ−２Ｔｏｒｒ、　として得られる。
例１４ 例７におけるようにして、但し、１，４−ジグロモブタ
ン（２９，２Ｊ７）ｔｌ、２−ジブロモエタンの代わり
に使用し、かつｎ−オクチル３−トリフルオロメチルフ
ェニルアセテ−）（２Ｂ、５Ｊ７）ンニイソプロＶル４
−フルオロフェニルアセテートの代わりに使用する。粗
生成物をシリカケ゛ルのカラムクロマトグラフィーに付
し、ヘキサン／トルエン（３ニア）で溶離することによ
シ精製する。
ｎ−オクチル（３−トＩＪフルオロメチルフェニル）−
（１，３−ジチェノヤンー２−イリデン）−アセテート
が、液体、ｂ、９．２４１−２４３℃／２．５刈０−２
’ｒｏｒｒ、　として得られる。
例１５ 例１におけるようにし、但し、３−アセチルピリジン（
１０，２，Ｐ）を４−ジメチルアミノベンゾフェノンの
代わシに使用する。反応混合物を水（１，０００ｍＪ）
中に注ぎ、ｉ酢酸ｚチル（３Ｘ２００ｒｒｒｌ　）で抽
出する。合わせた有機溶液を水（１００ｍｅ）で洗浄し
、硫酸マグネシウムで転傾する６溶媒をメ（空蒸発させ
、残留物音シリカゲルのクロマトグラフィーに付し、ジ
クロロメタン／酢酸エチル（１：１）で溶離することに
ょシ精製する。生成物を一定重量に真空乾燥すると、１
−（１，３−？チアンー２−イリデン）−１−（３−ピ
リジル）−エタン、ｍ、ｐ、　３４〜３６℃、が得られ
る。
例１６ 例１５におけるようにし、但し、２−フェニル−１−（
２−ピリジル）−エタノン（１６，６ｇン金３〜アセチ
ルピリジンの代わりに使用する。２−プロノサノールか
ら再結晶化し、一定重量に真空乾燥すると、１−（１，
３−ジチアン−２−イリデン）−２−７エニルー１−（
２−ピリジル）−エタンが得られる、ｍ、ｐ、９６．５
〜９７．５℃。
例１７ 例１５におけるようにし、但し、２−ジメチルアぽノー
１−フェニル−エタノール（１３，７ｇ）を３−アセチ
ルピリジンの代わシに使用する。相製物＊會酸化アルミ
ニウムのカラムクロマドグ２フイーに付し、ジクロロメ
タンで溶離することによシ精製する。生成物を一定Ｍ′
Ｂｋに真空乾燥すると、ｘＬ（１，３−ジチアン−２−
イリデン）−２−ジメチルアミノ−１−ツエニルーエタ
ンが室温における油状物としてイ＃られる。
この生成物をエタノール（１５０づ）中に溶かし、フマ
ル酸（７，９１）を加えるむこの混合物をかきまぜ、溶
媒を真空蒸発させる。水（２００ｍ１）′Ｉｔ残留物に
加え、わずかに濁った溶液全濾過し、水を凍結乾燥によ
り除去する。１−（１、３−Ｊ）チアン−２−イリデン
）−２−ジメチルアミノ−１−フェニル−エタンフマレ
ートが得う：ｉＬ　ル、ｍ、ｐ　−１３６−！１３９℃
。
例１８ 乾燥テトラヒドロフラン（６００ｍｌ）中の２−ドリメ
ヂルシリルー１．３−ジチアン（２９，１＃）の溶液に
、ヘキサン中のｎ−ブチルリチウムの１，４モル溶液（
１０８＋ｎｌ　）全一６５℃において加える。
この反応混合物を４時間Ｏ℃に徐々に加温し、−６５℃
に冷却する。ざらにヘキサン中のｎ−ブチルリチウムの
１．４モル溶液（１０８ｍ／）および乾燥テトラヒドロ
フラン（１８ｔｌ＋／ｌ）中の４−ヒドロキシベンゾフ
ェノン（３０，０！りの溶液を加え、温度ｖｉミニ−０
℃に維持する。反応混合物を室温に一夜徐々に加温する
。この懸濁液を水Ｃ２１）中にゆっくシ注ぎ入れ、塩酸
（３２％）で、Ｈ２に酸性化する。化合物を直ちに酢酸
エチル（４Ｘ５００ｍｌ　）で抽出する。合わせた有機
溶液金水（３ｘ２５０ｍｌ）で洗浄し、硫酸マグネシウ
ムで乾燥する。溶媒を真空蒸発する。残留物をへキサン
（３Ｘ５０ｍｌ　）で洗浄し、次いで四塩化炭素から再
結晶化する。生成物を一定重量に真空乾燥すると、（１
，３−ジチアン−２−イリデン）−（４−ヒドロキシフ
ェニル）−フェニルメタン、ｍ、ｐ、１３５〜１３７℃
、が得られる。
例１９ 例１８におけるようにし、但し、゛４−ベンゾイル安息
香酸（３４，２Ｆ）ｌｉ：４−ヒドロキシベンゾフェノ
ンの代わシに使用する。粗製物質金２−グロ・臂ノール
とアセトンとの混合物から再結晶化す石６生成物全一定
重量に真空乾燥すると、（４−カルゲキシフェニル）−
（１，３−ジチアン−２−イリデン）−フェニルメタン
、ｍ、ｐ、２６１　２６２℃、が得られる。
生成物（ｉｏ、ｏｇ）をエタノール（１１）中に溶かし
、水酸化ナトリウム（１，２ｍ）’を加える・この混合
物を５０℃において１５分間可溶化するまでかきまぜ、
溶媒を真空蒸発させる。残留物金水から再結晶化する。
化合物を一定重量に真空乾燥すると、（４−カルＭキシ
フェニル）　−（１，３−ジチアン−２−イリブンンー
フエニルメタンのナトリウム塩、ｍ、ｐ、：）３００℃
、が得られる。
例２０ 乾燥ジメチルスルホキシド（１３０ｍ７）を水素化ナト
リウム（９，６ＪＦ、鉱油中の５５％分散液）に加える
。３０分後、乾燥ジメチルスルホキシド（７Ｑａ／）中
のＮ　、　Ｎ−ゾ、メチル−ベンジルスルポンアミド（
２０，０！りの溶液および二硫化炭素（７，６ｇ）’ｅ
加える。混合物ｔ−３０分間かきまぜ、１．３−ジクロ
ロメタンやン（Ｂ、ａ、ｐ）をゆっくり加える。混合物
を室温において４時間かきまぜる。０℃に冷却後、水（
３００＋ｆｆ１）’にゆっくυ加え、酢酸エチル（５Ｘ
４００ｍ／）で抽出する。分わせた有機溶液を水（２Ｘ
３００Ｍ）で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、８０
０７ｍに濃縮する。
１日後、沈殿を濾過し、一定重量に真空乾燥すると、（
１，３−ジチアツー２−イリデン）’−（Ｎ、Ｎ−ジメ
チルスルホンアミド）−フェニルメタン、ｍ、ｐ、１５
９−１６０℃、が得られる。
例２１ 例１８におけるようにし、但し、３−ヒドロキシアセト
フェノン（２０，６１１）’ｔ−４−ヒドロキシベンゾ
フェノンの代わりに使用する。粗製物質をシリカダルの
カラムクロマトグー）フィーに付し、ジクロロメタンで
溶離することによυ精製する。
生成物を一定重量に真空乾燥すると、１−（１，３−ゾ
チアン−２−イリデン）−１−（３−ヒドロキシフェニ
ル）−エタン、ｍ、ｐ、　６３　６４℃、が得られる。
例２２ 水（３ＱｍＪ）中の水酸化ナトリウム（１，３ｇ）の溶
液に、（１，３−ジチアン−２−イリデン）−（４−ヒ
ドロキシフェニル）−フェニルメタン（３，ＯＦりおよ
びクロロ酢酸（１，４ｇ）を加える。
この混合物を３時間還流させる。水ｔｌ−濃塩酸でＰ１
１３にゆっくり酸性にす、る。水相を水（３Ｘ２０ｒＲ
／）で抽出する。合わせた有機相を水（２Ｘ１０ｍｌ）
で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を真空蒸
発させる。残留物金シリカｒルのカラムクロマトグラフ
ィーに伺し、ジクロロメタン／ギ酸（９９：１）で溶離
することによｐ精製する。純粋な生成物を含有するフラ
クションを水で中性になるオで洗浄し、硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、蒸発させる。残留物を一定重量に真空乾燥
すると、（４−カルボキシメトキシフェニル）−（１、
３−ジチアン−２−イリデン）−フェニルメタン、ｍ−
ｐ、１７６〜１７７　Ｃｓが得られる。
例２３ 例２におけるようにし、但し、１−（１，３−ジチアン
−２−イリプ′ン）−１−（３−ヒドロキシフェニル）
−エタン（２，４ｇ）を（１，３−ジチアン−２−イリ
デン）−（４−ヒドロキシフェニル）−フェニルメタン
の代わシに使用する。合わせた酢酸エチル溶液金、炭酸
水素す）　ＩＪウムの飽和溶液（４ｘ６０１ｎｌ）で抽
出する。合わせた水溶液を濃塩酸で酸性にし、ジクロロ
メタン（３Ｘ２００ｍｌ　）で抽出する。合わせた有機
相を硫酸す）　ＩＪウムで乾燥し、溶媒を真空蒸発させ
る。残留物をジクロロエチレンから再結晶化する。生成
物を一定重量に真空乾燥すると、１−（３−カルボキシ
メトキシフェニル）−１−（１，３−ジチアン−２−イ
リデン）−エタン、ｍ、ｐ、１３３−１３４℃、が得ら
れる。
生成物（１，Ｏ，ｒ）ｌ！エタノール　４０　ｍｌ　）
中に溶かし、水酸化ナトリウムの０．ＩＮ溶液（３３，
８酩）を加える。溶媒を真空蒸発さぜると、１−（３−
カルボキシメトキシフェニル）　−１−（１，３−ジチ
アン−２−°イリデン）−エタンのナトリウム塩、ｍ、
ｐ、〉３００℃、が得られる。
例２４ 例１におけるようにし、但し、２−アセチルチオフェン
（ｘ６．６ｇ・）を４−ジメチルアミノベンゾフェノン
の代わりに使用する。粗製物質をシリカｒルのカラムク
ロマトグラフィーに付し、ヘキサン／ジクロロメタン（
８：２）で溶離することＫよ！７Ｎ’ｆｆ１Ｉ！！する
。１−（１，３−ジチアン−２−イリデン）−１−（２
−チェニル）−エタンが液体、ｂ、ｐ、　２００−２０
５℃／　０．２１”ｏｒｒ、　として得られる。
例２５ （１，３−ジチアン−２−イリデン）−ビス−（４−フ
ルオロフェニル）−メタン（９６０ｆｆｌとメタ過ヨウ
素酸ナトリウムを、ジオキサン（６０ｍｌ　）と水（（
ｉｍ／）に溶かす、この混合物を室温において２４時間
かき゛まぜ、次いで濾過する。濾過の溶媒を真空除去し
、残買物をシリカダルのカラムクロマトグラフィーに付
し、酢酸エチル／ジクロロメタン（１：１）で溶離する
ことにより、精製する。生成物を一定重量に真空乾燥す
ると、（１，３−ジチアン−１−オキシド−２−イリデ
ン）−ビス−（４−フルオロフェニル）−メタン、”Ｐ
・１７６−１７７℃、が得られる。
以下余白 例２６ 例１におけるようにし、但し、４−（４−メチルヒヘラ
ジノ）−丁七トフェノン（１Ｂ、３．！ｉ’１４−ジメ
チルアミノーベンゾフェノンの代わりに使用する・生成
物を一定重量に乾燥すると、１−（１，３−ジチアン−
２−イリデン）−１−［４−（４−メチル−ピペラジノ
）−フェニル〕−ヱタン、ｍ、ｐ、９１　９２℃、が得
られる。
フマレートは、例１７におけるよ、うにして製造する、
ｍ、ｐ、１８５〜１８６℃。
例２７ エタノール（３７５ｍｌ）中のｎ−オクチル（ＩＩ３−
ジチアン−２−イリデン）−（３−）リフルオロメチル
フェニル）−アセテート（１５ｇ）の溶液に、水中の水
酸化す）　ＩＪウムの３０％溶液（３７５ｄ）を加える
。混合＃ｔ−２時間還流させる。溶媒を真空除去する・
水（５００１１１／）とエーテル（５００ゴ）ｔ−加え
る。この水溶液ｔ−５ＮＴＡ酸で−Ｉ４の酸性にする。
相を分離し、水溶液全エーテル（３ｘ３５０ｙｒｔｌ）
で抽出する。合わせた有機溶液を硫酸マグネシウムで乾
燥し、溶媒を真空蒸発する・残留物を石油エーテル（ｂ
、ｐ、４０〜４５℃）中ですり砕き、一定重量に真空乾
燥すると、（１，３−ジチアン−２−イリデン）−（３
−）リフルオロメチルフェニル）−酢酸、ｍ、ｐ、１６
５〜１６６℃、が得られる。
ナトリウム塩を、例２３におけるようにして製造する、
ｍ、ｐ、）３００℃。
以下余白 例２８ ナトリウム（０，３７ＩＩ）を乾燥メタノール（５ｍｌ
　）へ加える。ナトリウムが反応したとき、１−（１，
３−ジチアン−２−イリデン）−１−（３−ヒドロキシ
フェニル）−エタン（３，８３５１）の乾燥トルエン（
２０ｍ／）中の溶液を加える。この混合物を１．５時間
かきまぜ、メタノールを蒸留する。ｌ−クロロ−２−ジ
メチルアミノエタン（３，４４，９）の乾燥）ル：ｃｙ
（１０ｍＡり中の溶液を次いで加える。この混合物を１
００℃で１，５時間かきまぜ、室温に冷却する。水（１
５０ｍ７りを加え、２相を分離し、水溶液を酢酸エチル
（３×５０ｍｚ）で抽出する。合わせた有機溶液を水（
５０プ）で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒
を真空蒸発させ、残留物を一定重量に真空乾燥すると、
１−（１，３−ジチアン−２−イリデン）−１−［３−
（２−ジメチルアミノエトキシ）−フェニル〕−エタン
が液体として得られる。
フマレートを例１７におけるようにして製造する、亀′
ｐ、１３４．５−１３５．５℃。
例２９ 例１８におけるようにし、但し３−カルゼキシー４−メ
トギシーアセトフェノン（２９，２，１を４−ヒドロキ
シベンゾフェノンの代わυに使用する。粗製物質をジエ
チルエーテル（５０ｏｒｎｌ）中に溶かし、炭酸水素す
）　ＩＪウムの２Ｎ水溶液（２ｘ　３０　（ｌ　ｍｌ　
）で抽出する。有機相の溶媒を真空蒸発する。残留物を
真空乾燥すると、１−（１，３−フチアン−２−イリデ
ン）−１−（４−メトキシ−３−）ぐレリルフェニル）
−エタンカ液体、ｂ、ｐ、２５０〜２　ｆｉ　５℃／　
０．５　Ｔｏｒｒ　　として得られる。
抽出水相を−ｇにして塩酸（３２％）で、１１２の酸性
にし、ジエチルエーテル（３ｘ　５００ｍ／りテ抽出す
る。合わせた有機相を水（２ｘｉｏｏｍ／）で洗浄し、
硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を真空除４去する。残
留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフィーに付し、
酢酸エチル／クロロホルム／ギ酸５：５：１で溶離する
ことによシ精製する。
生成物を一定重量に真空乾燥すると、１−（３−カルフ
？キシー４−メトキシフェニル）−１−（１，３−ジチ
アン−２−イリデン）−エタン、ｍ、ｐ。
１３０〜１３２℃が得られる。
１−（３−カルゼキシー４−メトキシフェニル）−１−
（１，３−フチアン−２−イリデン）−エタ／（１０，
Ｊ９）をエタノール（２ｏｏｍｌ）中に溶かし、水酸化
ナトリウム（１，３ｇ）の水溶液（１０ｍｌ）を加える
。溶媒を真空蒸発させ、エタノール（５０ｍ／）を加え
る。懸濁液をかきまぜ、固体を濾過し、一定重量に真空
乾燥する。１−（３−カル＆　キシ−４−メトキシフェ
ニル）−１−（１，３−ジチアン−２−イリデン）−エ
タンのナトリウム塩が得られる。ｍ、　Ｐ、＞　３００
　℃。
例３０ 例１５におけるようにし、但し、１−（２、５−ジメト
キシフェニル）−２−ジメチルアミノ−エタン（１９，
ｏｙ）を３−アセチルピリジンの代わシに使用する。粗
製物質を酸化アルミニウムのカラムクロマトグラフィー
に付し、ｎ−ヘキサン／酢酸エチル９：１で溶離するこ
とにより精製する。生成物を一定重量に真空乾燥すると
、１−（１，３−ジチアン−２−イリデン）−１−（２
，５−ジメトキシフェニル）−２−ジメチルアミノ−エ
タンが淡黄色液体として得られる。
この生成物をエタノール（５００，ｗＡ）中に溶か（−
、シ＝つｍ（６，２９＞を加える。この混合物をかきま
ぜ、溶媒を真空蒸発させる。残留物をアセトン（４００
ｒｎｌ）に加える。この混合物を１５分間かきまぜる。
固体を沖過し、一定重量に真空乾燥すると、１−（１，
３−ジチアン−２−イリデン）−１−（２，５−ジメト
キシフェニル）−２−ジメチルアミノ−エタンオキサレ
ート、ｍ、　ｐ。
１５３．５〜１５６．５℃が得られる。
出発物質は、次のようにして製造できる。
２−ブロモ−１−（２，５−ジメトキシフェニル）−エ
タノン＜　１０．Ｏｒ）を、トルエン（４５０ｍｌ　）
中のジメチルアミン（６，１ｇ）の溶液に滴々加える。
この混合物を一夜室温においてかきまぜ、塩酸のｌＮ水
浴液（３×２５０ｍ１）で抽出する。
混合した水相を水酸化ナトリウムの２５％水溶液（２０
０ｍｌ）でアルカυ性とし、ジクロロメタン（４ｘ２ｓ
ｏｄ）で抽出する。混合した有機゛′相を水（３ｘ２０
０ｍｌ　）で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶
媒を真空蒸留し、残留物を一定重量に真空乾燥すると、
１−（２，５−ジメトキシフェニル）−２−ジメチルア
ミン−エタノンが液体、ｂ、ｆ）−２５０〜２５５℃、
として得られる。
例３１ 例１５におけるようにし、但し３−ツメチルアミン−１
−フェニル−１−プロパノン（１５，７ｇ）を３−アセ
チルピリジンの代わシに使用する。粗製物質を酸化アル
ミニウムのカラムクロマトグラフィーに付し、ｎ−ヘキ
サン／酢酸エチル９：１で溶離することにより、精製す
る。生成物を一定重量に乾燥すると、１−（１，３−ジ
チアン　２−イリデン）−３−ジメチルアミノ−１−７
ヱニルプロノ奢ン、ｍ、ｐ、１３６〜１３８℃、が得ら
れる。
フマレートを例１７におけるようにして製造する、ｍ、
ｐ、１４４〜１４７℃。
例３２ Ｖ／ｌｌ］５におけるようにし、世し１−（４−フルオ
ロフェニル）−２−ツメチルアミノ−エタノン（１５，
４，１を３−アセチルぎリジンの代わシに使用する。・
粗製物質を酸化アルミニウムのカラムクロマトグラフィ
ーに付し、ヘキサン／酢酸エチル９５：５で溶離する。
生成物を一定車量に真空乾燥すると、１−（１，３−ジ
チアン−２−イリデン）−１−（４−フルオロフェニル
）−２−ジメチルアミノ−エタンが油として得られる。
フマレートを例１７におけるように製造し、ｎ−プロ・
やノールから再結晶化させる。ｍ、ｐ、１７１〜１７２
℃。
例３３ ｆ＋１１５におけるようにし、但し１−（４−フルオロ
フェニル）−２−モルホリノエタノン（１９，０ｇ）を
３−アセチルピリジンの代わシに使用する。
粗製物質をヘキサンと酢酸エチルとの混合物から再結晶
化することにより精製する。生成物を一定重景に真空乾
燥すると、１−（１，３−ジチアン−２−イ１７デン）
−１−（４−フルオロフェニル）−２−モルホリノ−エ
タン、ｍ、　ｐ、　　１０４．５〜１０６℃が得られる
。
塩化水素がスを、３０分間、クエチルエーテル（６００
ｍｌ）中４７）１−（１，３−）ｆ７ンー２−イリデン
）”１−（４−フルオロフェニル）−２−モルホリノエ
タン（５，０９）の溶液に、泡立てて通入する。２時間
−２０℃に冷却後、沈殿を沖過し、真空乾燥すると、１
−（１，３−ジチアン−２−イリデン）−１−（４−フ
ルオロフェニル）−２−モルホリノ−エタン塩酸塩、ｍ
、ｐ、１９３〜１９４℃、が得られる。
出発物質は、次のようにして製造できる。
トルエン（１００ｍｌ）中ノモルホリ７（１６，（１ｇ
）の溶液を、トルエン（２５０ｄ）中の２−ブロモ−１
−（４−フルオロフェニル）−エタノン（’２０．０．
９）の溶液にゅっくシ加える。混合物を一夜室温におい
てかきまぜ、塩酸のＩＮ水溶液（３Ｘ　２−’５０　ｍ
／！　）で抽出する。混合水相を水酸化ナトリウムの５
０％水溶液（５５ｍｌ）でアルカリ性とし、酢酸エチル
（３Ｘ２５０ｍｌで抽出する。
混合した有機相を水（３Ｘ１０（１＋／りで洗浄し、硫
酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を真空蒸留し、残留物
を一定単ｆｔｈに真空乾燥すると、１−（’４−フルオ
ロフェニル）−２−モルホリノ−エタノンが液体として
得られる。
例３４ 例１５におけるようにし、但し、３−アミノアセトフェ
ノン（１１，５ｇ）を３−アセチルピリジンの代わりに
使用する。粗製物質は主不純物として出発３−アミノア
セトフェノンを含有し、これを四塩化炭素からの結晶化
によシ除去する。結晶母液を真空蒸発させ、残留物を酸
化アルミニウムのカラムクロマトグラフィーに付し、ヘ
キサン／酢酸エチル８：２で溶離することにより精製す
る。
生成物を一定重門に真空乾燥すると、１−（３−アミノ
フェニル）　−１−（１，、３−フチアン−２−イリデ
ン）−エタン、ｍ、ｐ、９９−１００℃、が得られる。
塩酸塩を例３３におけるように製造する、ｍ、ｐ。
１８２〜１８５℃。
例３５ コハク酸無水物（０，６３ｇ）を、乾燥トルエン中の１
−（３−アミノフェニル）−１−（１，３−ジチアン−
２−イリデン）−エタン（１，００ｇ）の溶液に加える
。この混合物を６０℃に２０分間か、きまぜながら加熱
する。沈殿を濾過し、トルエンで洗浄し、４０℃で一定
重′ｌＪに真空乾燥する。
１−（１，３−ジチアン−２−イリデン）−１−（３−
ヘミスクシンアミドフェニル）−エタンが得られる、ｍ
、ｐ、１４６〜１４８℃。
ナトリウム塩を例２３におけるようにして製造する、ｍ
、　ｐ、　）３００℃。
例３６ 例１５におけるようにし、但し、１−’（４−フルオロ
フェニル）−２−（１−ピロリジニル）−エタノン（１
７，６ｇ）を３−アセチルピリジンの代わシに使用する
。粗製物質を酸化アルミニウムのカラムクロマトグラフ
ィーに付し、ヘキサン／酢酸エチル９：１で溶離する。
生成物をヘキサン１−（１，３−ジチアン−２−イリデ
ン）−１−（４−フルオロフェニル）−２−（１−ピロ
リソニル）−エタン、ｍ、ｐ、６９〜７０℃、が得られ
る。
出発り勿￥Ｊは、次のようにして製造できる。
乾燥ジエチルエーテル（６００ｍｌ　）中の２−ブロモ
−１−（４−フルオロフェニル）−エタノン（３２，５
，ｐ）およびピロリジン＋（２１，４，９）の溶液を、
室温において４時間かき゛まぜる。沈殿を濾過し、塩化
水素ガスをこの溶液に泡立てて３０分間通人する。３０
０ｍ１のエーテルを蒸留により除去し、沈殿を炉遇する
。それをエタノールとジエチルエーテルとの混合物から
再結晶化し、一定重量に真空乾燥すると、１−（４−フ
ルオロフェニル）−２−（１−ピロリジニル）−エタノ
ン塩酸塩、ｍ、ｐ、２Ｑ４〜２０５℃、が得られる。
常法により、１−（４−フルオロフェニル）−２−（１
−ピロリノニル）−エタノンが、ｍ、　ｐ。
４９〜５０℃、の固体として得られる。
例３７ 例１５におけるようにし、但し、１−（４−フルオロフ
ェニル）−２−（イソプロピルメチルアミン）−エタノ
ン（１７，８＃）を３−アセチルピリジンの代わりに使
用する。粗管物質を酸化アルミニウムのカラムクロマト
グラフィー釦付し、ヘキサン／酢酸エチル９：ｌで溶離
することにょシ、精製する。一定重量に乾喋後、１−（
１，３−ジ゛チアンー２−イリデン）−１−（４”フル
オロフェニル）−２−（イソゾロビルメチルアミン）−
エタンが油状物として得られる。
塩酸塩を例３３におけるようにして製造する。
ｍ、ｐ、１５９〜１６１℃。
出発物質は、次のようＫして製造できる。
乾燥ジエチルエーテル（６ｏｏｍｌ）中の２−ブロモー
１−（４−フルオロフェニル）−エタノン（３２，５，
９）およびイソゾロビルメチルアミン（２１，９ＩＩ）
の溶液を、室温で２０時間かきまぜる。沈殿を濾過し、
塩化水素ガスをこの溶液に３０分間泡立てて通人する。
３００ｍ／のエーテルを蒸％７によシ除去し、沈殿を濾
過する。それをエタノールとジエチルエーテルとの混合
物から再結晶化し、一定重量に真空乾燥すると、１−（
４−フルオロフェニル）−２−（イソゾロビルメチルア
ミン）〜エタノン塩酸塩１．　Ｉｎ、ｐ＋　１８′８〜
１９０℃が得られる。
常法に、１ニジ、１−（４−フルオロフェール）−２−
（イソゾロビルメチルアミン）−エタノンが油状物とし
て得られる。
例３８ 製剤： ａ）錠剤：１００．０００個の錠剤のための成分：（２
）カルボキシメチル澱粉　　　　　　　　　２．０ユ（
３）二酸化ケイ素（Ａｅｒｏａｌｌ■−２００）　　　
　　０．５ｋｇ（４）ステアリン酸マグネシウＡ　　　
　　　　　　Ｕ、２５ｋｌ？５７．７５ｋｉ９ 活性成分を、撮動目盛測定器上忙取シ付けられたＩＩＩ
！Ｉ＋＋の格子を通して調整する〇ドラム型ミキサーに
より、活性成分を２０分間カルボキシメチル澱粉（２）
、二酸化ケイ素（３）および微結晶質セルロース（５）
と混合し、次いでステアリン酸マグネシウム（４）を加
え、混合をさらに５分間続ける。この混合物を使用して
、重Ｊｔ５７７．８ｍ９’錠剤、厘径１０．５闇の丸い
両凸の錠剤を製造する。
これらの錠剤の硬度は１３０〜１８０　Ｎ　（Ｈｅｂｅ
ｒｌｅｌｎ）であり、そして人工胃液（ｐ１１’１．２
　’、　Ｐｈａｒ＋ｎａｅｏｐｖ＠）（ｓｌｙ、■）中
の崩壊は１５分以内である。これらの錠剤の製造に、回
転型錠剤製造機を用いる。
ｂ）錠剤：１００，０００個の錠剤のための成分：（２
）カルボキシメチル澱粉　　　　　　　１．０ｋｇ（３
）蒸留水　　　　　　　　　　　　（２１，０）ゆ（４
）二酸化ケイ素（Ａ＠ｒｏｓｌｔ■−２００）　　　　
０．２５ｋｌｉＦ（５）ステアリン酸マグネシウム　　
　　　０．２５ｋＪ？活性物質を遠心分離し、粉末の形
態に乾燥し、遊星（ｐｌａｎｓｔａｒｙ）ミキサーでカ
ル７ｇキシメチル澱粉（２）と２０分間混合し、蒸・留
水で湿潤化し、２０分間混練する。得られたペースト軟
塊を振動目盛造粒機上に取シ伺けられた３、０胴の格子
を通して造粒し、流動化空気中で７０℃において乾燥す
る。
得られた粒体を１．５簡の格子を通して調整し、フリー
フォール−ミキサー（ｆｒｅｅｆａｌｌ−＋ｎ１ｘｓｒ
　ＩＣより二酸化ケイ素（４）およびステアリン酸マグ
ネシウム（５）と混合する。このようにして得られた混
合物を回転型錠剤製造機で圧縮して、硬度１２０〜１５
０　Ｎ　（Ｈｅｂｅｒｌｅｌｎ）の５１５ｍ９／錠剤の
丸い錠剤圧する。人工胃液（Ｐｈａｒｍ、Ｈｅ１ｖ、　
■）中の崩壊速度は、１５分以内である。
Ｃ）カプセル剤：１０，０００個のカプセルのための成
分： （２）ステアリン酸　　　　　　　　　　　　３０ｇ（
３）ステアリン酸マグネシウム　　　　　１０．９活性
成分のノ４−ミセリ（ｖｅｒｍｌａｅｌｌｌ）’ｉ　ｌ
　Ｈの格子に通して調整し、ステアリンｒ！１ｊｉ（２
）およびステアリン酸マグネシウム（３）と２０分間混
合する。この混合物全使用して、適当なカプセル製造器
に、ｌニジ、５００ダの活性成分を含むサイズ０のカプ
セルを製造する。人工胃液（Ｐｈａｒｍ、　Ｈｅ１．　
■）中のこれらのカプセル剤の崩壊は、１５分以内であ
る。
ｄ）注射用製剤： 活性物質、たとえば、１−（１，３−ジチアン−２−イ
リデン）−２−ジメチルアミノ−１−フェニルエタンフ
ァレート（１００，９）’ｉｍｌノ、＃イロｒン不含水
（１０ｔ）中に溶かす。パイロダン不含塩化ナトリウム
（５０＃）を加える。次いで溶液を、滅菌膜（Ｍｌｌｌ
ｌｐｏｒｅ　ＯＡ　０３−ＧＳ　、　０．２２へ、）を
通して・、なお無菌条件下ＫＳ濾過し、無菌条件下にア
ングル中に充填する。アンス０ルを密閉し、それぞれ粒
子の汚染、滅菌膜、　ｔｊイロケ９ン。
浸透圧、−１および活性物質の含量について検査する。
この技術によシ、各々１００１ｎ９の活性物質を含有す
る１０ｍｅ容のアンプルの１０００個が得られる。
薬理学的試−験 本発明による化合物の肝保獲性を、次の実験法によｐ評
価、した。
ガラクトサミンが、ラットにおいて肝炎ウィルスによシ
ヒトにおいて生成されるものに類似する肝炎の病変を誘
発することは、知られている（　　１）、　　Ｄａｐｐ
ｌｅｒ　　ａｔ　　ａｔ、　　　＊　　Ｅｘｐｅｒｉｍ
ｅｎｔａｌ　　ｍｏｌ　＠ｃｕｌ　ＩＬｒｐａｔｈｏｌ
ｏｇｙ　、　９　、２７９（１９６８）　）。したがっ
て、ガラクトサミン肝炎モデルは、肝臓保膜化合物を評
価するために広く使用されている。
体重３００ｐの雄のラット（ＲＡ　２５　、　ＣＩＢＡ
　−ＧＥ　ＩＧＹの飼育したラット、バーゼル）を使用
した。
実験の群につき８匹を用いた。５００＃／ｋ１７のがラ
クトサミン塩酸塩を皮下注射して、肝臓の損傷を生成さ
せた。試験すべき化合物は、水中５０チのｓ９　ＩＪエ
チレングリコール３００中の懸濁液として腹腔内投与し
た。対照動物には、溶媒のみを与えた。化合物は、いく
つかの投与割合において、ガラクトサミン注射の２４時
間前および同時に投与された。動物はガラクトサミン注
射後絶食させ、２４時間後に殺した。グルタメート　オ
キザロアセテート　トランサミナーゼ（ｇｌｕｔａｍａ
ｔｅ　　ｏｘａｌｏ−ａａｅｔａｔｅ　ｔｒａｎｇａｍ
ｌｎａｓｅ）　（ＧＯＴ）を肝臓の損傷の生化学的指数
として定量するために１血液を採取した。
がラクトサミンは、肝臓の壊死と相関関係がある血液の
トランスアミナーゼ（ＧＯＴ）の非常に高い増加ｔｌ−
ｐ発する。試験化合物およびがラクトサミンによシ試験
した動物において、血液のトランスアミナーゼのレベル
は有意に減少する。ガラクトサミン単独で処置した動物
と比較した、ガラクトサミンおよび化合物で処置した動
物における血液のトランスアミナーゼの変更率い）をｆ
！ＩＰ、する。各化合物は、がラクトサミン−麻酔ラッ
トの血液のトランスアミナーゼの５０チ減少を生ずる投
与量（μモル／ｋｇ）で特徴づけられる。
以十糸白 ベント′ゞルビタール睡眠時間の期（田は、肝臓の代樹
活性を反映する。したがって、この試験は肝臓の損傷の
程度およびまた肝臓保護化合物の効能を推定するために
使用できる（Ｊ、Ａ、Ｃａ舊ｔｒｏ　＠を色！４、Ｔｏ
ｘｌｅｏｌｏｇｙ　ａｎｄ　ａｐｐＨｅｄ　Ｐｈａｒｍ
ａｃｏｌｏｇ）’＋　４１１：Ｊ　０５　（１９７７）
　）。
体重が約２．５．９の雄のマウス（ＮＡ　０１　、　Ｃ
１ｂａ−ｃｏ＋ｇｙ飼ｆｆのマウス、バーゼル）を、こ
の試験のために使用した。化合物は１０９Ｉ＋のプロ゛
ぎレンゲリコール中の溶液として腹腔内に投与した。対
照動物には、溶媒のみを与えた。各群に１０匹のマウス
を含めた。３０分後、肝臓の損傷金、液状パラフィン中
の溶液としてＣＣｌ４（０，１７ｍｇ／ｌｖ）の腹腔内
税力によシ生成させた。動物をＣＣｌ４注射後２４時間
絶食させ、ベントパルビタールナトリウム塩（２０７１
１＆／に＋７）ｔ−腹腔内投与し、睡眠時間を記録した
。
各群（ＣＣ１処置動物とＣＣｌ４および試験化合物で処
置した動物）における睡眠時間の平均値を計算する。肝
臓保護されたマウスにおいて、睡眠時間はＣＣｌ４処置
マウスにおける睡眠時間と比べて減少する。ＣＣｌ４単
独で処置したマウスにおける睡眠時間と比べて、ＣＣｌ
４および試験化合物で処置したマウスにおける睡眠時間
の変更百分率として、所定の投与割合について、結果を
表ノフす。
ガラクトサミンのモデルお工びＣＣｌ４のモデルにおけ
る使用した、本発明の若干の１ヒ合９勿の試験結果を、
表ＩＫ報告する。
以−１・亦白 第１頁の続き ２１３１００　　　　　　　　　７１３８−４　Ｃ３３
３１００８２１４−４Ｃ ３３９１００）　　　　　　　　　　８２１４−４Ｃ＠
発明者　　フイリペ・マルセル・ナルベスイス国１１９
７プランジヤン・シ エマン・ドウ・う・ルドウト１ 手続補正書（自発） 昭和５８年　８月２１日 特許庁長官　若　杉和　夫殿 １、事件の表示 昭和５８年　特許願　第１１３６７２号２、発明の名称 ３、補正をする者 事件との関係　　特許出願人 名称　　ライフ　ソシエテ　アノニム ４、代理人 ５、補正の対象 明細書の「発明の詳細な説明Ｊの欄。
６、補正の内容 明細書第２３２頁第１０行目、同１１２３３頁第１行目
、及び同＠２３３頁下から第３行目・「反応図１」Ｙ「
反応方式１」に補正する。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １、次の式（Ｉａ） （０）ｎ ↑ 〔式中、Ｒ１はアリール又はヘテロアリールであシ；Ｒ
    ２は水素、場合によっては置換されている炭化水素基、
    ヘテロアリール、アシル基、式−ｓ（ｏ）ｍ−Ｒ，（式
    中ｍは０、■又は２であり、そしてＲａは場合によって
    は置換されている炭化水素基である）又は場合によって
    は機能的に変性さｈたスルホであり；Ａは場合によって
    は置換されている２価脂肪族炭化水素基であシ；そして
    ｎは０又は１である、〕 で表わされるケテンチオアセタール、及び塩形成基を有
    するこの化合物の医薬として許容される塩の、肝臓疾患
    、呼吸器疾患及び血管疾患治療用医薬の製造のだめの使
    用。 ２、Ｒ１が、場合によっては、ヒドロキシ、低級アルコ
    キシ、カル？キシー低級アルコキシ、低級アルコキシカ
    ルブニル−低級アルコキシ、ジー低級アルキルアミノ−
    低級アルコキシ、ハロー低級アルコキン、スルホ−低級
    アルコキシ、ヒドロキシ−低級アルコキシ、ハロダン、
    低級アルカノイルオキシ、ノー低級アルキルアミノ−低
    級アルカノイルオキシ、炭素原子数２０以下のアルキル
    、（ヒドロキシ、ハロケ９ン、低級アルコキシもしくは
    ジー低級アルキルアミノで置換された）低級アルキル、
    低級アルカノイル、カルゲキシ、場合によってはノー低
    級アルキルアミノによジ置換された低級アルコキシカル
    ボニル、（場合によっては低級アルキル、低級アルコキ
    シ、）・ロケ９ン及び／もしくはニトロによジ置換され
    た）ノエニル、ニトロ、アミノ、低級アルキルアミノ、
    ノー低級アルキルアミノ、低級アルキレンアミノ、（場
    合によっては低級アルキル化されている窒素原子、又は
    酸素原子もしくは硫黄原子によシ中断されている）低級
    アルキレンアミノ、低級アルカノイルアミノ、及び／又
    はカルボキシ−低級アルカノイルアミノによシ置換され
    ている炭素原子数２０個以下の単環又は多環アリール基
    であり；あるいは１．２もしくは３ｆ＠の窒素原子及び
    ／又は、酸素原子もしくは硫黄原子を含有する単環の５
    −又は６−敵へテロアリール基；又は、２個の窒素原子
    を環中に有し、又は１個の窒素原子及び／又は、酸素原
    子もしくは硫黄原子を環中に有する芳香族性の５員複素
    環と縮合ベンゼン環とからなる２環へテロアリール基；
    又は、１個又は２個の窒素原子を環ヴに有する芳香族性
    の６員複素環と縮合ベンゼン環とからなる２環へテロア
    リール基（これらのヘテロアリール基は環炭素原子によ
    り２重結合の炭素原子に結合しており、そして場合によ
    ってはヒドロキシ、低級アルコキシ、ハロダン、低級ア
    ルキル、・・ロー低級アルキル及び／又はニトロにより
    置換されている、）であり；Ｒ２はＲ１と同じ意味を有
    し、又は水素；場合によっては、ヒドロキシ、低級アル
    カノイルオキシ、場合によってはニトロ、ハロダン、低
    級アルキル及び／又は低級アルコキシによシ置換されて
    いるベンゾイルオキシ、ハロダン、低級アルコキシ、低
    級アルケニルオキシ、低級アルキルチオ、フェニルチオ
    、低級アルキルスルフィニル、フェニルスルフィニル、
    低級アルキルスルホニル、ニトロ、カルボキシ、シアノ
    、低級アルコキシカル？ニル、場合によってはモノ−も
    しくはノー低級アルキル化されているカルバモイル、ア
    ミン、低級アルキルアミノ、アミノ−低級アルキルアミ
    ノ〔゛ここで、末端アミノ基は、場合によっては、低級
    アルキル基、低級アルキレン基、又は（場合によっては
    低級アルキル化されている窒素原子、又は酸素原子もし
    くは硫黄原子により中断されている）低級アルキレン基
    によシ置換されている、〕、ジー低級アルキルアミノ、
    低級アルキレンアミノ、又は場合によっては低級アルキ
    ル化された窒素原子又は酸素原子もしくは硫黄原子によ
    り中断されている低級アルキレンアミノ（てよジ、各々
    が置換されている場合がある低級アルキル、低級アルケ
    ニル、又は低級アルキニル１場合によっ１は、低級アル
    キル、ヒドロ”　７、”Ｑｅアルコキン、ハロダン、カ
    ルがキノ又は＋ｍ級アルコキ７力ルボニルにより、各々
    がｆＩｉ換されているシクロアルキル又はシクロアルキ
    ル−低時アルキル：場合喀てよっては低級アルキル、低
    級アルコキン、・・ロダン又はニトロによす置換さｈて
    いるフェニル低級アルキル；場合によっては低級アルキ
    ル、低級アルコキシ、）・ロダン又は・・ロー低級アル
    キルによ！ｌｌ置換されている場合があるフリ、ｔ−チ
    ェニジし−又はピリツルー低級アルキル；場合によって
    はヒドロキシ、ノ・ロダン、１！￥：ｗｊ、アルコキ／
    、カル７ｆキシ、１氏級アルコキシカルデニル、シアノ
    及び／又番ま（場合によっては低級アルキルによυ置換
    されている）フェニル、にニジ置換されている低級アル
    カノイル；シクロアルカノイル−場合によっては低級ア
    ルキル、ヒドロキン、ハロゲン、低級アルコキシ、アミ
    ン、低級アルキルアミノ、ノー低級アルキルアミノ、低
    級アルカノイルアミノ、カルボキシ、低級アルコキシカ
    ルゲニル、（場合によっては七ノーもシくはジー低級ア
    ルキル化されている）カルバモイル及び／又はニトロに
    よ、シ各々が置換されている場合があるベンゾイル又は
    ナフトイル；フェニル−低級アルカノイル；場合によっ
    ては低級アルキル基又はハロゲンによシ各々が置換され
    ているフロイル又はモノイル；場合によってはヒドロキ
    シ、低級アルコキシ、ハロー低級アルキル及び／又はシ
    アノによυ置換されているピリドイル；式Ｒ３−Ｃ（＝
    Ｓ）−のチオアシル基又は弐Ｒ５−Ｃ（＝ＮＲ４）−の
    イミノアシル基（式中、Ｒ５は水素、低級アルキル、フ
    ェニル又はフェニル−低級アルキルであり、そしてＲ４
    は低級アルキル、フェニル又はフェニル−低級アルキル
    である）；カルボキシ；炭素原子数２０個以下のフルコ
    キシカルデニル；シアノ；（低級アルキレン、低級アル
    ケニル、低級アルカノイル又はベンゾイルによシ置換さ
    れた）カルバモイル、又は場合によってはモノ−又はノ
    ー低級アルキル化されているカルバモイル：場合によっ
    ては低級アルキル又は低級アルキレンにより置換されて
    いるチオカルバモイル；低級アルキルチオ、フェニルチ
    オ、フェニル−低級アルキルチオ、フェニルヌルフィニ
    ル、フェニル−低級アルキルスルフィニル、ｆｕｌｌア
    ルキルスルホニル、フェニルスルホニル又ハフェニルー
    Ｕｌ）１ルキルスルホニル（ここで、フェニル基は場合
    によっては低級アルキル、低級アルコキシ、ハロゲン及
    び／又はニトロによ多置換されている、）；スルホ；低
    級アルコキシスルホニル；フェニル−低級アルコキシス
    ルホニル、又は場合によっては低級アルキル化もしく゛
    はフェニル化されたアミノスルホニルであす；Ａは、そ
    れぞれが１〜５個の炭素原子によシ硫黄原子を分離して
    おシ、そして場合によってはオキソ、ヒドロキシ、ハロ
    ゲン、低級アルカノイルオキシ、ハロー低級アルカノイ
    ルオキシ、（場合によってはニトロ、低級アルキル及び
    ／又は低級アルコキシによ多置換されている）ベンゾイ
    ルオキシ、低級アルコキシ、場合によってはフヱニル部
    分カニトロ、ハロダン、低級アルキル及び／又は低級ア
    ルコキシにょ多置換されているフェニル低級アルコキシ
    、場合によってはニトロ、低級プルキル、低級アルコキ
    シ及び／又はハロゲンによ多置換されているフェノキシ
    、低級アルキルチオ、フェニルチオ、フェニル−低級ア
    ルキルチオ、カルボキシ、低級アルコキシカル？ニルシ
    アノ、場合によってはモノ−又はノー低級アルキル化さ
    れているカルバモイル、アミノ、低級アルキルアミノ、
    ジー低級アルキルアミノ、低級アルキレンアミノ、低級
    アルケニルアミン、アニリノ、フェニル−低級アルキル
    アミノ、低級アルカノイルアミノ、低級アルカンスルホ
    ニルアミノ、場合によっては低級アルキル又はハロダン
    にょシを換されているベンゼンスルホニルアミノ、シフ
    四アルキル、ニトロ、あるいは場合によってはヒドロキ
    シ、低級アルコキシ、ハロゲン、低級アルキル、カルボ
    キシ、低級アルコキシカル？ニル又はジー低級アルキル
    アミノにょ多置換されているフェニル、Ｋよ多置換され
    ている場合がある低級アルキレン、低級アルキリデン又
    は低級アルケニレン基であり；そしてｎが０又は１で、
    ある式（Ｉａ）の化合物、及び酸形成基を有するこの化
    合物の医薬として許容される塩を使用する特許請求の範
    囲第１項記載の使用。 ３、Ｒ１が、各々場合によっては、ヒドロキシ、低級ア
    ルコキシ、カルボキシ−低級アルコキシ、ジー低級アル
    キルアミノ−低級アルコキシ、スルホ−低級アルコキシ
    、ヒドロキシ−低級アルコキシ、ハロゲン、低級アルカ
    ノイルオキシ、ジー重縁アルキルアミノー低級アルカノ
    イルオキシ、炭素原子数１４個以下のアルキル、ノ・ロ
    ー低級アルキル、ノー低級アルキルアミノ−低級アルキ
    ル、低級アルカノイル、カルボキシ、低級アルコキシカ
    ルボニル、アミノ、低級アルキルアミノ、ジー低級アル
    キルアミノ、低級アルキレンアミノ、（場合によっては
    低級アルキル化されている窒素原子、又は酸素原子もし
    くは硫黄原子によυ中断されている）低級アルキレンア
    ミノ、低級アルカノイルアミノ及び／又はカルボキシ−
    低級アルカノイルアミノによ多置換されている場合があ
    るフェニル又はナフチル；あるいはフリル、チェニル、
    ピラゾリル、イミダゾリル、オキサシリル、イノキサゾ
    リル、チアゾリル、ピリジル、ピリミジル、インドリル
    、ベンズイミダゾリル、ベンゾフラニル、ベンゾチェニ
    ル、ペンゾキサソリル、ベンゾチアゾリル又はキノリニ
    ル（これらのへテロアリール基は環炭素原子によシ２乍
    結合の炭素原子に結合しておシ、そして場合によっては
    ヒドロキシ、低級アルコキシ、ハロダン、低級アルキル
    及び／又はハロー低級アルキルによ多置換されている）
    であ’）　＊　Ｒ２がＲ１と同じ意味を有し、又は水素
    ；低級アルキル；ヒドロキシ−低級アルキル；ハロー低
    級アルキル；低級アルコキシ−低級アルキル；低級アル
    キル−チオー低級アルキル；フェニルチオ−低級アルキ
    ル；フェニルスルフィニル−低級アルキル；低級アルキ
    ルスルホニル−低級アルキル；カルボキシ−低級アルキ
    ル；低級アルコキシカルボニル−低級アルキル；場合に
    よってはモノ−又はノー低級アルキル化されているカル
    バモイル−低級アルキル；ジー低級アルキルアミノ−低
    級アルキル；低級アルキレンアミノ−低級アルキル（低
    級アルキレン基は場合によっては、低級アルキル化され
    ている場合がある窒素原子、又は酸素原子もしくは硫黄
    原子によシ中断されている、）；アミノ−低級アルキル
    アミノ−低級アルキル〔末端アミン基は、場合によって
    は低級アルキル又は低級アルキレン（この低級アルキレ
    ンは場合によっては、低級アルキル化されている場合が
    ある窒素原子、又は酸素原子もしくは硫黄原子によシ中
    断されている）により置換されている、〕；低級アルケ
    ニル；シクロアルキル；場合によっては低級アルキル、
    低級アルコキシ又はハロゲンによジ置換されているフェ
    ニル−低級アルキル；各々場合によっては低級アルキル
    又はハロケ９ンにより置換されているフリル−、チェニ
    ル−又はビリジルー低級アルキル；場合によってはハロ
    ゲン、カルボキシ、シアノ及び／又はフェニルにより置
    換されている低級アルカノイル；場合によっては低級ア
    ルキル、ヒドロキシ、ハロゲン、低級アルコキシ、ジー
    低級アルキルアミノ、低級アルカノイルアミノ、カルボ
    キシ及び／又は（場合によってはモノ−もしくはジー低
    級アルキル化されている）カルバモイルにより置換され
    ているベンゾイル；フェニル−低級アルカノイル；式Ｒ
    ３−Ｃ（＝８）のチオアシル基（式中Ｒ５は低級アルキ
    ル又はフェニルである。）；カルボキシ；炭素原子数２
    ０個以下のアルコキシカルボニル；シアノ；場合によっ
    てはモノ−もしくはジー低級アルキル化されているカル
    バモイル、又は低級アルキレンもしくは低級アルケニル
    により置換されているカルバモイル；場合によっては低
    級アルキルにより置換されているチオカルバモイル；低
    級アルキルチオ、フェニルチオ、フェニル−低級アルキ
    ルチオ、フェニルスルフィニル、低級アルキルスルホニ
    ル又ハフェニルスルホニル（これらのフェニル基ハ、場
    合ニよってはアルキル又はハロダンにより置換されてい
    る）；スルホ、又は場合によっては低級アルキル化もし
    くはフェニル化されているアミノスルホ玉ルであシ；Ａ
    が、各々が１〜５個の炭素原子によシ硫黄原子を分離し
    ておシ、そして場合によってはオキソ、ヒドロキシ、低
    級アルカノイルオキシ、ハロー低級アルカノイルオキシ
    、場合によっては低級アルキルによジ置換され、ている
    ベンゾイルオキシ、シアノ、カルボキシ、又は場合によ
    っては七ノーもしくはノー低級アルキル化されているカ
    ルバモイルによジ置換されている低級アルキレン、低級
    アルケニレン又は低級アルキリデン基であり；そしてｎ
    がＯ又は１である式（ｌａ）の化合物、及び塩形成基を
    有するこの化合物の医薬として許容される塩を使用する
    特許請求の範囲第１項記載の使用。 ４、Ｒ１が、場合によってはヒドロキシ、低級７　Ａ、
    　ニア　キシ、例えばメトキシ、カルボキシ−低級アル
    コキシ、例えばカルボキシメトキシ、スルホ−低級アル
    コキシ、例えば２−スルホエトキシ、ジー低級アルキル
    アミノ−低級アルコキシ、例えば２−ノーメチルアミノ
    エトキシ、ハロダン、例えば弗素又は塩素、低級アルカ
    ノイル、例えば・ぐレロイル、低級アルキル、例えばメ
    チル、ハローｆｆｆｉ級アルキル、例えばトリフルオロ
    メチル、カルボキシ、アミノ、ジー低級アルキルアミノ
    、例えばジメチルアミノ、４−低級アルキルピイラジノ
    、例えば４−メチルピペラジノ、低級アルカノイルアミ
    ノ、例えばアセチルアミノ及び／又はカルブキシ−低級
    アルカノイルアミノ、例えばサクシニルアミノにより置
    換されているフェニル；ピリゾル、例えば２−又は３−
    ピリジル；又は、チェニル、例えば２−チェニルであυ
    ；Ｒ２が、水素；場合によってはヒドロキシ、低級アル
    コキシ、例えばメトキシ、ハロゲン、例えば弗素又は塩
    素、ハロー低級アルキル、例えばトリフルオロメチル、
    及び／又はノー低級アルキルアミノ、例えばジメー７−
    ／ｌ／アミノによジ置換されているフェニル；低級アル
    キル、例えばメチル；ハロー低級アルギル、例えばトリ
    フルオロメチル；カルブキシ−低級アルキル、例えばカ
    ルブキシメチル；低級アルコキシカルボニル−低級アル
    キル、例えばエトキシカル？ニルメチル；ジー低級アル
    キルアミノ−低級アルキル、例えばジメチルアミノメチ
    ル、２−ジメチルアミノエチル、又はメチルーツｆソプ
    ロピル。 アミノメチル；（低級アルキル化されている場合がある
    窒素原子、又は酸素原子もしくは硫黄原子により中断さ
    れている）低級アルキレンアミノによジ置換さり、てい
    る低級アルキル、例えばピロリジノメチル又はモルホリ
    ノメチル；フェニル低級アルキル、例えばベンジル；低
    級アルカノイル、例えばアセチル；ヒドロキシ又は低級
    アルコキシ、例えばメトキシにより置換されたベンゾイ
    ル；カル、ｔ’キシ；炭素原子数９個以下のアルコキシ
    カルボニル、例えばメトキシカルブニル、イソプロポキ
    シカルボニル又はｎ−オクチルオキシカルボニル；シア
    ノ；又はジー低級アルキルアミンスルホニル、例えばジ
    メチルアミノスルホニルであ）：Ａが、各々が２〜４個
    の炭素原子、例えばエチレン、ｌ、３−プロピレンもし
    くは１．４−ブチレン（これらは場合によってはオキソ
    又はヒドロキシによジ置換されている）、又はビニレン
    にょシ値黄原子を分離している低級アルキレン又は低級
    アルケニレン基であ゛す；そしてｎが０又は１であル式
    （ｌａ）の化合物、及び塩形成基を有するこの化合物の
    医薬として許容される塩を使用する特許請求の範囲第１
    項記載の使用。 ５、Ｒ１がハロダンによシ、例えば弗素により、ノー低
    級アルキルアミノにより、例えばジメチルアミノによシ
    、低級アルコキシにょシ、例えばメトキシにより、又は
    ハロー低級アルキルにょシ、例えばトリフルオロメチル
    にょジ置換すれているフェニル；又はピリジル、例えば
    ２−ピリノルであ’）　；　Ｒ２が、水素；場合によっ
    てはハロダン、例えば弗素により置換されたフェニル；
    低級アルキル、例えばメチル；低級アルコキシにょシ、
    例えばメトキシによジ置換されたベンゾイル；又は、炭
    素原子数９個以下のアルコキシカルボニル、例えばイソ
    プロポキシカルボニル又はｎ−オクチルオキシカルボニ
    ルであシ；Ａが、各々が２〜４個の炭素原子によシ硫黄
    原子を分離している低級アルキレン又は低級アルケニレ
    ン、例えばエチレン、１．３−プロピレン、１．４−ブ
    チレン又はビニレンであり；そしてｎがＯである式（Ｉ
    ａ）の化合物、及び塩形成基を有するこの化合物の医薬
    として許容される塩を使用する特許請求の範囲第１項記
    載の使用。 ６、次の式（Ｉｂ） （０）ｎ ↑ 〔式中、Ｒ１はアリール又はヘテロアリールであ’）：
    Ｒ２は水素、場合によっては置換されている炭化水素基
    、ヘテロアリール、アシル基、式−８（０）ｍ−Ｒａ　
    　（式中ｍｉｉ、ｏ、１又は２であシ、そしてＲ３は場
    合によっては置換されている炭化水素基である）又は場
    合によっては機能的に変性さｆｔたスルホであり；Ａは
    場合によっては置換されている２価脂肪族炭化水素基で
    あシ；そしてｎは０又は１であるが、さらに；Ｒ１及び
    Ｒ２が同一であって、場合によっては４位においてヒド
    ロキシ、又は（場合によっては低級アルコキシもしくは
    ジー置換アミノによυ置換されている）低級アルコキシ
    によジ置換されているフェニル基であり、そしてｎ妙旬
    である場合には、Ａは１．３−７’ｏピレン、２−フェ
    ニル−もＬ＜は２−１１ｉ級アルキルー１，３−プロピ
    レン以外であり、さらにＲ１が３−ピリジルであ’）、
    Ｒ２が水素であシ、そしてｎがＯである場合にはＡは３
    −ビジルビニレン以外であシ、さらにＲ１がフェニルで
    あ’）、Ｒ２がベンゾイルであシ、そして口が００場合
    はＡはフェニルビニレン以外であることを条件とする、
    〕で表わされるケテンチオアセタール、又は塩形成基を
    有するこの化合物の医薬として許容される塩゛を含有す
    る医薬。 ７、Ｒ１が、場合によっては、ヒドロキシ、低級アルコ
    キシ、カルボキシ−低級アルコキシ、低級アルコキシカ
    ルボニル−低級アルコキシ、ジー低級アルキルアミノ−
    低級アルコキシ、ハロー低級アルコキシ、スルホ−低級
    アルコキシ、ヒドロキシ−低級アルコキシ、ハロゲン、
    低級アルカノイルオキシ、ジー低級アルキルアミノ−低
    級アルカノイルオキシ、炭素原子数２０以下のアルキル
    、（ヒドロキシ、ハロゲン、低級アルコキシモジ＜は・
    ノー低級アルキルアミノで置換された）低級アルキル、
    低級アルカノイル、カルボキシ、場合ニよってはジー低
    級アルキルアミノにょυ置換された低級アルコキシカル
    ブニル、（場合によっては低級アルキル、低級アルコキ
    シ、ハロダン及び／もしくはニトロによジ置換された〕
    フェニル、ニトロ、アミノ、低級アルキルアミノ、ジー
    低級アルキルアミノ、低級アルキレンアミノ、（場合に
    よっては低級アルキル化されている窒素原子、又は酸素
    原子もしくは硫黄原子によシ中断されている）低級アル
    キレンアミノ、低級アルカノイルアミノ、及び／又はカ
    ル？キンー低級アルカノイルアミノによジ置換さｈてい
    る炭素原子数２０個以下の単環又は多環アリール基であ
    り；あるいは１．２もしくは３個の窒素原子及び／又は
    、酸素原子もしくは硫黄原子を含有する単環の５−又は
    ６−員へテロアリール基；又は、２°個の窒素原子を環
    中に有し、又は１個の窒素原子及び／又は、酸素原子も
    しくは硫黄原子を環中に有する芳香族性の５嫉複素環と
    縮合ベンゼン環とからなる２環ヘテロアリール基；又は
    、１個又は２個の窒素原子を環中に有する芳香族性の６
    員複素環と縮合ベンゼン環とからなシ２環へテロアリー
    ル基（これらのヘテロアリール基は環炭素原子によシ２
    重結合の炭素原子に結合しておシ、そして場合によって
    はヒドロキシ、低級アルコキシ、ハロダン、低級アルキ
    ル、ハロー低級アルキル及び／又はニトロによυ置換さ
    れている、）であ’）　：　Ｒ２はＲ１と同じ意味を有
    し、又は水素；場合によっては、ヒドロキシ、低級アル
    カノイルオキシ、場合によってはニトロ、ハロダン、低
    級アルキル及び／又は低級アルコキシによジ置換されて
    いるベンゾイルオキシ、ハロダン、低級アルコキシ、低
    級アルケニルオキシ、低級アルキルチオ、フェニルチオ
    、低級アルキルスルフィニル、フェニルスルフィニル、
    ｌｆｆ１級アルキルスルホニル、ニトロ、カルボキシ、
    シアノ、低級アルコキシカルブニル、場合によっては七
    ノーもしくはジー低級アルキル化されているカルバモイ
    ル、アミノ、低級アルキルアミノ、アミノ−低級アルキ
    ルアミノ〔ここで、末端アミノ基は、場合によっては、
    低級アルキル、低級アルキレン、又は（場合によっては
    低級アルキル化されている窒素原子・、又は酸素原子も
    しくは硫黄原子によシ中断されている）低級アルキレン
    基によジ置換されている、〕、ジー低級アルキルアミノ
    、低級アルキレンアミノ、又は場合によっては低級アル
    キル化された窒素原子又は酸素原子もしくは硫黄原子に
    よシ中断されている低級アルキレンアミノにより、各々
    が置換されている場合がある低級アルキル、低級アルケ
    ニル、又は低級アルキニル；場合によっては、低級アル
    キル、ヒドロキシ、低級アルコキシ、ノ・口ダン、カル
    ボキシ、又は低級アルコキシカルブニルによシ、各々が
    置換されているシクロアルキル又はシクロアルキル−低
    級アルキル；場合によっては低級アルキル、低級アルコ
    キシ、ノ・ログン又はニトロによυ置換されているフェ
    ニル低級アルキル；場合によっては低級アルキル、低級
    アルコキシ、ノ・口ダン又はハロー低級アルキルにより
    置換されている場合があるフリル−、チェニル−又はビ
    リジルー低級アルキル；場合によってはヒドロキシ、ハ
    ロダ／、低級アルコキシ、カルボキシ、低級アルコキシ
    カルボニル、シアノ及び／又は（場合によっては低級ア
    ルキルによジ置換されている）フェニル、によジ置換さ
    れている低級アルカノイル；シクロアルカノイル；場合
    によっては低級アルキル、ヒドロキシ、ハロダン、低級
    アルコキシ、アミン、低級アルキルアミノ、ジー低級ア
    ルキルアミノ、低級アルカノイルアミノ、カルボキシ、
    低級アルコキシカルブニル、（場合によってはモノ−も
    しくはシー低級アルキル化されている）カルバモイル及
    び／又はニトロによシ各々が置換されている場合がある
    ベンゾイル又はナフトイル；フェニル−低級アルカノイ
    ル；場合によっては低級アルキル基又はハロダンによシ
    各々が置換されているフロイル又はモノイル；場合によ
    ってはヒドロキシ、低級アルコキシ、ハロー低級アルキ
    ル及び／又はシアノによ）置換されているピリドイル；
    式Ｒｓ　−Ｃ（＝８　）−のチオアシル基又は式Ｒｓ　
    −Ｃ（−ｒＪＲａ　）−のイミノアシル基（式中、Ｒ３
    は水素、低級アルキル、フェニル又はフェニル−低級ア
    ルギルであり、そしてＲ４は低級アルキル、フェニル又
    はフェニル−低級アルキルである）；カルゲキシ；炭Ｘ
    ｉ子数２０個以下のアルコキシカルゲニル；シアノ；（
    低級アルキレン、低級アルケニル、低級アルカノイル又
    はベンゾイルにより置換されたカル・々モイル、又は場
    合によってはモノ−又はジ−Ｉｎアルキル化されている
    カルバモイル；場合ニよっては低級アルキル又は低級ア
    ルキレンにより置換されているチオカルバモイル；低級
    アルキルチオ、フェニルチオ、フェニル−低級アルキル
    チオ、フェニルスルフィニル、フェニル−低級アルキル
    スルフィニル、ｌｆｌアルキルスルホニル、フェニルス
    ルホニル又はフェニル−低級アルキルスルホニル（ここ
    で、フェニル基は場合によっては低級アルキル、低級ア
    ルコキシ、〕・口ロダンび／又はニトロにより置換され
    ている、）；スルホ；１ｆｆｉ級フルコキシスルホニル
    ；フェニル−低級アルコキシスルホニル、又は場合によ
    っては低級アルキル化もしくはフェニル化されたアミノ
    スルホニルであυ；Ａは、それぞれが１〜５個の炭素原
    子によυ硫黄原子を分離しておシ、そして場合によって
    はオキソ、ヒドロキシ、ハロゲン、低級アルカノイルオ
    キシ、ハロー低級アルカノイルオキシ、（場合によって
    はニトロ、低級アルキル及び／又は低級アルコキシによ
    ジ置換されている）ベンゾイルオキシ、低級アルコキシ
    、場合によってはフェニル部分がニトロ、ハロダン、低
    級アルキル及び／又は低級アルコキシによジ置換されて
    いるフェニル低級アルコキシ、場合によってはニトロ、
    低級アルキル、低級アルコキシ及び／又は・・ロダンに
    よジ置換されているフェノキシ、低級アルキルチオ、フ
    ェニルチオ、フェニル−低級アルキルチオ、カルボキシ
    、低級アルコキシカルブニル、シアノ、場合によっては
    モノ−又はノー低級アルキル化されているカルバモイル
    、アミン、低級アルキルアミノ、ジー低級アルキルアミ
    ノ、低級アルキレンアミノ、低級アルケニルアミノ、ア
    ニリノ、フェニル−低級アルキルアミノ、低級アルカノ
    イルアミノ、低級アルカンスルホニルアミノ、場合によ
    っては低級アルキル又はハロダンにょジ置換されている
    ベンゼンスルホニルアミノ、シクロアルキル、ニトロ、
    あるいは場合によってはヒドロキシ、低級アルコキシ、
    ハロゲン、低級アルキル、カルボキシ、低級アルコキシ
    カルブニル又はジー低級アルキルアミノによジ置換され
    ているフェニル、によジ置換されている場合がある低級
    アルキレン、低級アルキリデン又は低級アルケニレン基
    であシ；そしてｎがＯ又は１であるが；さらに、Ｒ１及
    びＲ２が同一であって、場合によっては４位においてヒ
    ドロキシにより、又は（場合によっては低級アルコキシ
    もしくはジー置換アミノによジ置換されている）低級ア
    ルコキシによυ置換されているフェニル基であり、ｎが
    ０である場合Ｋ　ｌ”ｉ：、Ａ　ハ１　＊　３−プロピ
    レン、２−フェニル−もしくは２−低級アルキルー１，
    ３−プロピレン以外であり、さらにＲ１がフェニルであ
    り、Ｒ２がベンゾイルであり、そしてｎがＯである場合
    に１４、Ａはフェニルビニレン以外であることを条件と
    する式（１ｂ）の化合物、又は塩形成基を有するこの化
    合物の医薬として許容される塩を含有する特許請求の範
    囲第６項記載の医薬。 ８、Ｒ１が、各々場合によっては、ヒドロキシ、低級ア
    ルコキシ、カルブキシ−低級アルコキシ、ジー低級アル
    キルアミノ−低級アルコキシ、スルホ−低級アルコキシ
    、ヒドロキシ−低級アルコキシ、ハロゲン、低級アルカ
    ノイルオキシ、ジー低級アルキルアミノ−低級アルカノ
    イルオキシ、炭素原子数１４個以下のアルキル、ハロー
    低級アルキル、ジー低級アルキルアミノ−低級アルキル
    、低級アルカノイル、カルボキシ、低級アルコキシカル
    ブニル、アミノ、低級アルキルアミノ、ジー低級アルキ
    ルアミノ、低級アルキレンアミノ、（場合によっては低
    級アルキル化されている窒素原子、又は酸素原子もしく
    は硫黄原子によυ中断されている）低級アルキレンアミ
    ノ、低級アルカノイルアミノ及び／又はカルブキシ−低
    級アルカノイルアミノによジ置換されている場合がある
    フェニル又はナフチル；あるいはフリル、チェニル、ピ
    ラゾリル、イミダゾリル、オキサシリル、イソキザゾリ
    ルーヂアゾリル、ビリツル、ピリミジル、インドリル、
    ベンズイミダゾリル、ベンゾフラニル、村ンゾチェニル
    、ベンゾキサゾリル、ベンゾチアノリル又はキノリニル
    （これらのへテロアリール基は環炭素原子によυ２重結
    合の炭素原子に結合しており、そして場合によってはヒ
    ドロキシ、１氏級アルコキシ、・・ロケ′ン、低級アル
    キル及び／又は・・ロー低級アルキルにより置換されて
    いる）であり；Ｒ２が８１と同じ意味を有し、又は水素
    ；低級アルキル；ヒドロキシ−低級アルキル；ハロー低
    級アルキル；低級アルコキシ−低級アルキル；１氏級ア
    ルキル−チオー低級アルキル；フェニルチオ−低１フル
    キル；フェニルスルフィニル−低級アルキル；低級アル
    キルスルホニル−低級アルキル１カルデキシー低級アル
    キル１低級アルコキシ力ルデニルー低級アルキル；場合
    によってはモノ−又はノー低級アルキル化されているカ
    ルノ々モイルー低級アルキル；ジー低級アルキルアミノ
    −低級アルキル；低級アルキレンアミノ−低級アルキル
    （低級アルキレン基は場合によっては、低級アルキル化
    されている場合がある窒素原子、又は酸素原子もしくは
    硫黄原子にょシ中断されている。）；アミノ−低級アル
    キルアミノ−低級アルキル〔末端アミノ基は、場合によ
    っては低級アルキル又は低級アルキレン（この低級アル
    キレンは場合によっては、低級アルキル化されている場
    合がある窒素原子、又は酸素原子もしくは硫黄原子によ
    り中断されてい０）によ多置換されている、〕；低級ア
    ルケニル；シクロアルキル；場合によっては低級アルキ
    ル、低級アルコキシ又はハロゲンにょ多置換されている
    フェニル−低級アルキル；各々場合によっては低級アル
    キル又ｄハロゲンによ多置換されているブリルー、チェ
    ニル−又はビリジルー低級アルキル；場合によりてはハ
    ロダン、カルボキシ、シアノ及び／又はフェニルにより
    置換されている低級アルカノイル；場合によっては低級
    アルキル、ヒドロキシ、ハロケ９ン、低級アルコキシ、
    ジー低級アルキルアミノ、低級アルカノイルアミノ、カ
    ルボキシ及び／又は（場合によってはモノ−もしくはジ
    ー低級アルキル化されている）カルバモイルによ多置換
    されているベンゾイル；−フェニル−低級アルカノイル
    ；　式Ｒ３−Ｃ（＝８）（７）チオアシル基（式中Ｒ３
    は低級アルキル又はフェニルである、）；カルゲキシ；
    炭素原子数２０個以下ノアルコキシカルデニル；シアノ
    ；場合によってはモノ−もしくはジー低級アルキル化さ
    れているカルバモイル、又は低級アルキレンもしくは低
    級アルケニルによ多置換されているカルノ４モイル；場
    合によっては低級アルキルによ多置換されているチオカ
    ル／クモイル；低級アルキルチオ、フェニルチオ、フェ
    ニル−低級アルキルチオ、フェニルスルフィニル、Ｉｌ
    ｌアルキルスルホニル又ハフェニルスルホニル（これら
    のフェニル基は、場合によってはアルキル又はハロゲン
    により置換されている）；スルホ、又は場合によっては
    低級アルキル化もしくはフェニル化されているアミノス
    ルホニルであり；Ａが、各々が１〜５Ｉｌｉ！！の炭素
    原子により硫黄原子を分離しており、そして場合によっ
    てはオキソ、ヒドロキシ、低級アルカノイルオキシ、ハ
    ロー低級アルカノイルオキシ、場合によっては低級アル
    キルによ多置換されているベンゾイルオキシ、シアン、
    カルボキシ、又は場合によってはモノ−もしくはジー低
    級アルキル化されていルカルパモイルによυ置換されて
    いる低級アルキレン、低級アルケニレン又は低級アルキ
    リデン基であシ；そしてｎが０又は１であるが；さらに
    、Ｒ１及びＲ２が同一であシ、そして場合によっては４
    位においてヒドロキシによシ、又は（場合によってはジ
    ー置換アミノにより置換されている）低級アルコキシに
    よ多置換されているフェニルであシ、そしてｎがＯであ
    る場合には、Ａは１，３−プロピレン又は２−低？　、
    　３−プロピレン以外であることを条件とする式（Ｉｂ
    ）の化合物、又は塩形成基を有するこの化合物の医薬と
    して許容される塩を含有する特許請求の範囲第６項記載
    の医薬。 ９、Ｒ１が、場合によってはヒドロキシ、低級アルコキ
    シ、例えばメトキシ、カルブキシ−低級アルコキシ、例
    えばカルボキシメトキシ、スルホ−低級アルコキシ、例
    えば２−スルホエトキシ、ジー低級アルキルアミノ−低
    級アルコキシ、例えば２−ツメチルアミノエトキシ、ハ
    ロダン、例えば弗素又は塩素、低級アノイル、例えばバ
    レロイル、低級アルキル、例えばメチル、ハロー低級ア
    ルキル、例えばトリフルオロメチル、カルボキシ、アミ
    ノ、ジー低級アルキルアミノ、例えばジメチルアミノ、
    ４−低級アルキルビベラジノ、例えば４−メチルビ４ラ
    ジノ、低級アルカノイルアミノ例えばアセチルアミノ及
    び／又はカルボキシ−低級アルカノイルアミノ、例えば
    サクシニルアミノにより置換されているフェニル；ぎリ
    ジル、例えば２−又け３−ビリゾル；又は、チェニル、
    例えば２−チェニルであ’）　：　Ｒ２が水素；場合に
    よってはヒドロキシ、低級アルコキシ、例えばメトキシ
    、ハロゲン、例えば弗素又は塩素、ハロー低級アルキル
    、例えばトリフルオロメチル、及び／又はジー低級アル
    キルアミノ、例えばジメチルアミノにより置換されてい
    るフェニル；低級アルキル、例えばメチル；ハロー低級
    アルキル、例えばトリフルオロメチル、カルゲキシー低
    級アルキル、例えばカルボキシメチル；（氏級アルコキ
    シカルボニルー低級アルキル、例えばエトキシカルゼニ
    ルメチル；シー低級アルキルアミノ−低級アルキル、例
    えばジメチルアミノメチル、２−ツメチルアミノエチル
    、又はメチル−イソプロピルアミノメチル；（低級アル
    キル化されている場合がある窒素原子、又は酸素原子も
    しくは硫黄原子によシ中断されている）低級アルキレン
    アミノによυ置換されている低級アルキル、例えばピロ
    リジノメチル又はモルホリノメチル；フェニル低級アル
    キル、例えばベンジル；低級アルカノイル、例えばアセ
    チル；ヒドロキシ又は低級アルコキシ、例えばメトキシ
    により置換されたベンゾイル；炭素原子数９個以下のア
    ルコキシカルボニル、例えばメトキシカルボニル、イソ
    ノロホキシカルビニル又ハｎ−オクチルオキシ力ルデニ
    ル；シアノ；又はジー低級アルキルアミノスルホニル、
    例えばツメチルアミノスルホニルであυ；Ａが、各々が
    ２〜４個の炭素原子、例えばエチレン、１．３−７’ロ
    ビレンもしくは１．４−エチレン（これ５は場合によっ
    てはオキソ又はヒドロキシにより置換されている）、又
    はビニレンにより硫黄原子を分離している低級アルキレ
    ン又は低級アルケニレン基であυ；そしてｎがＯ又は１
    であるが；さらに、ＲＩ及びＲ２が同一であり、そして
    場合によっては４位においてヒドロキシ又は低級アルコ
    キシにより置換されているフェニルであり、そしてｎが
    ０である場合には、Ａは、１．３−プロピレン又は２−
    低級アルキルー１．３−プロピレン以外であることを条
    件とする式（Ｉｂ）の化合物、又は塩形成基を有するこ
    の化合物の医薬として許容される塩を含有する特許請求
    の範囲第６項記載の医薬。 以下余白 １０、Ｒが、ハロゲンにより、例えば弗素により、シー
    低級アルキルアミノにより、例えばツメチルアミノにニ
    ジ、低級アルコキシによシ、例えばメトキシにニジ、又
    はハロー低級アルキルにより、例えばトリフルオロメチ
    ルにより置換されているフェニル；又はピリジル、例え
    ば２−ピリジルであり；Ｒ２が、水素；場合によっては
    ハロダン、例えば弗素によジ置換されたフェニル；低級
    アルキル、例工ばメチル；低級アルコキシにより、例え
    ばメトキシにより置換されたベンゾイル；又は、炭素原
    子数９個以下のアルコキシカルボニル、例えばイングロ
    ポキシ力ルデニル又はｎ−オクチルオキシカルゲニルで
    あυ；Ａが、各々が２〜４個の炭素原子により硫黄原子
    を分離している低級アルキレン又は低級アルケニレン、
    例えばエチレン、１．３−プロピレン、１．４−ブチレ
    ン又ハヒニレンであυ；そしてｎがＯである式（Ｉｂ）
    の化合物、又は塩形成基を有するこの化合物の医薬とし
    て許容される塩を含有する特許請求の範囲第６項記載の
    医薬。 １１、次の式（ｔｃ）、 （０）ｎ ↑ （式中、Ｒ１１ｄアリール又はヘテロアリールであり、
    Ｒ２は置換フェニル、場合によっては置換されている多
    環アリール基、１，２又は３１固の窒素原子及び／又は
    酸素原子を含有する単環へテロアリール、二環へテロア
    リール、場合によ、りては置換されている脂肪族−１環
    状脂肪族−１環状脂肪族−低級■旨肪族−１芳香族−低
    級脂肪族−もしくは複素環芳香族−低級脂肪族一炭化水
    素基、式−８（０）ｍ−Ｒａの基（式中、ｍは０，１又
    は２であシ、そしてＲ＆は、場合によっては置換されて
    いる炭化水素基である、）、場合によっては置換されて
    いる脂肪族−１環状脂肪族−１芳香族−１芳香族−低級
    脂肪族−もしくは複素芳香族カルボン酸のアシル基、チ
    オカルデン酸もしくはイミノカルボン酸のアシル基、場
    合によってはエステル化もしくはアミド化されているカ
    ルボキシ基、場合によっては低級アルキル又は低級アル
    キレンにより置換されているチオカルバモイル基、又は
    場合によっては機能的に変性されているスルホ基であり
    、Ａは場合によっては置換されている二価脂肪族炭化水
    素基であり、そしてｎはＯ又はｌであり；あるいは又、
    Ｒ１は（場合によってはエーテル化もしくはエステル化
    された）ヒドロキシにより置換されたフェニル基であり
    、Ｒ２は水素であり、そしてＡ及びｎは上記の意味を有
    し、さらに、Ｒ１及びＲ２が同一であって、４位におい
    てヒドロキシにより、又は（場合によっては置換アミノ
    もしくは低級アルコキシによシ装置されている）低級ア
    ルコキシによす置換されているフェニルであり、そして
    ｎが０の場合には、Ａは１．３−７’ロビレン、２−フ
    ェニル−もしくは２−低級アルキルー１．３−７’ロビ
    レン又はオキサリル以外であ、り、Ｒ１がアリール又は
    ヘテロアリールであり、Ｒ２が場合によってはエステル
    化又はアミド化されているカルボキシルであり、そして
    ｎが０の場合には、Ａはカルボキシメチレン又は低級ア
    ルコキシカル？ニルメチレン以外であり、Ｒ１がフェニ
    ルであり、Ｒ２がメチル、ｔｅｒｔ−ブチル又はフェニ
    ルチオメチルであり、そしてｎが０の場合には、Ａは１
    ．３−プロピレン、ソペンゾイルビニレン又ｔ；ｔ　２
    −　フェニル−２−ｔｅｒｔ−グチルエチリデン以外で
    あり、Ｒ１が２−トリルであり、Ｒ２が４−メトキシ−
    フェニルであり、そしてｎが０の場合にはＡは１−（２
    −）リル）　−２−（４−）　）キシフェニル）−ビニ
    レン以外であり、Ｒ１が場合によっては４−位において
    弗素又は臭素により置換されているフェニルであり、Ｒ
    ２が場合によっては４−位において弗素もしくは臭素に
    より置換されているベンゾイル、又はホルミルもしくは
    アセチルであり、そしてｎが０の場合には、Ａｆ′ｉモ
    ノ−もしくはジー置換ビニレン、２，２−ノー置換エチ
    リデン又は１．２−ジ置換２−オキンエチレン以外であ
    、！ｌ）、ｔＪカフェニルであり、Ｒ２がカルボキシ又
    はメトキシカルボニルであシ、そしてｎがＯの場合には
    Ａは場合によってはメチル−エステル化された１−フェ
    ニル−１−カルボキシメチレン以外であシ、又はｌ−フ
    ェニル−２−メトキシカル？ニルビニレン以外であり、
    Ｒ１が場合によっては４−位において塩素又はメチルに
    より置換されたフェニルであυ、Ｒ２がチオホルミル、
    チオアセチル、フェニルチオヵルノ々モイル、フェニル
    イミノメチル、メチルイミノメチル、Ｎ−フェニルカル
    バモイル、又ハ場合によっては置換されているチオカル
    バモイルであり、そしてｎがＯの場合には、ＡＩ／′ｉ
    モノ−もしく［シー　置換ビニレン又はテトラメチルエ
    チレン以外であ５．Ｒ１がフェニル又は２−ピリジルで
    あり、Ｒ２がベンゾイルであシ、そしてｎが０の場合に
    は、Ａはエチレン以外であ！１１　、Ｒ１が２−ピリジ
    ルであり、Ｒ２がインブチリル又は３−メチルブチリル
    であシ、そしてｎがＯの場合には八は１．３−プロピレ
    ン以外であシ、そして、Ｒ１がフェニルであり、Ｒ２カ
    ７ェニルスルホニル、メチルスルボニル又ハペンジルス
    ルホニルであシ、そしてｎが０の場合にＦｉＡはエチレ
    ン以外であることを条件とする、）で示されるケテンチ
    オアセタール、及び塩形成基を有するこの化合物の塩。 １２．　ａｔが、場合によっては、ヒドロキシ、低級ア
    ルコキシ、カルブキシ−低級アルコキシ、低級アルコキ
    シカルボニル−低級アルコキシ、ジー低級アルキルアミ
    ノ−低級アルコキシ、ハロー低級アルコキシ、スルホ−
    低級アルコキシ、ヒ、ドロキシ−低級アルコキシ、ハロ
    ダン、低級アルカノイルオキシ、ノー低級アルキルアミ
    ノ−低級アルカノイルオキシ、炭素原子数２０以下のア
    ルキル、（ヒドロキシ、ハロゲン、低級アルコキシもし
    くはノー低級アルキルアミノで置換された）低級アルキ
    ル、低級アルカノイル、カルボキン、場合によってはノ
    ー低級アルキルアミノにより置換された低級アルコキシ
    カルボニル、（場合によっては低級アルキル、低級アル
    コキシ、ハロダン及び／もしくはニトロによシ１直換さ
    れた）フェニル、ニトロ、アミノ、低級アルキルアミノ
    、シー低級アルキルアミノ、低級アルキレンアミノ、（
    場合によっては低級アルキル化されている窒素原子、又
    は酸素原子もしくは硫黄原子にょシ中断されている）低
    級アルキレンアミノ、低級アルカノイルアミノ、及び／
    又はカルボキシ−低級アルカノイルアミノによυ置換さ
    れている炭素原子数２７０個以下の単環又は多環アリー
    ル基であり；あるいはｌ。 ２もしくは３個の窒素原子及び／又は、酸素原子もしく
    は硫黄原子を含有する単環の５−又は６−員へテロアリ
    ール基；又は、２個の窒素原子を環中に有し、又は１個
    の窒素原子及び／又は、酸素原子もしくは硫黄原子を環
    中に有する芳香族性の５員複素環と縮合ベンゼン環とか
    らなる２環へテロアリール基；又は、１個又Ｆｉ２個の
    窒素原子を環中に有する芳香族性の６員複素環と縮合ベ
    ンゼン環とからなる２環へテロアリール基（これらのへ
    テロアリール基は環炭素原子により２重結合の炭素原子
    に結合してお９、そして場合によってはヒドロキシ、低
    級アルコキシ、ハロダン、低級アルキル、ハロー低級ア
    ルキル及び／又はニトロにより置換されている、）であ
    ’）　＊　Ｒ２が、ナフチル；それぞれが、ヒドロキシ
    、低級アルコキシ、カルブキシ−低級アルコキシ、低級
    アルコキシカルボニル−低級アルコキシ、ジー低級アル
    キルアミノ−低１アルコキシ、ハロー低級アルコキシ、
    スルホ−低級アルコキシ、ヒドロキシ−低級アルコキシ
    １．ハロケ９ン、低級アルカノイルオキシ、ジー低級ア
    ルキルアミノ−低級アルカノイルオキシ、炭素原子数２
    ０個以下のアルキル、（ヒドロキシ、ハロゲン、低級ア
    ルコキシ又はノー低級アルキルアミノにより置換されて
    いる）低級アルキル、低級アルカノイル、カルボキシ、
    場合によってはジー低級アルキルアミノによ＃）＃換さ
    れている低級アルコキシカルボニル、場合によっては低
    級アルキル、低級アルコキシ、ノ・ログン及び／又はニ
    トロにより置換されているフェニル、アミノ、低級アル
    キルアミノ、ジー低級アルキルアミノ、低級アルキレン
    アミノ、（低級アルキル化されている場合がある窒素原
    子、又は酸素原子もしくは硫黄原子により中断されてい
    る）低級アルキレンアミノ、及び／又は低級アルカノイ
    ルアミノによジ置換されているフェニル又はナフチル；
    １，２もしくは３個の窒素原子及び／又は、酸素原子も
    しくは硫黄原子を含有する単環の５−又は６−員へテロ
    アリール基、又は、２個の窒素原子を環中に有し、又は
    １個の窒素原子及び／又は、酸素原子もしくは硫黄原子
    を環中に有する芳香族性の５員複素環と縮合ベンゼン環
    とからなる２環へテロアリール基、又は、１個又は２個
    の窒素原子を環中に有する芳香族性の６員複素環と縮合
    ベンゼン環とからなる２環ヘテロアリール基（これらの
    へテロアリール基は環炭素原子に、ｌ：９２２重結の炭
    素原子に結合しておシ、そして場合によってはヒドロキ
    ７、低級アルコキシ、ハロゲン、低級アルキル、ハロー
    低級アルキル及び／又はニトロにより置換されている、
    ）、場合によっては、ヒドロキシ、低級アルカノイルオ
    キシ、場合によってはニトロ、ハロゲン、低級アルキル
    及び／又は低級アルコキシにより置換されているベンゾ
    イルオキシ、ハロケ９ン、低級アルコキシ、低級アルケ
    ニルオキシ、低級アルキルチオ、フェニルチオ、低級ア
    ルキルスルフィニル、フェニルヌルフィニル、低級アル
    キルスルホニル、ニトロ、カルボキシ、シアン、低級ア
    ルコキンカルボニル、場合によってはモノ−もしくはノ
    ー低級アルキル化されているカルバモイル、アミン、低
    級アルキルアミノ、アミノ−低級アルキルアミノ〔ここ
    で、末端アミノ基は、場合によっては、低級アルキル基
    、低級アルキレン基、又は（場合によっては低級アルキ
    ル化されている窒素原子又は酸素原子もしくは硫黄原子
    により中断されている）低級アルキレン基により置換さ
    れている、〕、ジー低級アルキルアミノ、低級アルキレ
    ンアミノ、又は低級アルキル化されている場合がある窒
    素原子又は酸素原子もしくは硫黄原子により中断されて
    いる低級アルキレンアミノにより、各々が置換されてい
    る場合がある低級アルキル、低級アルケニル、又は低級
    アルキニル；場合によっては、低級アルキル、ヒドロキ
    シ、低級アルコキシ、ハロゲン、カルボキシ又は低級ア
    ルコキシカルボニルにより、各々が置換されている７ク
    ロアルキル又はシクロアルキル−低級アルキル；場合に
    よっては低級アルキル、低級アルコキシ、ハロケ９ン又
    はニトロにより置換されているフェニル低級アルキル；
    場合によっては低級アルキル、低級アルコキシ、ノ・ロ
    ダン又ハノ・ロー低級アルキルにＸジ置換されている場
    合があるフリル−、チェニル−又はビリジルー低級アル
    キル；低級アルキルチオ、フェニルチオ、フェニル−低
    級アルキルチオ、フェニルスルフィニル、フェニル−低
    級アルキルスルフィニル、低級アルキルスルホニル、フ
    ェニルスルホニルｌｉフェニルー低級アルキルスルホニ
    ル（ここで、フェニル基は場合によっては低級アルキル
    、低級アルコキシ、）１０グン及び／又はニトロによジ
    置換されている、）；場合によってはヒドロキシ、ノ為
    ログン、低級アルコキシ、カルボキシ、低級アルコキシ
    カルボニル、シアノ及び／又は（場合によっては低級ア
    ルキルにより置換されている）フェニル、により置換さ
    れている低級アルカノイル；シクロアルカノイル；場合
    によっては低級アルキル、ヒドロキシ、ハロダン、低級
    アルコキシ、アミノ、低級アルキルアミノ、ジー低級ア
    ルキルアミノ、低級アルカノイルアミノ、カルボキシ、
    低級アルコキシカルボニル、（場合によってはモノ−も
    しくはジー低級アルキル化されている）カルバモイル及
    び／又ハ二トロにエリ各々が置換されている場合がある
    ベンゾイル又ぐまナフトイル；フェニル−低級アルカノ
    イル；場合によっては低級アルキル基又はノ・ロダンに
    より各々が置換されているフロイル又はモノイル；場合
    によってはヒドロキシ、低級アルコキン、ハロー低級ア
    ルキル及び／又はシアノにより置換されているピリドイ
    ル；式Ｒｓ−Ｃ（＝８）−のチオアシル基又は式Ｒｓ　
    −Ｃ（＝ＮＲ４）−のイミノアシル基（式中、Ｒ３は水
    素、低級アルキル、フェニル又はフェニル−低級アルキ
    ルであり、そしてＲ４は低級アルキル、フェニル又はフ
    ェニル−低級アルギルである）；カルブキジ；炭素原子
    数２註低級アルケニル、低級アルカノイル又はベンゾイ
    ルにより置換されたカルバモイル、又は場合によっては
    モノ−又はノー低級アルキル比されているカルバモイル
    ；場合によっては低級アルキル又は低級アルキレンによ
    り置換されているチオカルノ４モイル；スルホ；低級ア
    ルコキシスルホニル；フェニル−低級アルコキシスルホ
    ニル、又は場合によっては低級アルキル化もしくはフェ
    ニル化され友アミノスルホニルであり；Ａが、それぞれ
    が１〜５個の炭素原子により硫黄原子を分離しており、
    そして場合によってはオキシ、ヒドロキシ、ハロケ９ン
    、低級アルカノイルオキシ、ハロー低級アルカノイルオ
    キシ、（場合によってはニトロ、低級アルキル及び／又
    は低級アルコキシにより置換されている）ベンゾイルオ
    キシ、低級アルコキシ、場合によってはフェニル部分が
    ニトロ、ハロゲン、低級アルキル及び／又は低級アルコ
    キシによジ置換されているフェニル−低級アルコキシ、
    場合によってはニトロ、低級アルキル、低級アルコキシ
    及び／又はハロゲンにより置換されているフェノキシ、
    低級アルキルチオ、フェニルチオ、フェニル−低級アル
    キルチオ、カルボキシ、低級アルコキシカルボニル、シ
    アノ、場合によってはモノ−又はジ−低級アルキル化さ
    れているカルバモイル、アミノ、低級アルキルアミノ、
    ジー低級アルキルアミン、低級アルキレンアミノ、低級
    アルケニルアミノ、アニリノ、フェニル−低級アルキル
    アミノ、低級アルカノイルアミノ、低級アルカンスルホ
    ニルアミノ、場合によっては低級アルキル又はハロダン
    により置換されているベンゼンスルホニルアミノ、シク
    ロアルキル、ニトロ、あるいは場合によってはヒドロキ
    シ、低級アルコキシ、ハロケ９ン、低級アルキル、カル
    ボキシ、低級アルコキシカルボニル又はノー低級アルキ
    ルアミノにより置換されているフェニル、により置換さ
    れている場合がある低級アルキレン、低級アルキリデン
    又は低級アルケニレン基であり；そしてｎがＯ又はｌで
    あり；あるいｅま又、Ｒ１がヒドロキシ、低級アルコキ
    シ、カルボニル低級アルコキシ、ジー低級アルキルアミ
    ノ゛−低級アルコキシ、スルホ−低級アルコキン及び／
    又はハロダンにより置換されているフェニルであり、Ｒ
    が水素であり、そして八及びｎが上記の意味を有し、さ
    らに、Ｒ１及びＲ２が同一であって、４位においてヒド
    ロキシにより、（シ 又は（場合によっては置換アミノもしくは低級アルコキ
    シによシ装置されている）低級アルコキシによシ置換さ
    れているフェニルであり、そしてｎが０の場合には、Ａ
    は１．３−ゾロピレン、２−フェニル−もしくは２−低
    級アルキルー１．３−ゾロピレン又はオキサリル以外で
    あ’）、Ｒ１がアリール又はヘテロ°アリールであり、
    Ｒ２がカルボキシ、アルコキシカルボニル又は場合によ
    っては置換さｆＬ　ｆＣカル／Ｊ　％イルであシ、そし
    てｎが０の場合には、Ａはカルボキシメチレン又は低級
    アルコキシカルボニルメチレン以外であり、Ｒ１がフェ
    ニルであり、Ｒ２がメチル、ｔｅｒｔ−ブチル又はフェ
    ニルチオメチルであシ、そしてｎが０の場合には、Ａは
    １．３−ゾロピレン又は２−フェニル−２−ｔｅｙｔ−
    ブチルエチリデン以外であり、Ｒ１が２−トリルであり
    、Ｒ２が４−メトキシ−フェニルであり、そしてｎがＯ
    の場合にはＡは１−（２−Ｌ）リル）−２−（４−メト
    キシ−フェニル）−ビニＩＪ　７”ン以外であり、Ｒ１
    が場合によっては４−位において弗素もしくは臭素によ
    り置換されているフェニυであシ、Ｒ２が場合によって
    は４位において弗素もしくは臭素により置換されたベン
    ゾイル、又はホルミルもしくはアセチルであり、そして
    ｎがＯの場合には、八は上記のようにモノ−もしくはノ
    ー置換されたビニレン、２．２−−）置換されたエチリ
    デン、又Ｃま上記のように１．１−ジ置換された２−オ
    キンエチレン以外であり、Ｒ１がフェニルであり、Ｒ２
    がカルボキシ又はメトキシカルブニルであり、ナしてｎ
    がＯである場合には、ｋは場合によってはメチル−エス
    テル化された１−フェニル−１−カルボキンエチリデン
    以外であり、又は１−フェニル−２−メトキシカルボニ
    ルビニレン以外であり、Ｒ１が場合によっては４位にお
    いて塩素又はメチルにより置換されたフェニルであり、
    Ｒ２がチオホルミル、チオアセチル、フェニルチオカル
    ビニル、フェニルイミノメチル、メチルイミノメチル又
    は場合によっては上記のように置換されたチオカルバモ
    イルであり、そしてｎがＯの場合には、Ａは上記のよう
    にモノ−もしくはジー置換されたビニレン又はテトラメ
    チルエチレン以外であベンゾイルであり、そしてｎが０
    である場合には、Ａはエチレン以外であ’）　％　Ｒ１
    がフェニルであり、Ｒ２７５（フェニルスルホニル、メ
    チルスルボニル又はベンジルスルホニルであり、そして
    ｎが０の場合には、Ａはエチレン以外であることを特徴
    とする特許請求の範囲第１１項記載の式（Ｉｃ）の化合
    物、及び塩形成基を有するこの化合物の塩。 １３、　Ｒ１が、各々場合によっては、ヒドロキシ、低
    級アルコキシ、カルボキシ−低級アルコキシ、ジー低級
    アルキルアミノ−低級アルコキシ、スルホ−低級アルコ
    キシ、ヒドロキシ−低級アルコキシ、ハロゲン、低級ア
    ルカノイルオキシ、ノー低級アルキルアミノ−低級アル
    カノイルオキシ、炭素原子数１４個以下のアルキル、ハ
    ロー低級アルキル、ノー低級アルキルアミノ−低級アル
    キル、低級アルカノイル、カルボキシ、低級アルコキシ
    カルボニル、アミノ、低級アルキルアミノ、ノー低級ア
    ルキルアミノ、低級アルキレンアミノ、（場合によって
    は低級アルキル化されている窒素原子、いる）低級アル
    キレンアミノ、低級アルカノイルアミノ及び／又はカル
    ボキシ−低級アルカノイルアミノにより置慢されている
    場合があるフェニル又はナフチル；あるいはフリル、チ
    ェニル、ピラゾリル、イミダゾリル、オキサシリル、イ
    ンキサゾリル、チアゾリル、ピリジル、ピリミジル、イ
    ンドリル、ベンズイミダゾリル、ベンゾフラニル、ベン
    ゾチェニル、ベンゾキサゾリル、ベンゾチアゾリル父は
    キノリニル（これらのへテロアリール基Ｃｉ環炭素原子
    に、ｌ：す２重結合の炭素原子に結合しており、そして
    場合によってはヒドロキシ、低級アルコキシ、ハロゲン
    、低級アルキル及び／又はハロー低級アルキルにより置
    換されている）であり；Ｒ２が、それぞれがヒドロキシ
    、低級アルコキシ、カルボキシ−低級アルコキン、ノー
    低級アルキル−アミノ−低級アルコキシ、スルポー低級
    アルコキシ、ヒドロキシ−低級アルコキシ、ハロダン、
    低級アルカノイルオキシ、ジー低級アルキルアミノ−低
    級アルカノイルオキシ、炭素原子数１４個以下のアルキ
    ル、ハロー低級アルキル、ジー低級アルキルアミノ−低
    級アルキル、低級アルカノイル、カルボキン、（ｌアル
    コキシカルボニル、アミノ、低級アルキルアミノ、ノー
    低級アルキルアミノ、低級アルキレンアミノ、（場合に
    よっては低級アルキル化されている窒素原子、又は酸素
    原子もしくは硫黄原子により中断されている）低級アル
    キレンアミノ、低級アルカノイルアミノ及ヒ／又は九か
    差キ汝＝低級アルカノイルアミノにより置換されている
    フェニル＆仕カ云丑ｔ；あるいはフリル、チェニル、ピ
    ラゾリル、イミダゾリル、オキサシリル、インキサゾリ
    ル、チアゾリル、ピリジル、ピリミジル、インドリル、
    ベンズイミダゾリル、ベンゾフラニル、ベンゾチェニル
    、ベンゾキサゾリル、ベンゾチアゾリル又はキノリニル
    （これらのヘテロアリール基は環炭素原子により２重結
    合の炭素原子に結合しておシ、そして場合によってはヒ
    ドロキシ、低級アルコキシ、ハロダン、低級アルキル及
    び／又はハロー低級アルキルにより置換されている）；
    低級アルキル；ヒドロキシ−低級アルキル；ハロー低級
    アルキル；低級アルコキシ−低級アルキル；低級アルキ
    ルチオ−低級アルキル；フェニルチオ−低級アルキル；
    フェニルスルフィニル−低級アルキル；低級アルキルス
    ルホニル−低級アルキル；カルボキシ−低級アルキル；
    低級アルコキシカルブニル−低級アルキル；場合によっ
    てはモノ−又はノー低級アルキル比されているカルバモ
    イル−低級アルキル；ノー低級アルキルアミノ−低級ア
    ルキル；低級アルキレンアミノ−低級アルキル（低級ア
    ルキレン基は場合ＶＣよっては、低級アルキル化されて
    いる場合がある窒素原子、又は酸素原子もしくは硫黄原
    子により中断されている、）；アミノ−低級アルキルア
    ミノ−低級アルキル〔末端アミノ基は、場合によっては
    低級アルキル又は低級アルキレン（この低級アルキレン
    は場合によっては、低級アルキル化されている場合があ
    る窒素原子、又は酸素原子もしくは硫黄原子により中断
    されている）により置換されている、〕；低級アルケニ
    ル；シクロアルキル：場合によっては低級アルキル、低
    級アルコキシ又はハロケ９ンによジ置換されているフェ
    ニル−低級アルキル：各々場合によっては低級アルキル
    又はハロケリにより置換されているフリル−、チェニル
    −又はビリジルー低級アルキル；低級アルキルチオ、フ
    ェニルチオ、フェニル−低級アルキルチオ、フェニルス
    ルフィニル、低級アルキルスルホニル又ハフェニルスル
    ポニル（これらのフェニル基は、場合によってはアルキ
    ル又はハロダンにょジ置換されている）；場合によって
    はハロダン、カルぎキシ、シアン及び／又はフェニルに
    より置換されている低級アルカノイル；場合によっては
    低級アルキル、ヒドロキシ、ハロダン、低級アルコキシ
    、ジー低級アルキルアミノ、低級アルカノイルアミノ、
    カルボキシ及び／又は場合によってはモノ−もしくはノ
    ー低級アルキル化されているカルバモイルにょジ置換さ
    れているペンソイル；フェニル−低級アルカノイル；式
    Ｒ５−Ｃ（＝Ｓ）のチオアシル基（式中Ｒ３は低級アル
    キル又はフェニルである、）；カルボキシ；炭素原子数
    ２０個以下のアルコキシカルボニル；場合ニよってはモ
    ノ−もしくはノー低級アルキル化されているカルバモイ
    ル、又は低級アルキレンもしくは低級アルケニルにより
    置換されているカルバモイル；場合によっては低級アル
    キルにより置換されているチオカルバモイル；スルホ、
    又ｉ［合によっては低級アルキル化もしくはフェニル化
    されているアミノスルホニルであり；Ａが、各々が１〜
    ５個の炭素原子によシ硫黄原子を分離しており、ぞして
    場合によってはオキソ、ヒドロキシ、低級アルカノイル
    オキシ、ハロー低級アルカノイルオキノ、鳴合シこよっ
    ては低級アルキルにより置換されているベンゾイルオキ
    シ、シアノ、カルボキシ、又は場合によってはモノ−も
    しくはノー低級アルキルｆヒされているカルバモイルに
    より置換されている低級アルキレン、低級アルケニレン
    又は低級アルキリデン基であり；そしてｎが０又はｌで
    あれたフェニルであり、Ｒ２，が水素であり、そしてＡ
    及びｎは上記の意味を有し、さらに、Ｒ１及びＲ２が同
    一であって、４−位においてヒドロキシによシ、又は（
    場合によってはジー置換アミノにより置換された）低級
    アルコキシにより置換されたフェニル基であυ、そして
    ｎがＯである場合には八は１．３−プロピレン、２−低
    級アルキル−１゜３−プロピレン又はオキサリル以外で
    あＬＦＬｌがアリール又はヘテロアリールであり、Ｒ２
    がカルボキシ、アルコキシカルボニル又は場合によって
    は置換されているカルバモイルであり、そしてｎが０の
    場合には、Ａはカルボキシメチレン以外であり、Ｒ１が
    フェニルであり、Ｒ２がメチル、ｔｅｒｔ−ブチル又は
    フェニルチオメチルであり、そしてｎが００場合にはＡ
    は１．３−プロピレン以外であり％Ｒ１が場合によって
    は４−位において弗素もしくは臭素により置換されてい
    るフェニルであり、Ｒ２が場合によっては４−位におい
    て弗素もしくは臭素により置換されたベンゾイル、又は
    ホルミルもしくはアセチルであυ、そしてｎが０の場合
    には、Ａは前記のようにモノ−もしくはジー置換された
    ビニレン、前記のように２．２−ジー置換されたエチリ
    デン又は１．１−ジー置換された２−オキソエチレン以
    外であり、Ｒ１が場合によっては４−位において塩素又
    はメチルにより置換されたフェニルであり、Ｒ２がチオ
    アセチル、フェニルチオカル＋ｔ’ニル又は場合によっ
    ては肥土のように置換されたチオカルバモイルであり、
    そしてｎがＯの場合には、Ａは上記のようにモノ−もし
    くはジー置換されたビニレン、又はテトラメチルエチレ
    ン以外であり、Ｒ１がフェニル又は２−ピリジルであり
    、Ｒ２がベンゾ・ｆルであシ、そしてｎが０の場合には
    ＡＩ／まエチレン以外であり、Ｒ１が２−ピリジルでア
    リ、Ｒ２がインブチリル又は３−メチル−ブチリルであ
    り、そしてｎが０の場合にはＡは１゜３−プロピレン以
    外であり、そしてＲ１がフェニルテアｎ　、　Ｒ２カフ
    ェニルスルホニル又ハメチルスルポニルであり、そして
    ｎがＯの場合にはＡはエチレン以外であることを特徴と
    する特許請求の範囲第１１項記載の式（Ｉｅ）の化合物
    、及び塩形成基を有するこの化合物の塩。 １４、　Ｒ１が、場合によってはヒドロキシ、低級アル
    コキン、例えばメトキシ、カルボキシ−低級アルコキシ
    、例エバカルボキシメトキシ、スルホ−低級アルコキシ
    、例えば２−スルホエトキシ、ジー低級アルキルアミノ
    −低級アルコキシ、例えば２−ノーメチルアミノエトキ
    シ、ハロゲン、例えば弗素又は塩素、低級アルカノイル
    、例えばバレロイル、低級アルキル、例えばメチル、ハ
    ロー低級アルキル、例えばトリフルオロメチル、カルぎ
    キシ、アミン、ジー低級アルキルアミノ、例えばツメチ
    ルアミノ、４−低級アルキルビベラノノ、例えば４−メ
    チルビにラジノ、低級アルカノイルアミノ例えばアセチ
    ルアミノ及び／又はカルボキシ−低級アルカノイルアミ
    ノ、例えばサクソニルアミノにより置換されているフェ
    ニル；ピリジル、例えば２−又は３−ピリジル；又は、
    チェニル、例えば２−チェニルであ’）　＊　Ｒ２が、
    場合によってはヒドロキシ、低級アルコキシ、例えばメ
    トキシ、カルボキシ−低級アルコキシ、例えばカルボキ
    シメトキシ、ハロゲン、例えば弗素又は塩素、ハロー低
    級アルキル、例えばトリフルオロメチル、カルボキシ、
    及び／又はジー低級アルキルアミノ、例えばツメチルア
    ミノにより置換されているフェニル；低級アルキル、例
    えばメチル；フェニル低級アルキル、例えばベンジル；
    ハロー低級アルキル、例えばトリフルオロメチル；カル
    ｙＮ−’ｌ−シー低級アルキル、例えばカルボキンメチ
    ル；低級アルコキ７力ルデニルー低級アルキル、例、ｔ
    Ｊｆエトキシカルボニルメチル；ジー低級アルキルアミ
    ノ−低級アルキル、例えばツメチルアミノメチル、２−
    ツメチルアミノエチル、又はメチルーインゾロビルアミ
    ノメチル；（低級アルキル化されている場合がある窒素
    原子、又は酸素原子もしくは硫黄原子により中断されて
    いる）低級アルキレンアミノにより置換されている低級
    アルキル、例えばピロリツノメチル父ｔまモルホリノメ
    チル；ヒドロキシ又は低級アルコキシ、例えばメトキシ
    にょシ置換されたベンゾイル；カルボキシ；炭素原子数
    ９個以下のアルコキソ力ルボニル、例えばメトキシカル
    ボニル、イングロポキシヵルボニル又ｎｎ　−オクチル
    オキシカルブニル；又はノー低級アルキルアミンスルホ
    ニル、例えばジメチルアミノスルホニルであり；Ａが、
    各々が２〜４個の炭素原子が硫黄原子を分離している低
    級アルキレン又は低級アルケニレン、例、ｔばエチレン
    、１．３−７’ロビレンもしくは１．４−ブチレン（こ
    れらは場合によってはオキソ又はヒドロキシにより置換
    されている）、又はビニレンであシ；そしてｎが０又は
    １であシ；あるいは又Ｒ１が低級アル、コキシ、例えば
    メトキシによりジー置換されているフェニルであ、ｊ７
    、Ｒ２が水素であり、そしてＡ及びｎが上記の意味を有
    し、さらに％Ｒ１及びＲ２が同一であって、４−位にお
    いてヒドロキシ又は低級アルコキシにより置換されてい
    るフェニル基であり、そしてｎが０の場合は、Ａが１，
    ３−プロピレン、２−メチル−１，３−７’ロビレン又
    はオキサリル以外であり、Ｒ１がフェニルであシＲ２が
    メチル又はｔｅｒｔ−ブチルであシ、そしてｎが０の場
    合は、Ａが１゜３−ゾロピレン以外であることを特徴と
    する特許請求の範囲第１１項の式（ｒｅ）の化合物、及
    び塩形成基を有するこの化合物の医薬として許容される
    塩。 １５、　Ｒ，が、ハロゲンにより、例えば弗素によシ、
    又はハロー低級アルキルにより、例えばトリフルオロメ
    チルにより置換されているフェニル；又はビリノル、例
    えば２−ピリジルであり；Ｒ２が、場合によってはハロ
    ケ゛ン、例えば弗素により置換されたフェニル；低級ア
    ルキル、例えばメチル；フェニル低級アルギル、例えば
    ペンノル；低級アルコキシにより、例えばメトキシによ
    り置換されたベンゾイル；又は、炭素原子数９個以下の
    アルコキ７力ルゼニル、例えばイングロポキシカル？ニ
    ル又１ｔｉ　ｎ−オクチルオキシカルブニルでアリ；Ａ
    が、各々が２〜４個の炭素原子によシ硫黄原子を分離し
    でいる低級アルキレン又は低級アルケニレン、例えばエ
    チレン、１．３−７’ロビレン、１゜４−ブチレン又は
    ビニレンであり；そしてｎがＯであり；あるいは父、Ｒ
    １がフェニルであり、Ｒ２がノー低級アルキルアミノ、
    例えばジメチルアミノにより置換されたフェニルであり
    、そしてＡ及びｎが上記の意味を有し；あるいは又、Ｒ
    １が低級アルコキンにより、例えばメトキシにより置換
    されたフェニルであり、Ｒ２が水素であり、そしてＡ及
    びｎが上記の意味を有する特許請求の範囲第１１項の式
    （ｌｅ）の化合物、及び塩形成基を有するこの化合物の
    医薬として許容される塩。 １６、　（１、３−ジチアン−２−イリデン）−（４−
    ツメチルアミノフェニル）−フェニルメタンである特許
    請求の範囲第１１項記載の化合物及びその塩。 １７、（１，３−ジチアン−２−イリデン）−ビス−（
    ４−フルオロフェニル）−メタンである特許請求の範囲
    第１１項記載の化合物。 １８、１−　（１、３−ジチオラン−２−イリデン）−
    １−（４−フルオロフェニル）−エタンでアル特許請求
    の範囲第１１項記載の化合物。 １９、　（１、３−ジチオラン−２−イリデン）−（３
    ，４−ジメトキシフェニル）−メタンである特許請求の
    範囲第１１項記載の化合物。 ２０、２−　（１、３−ジチアン−２−イリデン）−１
    −（４−メトキシフェニル）−２−（３−）リフルオロ
    メチルフェニル）−エタノンである特許請求の範囲第１
    １項記載の化合物。 ２１．イソプロピル（１，３−ジチオラン−２−イリデ
    ン）−（４−フルオロフェニル）−７セテートである特
    許請求の範囲第１１項記載の化合物。 ２２、イソプロピル（１１３−ジチオルー２−イリデン
    ）−（４−フルオロフェニル）−アセテートである特許
    請求の範囲第１１項記載の化合物。 ２３、ｎ−オクチル（１，３−ジチオラン−２−イリデ
    ン）−（３−トリフルオロメチルフェニル）−アセテー
    トである特許請求の範囲第１１項記載の化合物。 ２４、ｎ−オクチル（ｌ、３−ジチアン−２−イリデン
    ）−（３−）リフルオロメチルフェニルルアセテートで
    ある特許請求の範囲第１１項記載の化合物。 ２５、れ−オクチル（１，３−ジチェパンー２−イリデ
    ン）−（３−トリフルオロメチルフェニル）−アセテー
    トである特許請求の範囲第１１項記載の化合物。 ２６．１−（１，３−フチアン−２−イリデン）−２−
    フェニル−１−（２−ピリジル）−エタンである特許請
    求の範囲第１１項記載の化合物及びその塩。 ２７、次の式（ＩＪ、 （０）ｎ ↑ （式中％Ｒ１はアリール又はヘテロアリールであり、Ｒ
    ２は置換フェニル、場合によっては置換されている多環
    アリール基、１，２又は３１１１ｉ１の窒素原子及び／
    又は酸素原子を含有する単環へテロアリール、二環へテ
    ロアリール、場合によっては置換されている脂肪族−１
    環状脂肪族−１環状脂肪族−低級脂肪族−１芳香族−低
    級脂肪族−もしくは複素環−低級脂肪族一炭化水素基、
    式−８（０）ｍ−Ｒａの源式中、ｍは０，１又は２であ
    シ、そしてＲａは、場合によっては置換されている炭化
    水素基である、）、場合によっては置換されている脂肪
    族−１環状脂肪族−１芳香族−１芳香族−低級脂肪族−
    もしくは複素芳香族カルボン酸のアシル基、チオカルボ
    ン酸もしくはイミノカルデン酸のアシル基、場合によっ
    てはエステル比もしくはアミド化されているカルボキシ
    基、場合によっては低級アルキル又は低級アルキレンに
    より置換されているチオカルバモイル基、又は場合によ
    っては機能的に変性されているスルホ基であり、Ａは場
    合によっては置換されている二価脂肪族炭化水素基であ
    り、そしてｎは０又は１であり；あるいは又、Ｒ１は（
    場合によってはエーテル化もしくはエステル化された）
    ヒドロキンにより置換されたフェニル基であり、Ｒ２は
    水素であυ、そしてＡ及びｎは上記の意味を有し、さら
    に、Ｒ１及びＲ２が同一であって、４位においてヒドロ
    キシにより、又は（場合によっては置換アミンもしくは
    低級アルコキシにより装置されている）低級アルコキシ
    により置換されているフェニルであり、そしてｎが０の
    場合には、Ａｉ、ｊｌ、３−ゾロピレン、２−フェニル
    ーモＬ＜Ｒ２−低級アルキルー１．３−プロピレン又は
    オキサリル以外であり、Ｒ１がアリール又はヘテロアリ
    ールであり％Ｒ２が場合によってはエステル化又はアミ
    ド化されているカルボキシルであり、そしてｎがＯの場
    合には、Ａはカルボキシメチレン又は低級アルコキシカ
    ルブニルメチレン以外であ’）　、Ｒ１がフェニルであ
    り、Ｒ２がメチル、ｔｅｒｔ−ブチル又はフェニルチオ
    メチルであり、そしてｎが０の場合には、Ａは１，３−
    プロピレン、ノペンゾイルビニレン又は２−７エニルー
    ２−　ｔｅｒｔ−！チルエチリデン以外であり、Ｒ１が
    ２−トリルであり　、Ｒ２が４−メトキシ−フェニルで
    あシ、そしてｎが０の場合にｉｄＡは１−（２−）リル
    ）−２−（４−メトキシフェニル）−ビニレン以外であ
    す、Ｒ１が場合によっては４−位において弗素又は臭素
    にょジ置換されているフェニルであり、Ｒ２が場合によ
    っては４−位において弗素もしくは臭素、ｍモノ−もし
    くはノー置換ビニル、２，２−ジー置換エチリデン又は
    １．２−ジ置換２−オキンエチレン以外であ’）、Ｒ１
    がフェニルであシ、Ｒ２がカルデキシ又はメトキシカル
    デニルであシ、そしてｎが０の場合にはＡは場合によっ
    てはメチル−エステル化された１−フェニル−１−カル
    がキシエチリデン以外であり、又はｌ−フェニル−２−
    メトキジカルブニルビニレン以外であり、Ｒ１が場合に
    よっては４−位において塩素又はメチルによジ置換され
    たフェニルであ！Ｊ、Ｒ２がチオホルミル、チオアセチ
    ル、フェニルチオカルバモイル、フェニルイミノメチル
    、メチルイミノメチル、Ｎ−フェニルカルバモイル又は
    場合によっては置換されているチオカルバモイルであり
    、そしてｎがＯの場合には、Ａはモノ−もしくはジー置
    環ビニレン又はテトラメチルエチレン以外であ’）　、
    Ｒ１カフェニル又は２−ピリジルであり％Ｒ２がベンゾ
    イルであり、そしてｎが０の場合にＦｉＡはエチレン以
    外であり、Ｒ１が２−ピリジルであυ、ＩＩ２がインゾ
    チリル又は３−メチルブチリルであり、そしてｎが０の
    場合にはＡは１．３−７’ロビレン以外であり、そして
    、Ｒ１がフェニルであり、ＩＩ２が７エニルスルホニル
    、メチルスルホニル又ハヘンジルスルホエルであシ、そ
    してｎが０の場合にはＡはエチレン以外であることを条
    件とする、）で示されるチテンチオアセタール、及び塩
    形成基を有するこの化合物の塩の製造方法において、（
    ａ）　　次の式（ＩＩ）、 （０）ｎ ↑ （式中、Ｒ５は除去される基であり、Ｍｌは金属基であ
    り、そしてＡ及びｎは式（ＩＪにおいて記載した意味を
    有する、） で表わされる化合物を、次の式（ＩＩＩ）、Ｒ１−Ｃ（
    −０）−Ｒ２（ＩＩＩ） （式中、Ｒ１及びＲ２は式（Ｉｃ）において記載した意
    味を有する、） で表わされる化合物と反応せしめ；又は（ｂ）　　ｎが
    ０である式（Ｉｃ）の化合物を製造するために、次の式
    （Ｊｖ）、 以を泊 （式中、Ｍ２は金属基であり、そしてＲ１及びＲ２は式
    （１ｃ）において記した意味を有する、）で表わされる
    化合物を、基Ａを誘導し得る試薬と反応せしめ；又は （ｃ）　　次の式（Ｖ）、 （式中、Ｘ３及びＸＡの一方は除去される基であり、他
    方は水素であり、そしてＲ１、Ｒ２、Ａ及びｎｉよ式（
    １ｃ）において記した意味含有する、）で表わされる化
    合物を除去剤で処理し；又は（ｄ）　　ｎが０である式
    （ｉｏ）の化合物を製造するために、次の式（Ｖｌ）、 Ｒ，Ｒ２ｃ−Ｒ６（’Ａ） で表わされる化合物を、次の式（■）、（式中、Ｒ６及
    びＲ７の一方はホスホルアニリデン基であり、他方は酸
    素又は硫黄であり、そしてＲ１、Ｒ２及びＡは式Ｃｌ０
    ）において記載した意味を有する、） で表わされる化合物で処理し；又は （、）　　ｎが０である式Ｃ１ｅ）の化合物を製造する
    ために、次の式（電、 （式中、Ｘ４は機能的に変形されたヒドロキシ基又はエ
    ーテル化されたメルカプト基であり、ＹｌはＲ２であＶ
    、そしてＹｌは機能的に変形されたヒドロキシ基又は二
    置換アミノ基であり；あるいはＹｌ及びＹｌは一緒に炭
    素−炭素結合を表わし、そしてＸ４は機能的に変形した
    ヒドロキシ基であり、そしてＲ１及びＲ２は式（夏。）
    において記した意味を有する、） で表わされる化合物を、次の式（ＩＸ）、Ｈ８−Ａ−３
    ）ｔ　　　　　　　　　　（噸（式中、Ａは式（Ｉｃ）
    において記した意味を有する、） で表わされるノチオール化合物と反応せしめ；又は （ｆ）　　ｎがＯである式（Ｉｅ）の化合物を製造する
    ため（（、次の式（Ｘ）、 （式中、Ｒ１及びＲ２は式（ｔａ）において記した意味
    を有する、） で表わさｈるニトリルを、次の成像）、Ｈ３−Ａ−８１
    （（ＩＸ） （式中、Ａは式（Ｉｃ）において記した意味を有する、
    ） で表わされる化合物と反応せしめ；又は（ｇ）　　ｎが
    ０である式（Ｉｃ）の化合物を製造するために、次の式
    （ＸＩ）、 （式中、Ａは式（１，）において記した意味を有する、
    ） で表わされるモノチオカルブネートを、次の式゛（２）
    、（式中、Ｒ１及びＲ２は式（Ｉｅ）において記載した
    意味を有する、） で表わされるチオアミドと反応せしめ；又は、（ｈ）　
    　次の式（Ｘ［ＩＩ）、 （０）ｎ ↑ θ あり、Ｘ５は陰イオンであり１そしてＡは式（１，）に
    おいて記した意味を有する、） で表わされるカルペニウム塩を、次の式ＧＶｃ　）、Ｒ
    １−ＣＨ２−Ｒ２（ＩＶｃ） （式中、Ｒ１及びＲ２は式（Ｉｅ）において記載した意
    味を有する、） で表わされるメチレン化合物と反応せしめ；又は、（１
    ）　　ｎが０である式（ｌｅ）の化合物を製造するため
    に、次の式（ＸＩＶ）、 １ （式中、２は環化によジ基Ａに転換される基であり、そ
    してＲ１、Ｒ２及びＡは式（Ｉｌりにおいて記した意味
    を有する、） で表わされる化合物を環化し；又は、 （ｊ）　　ｎが０である式（Ｉｃ）の化合物を製造する
    ために、次の式（ＸＶ） （式中、Ｒ１、Ｒ２及びＡは式（ｌｃ）において記した
    意味を有する、） で表わされる化合物を脱水素剤で処理し；又は、（ｋ）
    　　ｎが０である式（Ｉｅ）の化合物を製造するために
    、次の式（ｘｖＤｌ （式中、Ｒ９はエーテル化されたヒドロキシ基であり、
    そしてＲ１及びＲ２は式（１ｅ）において記した意味を
    有する、） で表わされる化合物を、次の式（Ｘｖｖ。 ＡＣ−８−Ａｔ（Ｒｌｏ）２）２　　　　　　（ＸＶＴ
    Ｄ代中、ＲＩＯは低級アルキル基であり、そしてＡは式
    （ＩＪにおいて記した意味を有する、）で表わされるア
    ルミニウム化合物で処理し；又は、（イ）　Ｒ２が場合
    によっては置換されており、少なくとも１個のα−水素
    原子を有する炭化水素基でありｎ５Ｒ１及びＡが式（１
    （＋）において記した意味を有する式（Ｉｅ）の化合物
    を製造するために、次の弐〇旬、 以下余白 （０）ｎ ↑ （式中、心は場合によっては置換されているヒドロカル
    ビリデン基である、） で表わされる化合物を異性比し；又は、（ｍ）　　Ｒ２
    が式＋ｔ３−Ｃ（＝Ｓ）−のチオア７ル基、又は式Ｒ３
    −Ｃ（＝ＮＲ４）−のイミノアシル（式中、Ｒ３は水素
    、（［＆フルキル、フェニル又ハフエ＝／レ−低級アル
    キルであり、そしてＲ４は低級アルキルニル又はフェニ
    ル−低級アルキルである、）、又は場合によっては低級
    アルキル チオカルバモイル基であり、Ａが置換エチレン基又は置
    換ビニレン基であり、ｎがＯであり、そしてＲ１が式（
    １ｃ）において記載した意味を有する式（ｌｃ）の化合
    物を製造するために、次の式（薫）、（式中、Ｒ１１は
    Ｒ３と同じ意味であり、又は場合によっては低級アルキ
    ルによりモノ−もしくはジー置換された、もしくは低級
    アルキレンにより置換されたアミン基、又はメルカプト
    基であり、そしてＸ８は硫黄原子、又は場合によっては
    低級アルキルにより置換されたイミノ基である、）で表
    わされる化合物を、基Ａを誘導することができる二価ア
    ルキル比剤で処理し；又は、（ｎ）　　Ｒ２が水素であ
    ５，ｎが０であり、そして八及びＲ１が式（ＩＪにおい
    て記した意味を有する式（１ｃ）の化合物を製造するた
    めに、次の式（ＸＸ）、（式中、ｚ７Ｆｉホスホニウム
    基である、）で表わされる化合物を加水分解剤で処理し
    ；又は、（ｏ）　　Ｒ２が水素、場合によっては置換さ
    れた炭化水素基、アリール又はヘテロアリールであり、
    Ａが式−〇（Ｒ１）＝Ｃ（Ｒ２）−〇二価基であり、ｎ
    が０であり、そしてＲ１が式（Ｉｅ）において記した意
    味を有する式（Ｉｃ）の化合物を製造するために、次の
    式（ＸＸＴ）、 （式中、Ｒ１及びＲ２は相互交換することができる、） で表わされるチアノアゾールから窒素を脱離し；又は、 （ｒ＋）　　Ａが式−Ｃ（Ｒ１　、　Ｒ２）−Ｃｏ−の
    オキンエチレンであり、ｎがＯでありそしてＲ１及びＲ
    ２が式（１，）において記した意味を有する式（Ｉｃ）
    の化合物を製造するために、次の式（ＸＸＩＩ）、 Ｒ＋　−Ｃ（＝Ｃ）−Ｃ（＝Ｎ２　）−Ｒ２　　　慎■
    ）せしめ；又は、 （ｑ）　　ｎが０である式（Ｉ（１）の化合物を製造す
    るために、次の式α■）、 以下余白 （式中、Ｒ１、Ｒ２及びＡは式（Ｉｅ）において記した
    意味を有する、） で表わされる化合物を脱硫剤で処理し；出発物質（式■
    〜ｘｘｎｉ）中の官能基を所望により保護し、そして得
    られた（式１ｅ）の化合物中に存在する保護された官能
    基を遊離官能基に転化し、そして所望により、得られた
    式１ｅの化合物を式（１ｅ）の他の化合物に転化し、そ
    して／又は、所望により、得られた塩を遊離化合物に又
    は他の塩に転化し、そして／又は、所望によシ、得られ
    た式（１ｅ）の塩形成基を有する遊離化合物を塩に転化
    し、そして／又は、所望により、得られた式（１ｃ）の
    異性体化合物を個々の異性体に分離することを特徴とす
    る方法。 以下余白
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