JPS59167936A - シヤドウマスク組立体の製法 - Google Patents
シヤドウマスク組立体の製法Info
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- JPS59167936A JPS59167936A JP4119784A JP4119784A JPS59167936A JP S59167936 A JPS59167936 A JP S59167936A JP 4119784 A JP4119784 A JP 4119784A JP 4119784 A JP4119784 A JP 4119784A JP S59167936 A JPS59167936 A JP S59167936A
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- frame
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
- H01J29/02—Electrodes; Screens; Mounting, supporting, spacing or insulating thereof
- H01J29/06—Screens for shielding; Masks interposed in the electron stream
- H01J29/07—Shadow masks for colour television tubes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/02—Manufacture of electrodes or electrode systems
- H01J9/14—Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes
- H01J9/142—Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes of shadow-masks for colour television tubes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2229/00—Details of cathode ray tubes or electron beam tubes
- H01J2229/07—Shadow masks
- H01J2229/0722—Frame
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2229/00—Details of cathode ray tubes or electron beam tubes
- H01J2229/07—Shadow masks
- H01J2229/0727—Aperture plate
- H01J2229/0733—Aperture plate characterised by the material
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Electrodes For Cathode-Ray Tubes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、シャドウマスク組立体の製法、特に平面陰極
線管用のシャドウマスク組立体の製法に関する。
線管用のシャドウマスク組立体の製法に関する。
従来技術とその問題点
はとんどのカラーテレビで使用する陰憔祿管(以下C凡
Tという。)及び類1以のカラー画慮衣示装鉦は、通常
3原色(赤、緑、りのそれぞれに対応1−る3個の亀す
絖を有する。電子鏡は、′a庫の中心軸に関して対称に
配置され、電子鏡及び1侭惟発光表示スクリーン間に自
己直されたシャドウマスク(又はアパチャーグリル)の
小孔又は細孔を通過する各電子ビームを発生する。表示
スクリーン)’i、CRTの内面のドツト又は縞状の規
則的パターンに被着した3色の螢光体で形成さ2(る。
Tという。)及び類1以のカラー画慮衣示装鉦は、通常
3原色(赤、緑、りのそれぞれに対応1−る3個の亀す
絖を有する。電子鏡は、′a庫の中心軸に関して対称に
配置され、電子鏡及び1侭惟発光表示スクリーン間に自
己直されたシャドウマスク(又はアパチャーグリル)の
小孔又は細孔を通過する各電子ビームを発生する。表示
スクリーン)’i、CRTの内面のドツト又は縞状の規
則的パターンに被着した3色の螢光体で形成さ2(る。
螢光体被着物及びシャドウマスク孔は、各電子ビームが
それぞれの発光色の被着物のみを衝撃するように配列さ
れるのが理想的である。厄子低及びスクリーン間に配置
された従来の電磁ヨークは、スクリーン面上に3個のビ
ーム乞聞回して可視カラー画像を形成する。
それぞれの発光色の被着物のみを衝撃するように配列さ
れるのが理想的である。厄子低及びスクリーン間に配置
された従来の電磁ヨークは、スクリーン面上に3個のビ
ーム乞聞回して可視カラー画像を形成する。
最も一般的な市販のカラーCRTは、曲面状投映パネル
すなわちフェースプレートを有する。かかるC)tTの
シャドウマスクも、はぼフェース7ル−トの形状に浴っ
て円筒又は球状K1曲している。一方、航空用高解像度
表示器の如ざ待足の用珊では、カラーCRTのフェース
プレートはほぼ平面であることが望ましい。I(lBl
状ノエースグレート乞何するCRTの設計7し想に促え
ば、平面CRT用のシャドウマスクも平面が又にそれに
・αめて近(なげればならない。しかし、十面状シャド
ウマスクは、従来の曲面状シャドウマスクと違って自己
支狩1−るのに充分な強度及び剛性が欠けている。強度
を増す1つの方法は、米国特許第4 、122 、36
8号(マスメートン)及び第4,146,816号(モ
ーレル)明細書に記載された波型シャドウマスクか、米
国特許第4,136,300号(モーレル)明細書に開
示された球面状シャドウマスクを使用することである。
すなわちフェースプレートを有する。かかるC)tTの
シャドウマスクも、はぼフェース7ル−トの形状に浴っ
て円筒又は球状K1曲している。一方、航空用高解像度
表示器の如ざ待足の用珊では、カラーCRTのフェース
プレートはほぼ平面であることが望ましい。I(lBl
状ノエースグレート乞何するCRTの設計7し想に促え
ば、平面CRT用のシャドウマスクも平面が又にそれに
・αめて近(なげればならない。しかし、十面状シャド
ウマスクは、従来の曲面状シャドウマスクと違って自己
支狩1−るのに充分な強度及び剛性が欠けている。強度
を増す1つの方法は、米国特許第4 、122 、36
8号(マスメートン)及び第4,146,816号(モ
ーレル)明細書に記載された波型シャドウマスクか、米
国特許第4,136,300号(モーレル)明細書に開
示された球面状シャドウマスクを使用することである。
しかし、波型又は球面状シャドウマスクは、高解像度マ
スクに要求される薄板材料で製造することが困難であり
、マスクの成る部分にスクリーンに向かった局部的ふ(
らみが生じる現象すなわち「ドーミング」が起き易い。
スクに要求される薄板材料で製造することが困難であり
、マスクの成る部分にスクリーンに向かった局部的ふ(
らみが生じる現象すなわち「ドーミング」が起き易い。
ドーミングは、電子ビームによりシャドウマスクが不均
一に加熱されることによって起き、電子ビームに走査ず
れケ生じさせて色純度を劣化させる。この影響は、表示
スクリーンの骨細から離れる程太き(なる。
一に加熱されることによって起き、電子ビームに走査ず
れケ生じさせて色純度を劣化させる。この影響は、表示
スクリーンの骨細から離れる程太き(なる。
平面C)tT用の平面状シャドウマスクの、黒度tJ”
dJすために考えられる他の方法は、円筒状フェースプ
レートを有する市販のCRTで行なうようにシャドウマ
スクを張る(張力を与える)ことである。しかし、この
方法は、CRT内で張られたシャドウマスクを支持する
ため重くて高価な枠体を用いるので望ましくなく、大き
な衝撃及び振動に耐えなければならないCRTには不滴
当である。上述したドーミング問題は、かかる従来のC
RTにおいても、情報がしばしば局部に集中し電子ビー
ムが長期にわたってシャドウマスクの特定区域に向けら
れる航g!電子又はコンピュータ端末表示装置等に使用
する場合に起きる。扁又は超高解像度シャドウマスク型
CRTでは、蛍光体被着物及びシャドウマスク孔は非常
に小さく且つ間隔が接近している。スクリーンに対しシ
ャドウマスクが少こし移動しただけでも、走査ずれが起
き局部的に色純度が劣化する。
dJすために考えられる他の方法は、円筒状フェースプ
レートを有する市販のCRTで行なうようにシャドウマ
スクを張る(張力を与える)ことである。しかし、この
方法は、CRT内で張られたシャドウマスクを支持する
ため重くて高価な枠体を用いるので望ましくなく、大き
な衝撃及び振動に耐えなければならないCRTには不滴
当である。上述したドーミング問題は、かかる従来のC
RTにおいても、情報がしばしば局部に集中し電子ビー
ムが長期にわたってシャドウマスクの特定区域に向けら
れる航g!電子又はコンピュータ端末表示装置等に使用
する場合に起きる。扁又は超高解像度シャドウマスク型
CRTでは、蛍光体被着物及びシャドウマスク孔は非常
に小さく且つ間隔が接近している。スクリーンに対しシ
ャドウマスクが少こし移動しただけでも、走査ずれが起
き局部的に色純度が劣化する。
発明の目的
本発明の目的は、平面C)tT用シャドウマスク組立体
の製法な提供することである。
の製法な提供することである。
不発明の他の目的は、ドーミングによる電子ビームの走
査ずれが生じないシャドウマスク組立体の製法を提供す
ることである。
査ずれが生じないシャドウマスク組立体の製法を提供す
ることである。
発明の概要
本発明の製法では、熱膨張係数が低い材料のマスク薄膜
を引っ張り応力の限界内(約%〜%)の張力でほぼ均一
に張り、この薄膜を緊張状態のまま充分に堅固で且つ側
面を内側に圧縮した状態の枠材に固定する。CRTの動
作中、電子ビームによるシャドウマスクの局部的加熱で
薄膜の張力のみが弛みマスク及びフェースプレートの間
隙には影響しない。緊張したシャドウマスクでは、大ビ
ーム電流を使用できるので、色純度の劣化なしに表示4
度が増加する。更に、必要であれば、薄膜の張力を調節
してCR’l”が受ける振動の周波数範囲からはるかに
外れた共振周波数を与えるようにすることもできる。
を引っ張り応力の限界内(約%〜%)の張力でほぼ均一
に張り、この薄膜を緊張状態のまま充分に堅固で且つ側
面を内側に圧縮した状態の枠材に固定する。CRTの動
作中、電子ビームによるシャドウマスクの局部的加熱で
薄膜の張力のみが弛みマスク及びフェースプレートの間
隙には影響しない。緊張したシャドウマスクでは、大ビ
ーム電流を使用できるので、色純度の劣化なしに表示4
度が増加する。更に、必要であれば、薄膜の張力を調節
してCR’l”が受ける振動の周波数範囲からはるかに
外れた共振周波数を与えるようにすることもできる。
発明の実施例
本発明の製法によるシャドウマスク組立体を用いた(、
’1(’II’の前面を示す41図において、CI−t
Tuりは、通虜インライン又はデルタ配列の3個の電子
銃を含むル子絖郡(図示せず)ン再する。電子銃は、管
体のネック部α2内に公知の方法で取付けられ、動作時
[CRTのフェースプレートuの内面の表示スクリーン
a!1に向かって各電子ビーム(14)を放射する。フ
ェースプレート(1&は、CRT(IQIの真全気密体
すなわち管体(イ)の一部分を形成する。電子ビーム(
14Jは、従来の偏向装置によりスクリーンαgの選択
した位置に向けられる。偏向装置は、通常CRT内の頭
載ae上のネック部に叡付けた外部型1偏向ヨーク(図
示せず)を有する。従来の電in向ヨークのほかに、偏
向装置は、3を子ビームをスクリーン上の同一点く集束
させてスクリーンの表面上のすべての点にビームを集束
させる手段を有する。適当な制御装置により、表示スク
リーンのPfr望の位置にビームを向ける偏向装置ニ同
期して電子銃の動作を制御する。
’1(’II’の前面を示す41図において、CI−t
Tuりは、通虜インライン又はデルタ配列の3個の電子
銃を含むル子絖郡(図示せず)ン再する。電子銃は、管
体のネック部α2内に公知の方法で取付けられ、動作時
[CRTのフェースプレートuの内面の表示スクリーン
a!1に向かって各電子ビーム(14)を放射する。フ
ェースプレート(1&は、CRT(IQIの真全気密体
すなわち管体(イ)の一部分を形成する。電子ビーム(
14Jは、従来の偏向装置によりスクリーンαgの選択
した位置に向けられる。偏向装置は、通常CRT内の頭
載ae上のネック部に叡付けた外部型1偏向ヨーク(図
示せず)を有する。従来の電in向ヨークのほかに、偏
向装置は、3を子ビームをスクリーン上の同一点く集束
させてスクリーンの表面上のすべての点にビームを集束
させる手段を有する。適当な制御装置により、表示スク
リーンのPfr望の位置にビームを向ける偏向装置ニ同
期して電子銃の動作を制御する。
表示スクリーンa3は、好ましくは光吸収性マトリック
スで分離した異なる発光色の蛍光体被着物の3つが岨会
わされた配列を何する。高解隊度表示の場合、蛍光体被
着物は、普通3つ組(?lJえは赤、緑及び宵のそれぞ
れ異なる発光色のドツトから成る。)K集められた円形
ドツトの6角形配列に配油される。孔のあいた金属薄膜
(4)を含むシャドウマスク組立体は、管体+:a h
で表示スクリーン←9に近接して配置される。管体(2
αのネック部f121内の3個の電子銃からの電子は、
孔のあいたfW !FJ (Jlを通って表示スクリー
ンa91を形成する螢光体被着物を衝撃する。薄ka6
1は、管体1氾内で色選別装置として作用する。シャド
ウマスク薄膜(至)には、各螢光体ドツトの3つ組に;
<?j して1個の孔を設け、螢光体ドツト、孔及び成
子jmk電子ビームが全1扁向角度に3いて指定した色
のドツトのみを衝撃するように配置する1゜ 第2図は、第1図のシャドウマスク組立体を示す斜視図
である。第1及び42図を逐照すると、シャドウマスク
博M(至)は、好適には溶接により、充分に堅固な取付
は忰1241に取付けられる。伜&4)は、これに溶層
した411M1cv板ばねクリップレ2により、管体(
渕の前端内に取外し口■I4ピに取付けられる。谷ばね
クリップ四はその遊端近膀に孔を有し、この孔は、管体
(4)の内部9Ill壁に固定した対応数のテーバ付き
鋲(びょう)の1個に係合される。この鋲は、シャドウ
マスク薄膜(ハ)をスクリーン(19に対し正確な間隔
を保って平行に支持するように管体(20)内でスクリ
ーンa9に対し正確に配置される。
スで分離した異なる発光色の蛍光体被着物の3つが岨会
わされた配列を何する。高解隊度表示の場合、蛍光体被
着物は、普通3つ組(?lJえは赤、緑及び宵のそれぞ
れ異なる発光色のドツトから成る。)K集められた円形
ドツトの6角形配列に配油される。孔のあいた金属薄膜
(4)を含むシャドウマスク組立体は、管体+:a h
で表示スクリーン←9に近接して配置される。管体(2
αのネック部f121内の3個の電子銃からの電子は、
孔のあいたfW !FJ (Jlを通って表示スクリー
ンa91を形成する螢光体被着物を衝撃する。薄ka6
1は、管体1氾内で色選別装置として作用する。シャド
ウマスク薄膜(至)には、各螢光体ドツトの3つ組に;
<?j して1個の孔を設け、螢光体ドツト、孔及び成
子jmk電子ビームが全1扁向角度に3いて指定した色
のドツトのみを衝撃するように配置する1゜ 第2図は、第1図のシャドウマスク組立体を示す斜視図
である。第1及び42図を逐照すると、シャドウマスク
博M(至)は、好適には溶接により、充分に堅固な取付
は忰1241に取付けられる。伜&4)は、これに溶層
した411M1cv板ばねクリップレ2により、管体(
渕の前端内に取外し口■I4ピに取付けられる。谷ばね
クリップ四はその遊端近膀に孔を有し、この孔は、管体
(4)の内部9Ill壁に固定した対応数のテーバ付き
鋲(びょう)の1個に係合される。この鋲は、シャドウ
マスク薄膜(ハ)をスクリーン(19に対し正確な間隔
を保って平行に支持するように管体(20)内でスクリ
ーンa9に対し正確に配置される。
第2図の小区域(28)の拡大図である第3図を参照す
ると、シャドウマスク薄膜C(19の小さな円形開口す
なわち孔□□□)は樒り返しパターンで設けられ、隣接
する列の孔をずらして孔の間@を最小にしている。本発
明を使用する高解像度表示CRTでは、表示スクリーン
(1cJは好適には約15薗平方の大きさ、薄膜α−の
孔のあいた部分(領域)は約13偏平方の大きさである
。シャドウマスク薄膜αQの孔は、直径dが約0.1
mでピッチすなわち中心相互間MLが、約0.28であ
る。孔は、マスクの表面積の約20%を占−める。
ると、シャドウマスク薄膜C(19の小さな円形開口す
なわち孔□□□)は樒り返しパターンで設けられ、隣接
する列の孔をずらして孔の間@を最小にしている。本発
明を使用する高解像度表示CRTでは、表示スクリーン
(1cJは好適には約15薗平方の大きさ、薄膜α−の
孔のあいた部分(領域)は約13偏平方の大きさである
。シャドウマスク薄膜αQの孔は、直径dが約0.1
mでピッチすなわち中心相互間MLが、約0.28であ
る。孔は、マスクの表面積の約20%を占−める。
藺単に上述したように、薄膜(至)はほぼ均一な眼力で
引っ張られたまま枠(至)に固定される。これは、第4
及び第5図に示す架帳創ft3aを使用して行なうこと
ができる。カラーCRTシャドウマスクは、代表的には
厚さ約0.15鵡の低炭素鋼から作られる。
引っ張られたまま枠(至)に固定される。これは、第4
及び第5図に示す架帳創ft3aを使用して行なうこと
ができる。カラーCRTシャドウマスクは、代表的には
厚さ約0.15鵡の低炭素鋼から作られる。
かかる材料は緊張した岬膜(イ)を形成するのに4Nシ
ているが、その好適な材料は約36%のニッケルを含む
低膨張率のニッケル・鉄合金である。1℃当6 たり約1.6 X 10 の熱膨張係数の材料は、ウ
ィルバー、グイ−。ドライバー6カンバユーからインバ
ー(Invar )なる商轄のもとに販売されている。
ているが、その好適な材料は約36%のニッケルを含む
低膨張率のニッケル・鉄合金である。1℃当6 たり約1.6 X 10 の熱膨張係数の材料は、ウ
ィルバー、グイ−。ドライバー6カンバユーからインバ
ー(Invar )なる商轄のもとに販売されている。
+4iiさが約0.10〜0.15 mの薄膜材料は普
通(娯楽用)の画質のCRTに使用しうるが、ここで考
えている高解像度CRTに対する羽料の好適な厚さは、
約0.025〜0.038腸である。
通(娯楽用)の画質のCRTに使用しうるが、ここで考
えている高解像度CRTに対する羽料の好適な厚さは、
約0.025〜0.038腸である。
薄膜四を枠圓罠架張する前に、従来の写真石版処理(p
ho(olithographic process
)により薄膜(ハ)に孔■のパターンを化学的にエツチ
ングする。例えば、インバーの材料から成る30ノ平方
の薄膜をエツチングして、孔Ml ’に含む13濡平方
の領域(至)を形成する。領域間を第2及び第4図に点
線で示す。合金板中の孔のあいた領域(ト)を、架張装
置国の一部である基環−の中央部に配置する。締付は環
曽を基環いΦ上に被せたtI換eQの上に配置し、複数
のボルト(4Gを便ってこの21面の環の闇に薄膜(ハ
)を確実に締付け、落莫(26)を基環(2)に固定す
る。次に、L形伸張環(4Bを締付は環關の上に配置す
る。環(421のL形部分の一方の脚部(42a)が締
付は環(至)の上面に被さり、他方の脚部(42b)が
、締付1す環C灼内に伸びて薄膜(イ)と係合する。薄
膜(ハ)を伸張する前の伸張環(4”lの位置を第5図
に点線で示す。第5図に実線で示すよ5に、久々に複数
のポル) +441を環(至)に締付けて締付は環C運
の上面忙伸張環(421の脚部(42a)を当接させる
ことにより、はぼ均一な張力でt厚膜(ハ)を伸張する
ことができる。このよ5にして生じる薄膜シQの張力の
大きさは、締付は環(泗の特定の厚さに対する脚部(4
2b)の長さの関数で表わされる。所望の張力を生じさ
せるために必要な正確な長さのtit算は、当業者には
容易である。また、脚部(42b)の狡さは、一定手順
の夷躾によっても決めることができる。
ho(olithographic process
)により薄膜(ハ)に孔■のパターンを化学的にエツチ
ングする。例えば、インバーの材料から成る30ノ平方
の薄膜をエツチングして、孔Ml ’に含む13濡平方
の領域(至)を形成する。領域間を第2及び第4図に点
線で示す。合金板中の孔のあいた領域(ト)を、架張装
置国の一部である基環−の中央部に配置する。締付は環
曽を基環いΦ上に被せたtI換eQの上に配置し、複数
のボルト(4Gを便ってこの21面の環の闇に薄膜(ハ
)を確実に締付け、落莫(26)を基環(2)に固定す
る。次に、L形伸張環(4Bを締付は環關の上に配置す
る。環(421のL形部分の一方の脚部(42a)が締
付は環(至)の上面に被さり、他方の脚部(42b)が
、締付1す環C灼内に伸びて薄膜(イ)と係合する。薄
膜(ハ)を伸張する前の伸張環(4”lの位置を第5図
に点線で示す。第5図に実線で示すよ5に、久々に複数
のポル) +441を環(至)に締付けて締付は環C運
の上面忙伸張環(421の脚部(42a)を当接させる
ことにより、はぼ均一な張力でt厚膜(ハ)を伸張する
ことができる。このよ5にして生じる薄膜シQの張力の
大きさは、締付は環(泗の特定の厚さに対する脚部(4
2b)の長さの関数で表わされる。所望の張力を生じさ
せるために必要な正確な長さのtit算は、当業者には
容易である。また、脚部(42b)の狡さは、一定手順
の夷躾によっても決めることができる。
実MA例のシャドウマスク取付は枠□□□は、長さ約1
4cmの〜f面4形の枠材によりほぼ矩形状に構成され
ていね。4膜□□□が溶層される外縁端面:4b)をも
つ枠材は、堅固だが@童のマスク薄膜肉の偏0を仰制す
る支持体を構成する。第5図は、孔があいた帛貝域(あ
)の周囲の多数の点で、溶接用電極(4&を用いてスポ
ットf4接により薄J換(26)を枠の角面(16)へ
取付ける工程を示す。その溶接点とそのノ(ターンを第
2図に(5Qlで示す。マスクの同じ区域で連続して溶
接を行なうことによる溶接工程中の過熱による薄膜の歪
みを防ぐために、薄膜I26)を枠の周囲に飛ばし溶接
によって取付けるのがよい。すなわち、まず枠の各4辺
における第1の点を溶接し、次に4辺における第2の点
に戻って溶接し、以下これを繰り返して全浴接を終了す
る。
4cmの〜f面4形の枠材によりほぼ矩形状に構成され
ていね。4膜□□□が溶層される外縁端面:4b)をも
つ枠材は、堅固だが@童のマスク薄膜肉の偏0を仰制す
る支持体を構成する。第5図は、孔があいた帛貝域(あ
)の周囲の多数の点で、溶接用電極(4&を用いてスポ
ットf4接により薄J換(26)を枠の角面(16)へ
取付ける工程を示す。その溶接点とそのノ(ターンを第
2図に(5Qlで示す。マスクの同じ区域で連続して溶
接を行なうことによる溶接工程中の過熱による薄膜の歪
みを防ぐために、薄膜I26)を枠の周囲に飛ばし溶接
によって取付けるのがよい。すなわち、まず枠の各4辺
における第1の点を溶接し、次に4辺における第2の点
に戻って溶接し、以下これを繰り返して全浴接を終了す
る。
薄膜(26)を枠に溶接した後、出来上がった組立体を
架張装置(33から取外し余分の薄膜材料を切り取る。
架張装置(33から取外し余分の薄膜材料を切り取る。
装置(32から域外した仮は、枠の僅かな曲かりでも薄
膜の張力に弛みを生じる。この問題をmlける1つの方
法は、緊放した釡m薄換によって刃口えられる圧権力に
1111ツえる太きく宣い枠を使用することである。し
かし、多(の場合、#I撃及び振動の試訣基準が厳しす
さて大ざ(亜い枠馨使用できなかったり、官体内の広い
玉量を6何してC)LTの使用可能表示面積を減少した
りするので、CRT管体に大きく重い枠を収納できない
。枠の曲がりを防ぐ好適な方法は、薄膜(2G)を取付
ける前に枠材の側面に圧縮力を加えることである。スポ
ット溶接工程が完全に終了したのち枠及び薄膜の組立体
な架張装置から域外したとき、前に圧縮した枠材により
生じろ外側に向かう復帰力は、伸張された薄膜による内
側に向か5力と釣り合う。
膜の張力に弛みを生じる。この問題をmlける1つの方
法は、緊放した釡m薄換によって刃口えられる圧権力に
1111ツえる太きく宣い枠を使用することである。し
かし、多(の場合、#I撃及び振動の試訣基準が厳しす
さて大ざ(亜い枠馨使用できなかったり、官体内の広い
玉量を6何してC)LTの使用可能表示面積を減少した
りするので、CRT管体に大きく重い枠を収納できない
。枠の曲がりを防ぐ好適な方法は、薄膜(2G)を取付
ける前に枠材の側面に圧縮力を加えることである。スポ
ット溶接工程が完全に終了したのち枠及び薄膜の組立体
な架張装置から域外したとき、前に圧縮した枠材により
生じろ外側に向かう復帰力は、伸張された薄膜による内
側に向か5力と釣り合う。
再び第4及び第5図を参照すると、図に?いて圧縮腕Q
で表わす圧縮機構は、矢印54)で示す方向に枠し4の
側面を圧縮する。必要な補償圧縮力の大きさは、容易に
計算できるが一定の実験によっても決められる。圧縮腕
64は、第5図に示す如(、枠■の上に突出して薄膜シ
Qを損湯しないように注意して枠材の外側に停会され、
枠材馨忰1241の中心に向かって押圧する。
で表わす圧縮機構は、矢印54)で示す方向に枠し4の
側面を圧縮する。必要な補償圧縮力の大きさは、容易に
計算できるが一定の実験によっても決められる。圧縮腕
64は、第5図に示す如(、枠■の上に突出して薄膜シ
Qを損湯しないように注意して枠材の外側に停会され、
枠材馨忰1241の中心に向かって押圧する。
本発明では、奴付けた薄膜に生じる張力の程度を、最高
のビーム亀カレベルでC)t’l’dLJ+が動作づ−
る間にシャドウマスクのpP4膨張により生じるg=の
弛みに等しいか又はそれ以上とする。引っ張り応力の限
界の約%〜%に伸張したインバーの金属薄膜は、マスク
が100℃まで温度上昇をしたときの枠材料の熱膨張と
釣り合う。CRTの動作中に予想される温度変化内では
、これで十分である。
のビーム亀カレベルでC)t’l’dLJ+が動作づ−
る間にシャドウマスクのpP4膨張により生じるg=の
弛みに等しいか又はそれ以上とする。引っ張り応力の限
界の約%〜%に伸張したインバーの金属薄膜は、マスク
が100℃まで温度上昇をしたときの枠材料の熱膨張と
釣り合う。CRTの動作中に予想される温度変化内では
、これで十分である。
従来のドーム状シャドウマスク型CRTでは、上述の使
用状態で30℃の温度変化は許容範囲外のビームの走査
ずれ及び色純度の劣化2生じる。大ビーム電流では、シ
ャドウマスクの歪みにより生じる色純度の劣化のため、
ドーム状シャドウマスク青の光出力の限界は比較的低(
なる。その達成できる発光レベルは、いくつかの航空表
示用としては限界に近い。しかし、本発明によるC)L
Tは、薄膜を枠にm接するときマスクに与えた張力を弛
める局部的加熱の#善を打消すので、高ビーム電力の入
力レベルに耐えられる。上述のよ5に製造したカラー〇
)tTは、シャドウマスク歪みによる色純度の大幅な劣
化なしに、1インチ千万当たり1.8ワツトの入力祇カ
レベルに1射えろことができた。これは、頑似寸法のド
ーム状シャドウマスクCRTより腐い大きさである。そ
の結果、本発明を用いたシャドウマスクCRTは、従来
のドーム状マスクCRTよりも大幅に明るい表示装置を
提供で乍ろ。
用状態で30℃の温度変化は許容範囲外のビームの走査
ずれ及び色純度の劣化2生じる。大ビーム電流では、シ
ャドウマスクの歪みにより生じる色純度の劣化のため、
ドーム状シャドウマスク青の光出力の限界は比較的低(
なる。その達成できる発光レベルは、いくつかの航空表
示用としては限界に近い。しかし、本発明によるC)L
Tは、薄膜を枠にm接するときマスクに与えた張力を弛
める局部的加熱の#善を打消すので、高ビーム電力の入
力レベルに耐えられる。上述のよ5に製造したカラー〇
)tTは、シャドウマスク歪みによる色純度の大幅な劣
化なしに、1インチ千万当たり1.8ワツトの入力祇カ
レベルに1射えろことができた。これは、頑似寸法のド
ーム状シャドウマスクCRTより腐い大きさである。そ
の結果、本発明を用いたシャドウマスクCRTは、従来
のドーム状マスクCRTよりも大幅に明るい表示装置を
提供で乍ろ。
これまで本発明の好適な実施例について駅、明してきた
が、本発明は、特許請求の範囲に記載したシャドウマス
ク組立体の製法に含まれる限り種々の変更及び変形をし
うるものである。なお、上述の伸張型シャドウマスクは
、マスク及びスクリーンが同電位に保たれたCRT・と
同様忙マスク及びスクリーンが異なる電位に保たれたC
RTに使用してもよい。
が、本発明は、特許請求の範囲に記載したシャドウマス
ク組立体の製法に含まれる限り種々の変更及び変形をし
うるものである。なお、上述の伸張型シャドウマスクは
、マスク及びスクリーンが同電位に保たれたCRT・と
同様忙マスク及びスクリーンが異なる電位に保たれたC
RTに使用してもよい。
発明の効果゛
以上説萌したように、本発明のシャドウマスク組立体の
製法によれば、シャドウマスク取付ケ枠の側面から枠の
中心に向かって圧縮した状態でマスク薄Mを架張するの
で、枠の復帰力によりマスク薄膜にドーミングが生ぜず
、高いレベルの色純度及び光力を得ることができる。
製法によれば、シャドウマスク取付ケ枠の側面から枠の
中心に向かって圧縮した状態でマスク薄Mを架張するの
で、枠の復帰力によりマスク薄膜にドーミングが生ぜず
、高いレベルの色純度及び光力を得ることができる。
第1図は本発明の製法によるシャドウマスク組立体を用
いたCRT−g示す@面図、第2図は第1図のシャドウ
マスク組立体を示す斜併図、嬉3図は第2図のシャドウ
マスクの小区域Oalの拡大図、第4図はシャドウマス
クを架張するための架張装置を示す平面図、第5図は第
4図の線5−5に沿う断面因である。 図i’c:sイ”c、U[tCRT、241は枠、c5
はシャドウマスク薄膜、(54は圧縮腕、64)は圧縮
方向を示す。
いたCRT−g示す@面図、第2図は第1図のシャドウ
マスク組立体を示す斜併図、嬉3図は第2図のシャドウ
マスクの小区域Oalの拡大図、第4図はシャドウマス
クを架張するための架張装置を示す平面図、第5図は第
4図の線5−5に沿う断面因である。 図i’c:sイ”c、U[tCRT、241は枠、c5
はシャドウマスク薄膜、(54は圧縮腕、64)は圧縮
方向を示す。
Claims (1)
- 平面陰2砿線管用のシャドウマスク組立体の製法におい
て、シャドウマスク取付は用の枠をその側面から該粋の
中心に向かって圧縮した状態で、伸張したシャドウマス
ク薄膜を上記枠に取付けることを特徴とするシャドウマ
スク組立体の製法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US47158983A | 1983-03-03 | 1983-03-03 | |
US471589 | 1983-03-03 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59167936A true JPS59167936A (ja) | 1984-09-21 |
Family
ID=23872219
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4119784A Pending JPS59167936A (ja) | 1983-03-03 | 1984-03-02 | シヤドウマスク組立体の製法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0121628A1 (ja) |
JP (1) | JPS59167936A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6180736A (ja) * | 1984-09-27 | 1986-04-24 | Toshiba Corp | シヤドウマスク構体の製造装置 |
JPS6251130A (ja) * | 1985-08-30 | 1987-03-05 | Toshiba Corp | シヤドウマスク構体の製造方法 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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FI96725C (fi) * | 1986-02-21 | 1996-08-12 | Zenith Electronics Corp | Katodisädeputken etuosayhdistelmä |
US4710670A (en) * | 1986-02-21 | 1987-12-01 | Zenith Electronics Corporation | Front assembly system for a tension mask color cathode ray tube |
US4794299A (en) * | 1986-03-25 | 1988-12-27 | Zenith Electronics Corporation | Flat tension mask color CRT front assembly with improved mask for degrouping error compensation |
FR2610139B1 (fr) * | 1987-01-27 | 1996-07-12 | Videocolor | Procede de montage d'un masque d'ombre dans un tube cathodique trichrome et tube cathodique comportant un masque d'ombre monte selon ce procede |
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US4950945A (en) * | 1987-06-04 | 1990-08-21 | Zenith Electronics Corporation | Tension mask securement means and process therefor |
US4828523A (en) * | 1987-06-04 | 1989-05-09 | Zenith Electronics Corporation | Tension mask securement means and process therefore |
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US4885501A (en) * | 1987-12-02 | 1989-12-05 | Zenith Electronics Corporation | Blackening of non iron-based flat tensioned foil shadow masks |
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US4854906A (en) * | 1987-12-02 | 1989-08-08 | Zenith Electronics Corporation | Material, and assemblies for tensioned foil shadow masks |
EP0410965B1 (en) * | 1987-12-02 | 2002-07-10 | Lg Electronics Inc. | Material and process for the manufacture of tension masks for cathode ray tubes |
US4929864A (en) * | 1987-12-02 | 1990-05-29 | Zenith Electronics Corporation | NI-based FTM shadow masks having a nickel phosphide black layer |
NL8903035A (nl) * | 1988-12-31 | 1990-07-16 | Samsung Electronic Devices | Ondersteuningsconstructie voor schaduwmasker van kleurenbeeldbuis met vlak scherm. |
NL194217C (nl) * | 1991-02-15 | 2001-09-04 | Samsung Electronic Devices | Schaduwmaskerstrekapparaat voor een vlakke kathodestraalbuis waarbij de klemwerking met tandvormige uitsteeksels is verbeterd. |
JPH0945258A (ja) * | 1995-07-26 | 1997-02-14 | Sony Corp | カラー陰極線管 |
JP3468344B2 (ja) | 1998-02-26 | 2003-11-17 | 松下電器産業株式会社 | カラー受像管 |
US6407488B1 (en) | 1999-04-01 | 2002-06-18 | Thomson Licensing S.A. | Color picture tube having a low expansion tension mask |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US2750524A (en) * | 1951-11-15 | 1956-06-12 | Mergenthaler Linotype Gmbh | Perforate mask for multicolor television apparatus and method of producting same |
NL6408044A (ja) * | 1964-07-15 | 1966-01-17 | ||
US3894321A (en) * | 1974-01-24 | 1975-07-15 | Zenith Radio Corp | Method for processing a color cathode ray tube having a thin foil mask sealed directly to the bulb |
US4069567A (en) * | 1977-02-28 | 1978-01-24 | Zenith Radio Corporation | Method of installing a color selection electrode in a color cathode ray tube |
JPS606066B2 (ja) * | 1979-04-18 | 1985-02-15 | ソニー株式会社 | カラ−陰極線管のグリッド装置 |
-
1983
- 1983-11-29 EP EP83307256A patent/EP0121628A1/en not_active Withdrawn
-
1984
- 1984-03-02 JP JP4119784A patent/JPS59167936A/ja active Pending
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS6180736A (ja) * | 1984-09-27 | 1986-04-24 | Toshiba Corp | シヤドウマスク構体の製造装置 |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0121628A1 (en) | 1984-10-17 |
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