JPS59166501A - 高結晶性低分子量酢酸セルロ−ス - Google Patents
高結晶性低分子量酢酸セルロ−スInfo
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- JPS59166501A JPS59166501A JP58039554A JP3955483A JPS59166501A JP S59166501 A JPS59166501 A JP S59166501A JP 58039554 A JP58039554 A JP 58039554A JP 3955483 A JP3955483 A JP 3955483A JP S59166501 A JPS59166501 A JP S59166501A
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- Polysaccharides And Polysaccharide Derivatives (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は高い結晶性を持つ低分子置局酢化度の酢酸セル
ロースに関する。
ロースに関する。
高分子量酢酸セルロースは従来からプラスチック、繊維
として広い用途を持ち、工業的に多量に生産されている
。しかじ製膜性を持たないような低分子量の酢酸セルロ
ースについてはその応用価値は今のところ高くない。
として広い用途を持ち、工業的に多量に生産されている
。しかじ製膜性を持たないような低分子量の酢酸セルロ
ースについてはその応用価値は今のところ高くない。
しかしながら、そのような物質は例えば無害の顔料とし
て利用可能であり、特に結晶性が高い場合にはクロマト
グラフィー用充填剤や微結晶セルロースの先部体等とし
て広い用途が期待される。
て利用可能であり、特に結晶性が高い場合にはクロマト
グラフィー用充填剤や微結晶セルロースの先部体等とし
て広い用途が期待される。
本発明者らは酸触媒により低分子化した三酢酸セルロー
スが最確分布に近い分子量分布を時閉:数平均分子り混
合物であっても、特定の方法により極めて結晶化度が高
く、又1jl結晶回折ピークの半値巾が極めて小さいこ
とで示されるようにクリスタリットが大きく、又結晶の
完全性の高い微粒子を与えることを見出し、本発明に到
った。
スが最確分布に近い分子量分布を時閉:数平均分子り混
合物であっても、特定の方法により極めて結晶化度が高
く、又1jl結晶回折ピークの半値巾が極めて小さいこ
とで示されるようにクリスタリットが大きく、又結晶の
完全性の高い微粒子を与えることを見出し、本発明に到
った。
即ち、本発明は、
(1)数平均重合度が10〜50、
(2) 遊離水酸基含量が3.2係以下、(3)結晶
化度が55係以上であって、(4) Ou K、1線
によるX線結晶回折において、回折角2θが8.4°、
10.4°、1j2°の3点付近に主たるピークが現
われ、且つそれらのピークの半値巾が2θにして0.7
0°以下である高結晶性低分子1゛酢酸セルロースに関
する。
化度が55係以上であって、(4) Ou K、1線
によるX線結晶回折において、回折角2θが8.4°、
10.4°、1j2°の3点付近に主たるピークが現
われ、且つそれらのピークの半値巾が2θにして0.7
0°以下である高結晶性低分子1゛酢酸セルロースに関
する。
本発明の物質を得るだめの方法としては主に通常の■型
又はπ型の高分子量酢酸セルロースをπ型の低分子1°
高酢化度の酢酸セルロースに導く段階とこれを高結晶性
とする段階に分けて考えることができる。
又はπ型の高分子量酢酸セルロースをπ型の低分子1°
高酢化度の酢酸セルロースに導く段階とこれを高結晶性
とする段階に分けて考えることができる。
本発明において、数平均重合度が10〜50、遊離水酸
基含量が3.2係以下のπ型の低分子1高酢化厩の酢酸
セルロースを与える方法としては、従来公知のいかなる
方法でもよい。例えば特公昭45−3599号公報に示
されるように、高分子量、高酢化度の酢酸セルロース(
1型又はπ型のいずれでも良い)を酢酸溶液に溶解させ
、濃硫酸を触媒として低分子化処理する。この場合、酢
酸溶液中に無水酢酸及び水を加えることにより、生成物
の遊離水酸基含量を調節することができる。
基含量が3.2係以下のπ型の低分子1高酢化厩の酢酸
セルロースを与える方法としては、従来公知のいかなる
方法でもよい。例えば特公昭45−3599号公報に示
されるように、高分子量、高酢化度の酢酸セルロース(
1型又はπ型のいずれでも良い)を酢酸溶液に溶解させ
、濃硫酸を触媒として低分子化処理する。この場合、酢
酸溶液中に無水酢酸及び水を加えることにより、生成物
の遊離水酸基含量を調節することができる。
勿論、本発明においては、高分子量のI型又−3=
はπ型セルロース又は高分子1゛、低酢化度の酢酸セル
ロースを低分子化処理した後、酢化処理し、π型の低分
子量、高酢化度の酢酸セルロースを与えることもできる
。又、この場合低分子化と酢化を同時に行なうこともで
きる。
ロースを低分子化処理した後、酢化処理し、π型の低分
子量、高酢化度の酢酸セルロースを与えることもできる
。又、この場合低分子化と酢化を同時に行なうこともで
きる。
次いでこれを高結晶化度を持つ物質に変換する方法とし
ては一般に熱処理、高温での再沈殿、極めてゆっくりし
た再沈殿等が考えられるが、好tしくはメタノール、エ
タノール、ホルムアミド、水などの極性溶媒を用いるゆ
っくりした再沈澱過程を含むものである。
ては一般に熱処理、高温での再沈殿、極めてゆっくりし
た再沈殿等が考えられるが、好tしくはメタノール、エ
タノール、ホルムアミド、水などの極性溶媒を用いるゆ
っくりした再沈澱過程を含むものである。
具体的には、例えば次のような方法がある。
(1)]1型の低分子量、高酢化度の酢酸セルロースを
アセトン、テトラヒドロフラン(THF)、クロロホル
ム、塩化メチレンなどの溶媒に溶解又は膨潤させ、その
後メタノール、エタノール、ホルムアミド、水などの極
性溶媒を除徐に加えて本発明の物質を得ることができる
。
アセトン、テトラヒドロフラン(THF)、クロロホル
ム、塩化メチレンなどの溶媒に溶解又は膨潤させ、その
後メタノール、エタノール、ホルムアミド、水などの極
性溶媒を除徐に加えて本発明の物質を得ることができる
。
(2)π型の低分子量、高酢化度の酢酸セルロースをア
セトン、メチルエチルケトン、THF。
セトン、メチルエチルケトン、THF。
= 4−
クロロホルム、塩化メチレンなどの溶媒とこれより高沸
点の極性溶媒(例えば水)とを含む多元系均一溶液に溶
解又は膨潤させ、蒸気圧の差を利用して溶媒を除去する
ことにより、本発明の物質を再沈澱させて得ることがで
きる。
点の極性溶媒(例えば水)とを含む多元系均一溶液に溶
解又は膨潤させ、蒸気圧の差を利用して溶媒を除去する
ことにより、本発明の物質を再沈澱させて得ることがで
きる。
(5)水素結合性の強い非溶剤、好ましくはホルムアミ
ド中で150〜200℃で熱処理しても本発明の物質を
得ることが出来る。
ド中で150〜200℃で熱処理しても本発明の物質を
得ることが出来る。
同、上記の(1) (2) (3)の操作を適宜組み合
わせて用いても良い。
わせて用いても良い。
本発明でいう■地文、ばπ型のセルロース又は三酢酸セ
ルロースの定義については、例えば右田、米沢、近藤編
になる「木材化学」(共立出版株式会社発行)の上巻1
88〜189頁に述べられている。
ルロースの定義については、例えば右田、米沢、近藤編
になる「木材化学」(共立出版株式会社発行)の上巻1
88〜189頁に述べられている。
こうして得られた生成物は多孔性で径0.1〜100μ
の微小な粒子及びその会合体から成る粉末で、X線回折
スペクトルは三酢酸セルロース■型の典型的なピークを
示し、高い結晶性を有 5 − する。一旦溶解した後沈澱あるいは乾固された三酢酸セ
ルロースはそれ以前に1型であるとπ型であるとにかか
わらず、通常π型となることは従来から知られているが
、この生成物のX線回折スペクトルも■型三酢酸セルロ
ースの典型的カピークを示し、しかも高い結晶化度を示
した。更に熱処理等を絹み合わせることによっても一層
結晶化度を高めることが可能である。
の微小な粒子及びその会合体から成る粉末で、X線回折
スペクトルは三酢酸セルロース■型の典型的なピークを
示し、高い結晶性を有 5 − する。一旦溶解した後沈澱あるいは乾固された三酢酸セ
ルロースはそれ以前に1型であるとπ型であるとにかか
わらず、通常π型となることは従来から知られているが
、この生成物のX線回折スペクトルも■型三酢酸セルロ
ースの典型的カピークを示し、しかも高い結晶化度を示
した。更に熱処理等を絹み合わせることによっても一層
結晶化度を高めることが可能である。
こうして得られた高結晶性物質の特質としてX線回折ピ
ークの半値巾の小ささが挙げられる。
ークの半値巾の小ささが挙げられる。
このことは結晶部分(クリスタリット)の大きさと結晶
構造の完全さを示すものであって、高分子lの酢酸セル
ロースにおいては類似の処理や熱処理によってこのよう
に狭い半値巾を持つような物質を与、えることは難しい
。処理前の物質が最確分布に近い、広い分子耐分布を持
っていることも考慮すると、この差は驚きに値する。
構造の完全さを示すものであって、高分子lの酢酸セル
ロースにおいては類似の処理や熱処理によってこのよう
に狭い半値巾を持つような物質を与、えることは難しい
。処理前の物質が最確分布に近い、広い分子耐分布を持
っていることも考慮すると、この差は驚きに値する。
このような結晶構造の高い規則性は、例えば光学分割用
吸着剤としての機能や、又不斉合成における反応の場と
しての応用等を考える場合に 6− 重要な意味を有する。
吸着剤としての機能や、又不斉合成における反応の場と
しての応用等を考える場合に 6− 重要な意味を有する。
本発明の物質は、数平均重合度が10〜5o、遊離水酸
基含量が3.2係以下の低分子量、高酢化度の酢酸セル
ロースであって、且つOu K、1線によるX線回折に
おいて2θが8.4°、10.4°、13.2°の3点
付近に主たるピークが現われ、且つそれらのピークの半
値巾が2θにして0.70゜以下である、結晶化度が3
5係以上の高結晶性の■型酢酸セルロースである。
基含量が3.2係以下の低分子量、高酢化度の酢酸セル
ロースであって、且つOu K、1線によるX線回折に
おいて2θが8.4°、10.4°、13.2°の3点
付近に主たるピークが現われ、且つそれらのピークの半
値巾が2θにして0.70゜以下である、結晶化度が3
5係以上の高結晶性の■型酢酸セルロースである。
本発明の高結晶性低分子量、三酢酸セルロースは光学分
割用分離剤として使用し得る。本発明の結晶性三酢酸セ
ルロースを分離剤とするには、結晶性三酢酸セルロース
をそのまま用いる方法と、支持体に被覆するか、又は製
膜して用いる方法がある。
割用分離剤として使用し得る。本発明の結晶性三酢酸セ
ルロースを分離剤とするには、結晶性三酢酸セルロース
をそのまま用いる方法と、支持体に被覆するか、又は製
膜して用いる方法がある。
分離剤の使用方法としては、通常のクロマトグラフ法や
バッチ式分離法が適用できる。クロマトグラフ法ではカ
ラムクロマトのカラムの充填剤としてこの分離剤を使用
できるし、薄層クロマトとしてこの分離剤を被覆するこ
ともてきる。
バッチ式分離法が適用できる。クロマトグラフ法ではカ
ラムクロマトのカラムの充填剤としてこの分離剤を使用
できるし、薄層クロマトとしてこの分離剤を被覆するこ
ともてきる。
分離の対象となるものは、2種又はそれ以上の成分から
なる有機物又は無機物であり、溶媒に溶解性のものであ
れば良い。特に従来幾何異性体、光学異性体などの分離
が困難であった異性体の分離に応用できる。又、ゲルバ
ーミッションクロマトグラフィーとしても使用できる。
なる有機物又は無機物であり、溶媒に溶解性のものであ
れば良い。特に従来幾何異性体、光学異性体などの分離
が困難であった異性体の分離に応用できる。又、ゲルバ
ーミッションクロマトグラフィーとしても使用できる。
分離可能な幾何異性体としては、例えばシス体とトラン
ス体や、二置換芳香族異性体、例えば0−キシレン、m
−キシレン、p−キシレン等である。
ス体や、二置換芳香族異性体、例えば0−キシレン、m
−キシレン、p−キシレン等である。
分離可能な光学異性体としては、いかなる光学異性体で
もよいが特に有効なものを例示すると、不整炭素又は窒
素を持つ化合物として2−フェニルシクロヘキサノン、
2−(1−フェニルエチル)アニソール、トレガーi基
、N−メチルバルビタール誘導体、シアン酢酸エステル
、トランス−1,2−ジフェニルシクロプロパン、又分
離が困難であった不斉炭素を持たない光学異性体である
分子不斉な化合物等が例示できる。
もよいが特に有効なものを例示すると、不整炭素又は窒
素を持つ化合物として2−フェニルシクロヘキサノン、
2−(1−フェニルエチル)アニソール、トレガーi基
、N−メチルバルビタール誘導体、シアン酢酸エステル
、トランス−1,2−ジフェニルシクロプロパン、又分
離が困難であった不斉炭素を持たない光学異性体である
分子不斉な化合物等が例示できる。
以下、本発明を実施例によって詳述するが、本発明はこ
れに限定されるものではない。同、実施例中に示した物
性値の測定は以下のように行なった。
れに限定されるものではない。同、実施例中に示した物
性値の測定は以下のように行なった。
1、 結晶化度
結晶化度は理学電機製Ge1gθrflθX を用いた
OuK、1線によるX線結晶回折から求めた。
OuK、1線によるX線結晶回折から求めた。
結晶化度は原理的にはX線回折スペクトルを結晶性散乱
と非品性散乱の各々に相当する部分に分け、次の式によ
り求められる。
と非品性散乱の各々に相当する部分に分け、次の式によ
り求められる。
しかし、実際にはこの分割を任意性が入らないようにし
て行なうことは極めて困難である。従って任意性を排除
するための便宜的な方法として以下のような手続に基づ
いて結晶性、非品性各散乱の強度を近似した。従ってこ
れらの値は他の文献等に与えられている数値と直接比較
することはできない。
て行なうことは極めて困難である。従って任意性を排除
するための便宜的な方法として以下のような手続に基づ
いて結晶性、非品性各散乱の強度を近似した。従ってこ
れらの値は他の文献等に与えられている数値と直接比較
することはできない。
測定例として実施例4の生成物のX線回折 9−
スペクトルを第1図に示した。結晶性散乱に対応する部
分としては散乱曲線上回折角2θが14.4°にあたる
点(A点)、11.4°にあたる極小点(B点、この位
置に極小値が現われない場合には一括して「結晶化度が
低い」とした。)と7.2°にあたる点(0点)を結ん
だ線よりも上(第1図斜線部)の部分で近似した。非品
性散乱に対応する部分は以下のように推定した。第2図
に最も非品性の高いと考えられる非品性三酢酸セルロー
ス試料のX線回折スペクトルを示した。これを2θ=9
°と2θ=17°にピークを持つ二つの対称な曲線(第
2図破線と一点鎖線)に分割した。上記の結晶性散乱に
対応する非品性散乱として第2図の20.=9°に中心
を持つ曲線と同じ分布を持ち、ピーク強度が第1図のB
点の散乱強度と同じになるような曲線をもって近似した
。
分としては散乱曲線上回折角2θが14.4°にあたる
点(A点)、11.4°にあたる極小点(B点、この位
置に極小値が現われない場合には一括して「結晶化度が
低い」とした。)と7.2°にあたる点(0点)を結ん
だ線よりも上(第1図斜線部)の部分で近似した。非品
性散乱に対応する部分は以下のように推定した。第2図
に最も非品性の高いと考えられる非品性三酢酸セルロー
ス試料のX線回折スペクトルを示した。これを2θ=9
°と2θ=17°にピークを持つ二つの対称な曲線(第
2図破線と一点鎖線)に分割した。上記の結晶性散乱に
対応する非品性散乱として第2図の20.=9°に中心
を持つ曲線と同じ分布を持ち、ピーク強度が第1図のB
点の散乱強度と同じになるような曲線をもって近似した
。
同、いずれのスペクトルもベースラインとしては2θ=
400での散乱強度を補外した。
400での散乱強度を補外した。
同、半値巾は2θ= 14.4°、2θ= 11.4°
。
。
10−
2θ=7.2°にあたる点を結んだ線を結晶性散乱ノヘ
ースラインと仮定し、三つのピークそれぞれについて半
値巾を測定し、平均値をとった。
ースラインと仮定し、三つのピークそれぞれについて半
値巾を測定し、平均値をとった。
2 重合度
2−1 蒸気圧浸透圧法
ペーパープレッシャーオスモメーター
〇0RONA 117を用いて溶媒にクロロホルム−1
係エタノールの混合溶媒を使用して測定した。
係エタノールの混合溶媒を使用して測定した。
2−2 粘度法
ジクロロメタン−メタノール(9:1)を溶媒とし、0
.21溶液の還元粘度をもって〔η〕と近似し、Km=
5.65×10−1′ヲ使用して計算した。
.21溶液の還元粘度をもって〔η〕と近似し、Km=
5.65×10−1′ヲ使用して計算した。
重合度DP、=、[:η〕/Km
五 遊離水酸基の定量
0arl J、 Malm (Anal、 Ohem、
26・18B (1954)参照)らの水酸基のフェ
ニルカルバモイル化による定量を行なった。即ち、三酢
酸゛セルロースを90℃のピリジン中、大過剰のフェニ
ルイソシアナートで30分処理し、再沈澱棺製した後、
紫外吸収スペクトルの272nmの吸収強度から水酸基
とフェニルイソシアナートの反応で生成したフェニルカ
ルバモイル基の量’e計算L;&。フェニルカルバモイ
ル基のモル吸光係数は705という値を用いた。この値
はセロビオースへブタアセテートカルバニレートから求
めた値である。得られたデータはもとの三酢酸セルロー
ス中の水酸基の重量係として表わした。
26・18B (1954)参照)らの水酸基のフェ
ニルカルバモイル化による定量を行なった。即ち、三酢
酸゛セルロースを90℃のピリジン中、大過剰のフェニ
ルイソシアナートで30分処理し、再沈澱棺製した後、
紫外吸収スペクトルの272nmの吸収強度から水酸基
とフェニルイソシアナートの反応で生成したフェニルカ
ルバモイル基の量’e計算L;&。フェニルカルバモイ
ル基のモル吸光係数は705という値を用いた。この値
はセロビオースへブタアセテートカルバニレートから求
めた値である。得られたデータはもとの三酢酸セルロー
ス中の水酸基の重量係として表わした。
実施例−1
通常の均−法酢化によって製造された三酢酸セルロース
(蒸気圧浸透圧法による数平均重合度110、分子it
分布Mw / Mn = 2.45、遊離水酸基金i“
0.35係)1重重部を10体積部CD 99.4係酢
酸(残り0.6係は水)中o、oos体積部の濃硫酸を
触媒として80℃で低分子化処理した。
(蒸気圧浸透圧法による数平均重合度110、分子it
分布Mw / Mn = 2.45、遊離水酸基金i“
0.35係)1重重部を10体積部CD 99.4係酢
酸(残り0.6係は水)中o、oos体積部の濃硫酸を
触媒として80℃で低分子化処理した。
所定の反応時間(5時間)の後、反応液を冷却し、酢酸
マグネシウム水溶液を加えて硫酸を中和した後50体積
部の2−プロパツール中に加え、低分子量酢酸セルロー
スを沈澱せしめた。
マグネシウム水溶液を加えて硫酸を中和した後50体積
部の2−プロパツール中に加え、低分子量酢酸セルロー
スを沈澱せしめた。
液相を戸別した後、沈澱を水に分散して洗滌し、水を戸
別しだ後60℃で真空乾燥した。この生成物は脆いかた
まりであって’HNMR、工Rは三酢酸セルロースと考
えて矛盾なく、X線回折スペクトルは■型土酢酸セルロ
ースの反射ピークを示し、結晶化度は27係、X線回折
ピーク半値巾は0.92と評価された。重量収率は75
係、蒸気圧浸透圧法による数平均重合度は15 、 M
w/Mnは1.65.遊離水酸基含量は1.1 qbで
あった。
別しだ後60℃で真空乾燥した。この生成物は脆いかた
まりであって’HNMR、工Rは三酢酸セルロースと考
えて矛盾なく、X線回折スペクトルは■型土酢酸セルロ
ースの反射ピークを示し、結晶化度は27係、X線回折
ピーク半値巾は0.92と評価された。重量収率は75
係、蒸気圧浸透圧法による数平均重合度は15 、 M
w/Mnは1.65.遊離水酸基含量は1.1 qbで
あった。
これを10体積部のTHFに溶解しく児溶せず、濁った
液となる)、50℃付近に保ちながら50倍量の水をよ
く攪拌しながら徐々に加えた。生成した白色沈澱を戸別
、水洗し真空乾燥すると多孔性の白色粉末となった。X
線結晶回折の結果では回折角2θが8.4°、10.4
°、13.2°、他に三酢酸セルロースπ型の典型的な
ピークが現われ、結晶化度は61φ、半値巾は0.40
°と評価された。
液となる)、50℃付近に保ちながら50倍量の水をよ
く攪拌しながら徐々に加えた。生成した白色沈澱を戸別
、水洗し真空乾燥すると多孔性の白色粉末となった。X
線結晶回折の結果では回折角2θが8.4°、10.4
°、13.2°、他に三酢酸セルロースπ型の典型的な
ピークが現われ、結晶化度は61φ、半値巾は0.40
°と評価された。
13−
電子顕微鏡での観察の結果、この物質が最大径1μ〜5
0μの多孔質の粒子より成っていることが明らかになっ
た。
0μの多孔質の粒子より成っていることが明らかになっ
た。
実施例−2
実施例−1で用いたものと同じ三酢酸セルロース140
fを1.4iの酢酸(関東化学特級試薬)中で膨潤せし
め、無水酢(221,2m11硫酸7,0ral、水8
.4罰を加え、3時間80℃で反応させた。
fを1.4iの酢酸(関東化学特級試薬)中で膨潤せし
め、無水酢(221,2m11硫酸7,0ral、水8
.4罰を加え、3時間80℃で反応させた。
その後、氷水で冷却し、26係酢酸マグネシウム水溶液
86.8 tで硫酸を中和した。生成した溶液は水−イ
ツブロバノール混合溶媒に加えて酢酸セルロースを沈澱
させ、戸別し、乾燥した。
86.8 tで硫酸を中和した。生成した溶液は水−イ
ツブロバノール混合溶媒に加えて酢酸セルロースを沈澱
させ、戸別し、乾燥した。
得られた酢酸セルロースをアセトンに溶解させ、不溶部
を加圧濾過することによって除いた後、沈澱が生成し′
ない程度の水を加え、ロータリエバポレータを用いて溶
媒を留去した。得られた白色粉末を減圧乾燥した。
を加圧濾過することによって除いた後、沈澱が生成し′
ない程度の水を加え、ロータリエバポレータを用いて溶
媒を留去した。得られた白色粉末を減圧乾燥した。
得られた結晶性酢酸セルロースは、X線回折の結果から
46係の結晶化度と0.58°の半値巾を持っていた。
46係の結晶化度と0.58°の半値巾を持っていた。
又、メタノール−塩化メチレン14−
(1:1)混合溶媒中の粘度より平均重合度は23であ
った。又遊離水酸基含量は0.8係であった。電子顕微
鏡による観察の結果、径1〜10μの多孔性粒子である
ことが明らかになった。
った。又遊離水酸基含量は0.8係であった。電子顕微
鏡による観察の結果、径1〜10μの多孔性粒子である
ことが明らかになった。
実施例−3
実施例−2による生成物をシリコンオイル中に懸濁し、
10分間200℃に保った。冷却後シリコンオイルをヘ
キサンで洗滌し、減圧乾燥した。この物質は白色粉末と
しての外観に変化はなく、結晶化度は50壬、半値巾は
0.41°であった。
10分間200℃に保った。冷却後シリコンオイルをヘ
キサンで洗滌し、減圧乾燥した。この物質は白色粉末と
しての外観に変化はなく、結晶化度は50壬、半値巾は
0.41°であった。
実施例−4
実施例−1で用いた三酢酸セルロースを全く同じ条件で
6時間処理し、低分子童三酢酸セルロースを得た。M葉
状率は93チ、粘度法による重合度は22、Mw/Mn
= 1.9、遊離水酸基含量は1.0係であった。
6時間処理し、低分子童三酢酸セルロースを得た。M葉
状率は93チ、粘度法による重合度は22、Mw/Mn
= 1.9、遊離水酸基含量は1.0係であった。
これをアセトンに溶解し、少量の不溶物を戸別した後、
沈澱が生成しない程度の量の水を加え、次いでロータリ
エバポレータにより溶媒を除くと白色粉末となった。こ
のものは結晶化度44係、半値巾0.60°と評価され
た。電子顕微鏡による観察の結果、径0.5〜20μ程
度の多孔質粒子であることが明らかになった。
沈澱が生成しない程度の量の水を加え、次いでロータリ
エバポレータにより溶媒を除くと白色粉末となった。こ
のものは結晶化度44係、半値巾0.60°と評価され
た。電子顕微鏡による観察の結果、径0.5〜20μ程
度の多孔質粒子であることが明らかになった。
応用例−1
実施例−2で得た酢酸セルロースをエタノール中で28
KHzの超音波をかけて粉砕後、酢酸セルロースの沈
降速度の違いによって粒径を分級した。沈降速度の遅い
酢酸セルロースの長さ25−1内径0.4−のステンレ
スカラムにスラリー法で充填した。このカラムを用いて
表−1に示した各ラセミ体の光学分割を試験した。使用
した液体クロマトグラフ機は、日本分光工業(株)製の
TR工、ROTARSRを用い、使用した検出機u 日
本分光工業(a) HcD UVIDEO−100−1
:Vを用いた。キャリア溶媒はエタノールを用い、0.
2rnl1分で用いた。カラムの空隙容f((aead
VO1umθ)はヘキサンにて2.5ml!であった。
KHzの超音波をかけて粉砕後、酢酸セルロースの沈
降速度の違いによって粒径を分級した。沈降速度の遅い
酢酸セルロースの長さ25−1内径0.4−のステンレ
スカラムにスラリー法で充填した。このカラムを用いて
表−1に示した各ラセミ体の光学分割を試験した。使用
した液体クロマトグラフ機は、日本分光工業(株)製の
TR工、ROTARSRを用い、使用した検出機u 日
本分光工業(a) HcD UVIDEO−100−1
:Vを用いた。キャリア溶媒はエタノールを用い、0.
2rnl1分で用いた。カラムの空隙容f((aead
VO1umθ)はヘキサンにて2.5ml!であった。
表−1に試験結果を示す。同、表−1中の用語の定義は
次の通りである。
次の通りである。
デットリイム
よシ弱く吸着される対掌体の容量比
表 −1
第1図は本発明の結晶性三酢酸セルロースの一例のX線
回折スペクトル、第2図は非晶性三酢酸セルロースのX
線回折スペクトルを示す図である。 出願人代理人 古 谷 馨=17− 第 1 図 2θ
回折スペクトル、第2図は非晶性三酢酸セルロースのX
線回折スペクトルを示す図である。 出願人代理人 古 谷 馨=17− 第 1 図 2θ
Claims (2)
- (1)数平均重合度が10〜50、
- (2)遊離水酸基含量が362係以下、(5)結晶化度
が35多以上であって、(4) Ou Kzx 緑に
よるX線結晶回折において、回折角2θが8.4°、
10.4°、 13.2°の3点付近に主たるピークが
現われ、且つそれらのピークの半値巾が20にして0.
70°以下である高結晶性低分子量酢酸セルロース。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58039554A JPS59166501A (ja) | 1983-03-10 | 1983-03-10 | 高結晶性低分子量酢酸セルロ−ス |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58039554A JPS59166501A (ja) | 1983-03-10 | 1983-03-10 | 高結晶性低分子量酢酸セルロ−ス |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59166501A true JPS59166501A (ja) | 1984-09-19 |
JPH036921B2 JPH036921B2 (ja) | 1991-01-31 |
Family
ID=12556282
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58039554A Granted JPS59166501A (ja) | 1983-03-10 | 1983-03-10 | 高結晶性低分子量酢酸セルロ−ス |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59166501A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08113541A (ja) * | 1994-07-07 | 1996-05-07 | Daicel Chem Ind Ltd | 分離剤 |
WO1996030413A1 (fr) * | 1995-03-31 | 1996-10-03 | Daicel Chemical Industries, Ltd. | Acetate de cellulose a bonne aptitude au moulage et procede de preparation associe |
WO2006033362A1 (ja) * | 2004-09-22 | 2006-03-30 | Daicel Chemical Industries, Ltd. | セルロースエステル及びその製造方法 |
JP2006523752A (ja) * | 2003-03-14 | 2006-10-19 | イーストマン ケミカル カンパニー | 低分子量セルロース混合エステル並びに低粘度結合剤及び改質剤としての被覆組成物へのそれらの使用 |
JP2020139047A (ja) * | 2019-02-28 | 2020-09-03 | 国立大学法人北海道大学 | セルロースアセテートフィルム |
-
1983
- 1983-03-10 JP JP58039554A patent/JPS59166501A/ja active Granted
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08113541A (ja) * | 1994-07-07 | 1996-05-07 | Daicel Chem Ind Ltd | 分離剤 |
WO1996030413A1 (fr) * | 1995-03-31 | 1996-10-03 | Daicel Chemical Industries, Ltd. | Acetate de cellulose a bonne aptitude au moulage et procede de preparation associe |
US5919920A (en) * | 1995-03-31 | 1999-07-06 | Daicel Chemical Industries, Ltd. | Cellulose acetate with high moldability and process for production thereof |
JP2006523752A (ja) * | 2003-03-14 | 2006-10-19 | イーストマン ケミカル カンパニー | 低分子量セルロース混合エステル並びに低粘度結合剤及び改質剤としての被覆組成物へのそれらの使用 |
JP2012021163A (ja) * | 2003-03-14 | 2012-02-02 | Eastman Chemical Co | 低分子量セルロース混合エステル並びに低粘度結合剤及び改質剤としての被覆組成物へのそれらの使用 |
WO2006033362A1 (ja) * | 2004-09-22 | 2006-03-30 | Daicel Chemical Industries, Ltd. | セルロースエステル及びその製造方法 |
US7745615B2 (en) | 2004-09-22 | 2010-06-29 | Daicel Chemical Industries, Ltd. | Cellulose ester and production method thereof |
KR100976329B1 (ko) | 2004-09-22 | 2010-08-16 | 다이셀 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 셀룰로오스 에스테르 및 그의 제조 방법 |
JP2020139047A (ja) * | 2019-02-28 | 2020-09-03 | 国立大学法人北海道大学 | セルロースアセテートフィルム |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH036921B2 (ja) | 1991-01-31 |
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