JPS5916388B2 - ２次電子エネルギ−分析装置 - Google Patents
２次電子エネルギ−分析装置Info
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- JPS5916388B2 JPS5916388B2 JP51044818A JP4481876A JPS5916388B2 JP S5916388 B2 JPS5916388 B2 JP S5916388B2 JP 51044818 A JP51044818 A JP 51044818A JP 4481876 A JP4481876 A JP 4481876A JP S5916388 B2 JPS5916388 B2 JP S5916388B2
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- Japan
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- secondary electrons
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/22—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
- G01N23/225—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material using electron or ion
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- Electron Tubes For Measurement (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はＸ線等によつて照射された試料面から出て来る
２次電子による試料面の像を得る装置に関する。
２次電子による試料面の像を得る装置に関する。
試料表面の非破壊的分析方法として、試料面をＸ線等で
照射し出て来る２次電子をエネルギー分析する方法があ
る。
照射し出て来る２次電子をエネルギー分析する方法があ
る。
この場合試料面を照射する線即ち刺撃線が試料を照射し
ている部分が拡りを持つていると、２次電子のエネルギ
ー分析結果は試料面のその部分の平均的な結果となる。
そこで試料面が不均一でその不均一な組織を調べたい場
合或は表面に分布する特定物質を検出しその分布状態を
調べたいと云うような場合には刺撃線を細く絞つて試料
面に当て、そのような刺撃線で走査すると云ラ方法を採
らなくてはならない。刺撃線として電子のようなものを
用いるときはレンズによつて照射部を細く絞ることがで
きるが、Ｘ線のようなものはレンズによつて絞れないか
らスリットを用いて照射部を微小にする他ない。しかし
このようにすると照射線量が著るしく減少するため、充
分な情報精度を得るために一点についての分析時間を長
くしなければならず、試料面の或る範囲０ を走査する
となると非常な長時間を要することになり実用的な分析
方法とは云えないものとなる。従つて本発明の主たる目
的＆Ｌ比較的短時間でＸ線のような収束させることので
きない刺撃線を用いて試料面の或る範囲の２次電子エネ
ルギー分５ 光分析を行ラことのできる装置を得ること
であつて、そのため試料面の或る範囲から出る２次電子
のラち選択した特定エネルギーの電子による試料面の像
を得る装置を提供するものである。この場合刺撃線は試
料面を或る拡りを以つて照射しておフｏ り、試料面の
各微小部分について考えると刺撃線の照度は刺撃線をス
リットによつて絞つた場合と余り変らないが、試料面を
走査するのと異り、試料面の像が得られているので、試
料面の各点については充分な情報精度が得られるだけの
時間をか２５けながら各点の分析が同時に進行するため
全体的には大へん短時間で分析を行うことができるので
ある。以下実施例によつて本発明を説明する。第１図で
１は試料、２はＸ線源でＦは熱電子源、Ｔはターゲット
であり、ｘは試料を照射するＸ線３０を示す。３は蜂巣
状のスリット板で細かな透孔の直径は数μ程度である。
ている部分が拡りを持つていると、２次電子のエネルギ
ー分析結果は試料面のその部分の平均的な結果となる。
そこで試料面が不均一でその不均一な組織を調べたい場
合或は表面に分布する特定物質を検出しその分布状態を
調べたいと云うような場合には刺撃線を細く絞つて試料
面に当て、そのような刺撃線で走査すると云ラ方法を採
らなくてはならない。刺撃線として電子のようなものを
用いるときはレンズによつて照射部を細く絞ることがで
きるが、Ｘ線のようなものはレンズによつて絞れないか
らスリットを用いて照射部を微小にする他ない。しかし
このようにすると照射線量が著るしく減少するため、充
分な情報精度を得るために一点についての分析時間を長
くしなければならず、試料面の或る範囲０ を走査する
となると非常な長時間を要することになり実用的な分析
方法とは云えないものとなる。従つて本発明の主たる目
的＆Ｌ比較的短時間でＸ線のような収束させることので
きない刺撃線を用いて試料面の或る範囲の２次電子エネ
ルギー分５ 光分析を行ラことのできる装置を得ること
であつて、そのため試料面の或る範囲から出る２次電子
のラち選択した特定エネルギーの電子による試料面の像
を得る装置を提供するものである。この場合刺撃線は試
料面を或る拡りを以つて照射しておフｏ り、試料面の
各微小部分について考えると刺撃線の照度は刺撃線をス
リットによつて絞つた場合と余り変らないが、試料面を
走査するのと異り、試料面の像が得られているので、試
料面の各点については充分な情報精度が得られるだけの
時間をか２５けながら各点の分析が同時に進行するため
全体的には大へん短時間で分析を行うことができるので
ある。以下実施例によつて本発明を説明する。第１図で
１は試料、２はＸ線源でＦは熱電子源、Ｔはターゲット
であり、ｘは試料を照射するＸ線３０を示す。３は蜂巣
状のスリット板で細かな透孔の直径は数μ程度である。
このスリット板によつて試料面から出る２次電子のうち
同面に垂直なものだけが選択される。このようなスリッ
トを用いるのはその上方にあるウィーンフィルタによつ
て工３５ネルギー分析をするためである。ウィーンフィ
ルタは相互に直交する電界と磁界の存在する空間で両種
の力線と直交する方向に入射した電子のラち特定エネル
ギーの電子のみが直進し他は進路が曲るようにしたもの
で、４がウイーンフイルタを構成する磁極、５は同じく
電極の一方である。スリツト板３を通過した２次電子は
上記ウイーンフイルタを通り、特定エネルギーを持つた
２次電子のみが平行を保つて上方へ進む。６は３と同じ
構造を持つスリツト板で、ウイーンフイルタを上方に平
行に通つて来た電子即ち或る一定のエネルギーを持つた
電子のみが同スリツトを通過する。
同面に垂直なものだけが選択される。このようなスリッ
トを用いるのはその上方にあるウィーンフィルタによつ
て工３５ネルギー分析をするためである。ウィーンフィ
ルタは相互に直交する電界と磁界の存在する空間で両種
の力線と直交する方向に入射した電子のラち特定エネル
ギーの電子のみが直進し他は進路が曲るようにしたもの
で、４がウイーンフイルタを構成する磁極、５は同じく
電極の一方である。スリツト板３を通過した２次電子は
上記ウイーンフイルタを通り、特定エネルギーを持つた
２次電子のみが平行を保つて上方へ進む。６は３と同じ
構造を持つスリツト板で、ウイーンフイルタを上方に平
行に通つて来た電子即ち或る一定のエネルギーを持つた
電子のみが同スリツトを通過する。
スリツト６の上面にチヤンネルプレート９が配置される
。このプレートもスリツト３，６と同様な蜂巣構造で各
透孔内面が高抵抗２次電子発生面になつており、上下両
面間に加速電圧が印加してある。下面に入射した電子は
透孔内面に当つて２次電子を出し、この２次電子が２次
電子を出す電子増倍作用で入射電子線を増幅する。チヤ
ンネルプレート９の上方に加速電極７が配置され、チヤ
ンネルプレートから出て来る電子を加速する。８は靜電
電子レンズでチヤンネルプレート９を物体としてその電
子像を螢光板１０上に結像する。
。このプレートもスリツト３，６と同様な蜂巣構造で各
透孔内面が高抵抗２次電子発生面になつており、上下両
面間に加速電圧が印加してある。下面に入射した電子は
透孔内面に当つて２次電子を出し、この２次電子が２次
電子を出す電子増倍作用で入射電子線を増幅する。チヤ
ンネルプレート９の上方に加速電極７が配置され、チヤ
ンネルプレートから出て来る電子を加速する。８は靜電
電子レンズでチヤンネルプレート９を物体としてその電
子像を螢光板１０上に結像する。
この像はＸ線に照射された試料面１から出た特定エネル
ギーの２次電子の試料１面の分布像に他ならない。この
像はきわめて暗く直接肉眼によつて観ることは困難であ
るから、イメージインテンシフアイヤ或は一定時間内の
入射光エネルギーを積分する性質のあるテレビ撮像管１
１等を用いて可視化する。或は螢光面１０に当接させて
更に或は螢光面１０の所に直接写真乾板を置〜・て、乾
板によつて光量積分をしてもよい。電子レンズ８を用い
れば拡大像を得ることができるが、第２図のようにスリ
ツト板６とチヤンネルプレート９の位置を入れ替えチヤ
ンネルプレート９に近接させて螢光板或は乾板１０を置
くことにしても、スリツト板６を出た電子は平行である
から、試料面の等倍の像が得られる。
ギーの２次電子の試料１面の分布像に他ならない。この
像はきわめて暗く直接肉眼によつて観ることは困難であ
るから、イメージインテンシフアイヤ或は一定時間内の
入射光エネルギーを積分する性質のあるテレビ撮像管１
１等を用いて可視化する。或は螢光面１０に当接させて
更に或は螢光面１０の所に直接写真乾板を置〜・て、乾
板によつて光量積分をしてもよい。電子レンズ８を用い
れば拡大像を得ることができるが、第２図のようにスリ
ツト板６とチヤンネルプレート９の位置を入れ替えチヤ
ンネルプレート９に近接させて螢光板或は乾板１０を置
くことにしても、スリツト板６を出た電子は平行である
から、試料面の等倍の像が得られる。
或は第３図のように下から順にスリツト板６、加速電極
７、レンズ８、チヤンネルプレート９の配置とし、加速
電極７をメツシユ状グリツドとすることもできる。
７、レンズ８、チヤンネルプレート９の配置とし、加速
電極７をメツシユ状グリツドとすることもできる。
この場合スリツト６を出た平行電子束はグリツド７に至
る間に加速されると共にグリツド７で方向が乱れるから
、グリツド７が電子線源となつてその像がチヤンネルプ
レート９上に結ばれる。グリツド７における電子分布は
試料１面の特定エネルギーの２次電子の発生分布と同じ
パターンを保つているから、チヤンネルプレート９上の
像は試料面の像である。本発明装置は上述したような構
成で、試料面の或る範囲の平均的な情報しか得られなか
つたＸ線２次電子エネルギー分光分析法によつて試料の
微小部分の分析ができ、しかも分析結果が試料面の像と
して得られるから試料表面状態についての情報は単なる
微小部分の情報以上に豊富となり、試料面の像を得る手
段として走査法を用いたとした場合と同程度の分析精度
がはるかに短時間で得られることになり、Ｘ線２次電子
エネルギー分光分析の分析方法としての能力を非常に増
大させることができる。
る間に加速されると共にグリツド７で方向が乱れるから
、グリツド７が電子線源となつてその像がチヤンネルプ
レート９上に結ばれる。グリツド７における電子分布は
試料１面の特定エネルギーの２次電子の発生分布と同じ
パターンを保つているから、チヤンネルプレート９上の
像は試料面の像である。本発明装置は上述したような構
成で、試料面の或る範囲の平均的な情報しか得られなか
つたＸ線２次電子エネルギー分光分析法によつて試料の
微小部分の分析ができ、しかも分析結果が試料面の像と
して得られるから試料表面状態についての情報は単なる
微小部分の情報以上に豊富となり、試料面の像を得る手
段として走査法を用いたとした場合と同程度の分析精度
がはるかに短時間で得られることになり、Ｘ線２次電子
エネルギー分光分析の分析方法としての能力を非常に増
大させることができる。
第１図は本発明の一実施例の外囲を省略した縦断側面図
、第２、第３図は夫々本発明の他の実施例の要部縦断側
面図である。 １・・・試料、２・・・Ｘ線源、３，６・・・蜂巣状ス
リツト、４，５・・・ウイーンフイルタを構成する磁板
及び電極、７・・・加速電極、８・・・電子レンズ、９
・・・チヤンネルプレート、１０・・・螢光板、１１・
・・テレビ撮像管。
、第２、第３図は夫々本発明の他の実施例の要部縦断側
面図である。 １・・・試料、２・・・Ｘ線源、３，６・・・蜂巣状ス
リツト、４，５・・・ウイーンフイルタを構成する磁板
及び電極、７・・・加速電極、８・・・電子レンズ、９
・・・チヤンネルプレート、１０・・・螢光板、１１・
・・テレビ撮像管。
Claims (1)
- １ 試料面の或る範囲を照射する刺激線源、試料面から
一定方向に出る２次電子を通過させる手段、上記手段を
通過した２次電子のエネルギーを分別する手段、同エネ
ルギー分別手段を通過した２次電子中一定方向の２次電
子を通過させる手段、この手段を通過した２次電子を加
速する手段、上記各手段を経て得られる電子像を可視化
する手段よりなる２次電子エネルギー分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP51044818A JPS5916388B2 (ja) | 1976-04-19 | 1976-04-19 | ２次電子エネルギ−分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP51044818A JPS5916388B2 (ja) | 1976-04-19 | 1976-04-19 | ２次電子エネルギ−分析装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS52127390A JPS52127390A (en) | 1977-10-25 |
| JPS5916388B2 true JPS5916388B2 (ja) | 1984-04-14 |
Family
ID=12702009
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP51044818A Expired JPS5916388B2 (ja) | 1976-04-19 | 1976-04-19 | ２次電子エネルギ−分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5916388B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2700002B2 (ja) * | 1986-09-05 | 1998-01-19 | 株式会社日立製作所 | 荷電粒子光学系 |
-
1976
- 1976-04-19 JP JP51044818A patent/JPS5916388B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS52127390A (en) | 1977-10-25 |
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