JPS5914253B2 - 反応器の支持装置 - Google Patents
反応器の支持装置Info
- Publication number
- JPS5914253B2 JPS5914253B2 JP55142453A JP14245380A JPS5914253B2 JP S5914253 B2 JPS5914253 B2 JP S5914253B2 JP 55142453 A JP55142453 A JP 55142453A JP 14245380 A JP14245380 A JP 14245380A JP S5914253 B2 JPS5914253 B2 JP S5914253B2
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- JP
- Japan
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- reactor
- beams
- stopper
- lug
- support device
- Prior art date
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- Expired
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
- B01J8/008—Details of the reactor or of the particulate material; Processes to increase or to retard the rate of reaction
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/24—Stationary reactors without moving elements inside
- B01J19/248—Reactors comprising multiple separated flow channels
- B01J19/2485—Monolithic reactors
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2208/00—Processes carried out in the presence of solid particles; Reactors therefor
- B01J2208/00796—Details of the reactor or of the particulate material
- B01J2208/00805—Details of the particulate material
- B01J2208/00814—Details of the particulate material the particulate material being provides in prefilled containers
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は反応器の支持装置に係り、特に水平力を容易に
制止することができる反応器の支持装置に関するもので
ある。
制止することができる反応器の支持装置に関するもので
ある。
排ガス中の窒素酸化物を除去する乾式脱硝法において、
アンモニア等の還元剤と窒素酸化物の反応を促進するた
めに触媒層を配置した脱硝反応器が用いられる。
アンモニア等の還元剤と窒素酸化物の反応を促進するた
めに触媒層を配置した脱硝反応器が用いられる。
第１図はこのような反応器の一例を示すものであるが１
反応器入ロダクト１から流入した排ガスは、触媒層２に
おいて反応が促進され、脱硝が終了した排ガスは１反応
器用ロダクト３から排出される。
反応器入ロダクト１から流入した排ガスは、触媒層２に
おいて反応が促進され、脱硝が終了した排ガスは１反応
器用ロダクト３から排出される。
このような反応器に地震力、風圧力等の水平力が加わっ
た場合の反応器の支持方法（支持位置）を第２図に示す
。
た場合の反応器の支持方法（支持位置）を第２図に示す
。
この支持方法は、柱の１点Ａを固定し、他の点Ｂ、Ｃ，
Ｄで第２図の矢印の方向の力を止める方法である。
Ｄで第２図の矢印の方向の力を止める方法である。
またその構造は、第３図に示すように柱４の力を止める
方向にストッパー５を設け、矢印の方向に水平力が加わ
った場合に、ベースプレート６がストッパー５に当り、
水平力による反応器の変位を止めるようになっている。
方向にストッパー５を設け、矢印の方向に水平力が加わ
った場合に、ベースプレート６がストッパー５に当り、
水平力による反応器の変位を止めるようになっている。
しかし、このような構造では、柱脚の一点Ａを固定して
いるため１反応器支持架台の固定個所の梁に曲げモーメ
ントが発生し、このモーメントを吸収させるために柱脚
基礎が複雑になる。
いるため１反応器支持架台の固定個所の梁に曲げモーメ
ントが発生し、このモーメントを吸収させるために柱脚
基礎が複雑になる。
またモーメントが生じないような架台構造にすると、架
台に水平トラスを設ける等の方法をとらなければならず
、構造が複雑でコストが高くなる等の欠点がある。
台に水平トラスを設ける等の方法をとらなければならず
、構造が複雑でコストが高くなる等の欠点がある。
本発明の目的は、上記した従来技術の欠点をなくシ１反
応器支持架台の構造を複雑にすることなく、水平力によ
る反応器の変位を容易に制止することができる反応器の
支持装置を提供することにある。
応器支持架台の構造を複雑にすることなく、水平力によ
る反応器の変位を容易に制止することができる反応器の
支持装置を提供することにある。
本発明は１反応器の底部に固着された四辺の梁と１反応
器を支持する架台の四辺の各梁のほぼ中央にラグ（突起
部）とストッパーを設け、対向する二辺の梁はその長さ
に沿ったＸ方向のみの伸びを、他の対向する二辺の梁は
前記Ｘ方向と直角方向の伸びのみを吸収し、あたかも反
応器の中央に仮想の固定点が形成されるようにしたこと
を特徴とする。
器を支持する架台の四辺の各梁のほぼ中央にラグ（突起
部）とストッパーを設け、対向する二辺の梁はその長さ
に沿ったＸ方向のみの伸びを、他の対向する二辺の梁は
前記Ｘ方向と直角方向の伸びのみを吸収し、あたかも反
応器の中央に仮想の固定点が形成されるようにしたこと
を特徴とする。
以下１本発明を図面によりさらに詳細に説明する。
第４図は１本発明の反応器の固定装置の−実施例を示す
断面図、第５図は、第４図のＶ部分の拡大断面図である
。
断面図、第５図は、第４図のＶ部分の拡大断面図である
。
図において１反応器底部の四辺の梁７の中央部にストッ
パー用ラグ８が突設され。
パー用ラグ８が突設され。
また架台梁９の中央部には上記ラグ８の梁長さ方向の移
動を制止するためのストッパー１０が前記ラグ８の両側
に設けられている。
動を制止するためのストッパー１０が前記ラグ８の両側
に設けられている。
ストッパー１０とラグ８のギャップ（重なり部）は１反
応器の熱膨張を考慮して適当に１例えば５０〜１００ｍ
ｍ程度に設定される。
応器の熱膨張を考慮して適当に１例えば５０〜１００ｍ
ｍ程度に設定される。
なお、ストッパー１０とラグ８を逆に付けた構造として
も本実施例と同様な効果を得ることができる。
も本実施例と同様な効果を得ることができる。
反応器に地震力、風圧力等の水平力が加わった場合、ラ
グ８がストッパー１０に当接し、水平力による反応器の
変位が制止される。
グ８がストッパー１０に当接し、水平力による反応器の
変位が制止される。
水平力の制止方法を第６図によって説明すると、Ｘ方向
の水平力が加わった場合１点り、Ｂのストッパー１０に
ラグ８が当り、反応器の変位が制止される。
の水平力が加わった場合１点り、Ｂのストッパー１０に
ラグ８が当り、反応器の変位が制止される。
またＺ方向の水平力が加わった場合、点Ｂ、Ｃのストッ
パー１０にラグ８が当り、同様に反応器の変化が止まる
。
パー１０にラグ８が当り、同様に反応器の変化が止まる
。
すなわち、四辺の梁にそれぞれ変位制止箇所を設けたこ
とにより、あたかも反応器の中心Ａ（第６図）に固定点
を設けたものと同じになり、架台の梁に過大な曲げモー
メントを生じることなく１反応器を確実に架台に固定さ
せることができる。
とにより、あたかも反応器の中心Ａ（第６図）に固定点
を設けたものと同じになり、架台の梁に過大な曲げモー
メントを生じることなく１反応器を確実に架台に固定さ
せることができる。
上記実施例によれば、架台の梁にモーメントが掛らない
ため、基礎構造が簡単になり、また反応器と架台が完全
に分離されているため、ガス温度による燃膨張が均一化
され、このためストッパー。
ため、基礎構造が簡単になり、また反応器と架台が完全
に分離されているため、ガス温度による燃膨張が均一化
され、このためストッパー。
梁の各部を同一条件で設計することかでき、装置として
の信頼性が向上する。
の信頼性が向上する。
以上１本発明によれば１反応器の支持架台の梁および柱
脚にモーメントが発生しないため、架台構造および柱脚
の基礎構造が簡単になり、また反応器と架台が分離され
ているので、装置の設計が容易になり、その信頼性が向
上する等の優れた効果が得られる。
脚にモーメントが発生しないため、架台構造および柱脚
の基礎構造が簡単になり、また反応器と架台が分離され
ているので、装置の設計が容易になり、その信頼性が向
上する等の優れた効果が得られる。
第１図は、従来の脱硝反応器の構造を示す断面図、第２
図は、上記反応器の支持方法（支持位置）を示す説明図
、第３図は、上記反応器の柱脚の固定部を示す斜視図、
第４図は、本発明の支持装置を適用した反応器の断面図
、第５図は、第４図のＶ線で示す固定部分の拡大図、第
６図は、上記反応器の固定位置を説明する図である。 ２・・・・・・触媒層、７・・・・・・反応器底部梁、
８・・・・・・ラグ、９・・・・・・架台梁、１０・・
・・・・ストッパー。
図は、上記反応器の支持方法（支持位置）を示す説明図
、第３図は、上記反応器の柱脚の固定部を示す斜視図、
第４図は、本発明の支持装置を適用した反応器の断面図
、第５図は、第４図のＶ線で示す固定部分の拡大図、第
６図は、上記反応器の固定位置を説明する図である。 ２・・・・・・触媒層、７・・・・・・反応器底部梁、
８・・・・・・ラグ、９・・・・・・架台梁、１０・・
・・・・ストッパー。
Claims (1)
- １ 反応器の底部に固着された四辺の梁と１反応器を支
持する架台の四辺の各梁のほぼ中央にラグとストッパー
を設け、対向する二辺の梁はその長さに沿ったＸ方向の
みの伸びを、他の対向する二辺の梁は前記Ｘ方向と直角
方向の伸びのみを吸収し、あたかも反応器の中央に仮想
の固定点が形成されるようにしたことを特徴とする反応
器の支持装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP55142453A JPS5914253B2 (ja) | 1980-10-14 | 1980-10-14 | 反応器の支持装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP55142453A JPS5914253B2 (ja) | 1980-10-14 | 1980-10-14 | 反応器の支持装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5768134A JPS5768134A (en) | 1982-04-26 |
| JPS5914253B2 true JPS5914253B2 (ja) | 1984-04-03 |
Family
ID=15315658
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP55142453A Expired JPS5914253B2 (ja) | 1980-10-14 | 1980-10-14 | 反応器の支持装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5914253B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0525156Y2 (ja) * | 1987-11-19 | 1993-06-25 |
-
1980
- 1980-10-14 JP JP55142453A patent/JPS5914253B2/ja not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0525156Y2 (ja) * | 1987-11-19 | 1993-06-25 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5768134A (en) | 1982-04-26 |
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