JPS5913795A - N−ホスホノメチルグリシンの製造方法 - Google Patents
N−ホスホノメチルグリシンの製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、除草剤および植物生長調整剤として知られ
るN−ホスホノメチルグリシンの製造方法に関する。
るN−ホスホノメチルグリシンの製造方法に関する。
除草剤は、広く農家、商業的農業会社、その他の産業に
おいて、トウモロコシ、大豆、米などのような主要作物
の収量を増大させまたハイウェイ、鉄道敷地その他の地
区での雑草の生長を阻止するのに用いられる。除草剤は
、土壌中の栄養分を作物植物と取り合う不要植物を殺し
調整するのに有効であり、44また雑草を殺すことよシ
ハイウェイや鉄道敷地内の美観も改良されるという効果
がある。
おいて、トウモロコシ、大豆、米などのような主要作物
の収量を増大させまたハイウェイ、鉄道敷地その他の地
区での雑草の生長を阻止するのに用いられる。除草剤は
、土壌中の栄養分を作物植物と取り合う不要植物を殺し
調整するのに有効であり、44また雑草を殺すことよシ
ハイウェイや鉄道敷地内の美観も改良されるという効果
がある。
現在、商業的に販売されている除草剤には種々のタイプ
のものがあるが、これらは大別して2つの範噛に入る。
のものがあるが、これらは大別して2つの範噛に入る。
それは、発芽前タイプの除草剤と発芽後の除草剤タイプ
のものである。発芽前夕・イブの除草剤は、通常雑草が
土壌中から発芽する前に土壌中シて適用され、そして発
芽後のタイプの除草剤は通常、雑草その他の不必要な植
物が土壌中から発芽したのちに土壌中に適用される。
のものである。発芽前夕・イブの除草剤は、通常雑草が
土壌中から発芽する前に土壌中シて適用され、そして発
芽後のタイプの除草剤は通常、雑草その他の不必要な植
物が土壌中から発芽したのちに土壌中に適用される。
商業的に使用きれた発芽後タイプの除草剤で最も早いも
のの一つは、2.4− D (2,4−ジクロロフェノ
キシ酢酸)である。この化合物や類似のたとえば2,4
.5−T (2,4,5−トリクロロフェノキシ酢酸)
の多年に亘る使用ののち、これらの除草剤の成る種の分
解生成物は永く残留し、生物的に分解しないことがわか
った。政府と業界との間で2.4−D。
のの一つは、2.4− D (2,4−ジクロロフェノ
キシ酢酸)である。この化合物や類似のたとえば2,4
.5−T (2,4,5−トリクロロフェノキシ酢酸)
の多年に亘る使用ののち、これらの除草剤の成る種の分
解生成物は永く残留し、生物的に分解しないことがわか
った。政府と業界との間で2.4−D。
2、4.5− Tおよび類似化合物の残留酸物の効果に
つき論議があったが、政府は数年前にこれらの除草剤の
米国における使用を制限した。
つき論議があったが、政府は数年前にこれらの除草剤の
米国における使用を制限した。
それ以来、適用後比較的短期間に生物的分解が可能な除
草剤の開発に努力がなされた。
草剤の開発に努力がなされた。
生物的に分解可能で、少量適用しても除草効果や植物生
育調整効果があるということが判った化合物の一つは、
N〜ホスホノメチルグリシンおよびその種々の塩である
。このN−ホスホノメチルグリシンおよヒ農薬として有
効なぞの地に米国政府力・らその使用を認められた。そ
の後、商業的に非常な成功をおさめた。
育調整効果があるということが判った化合物の一つは、
N〜ホスホノメチルグリシンおよびその種々の塩である
。このN−ホスホノメチルグリシンおよヒ農薬として有
効なぞの地に米国政府力・らその使用を認められた。そ
の後、商業的に非常な成功をおさめた。
N−ホスホノメチルグリシンおよびそのある種の塩は、
発芽後タイプ除は剤としで鳴動かつ認められた唯一のも
のである。現在の市販化合物は、N−ホスホノ、メブー
ルグリシンおよびその誘導体のイソプロピル塩テある。
発芽後タイプ除は剤としで鳴動かつ認められた唯一のも
のである。現在の市販化合物は、N−ホスホノ、メブー
ルグリシンおよびその誘導体のイソプロピル塩テある。
農地に−おける使用では、通常約0.01〜20ボンド
/ニーカー、好ましくは2〜6ポンド/ニーカーの量が
適用される。
/ニーカー、好ましくは2〜6ポンド/ニーカーの量が
適用される。
N−ホスホノメチルグリシンおよびその塩類は種々の方
法で製造し得る。米国特許第3、160.632号(T
oy他、19[’+4 、12.8 ) K記述の方法
によると、N−ホスフィノメチルグリシン(クリシンメ
チレンポスフィン酸)ト二塩化水銀を水溶媒中、還流温
度で反応させ、次いで生成物を分離する。他の方法によ
ると、グリシンのホスホノメチルグシンおよびエチルグ
リシネートとホルムアルデヒドおよびジエチルホスファ
イトの反応k”FAんでいる。
法で製造し得る。米国特許第3、160.632号(T
oy他、19[’+4 、12.8 ) K記述の方法
によると、N−ホスフィノメチルグリシン(クリシンメ
チレンポスフィン酸)ト二塩化水銀を水溶媒中、還流温
度で反応させ、次いで生成物を分離する。他の方法によ
ると、グリシンのホスホノメチルグシンおよびエチルグ
リシネートとホルムアルデヒドおよびジエチルホスファ
イトの反応k”FAんでいる。
後者の方法は、米゛国特許第3.799.758号(F
ranz 1974 、3.26ンにpH4Jされテ
イル。
ranz 1974 、3.26ンにpH4Jされテ
イル。
サラに、N−ホスホノメチルグリシン類、その塩、誘導
体に関する多くの特W「かあり、除草剤および植物生長
調節剤とじての有用性を記述している。そのようなN〜
ホスホノメチルグリシンに関する調整法、適用法を記述
した偶詐には、米国特約駅3.868.407号、第4
,197,254号および第4,199,354号等が
ある。
体に関する多くの特W「かあり、除草剤および植物生長
調節剤とじての有用性を記述している。そのようなN〜
ホスホノメチルグリシンに関する調整法、適用法を記述
した偶詐には、米国特約駅3.868.407号、第4
,197,254号および第4,199,354号等が
ある。
N−ホスホノメチルグリシンおよびその堪の除草剤とじ
ての重要性の故に、この化合物の製造のための他の改良
方法が常に研究されて来た。
ての重要性の故に、この化合物の製造のための他の改良
方法が常に研究されて来た。
この発明も、N−ホスフノメチルグリシンおよび特定の
中間体の新規な與法に関するものである。
中間体の新規な與法に関するものである。
本発明は、出発物質としてホルムアルデヒドおよびホル
ムアミドを使用するN−ホスホノメチルグリシンの製造
方法であり、4つの段階を包含する。
ムアミドを使用するN−ホスホノメチルグリシンの製造
方法であり、4つの段階を包含する。
これらの段階のあるもの1は特定化合物に特定されるも
のであり、またある段階のものは本質的に一般性のある
ものである。そこで、先ず最初に特定化合物につき記1
ホ(−1、次いで各段階ごとに詳細に説明し、一般的な
面についても適用できるものについては記述する。
のであり、またある段階のものは本質的に一般性のある
ものである。そこで、先ず最初に特定化合物につき記1
ホ(−1、次いで各段階ごとに詳細に説明し、一般的な
面についても適用できるものについては記述する。
本発明の全体、プロセスは次の段階全包含する:
])ホルムアルデヒド全ホルムアSドー\添加して、N
−(ヒドロキシメチル)ホルムアミドとする。この場合
、反応液のp[] ff 9〜】0に保つ。
−(ヒドロキシメチル)ホルムアミドとする。この場合
、反応液のp[] ff 9〜】0に保つ。
2)N−(ヒドロキシメチル)ホルムアミドを熱を伴っ
てトリエチル−ホスファイトと反応させ、ジエチル−N
〜(ホルミル)−アミノメチルホスホネートとする。
てトリエチル−ホスファイトと反応させ、ジエチル−N
〜(ホルミル)−アミノメチルホスホネートとする。
3)ジエチル−N−に1−ss=ミル)アミノメチルホ
スホネートを適当な溶媒の存在下メチルクロロアセテー
トと反応させ、N−(ジエチルホスホニルメチル)−N
−(ホルミル)グリシンメチルエステルとする。
スホネートを適当な溶媒の存在下メチルクロロアセテー
トと反応させ、N−(ジエチルホスホニルメチル)−N
−(ホルミル)グリシンメチルエステルとする。
4)N−(ジエチルホスホノメチル)−N−(ホルミル
)グリシンメチルエステル全適当な加水分解剤と反応さ
せ、N−ホスホノメチルグリシンとする。
)グリシンメチルエステル全適当な加水分解剤と反応さ
せ、N−ホスホノメチルグリシンとする。
本発明を各段階毎に説明する。
先行文献によれば、N−(ヒドロキシメチル)ホルムア
ミドは、ホルムアミドとホルムアルデヒドとを、加熱下
即純に結合させれば生ずると記述されている。これを実
験室で行えば、生成物は次式を有するN−ビスヒドロキ
シメチルホルムアミドとなる。
ミドは、ホルムアミドとホルムアルデヒドとを、加熱下
即純に結合させれば生ずると記述されている。これを実
験室で行えば、生成物は次式を有するN−ビスヒドロキ
シメチルホルムアミドとなる。
\
H20H
この構造は” CNMRで確認されている。これは、本
発明で有用とする中間体ではない。
発明で有用とする中間体ではない。
段階1
所望中間体、N−(ヒドロキシメチル)ホよって得られ
ることが判った。この反応は次式に示すようなものであ
り、本発明方法の段階1表なる。
ることが判った。この反応は次式に示すようなものであ
り、本発明方法の段階1表なる。
p)+9−10
段階1の反応例おいて、2当量のホルムアミドにつき1
当量のホルムアルデヒドが用いられる。反応液のpHは
大事であり、9〜1゜の範囲に維持すべきである。pR
ti適宜の方法で調整してよいが、好ましくけ、炭酸カ
リウム、炭酸ナトリウノ・、重炭酸ソーダ、水酸化メと
^贅イヒhリクへ、 ナトリウゝA% 84′好ましくは炭酸カリウムの如き
塩基を用いるのがよい。
当量のホルムアルデヒドが用いられる。反応液のpHは
大事であり、9〜1゜の範囲に維持すべきである。pR
ti適宜の方法で調整してよいが、好ましくけ、炭酸カ
リウム、炭酸ナトリウノ・、重炭酸ソーダ、水酸化メと
^贅イヒhリクへ、 ナトリウゝA% 84′好ましくは炭酸カリウムの如き
塩基を用いるのがよい。
段階1のプロセスでは、ホルムアルデヒドをホルムアミ
ドに加えねばならない。所望の12物、N−(ヒドロキ
シメチル)ポルムアミドを得るにはこれが唯一の方法で
あることが判った。もし、ホルムアミドをポルムアルデ
ヒドに添加しても所望生成物f′i得られない。
ドに加えねばならない。所望の12物、N−(ヒドロキ
シメチル)ポルムアミドを得るにはこれが唯一の方法で
あることが判った。もし、ホルムアミドをポルムアルデ
ヒドに添加しても所望生成物f′i得られない。
反応は室温で進めることができる。この場合反応時間は
約4時間である。加熱すれば、勿論反応時間は大巾に減
少する。しかし熱の使用は本質的なことではない。反応
温度は好オしくけ約20〜25℃の範囲である。
約4時間である。加熱すれば、勿論反応時間は大巾に減
少する。しかし熱の使用は本質的なことではない。反応
温度は好オしくけ約20〜25℃の範囲である。
段階2
次K、N−(ヒドロキシメチル)ポルムアミドはトルエ
チルホスファイトと反応して、ジエチル−N−(ホルミ
ル)−アミノメチルホスフォネートを作る。
チルホスファイトと反応して、ジエチル−N−(ホルミ
ル)−アミノメチルホスフォネートを作る。
反応式を次に示す。
ホルムアミド ホスファイト −メ
ブブ叶丙坏−トN−(ヒドロキシメチル)ホルムアミド
とトリエチルホスファイトととのモル比は1:IT’あ
る。反応d、加熱下に行い、反応の完了に充分な温度を
かけて行う。エチルアルコールが発生1〜、これが還流
する温度になるまで加熱する。トリエチルホスファイト
ラ用いる場合、この温度は約120〜125℃である。
ブブ叶丙坏−トN−(ヒドロキシメチル)ホルムアミド
とトリエチルホスファイトととのモル比は1:IT’あ
る。反応d、加熱下に行い、反応の完了に充分な温度を
かけて行う。エチルアルコールが発生1〜、これが還流
する温度になるまで加熱する。トリエチルホスファイト
ラ用いる場合、この温度は約120〜125℃である。
この温度でアルコールは留去し、残留物としてジエチA
・−N−(ホ箕ミルン・アミノメチルホスホネートが生
成する。
・−N−(ホ箕ミルン・アミノメチルホスホネートが生
成する。
段階2の反応は寸た、一般的なプロセスとして考えるこ
ともできる。ここで、N−(ヒドロキシメチル)−ホル
ムアミドはP(OR)、、ここで、RけCI”−6アル
キル、のトリアルキルホスファイトと反応して、ジアル
キル−N−(ホルミル)−アミノエチルホスホネートを
生成する。そこで一般式にはこの反応は次のトリエチル
ポスファイトの代りにトリアルキルホスファイトが用い
られる反応の条件は、一般にトリエチルホスファイトに
用いる場合のそれと同じである。すなわち、N−(ヒド
ロキシメチル)ホルムアミドとトリアルキルホスファイ
トとのモル比は1:1であシ、反応は加熱下、反応を完
了せしめるに充分な温度のもとで行われる。一般に、温
度は80〜150℃であり、時間は2〜3時間である。
ともできる。ここで、N−(ヒドロキシメチル)−ホル
ムアミドはP(OR)、、ここで、RけCI”−6アル
キル、のトリアルキルホスファイトと反応して、ジアル
キル−N−(ホルミル)−アミノエチルホスホネートを
生成する。そこで一般式にはこの反応は次のトリエチル
ポスファイトの代りにトリアルキルホスファイトが用い
られる反応の条件は、一般にトリエチルホスファイトに
用いる場合のそれと同じである。すなわち、N−(ヒド
ロキシメチル)ホルムアミドとトリアルキルホスファイ
トとのモル比は1:1であシ、反応は加熱下、反応を完
了せしめるに充分な温度のもとで行われる。一般に、温
度は80〜150℃であり、時間は2〜3時間である。
しるべきものである。本発明の使用に適当なトリアルキ
ルホスファイトには、トリエチルホスファイト、トリプ
ロピルホスファイト、トリブチルホスファイトおよび同
様性質の他の化合物がある。
ルホスファイトには、トリエチルホスファイト、トリプ
ロピルホスファイト、トリブチルホスファイトおよび同
様性質の他の化合物がある。
段階3
本発明の方法の段階3においては、プロトン引抜き塩基
と適当な溶媒の存在のもとに、ヅエチルーN−(ホ丹ミ
ル)アミノエチルホスホオートをメチルクロロ酢酸と反
応させて、N−(ジエチルホスホノメチル)−N−(ポ
ルミル)グリシンメチルエステル全生成させる。
と適当な溶媒の存在のもとに、ヅエチルーN−(ホ丹ミ
ル)アミノエチルホスホオートをメチルクロロ酢酸と反
応させて、N−(ジエチルホスホノメチル)−N−(ポ
ルミル)グリシンメチルエステル全生成させる。
この反応は、狭義には次の式で示される;ミノーメブヅ
オに々七ネート
シ、メブカ、3交元。
オに々七ネート
シ、メブカ、3交元。
この反応金、一般的に示せば次の式となる:溶媒 C
H2−C−()CH。
H2−C−()CH。
1
) ミ/−メプシレ七ン4−)
グリシンメブソレゴシステ9し上
記3b)において、R′はホルミル、アセチル、メトキ
シカルボニル、フェニルオキシカルボニル、ベンジルよ
りなる群から選ばれた基で、RはメチノJ1 エチル、
プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシルよりなる群から
選ばれた基である。段階(3,3)あるいけ(3,b)
は、適当な溶媒の存在の下に行われ、これら溶媒にはテ
トラヒドロフラン、トルエン、メチルインブチルケトン
、ジメチルホルムアミドあるいは、同様な特性の他の有
機溶媒が含まれる。好ましくけテトラヒドロフランであ
る。
グリシンメブソレゴシステ9し上
記3b)において、R′はホルミル、アセチル、メトキ
シカルボニル、フェニルオキシカルボニル、ベンジルよ
りなる群から選ばれた基で、RはメチノJ1 エチル、
プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシルよりなる群から
選ばれた基である。段階(3,3)あるいけ(3,b)
は、適当な溶媒の存在の下に行われ、これら溶媒にはテ
トラヒドロフラン、トルエン、メチルインブチルケトン
、ジメチルホルムアミドあるいは、同様な特性の他の有
機溶媒が含まれる。好ましくけテトラヒドロフランであ
る。
この反応はまた、プロトン引抜き塩基の存在の下に行わ
れることが重要で、適当な塩基としては、水酸化ナトリ
ウム、炭酸カリウム等がある。好寸しいのけ水酸化す)
IJウムである。
れることが重要で、適当な塩基としては、水酸化ナトリ
ウム、炭酸カリウム等がある。好寸しいのけ水酸化す)
IJウムである。
このプロセスは、反応を完了ネせるための十分な温度と
十分な時間をかけて行う。正確な時間は、使用される出
発物質の特性により異るが、たとえば、ジエチル−N−
(ホルミル)アミンメチルホスホネートヲ出発化合物と
して用いる場合、反応は好ましくけ約10〜25℃の範
囲の温度で約2時間行われる。
十分な時間をかけて行う。正確な時間は、使用される出
発物質の特性により異るが、たとえば、ジエチル−N−
(ホルミル)アミンメチルホスホネートヲ出発化合物と
して用いる場合、反応は好ましくけ約10〜25℃の範
囲の温度で約2時間行われる。
段階3の反応における好ましい化合物には、ジエチル−
N−(ホルミル)アミノメチルホスホネート、メチルク
ロロ酢酸、および溶媒としてテトラヒドロフラン、プロ
トン引抜環基として水酸化ナトリウムが含まれる。
N−(ホルミル)アミノメチルホスホネート、メチルク
ロロ酢酸、および溶媒としてテトラヒドロフラン、プロ
トン引抜環基として水酸化ナトリウムが含まれる。
段階4
本発明の方法の段階4は、N−(ジエチルホスホノメチ
ル)−N−(置換)グリシンメチA・エステルを加水分
解剤と反応させて、所望のN−ホスホノメチルグリシン
を得ることを包含する。段階4における出発化合物は、
段Wi3における生成物であシ、好ましい出発化合物は
、N−(ジエチルホスホノメチル)−N〜(ホ又ミル)
グリシンメチルエステルである。
ル)−N−(置換)グリシンメチA・エステルを加水分
解剤と反応させて、所望のN−ホスホノメチルグリシン
を得ることを包含する。段階4における出発化合物は、
段Wi3における生成物であシ、好ましい出発化合物は
、N−(ジエチルホスホノメチル)−N〜(ホ又ミル)
グリシンメチルエステルである。
この反応は次式で示される。
0(、−CイH)、加水分解剤 印
1
エステル シ
ン一般的には、次の様に記述をれる: σ■2−C+a(、加水分解剤 OH 1 グリシンメチルニスデル ここにR,R’は段階3におけると同じ。
ン一般的には、次の様に記述をれる: σ■2−C+a(、加水分解剤 OH 1 グリシンメチルニスデル ここにR,R’は段階3におけると同じ。
どの様な加水分解剤も段階4の反応で用い得るが、塩酸
が好ましい加水分解剤である。
が好ましい加水分解剤である。
その他の適当な加水分解剤としては、たとえは臭化水素
酸、硫酸等がある。
酸、硫酸等がある。
段1昔4の方法で生成したN−ホスホノメチルグリシン
は沈殿の沖過などの適当な方法で分離される。
は沈殿の沖過などの適当な方法で分離される。
段階4における好ましい反応物は、N−(ジエチルホス
ホノメチル)−、N−(ホルミル)グリシンメチルエス
テルおよび加水分基稈jとししての塩酸である。加水分
解剤は好1しくけ過剰に用いる。
ホノメチル)−、N−(ホルミル)グリシンメチルエス
テルおよび加水分基稈jとししての塩酸である。加水分
解剤は好1しくけ過剰に用いる。
これらの化合物を用いた場合、反応は好捷しくは約12
0〜125℃の範囲で行われ、る。
0〜125℃の範囲で行われ、る。
本発明のよりよい理解のため次に実施例を示すが、本発
明の範囲をこれらに限るものではない。
明の範囲をこれらに限るものではない。
実施例I
N−(ヒドロキシメチル)フォーメートの調製N−(ヒ
)”ロキシメチル)フォーメートは次式の構造を有する
: H−C−NH−CH,−OH これを実験室で調製するには、1部の41滴状に添加す
る。反応は次の様参勢呑:22の無水炭酸カリウムi
32.4 fの41%ホルムアルデヒドに加える。この
ホルムアルデヒド/炭酸カリウム溶液ヲ、40.01の
98%ホルムアミドに室温で滴状添加し、1時間攪拌す
る。反応溶液をストリップし、アセトン、メタノールで
洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、沖過し、再びストリ
ップする。
)”ロキシメチル)フォーメートは次式の構造を有する
: H−C−NH−CH,−OH これを実験室で調製するには、1部の41滴状に添加す
る。反応は次の様参勢呑:22の無水炭酸カリウムi
32.4 fの41%ホルムアルデヒドに加える。この
ホルムアルデヒド/炭酸カリウム溶液ヲ、40.01の
98%ホルムアミドに室温で滴状添加し、1時間攪拌す
る。反応溶液をストリップし、アセトン、メタノールで
洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、沖過し、再びストリ
ップする。
得られた生成物は、51.3 fの澄明な液である。1
3CNMRで測定したところ、N−(ヒドロキシメチル
)ポルムアミドであると確認された。
3CNMRで測定したところ、N−(ヒドロキシメチル
)ポルムアミドであると確認された。
実施例1で得られたN−(ヒドロキシメチル)ホルムア
ミドは、実施例2の方法で、ジエチル−N−(ホルミル
)アミンメチルホスホネート全合成するのに用いられる
。
ミドは、実施例2の方法で、ジエチル−N−(ホルミル
)アミンメチルホスホネート全合成するのに用いられる
。
30、9 mAのトリエチルホスファイトラ反応フラス
コ中の22.5f’のN−(ヒドロキシメチル)フォー
メート中に滴状添加する。添カロ中は室温に保つ。反応
混合を加熱してエタノールを還流させ、過剰のトリエチ
ルホスファジ登 イト’を溜去する。生成物は、オレンジ色の妻明液状物
で、約54%のジエチル−N−(ホルミル)アミノメチ
ルホスホネートと仮定されたが +1C1赤外分光、プ
ロトンNMRでこの構造を確認した。
コ中の22.5f’のN−(ヒドロキシメチル)フォー
メート中に滴状添加する。添カロ中は室温に保つ。反応
混合を加熱してエタノールを還流させ、過剰のトリエチ
ルホスファジ登 イト’を溜去する。生成物は、オレンジ色の妻明液状物
で、約54%のジエチル−N−(ホルミル)アミノメチ
ルホスホネートと仮定されたが +1C1赤外分光、プ
ロトンNMRでこの構造を確認した。
コノジエチル−N−(ホルミル)アミンメチルホスホネ
ートは、実施例3に示す方法によりアルキル化されて、
N−(ジエチルホスホノメチル)−N−(ホルミル)グ
リシンメチルエステルヲ生成スル。
ートは、実施例3に示す方法によりアルキル化されて、
N−(ジエチルホスホノメチル)−N−(ホルミル)グ
リシンメチルエステルヲ生成スル。
実施例3
10m/のテトラヒドロフラン中に採られた0、32
f (0,0132モル)の乾燥水素化ナトリウムに1
0m1!のテトラヒドロフラン中の2.352のN−(
ホルミル)アミノメチルホスホネートを加え、窒素雰囲
気下、室温で3()分攪拌する。得られた澄明な溶液K
1.3 f(0,0128勺のメチルクロロ酢酸を加
え、常温で12時間攪拌する。
f (0,0132モル)の乾燥水素化ナトリウムに1
0m1!のテトラヒドロフラン中の2.352のN−(
ホルミル)アミノメチルホスホネートを加え、窒素雰囲
気下、室温で3()分攪拌する。得られた澄明な溶液K
1.3 f(0,0128勺のメチルクロロ酢酸を加
え、常温で12時間攪拌する。
生成物は濁った黄色の溶液であシ、これをセライトを通
して濾過し、テトラヒドロ7ランで洗浄し、40℃、高
真空でストリップするe、得られた生成物は、2.34
fの濁った黄色液体である。ガスクロマトグラフおよび
質JL 分析で、構造fcN−(ジエチルホスホノメチ
ル)−N−(ホルミル)グリシンメチルエステルである
と確認した。
して濾過し、テトラヒドロ7ランで洗浄し、40℃、高
真空でストリップするe、得られた生成物は、2.34
fの濁った黄色液体である。ガスクロマトグラフおよび
質JL 分析で、構造fcN−(ジエチルホスホノメチ
ル)−N−(ホルミル)グリシンメチルエステルである
と確認した。
この実施例3で得られたN−(ジエチルホスホノメチル
)−N−(ホルミル)グリシ/メチルエステルは、実施
例4のようにして加水分解してN−ホスホノメチルグリ
シンを得る。
)−N−(ホルミル)グリシ/メチルエステルは、実施
例4のようにして加水分解してN−ホスホノメチルグリ
シンを得る。
実施例4
N−ホスホノメチルグリシンの調製
0.9yのN−(ジエチルホスホノメチル)−N−(ホ
ルミル)クリシンメチルエステルと20m1の濃塩酸を
反応フラスコに取シ、16時間還流する。この溶液をス
トリップし、2.3mAのエタノールを加える。生成し
た沈殿を沖過する。白色同体の400m9の生成物が得
られた。これは想定どおり、N−ホスホノメチルグリシ
ンであることが、高圧法液クロマトグラフ、NMR,お
よび” CNMRで確認された。
ルミル)クリシンメチルエステルと20m1の濃塩酸を
反応フラスコに取シ、16時間還流する。この溶液をス
トリップし、2.3mAのエタノールを加える。生成し
た沈殿を沖過する。白色同体の400m9の生成物が得
られた。これは想定どおり、N−ホスホノメチルグリシ
ンであることが、高圧法液クロマトグラフ、NMR,お
よび” CNMRで確認された。
本発明の方法によって製造されたN−ホスホノメチルグ
リシン化合物は、それ自体に除草能力あるいは植物生長
調節能力を有している。しかしながら、酸の形のままで
は水溶液に溶は易くはないので、除草剤成分にするには
、これらの化合物を塩の形に変えることが好ましい。高
い除草効果あるいは植物生長調節能力を有する塩として
は、米国特許第4、315.765号に記されているよ
うに、N−ホスホノメチルグリシンのトリアルキルスル
ホニウノ、塩である。その調製方法は上記特許中に記述
されている。
リシン化合物は、それ自体に除草能力あるいは植物生長
調節能力を有している。しかしながら、酸の形のままで
は水溶液に溶は易くはないので、除草剤成分にするには
、これらの化合物を塩の形に変えることが好ましい。高
い除草効果あるいは植物生長調節能力を有する塩として
は、米国特許第4、315.765号に記されているよ
うに、N−ホスホノメチルグリシンのトリアルキルスル
ホニウノ、塩である。その調製方法は上記特許中に記述
されている。
代理人 弁理士 桑 原 英 明
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 次の段階を包含するN−ホスホノメチルグリンンの
製造方法: (2) ホルノ・アルデヒド1p89〜10の範囲で
ホルムアミドと反応させ、N−(ヒドロキシメチル)ホ
ルムアミド全生成する(b)N−(ヒドロキシメチル)
ポルノ、アミド全トリエチルポスファイトと反応させジ
エチル−N−(ホルミル)アミンメチルホスホネートを
生成すZl、 ((゛)ジエチル−N−(ホルミル)アミノメチルホス
ホオ、−トケメヂルークロロ酢酸と反応させて、N−(
ジエチルホスホノメチル)−N−(ホルミル)グリシン
メチルエステルを生成する。 (d)N−(ジエチルホスホノメチル)−N−(ホルミ
ル)グリシンメチルエステルを加水分解剤と反応させで
、N−ホスホノメチルグリ7ン全生成する。 2 段階(al ’tホルムアルデヒドに対するポルム
アミドのモル比を約2〜]の範囲とし、温度約20〜2
5℃、反応が完了するに十分な時間行う特許請求の範囲
第1項の方法。 3 段階(b)金、トリエチルホスファイトに対するN
−(ヒドロキシメチル)ホルノ、アルデヒドのモル比全
約1〜1.1の範囲とし、温度約120〜125℃で、
反応が完了するに十分な時間行う特許請求の範囲第1項
の方法。 4 段階(C) ’k 、メチルクロロ酢酸に対するジ
エチル−N−(ホルミル)アミンメチルホスホネートの
モル比全約1対1の範囲とし、ナトリウムハイドライド
と溶媒としてのテトラヒドロフランの存在下、温度約1
0〜25℃の範囲で行う特許請求の範囲第1項の方法。 5 段階(d)が、N−(ジエチルホスホノメチル)
−N−(ホルミル)グリシンメチルエステルに対する塩
酸のモル比全約1〜5の範囲とし、温度約120〜12
5℃の範囲で行う特許請求の範囲第1項の方法。 6 段階(C)における溶媒がテトラヒドロフラン、ト
ルエン、ジメチルホルムアミドおよびキシレンよりなる
群から選ばれる特許請求の範囲第1項の方法。 7 段階(dlにおける加水分解剤が塩酸である特許請
求の範囲第1項の方法。 8 次の段階を包含するN−ホスホノメチルグリシンの
製造方法: (a) 次の式を有するアミノメチルホスホネート化
合物を、 1 R−NH−CH2−P −(OR’)。 ここにRはホルミル、アセチル、メト キシカーボニル、フェニルオキシカー ボニル、ベンジルよシなる群より選ば れ、 R′は、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル
、ヘキシルよりなる群 より選ばれる、 有機溶媒およびプロトン引き抜き塩基の存在下反応が完
了されるような温度で、メチルクロロ酢酸と反応させ、
中間体としてのN−(ジアルキルホスホノメチル)−N
−(置換)グリシンメチルエステルを生成し、 (b) とのN−(ジアルキルホスホノメチル)−N
−(置換)グリシンメチルエステルと加水分解剤とを、
N−ホスホノメチルグリシンを生成するに十分な温度と
時間反応させる。 9 溶媒が、テトラヒドロフラン、トルエン、メチルイ
ソブチルケトン、ジメチルホルムアミドよりなる群から
選ばれる特許請求の範囲第8項の方法。 】0 プロトン引き抜き塩基が水素化ナトリウムである
特許請求の範囲第8項の方法。 11 加水分解剤が塩酸である特許請求の範囲第8項
の方法。
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US393574 | 1982-06-30 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58115298A Pending JPS5913795A (ja) | 1982-06-30 | 1983-06-28 | N−ホスホノメチルグリシンの製造方法 |
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FR2560198B1 (fr) * | 1984-02-23 | 1987-05-07 | Rhone Poulenc Agrochimie | Esters de la famille de la n-phosphonomethylglycine et leur utilisation pour la preparation d'herbicides connus |
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US4548759A (en) * | 1984-08-30 | 1985-10-22 | Stauffer Chemical Company | Preparation of phosphonomethylated amino acids |
US4921991A (en) * | 1985-02-22 | 1990-05-01 | Guy Lacroix | Preparation of esters of the N-phosphonomethylglycine and the N-phosphonomethyl glycines |
FR2611204B1 (fr) * | 1987-02-19 | 1989-05-05 | Rhone Poulenc Agrochimie | Composes intermediaires utiles pour la preparation d'herbicides |
US4830788A (en) * | 1987-11-20 | 1989-05-16 | Crompton & Knowles Corporation | Process for preparation of substituted-aminomethylphosphonic acids |
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BR112015000995B1 (pt) | 2012-07-17 | 2020-04-28 | Monsanto Technology Llc | método para a síntese de n-(fosfonometil)glicina ou um de seus derivados selecionados a partir do grupo que consiste em seus sais, seus ésteres de fosfonato e seus sais de éster de fosfonato |
CN104812765B (zh) | 2012-07-17 | 2017-06-06 | 斯特雷特马克控股股份公司 | 用于合成α‑氨基亚烷基膦酸的方法 |
US10280189B2 (en) | 2012-07-17 | 2019-05-07 | Monsanto Technology Llc | Method for the synthesis of aminoalkylenephosphonic acid |
CN110771607A (zh) * | 2019-10-09 | 2020-02-11 | 集美大学 | 一类n-羟甲基酰胺类抗菌剂及其制备方法 |
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US3853530A (en) * | 1971-03-10 | 1974-12-10 | Monsanto Co | Regulating plants with n-phosphonomethylglycine and derivatives thereof |
US4053505A (en) * | 1976-01-05 | 1977-10-11 | Monsanto Company | Preparation of n-phosphonomethyl glycine |
CH647528A5 (fr) * | 1978-10-27 | 1985-01-31 | Bcap Biolog Chem Act Pat | Procede pour la preparation de n-phosphonomethylglycine. |
HU184601B (en) * | 1979-07-09 | 1984-09-28 | Alkaloida Vegyeszeti Gyar | Process for producing n-/phosphono-methyl/-glycine |
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- 1982-06-30 US US06/393,574 patent/US4422982A/en not_active Expired - Fee Related
-
1983
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- 1983-06-24 DK DK292283A patent/DK292283A/da not_active Application Discontinuation
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- 1983-06-29 ZA ZA834740A patent/ZA834740B/xx unknown
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- 1983-06-29 DD DD83252532A patent/DD212966A5/de unknown
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- 1984-04-20 CS CS843017A patent/CS244948B2/cs unknown
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1986
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