JPS5913795A - N−ホスホノメチルグリシンの製造方法 - Google Patents

N−ホスホノメチルグリシンの製造方法

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JPS5913795A
JPS5913795A JP58115298A JP11529883A JPS5913795A JP S5913795 A JPS5913795 A JP S5913795A JP 58115298 A JP58115298 A JP 58115298A JP 11529883 A JP11529883 A JP 11529883A JP S5913795 A JPS5913795 A JP S5913795A
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reaction
formamide
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    • C07F9/3804Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)] not used, see subgroups
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、除草剤および植物生長調整剤として知られ
るN−ホスホノメチルグリシンの製造方法に関する。
除草剤は、広く農家、商業的農業会社、その他の産業に
おいて、トウモロコシ、大豆、米などのような主要作物
の収量を増大させまたハイウェイ、鉄道敷地その他の地
区での雑草の生長を阻止するのに用いられる。除草剤は
、土壌中の栄養分を作物植物と取り合う不要植物を殺し
調整するのに有効であり、44また雑草を殺すことよシ
ハイウェイや鉄道敷地内の美観も改良されるという効果
がある。
現在、商業的に販売されている除草剤には種々のタイプ
のものがあるが、これらは大別して2つの範噛に入る。
それは、発芽前タイプの除草剤と発芽後の除草剤タイプ
のものである。発芽前夕・イブの除草剤は、通常雑草が
土壌中から発芽する前に土壌中シて適用され、そして発
芽後のタイプの除草剤は通常、雑草その他の不必要な植
物が土壌中から発芽したのちに土壌中に適用される。
商業的に使用きれた発芽後タイプの除草剤で最も早いも
のの一つは、2.4− D (2,4−ジクロロフェノ
キシ酢酸)である。この化合物や類似のたとえば2,4
.5−T (2,4,5−トリクロロフェノキシ酢酸)
の多年に亘る使用ののち、これらの除草剤の成る種の分
解生成物は永く残留し、生物的に分解しないことがわか
った。政府と業界との間で2.4−D。
2、4.5− Tおよび類似化合物の残留酸物の効果に
つき論議があったが、政府は数年前にこれらの除草剤の
米国における使用を制限した。
それ以来、適用後比較的短期間に生物的分解が可能な除
草剤の開発に努力がなされた。
生物的に分解可能で、少量適用しても除草効果や植物生
育調整効果があるということが判った化合物の一つは、
N〜ホスホノメチルグリシンおよびその種々の塩である
。このN−ホスホノメチルグリシンおよヒ農薬として有
効なぞの地に米国政府力・らその使用を認められた。そ
の後、商業的に非常な成功をおさめた。
N−ホスホノメチルグリシンおよびそのある種の塩は、
発芽後タイプ除は剤としで鳴動かつ認められた唯一のも
のである。現在の市販化合物は、N−ホスホノ、メブー
ルグリシンおよびその誘導体のイソプロピル塩テある。
農地に−おける使用では、通常約0.01〜20ボンド
/ニーカー、好ましくは2〜6ポンド/ニーカーの量が
適用される。
N−ホスホノメチルグリシンおよびその塩類は種々の方
法で製造し得る。米国特許第3、160.632号(T
oy他、19[’+4 、12.8 ) K記述の方法
によると、N−ホスフィノメチルグリシン(クリシンメ
チレンポスフィン酸)ト二塩化水銀を水溶媒中、還流温
度で反応させ、次いで生成物を分離する。他の方法によ
ると、グリシンのホスホノメチルグシンおよびエチルグ
リシネートとホルムアルデヒドおよびジエチルホスファ
イトの反応k”FAんでいる。
後者の方法は、米゛国特許第3.799.758号(F
ranz  1974 、3.26ンにpH4Jされテ
イル。
サラに、N−ホスホノメチルグリシン類、その塩、誘導
体に関する多くの特W「かあり、除草剤および植物生長
調節剤とじての有用性を記述している。そのようなN〜
ホスホノメチルグリシンに関する調整法、適用法を記述
した偶詐には、米国特約駅3.868.407号、第4
,197,254号および第4,199,354号等が
ある。
N−ホスホノメチルグリシンおよびその堪の除草剤とじ
ての重要性の故に、この化合物の製造のための他の改良
方法が常に研究されて来た。
この発明も、N−ホスフノメチルグリシンおよび特定の
中間体の新規な與法に関するものである。
本発明は、出発物質としてホルムアルデヒドおよびホル
ムアミドを使用するN−ホスホノメチルグリシンの製造
方法であり、4つの段階を包含する。
これらの段階のあるもの1は特定化合物に特定されるも
のであり、またある段階のものは本質的に一般性のある
ものである。そこで、先ず最初に特定化合物につき記1
ホ(−1、次いで各段階ごとに詳細に説明し、一般的な
面についても適用できるものについては記述する。
本発明の全体、プロセスは次の段階全包含する: ])ホルムアルデヒド全ホルムアSドー\添加して、N
−(ヒドロキシメチル)ホルムアミドとする。この場合
、反応液のp[] ff 9〜】0に保つ。
2)N−(ヒドロキシメチル)ホルムアミドを熱を伴っ
てトリエチル−ホスファイトと反応させ、ジエチル−N
〜(ホルミル)−アミノメチルホスホネートとする。
3)ジエチル−N−に1−ss=ミル)アミノメチルホ
スホネートを適当な溶媒の存在下メチルクロロアセテー
トと反応させ、N−(ジエチルホスホニルメチル)−N
−(ホルミル)グリシンメチルエステルとする。
4)N−(ジエチルホスホノメチル)−N−(ホルミル
)グリシンメチルエステル全適当な加水分解剤と反応さ
せ、N−ホスホノメチルグリシンとする。
本発明を各段階毎に説明する。
先行文献によれば、N−(ヒドロキシメチル)ホルムア
ミドは、ホルムアミドとホルムアルデヒドとを、加熱下
即純に結合させれば生ずると記述されている。これを実
験室で行えば、生成物は次式を有するN−ビスヒドロキ
シメチルホルムアミドとなる。
\ H20H この構造は” CNMRで確認されている。これは、本
発明で有用とする中間体ではない。
段階1 所望中間体、N−(ヒドロキシメチル)ホよって得られ
ることが判った。この反応は次式に示すようなものであ
り、本発明方法の段階1表なる。
p)+9−10 段階1の反応例おいて、2当量のホルムアミドにつき1
当量のホルムアルデヒドが用いられる。反応液のpHは
大事であり、9〜1゜の範囲に維持すべきである。pR
ti適宜の方法で調整してよいが、好ましくけ、炭酸カ
リウム、炭酸ナトリウノ・、重炭酸ソーダ、水酸化メと
^贅イヒhリクへ、 ナトリウゝA% 84′好ましくは炭酸カリウムの如き
塩基を用いるのがよい。
段階1のプロセスでは、ホルムアルデヒドをホルムアミ
ドに加えねばならない。所望の12物、N−(ヒドロキ
シメチル)ポルムアミドを得るにはこれが唯一の方法で
あることが判った。もし、ホルムアミドをポルムアルデ
ヒドに添加しても所望生成物f′i得られない。
反応は室温で進めることができる。この場合反応時間は
約4時間である。加熱すれば、勿論反応時間は大巾に減
少する。しかし熱の使用は本質的なことではない。反応
温度は好オしくけ約20〜25℃の範囲である。
段階2 次K、N−(ヒドロキシメチル)ポルムアミドはトルエ
チルホスファイトと反応して、ジエチル−N−(ホルミ
ル)−アミノメチルホスフォネートを作る。
反応式を次に示す。
ホルムアミド      ホスファイト     −メ
ブブ叶丙坏−トN−(ヒドロキシメチル)ホルムアミド
とトリエチルホスファイトととのモル比は1:IT’あ
る。反応d、加熱下に行い、反応の完了に充分な温度を
かけて行う。エチルアルコールが発生1〜、これが還流
する温度になるまで加熱する。トリエチルホスファイト
ラ用いる場合、この温度は約120〜125℃である。
この温度でアルコールは留去し、残留物としてジエチA
・−N−(ホ箕ミルン・アミノメチルホスホネートが生
成する。
段階2の反応は寸た、一般的なプロセスとして考えるこ
ともできる。ここで、N−(ヒドロキシメチル)−ホル
ムアミドはP(OR)、、ここで、RけCI”−6アル
キル、のトリアルキルホスファイトと反応して、ジアル
キル−N−(ホルミル)−アミノエチルホスホネートを
生成する。そこで一般式にはこの反応は次のトリエチル
ポスファイトの代りにトリアルキルホスファイトが用い
られる反応の条件は、一般にトリエチルホスファイトに
用いる場合のそれと同じである。すなわち、N−(ヒド
ロキシメチル)ホルムアミドとトリアルキルホスファイ
トとのモル比は1:1であシ、反応は加熱下、反応を完
了せしめるに充分な温度のもとで行われる。一般に、温
度は80〜150℃であり、時間は2〜3時間である。
しるべきものである。本発明の使用に適当なトリアルキ
ルホスファイトには、トリエチルホスファイト、トリプ
ロピルホスファイト、トリブチルホスファイトおよび同
様性質の他の化合物がある。
段階3 本発明の方法の段階3においては、プロトン引抜き塩基
と適当な溶媒の存在のもとに、ヅエチルーN−(ホ丹ミ
ル)アミノエチルホスホオートをメチルクロロ酢酸と反
応させて、N−(ジエチルホスホノメチル)−N−(ポ
ルミル)グリシンメチルエステル全生成させる。
この反応は、狭義には次の式で示される;ミノーメブヅ
オに々七ネート                  
   シ、メブカ、3交元。
この反応金、一般的に示せば次の式となる:溶媒  C
H2−C−()CH。
1 ) ミ/−メプシレ七ン4−)           
          グリシンメブソレゴシステ9し上
記3b)において、R′はホルミル、アセチル、メトキ
シカルボニル、フェニルオキシカルボニル、ベンジルよ
りなる群から選ばれた基で、RはメチノJ1 エチル、
プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシルよりなる群から
選ばれた基である。段階(3,3)あるいけ(3,b)
は、適当な溶媒の存在の下に行われ、これら溶媒にはテ
トラヒドロフラン、トルエン、メチルインブチルケトン
、ジメチルホルムアミドあるいは、同様な特性の他の有
機溶媒が含まれる。好ましくけテトラヒドロフランであ
る。
この反応はまた、プロトン引抜き塩基の存在の下に行わ
れることが重要で、適当な塩基としては、水酸化ナトリ
ウム、炭酸カリウム等がある。好寸しいのけ水酸化す)
 IJウムである。
このプロセスは、反応を完了ネせるための十分な温度と
十分な時間をかけて行う。正確な時間は、使用される出
発物質の特性により異るが、たとえば、ジエチル−N−
(ホルミル)アミンメチルホスホネートヲ出発化合物と
して用いる場合、反応は好ましくけ約10〜25℃の範
囲の温度で約2時間行われる。
段階3の反応における好ましい化合物には、ジエチル−
N−(ホルミル)アミノメチルホスホネート、メチルク
ロロ酢酸、および溶媒としてテトラヒドロフラン、プロ
トン引抜環基として水酸化ナトリウムが含まれる。
段階4 本発明の方法の段階4は、N−(ジエチルホスホノメチ
ル)−N−(置換)グリシンメチA・エステルを加水分
解剤と反応させて、所望のN−ホスホノメチルグリシン
を得ることを包含する。段階4における出発化合物は、
段Wi3における生成物であシ、好ましい出発化合物は
、N−(ジエチルホスホノメチル)−N〜(ホ又ミル)
グリシンメチルエステルである。
この反応は次式で示される。
0(、−CイH)、加水分解剤 印 1 エステル                    シ
ン一般的には、次の様に記述をれる: σ■2−C+a(、加水分解剤 OH 1 グリシンメチルニスデル ここにR,R’は段階3におけると同じ。
どの様な加水分解剤も段階4の反応で用い得るが、塩酸
が好ましい加水分解剤である。
その他の適当な加水分解剤としては、たとえは臭化水素
酸、硫酸等がある。
段1昔4の方法で生成したN−ホスホノメチルグリシン
は沈殿の沖過などの適当な方法で分離される。
段階4における好ましい反応物は、N−(ジエチルホス
ホノメチル)−、N−(ホルミル)グリシンメチルエス
テルおよび加水分基稈jとししての塩酸である。加水分
解剤は好1しくけ過剰に用いる。
これらの化合物を用いた場合、反応は好捷しくは約12
0〜125℃の範囲で行われ、る。
本発明のよりよい理解のため次に実施例を示すが、本発
明の範囲をこれらに限るものではない。
実施例I N−(ヒドロキシメチル)フォーメートの調製N−(ヒ
)”ロキシメチル)フォーメートは次式の構造を有する
: H−C−NH−CH,−OH これを実験室で調製するには、1部の41滴状に添加す
る。反応は次の様参勢呑:22の無水炭酸カリウムi 
32.4 fの41%ホルムアルデヒドに加える。この
ホルムアルデヒド/炭酸カリウム溶液ヲ、40.01の
98%ホルムアミドに室温で滴状添加し、1時間攪拌す
る。反応溶液をストリップし、アセトン、メタノールで
洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、沖過し、再びストリ
ップする。
得られた生成物は、51.3 fの澄明な液である。1
3CNMRで測定したところ、N−(ヒドロキシメチル
)ポルムアミドであると確認された。
実施例1で得られたN−(ヒドロキシメチル)ホルムア
ミドは、実施例2の方法で、ジエチル−N−(ホルミル
)アミンメチルホスホネート全合成するのに用いられる
30、9 mAのトリエチルホスファイトラ反応フラス
コ中の22.5f’のN−(ヒドロキシメチル)フォー
メート中に滴状添加する。添カロ中は室温に保つ。反応
混合を加熱してエタノールを還流させ、過剰のトリエチ
ルホスファジ登 イト’を溜去する。生成物は、オレンジ色の妻明液状物
で、約54%のジエチル−N−(ホルミル)アミノメチ
ルホスホネートと仮定されたが +1C1赤外分光、プ
ロトンNMRでこの構造を確認した。
コノジエチル−N−(ホルミル)アミンメチルホスホネ
ートは、実施例3に示す方法によりアルキル化されて、
N−(ジエチルホスホノメチル)−N−(ホルミル)グ
リシンメチルエステルヲ生成スル。
実施例3 10m/のテトラヒドロフラン中に採られた0、32 
f (0,0132モル)の乾燥水素化ナトリウムに1
0m1!のテトラヒドロフラン中の2.352のN−(
ホルミル)アミノメチルホスホネートを加え、窒素雰囲
気下、室温で3()分攪拌する。得られた澄明な溶液K
 1.3 f(0,0128勺のメチルクロロ酢酸を加
え、常温で12時間攪拌する。
生成物は濁った黄色の溶液であシ、これをセライトを通
して濾過し、テトラヒドロ7ランで洗浄し、40℃、高
真空でストリップするe、得られた生成物は、2.34
fの濁った黄色液体である。ガスクロマトグラフおよび
質JL 分析で、構造fcN−(ジエチルホスホノメチ
ル)−N−(ホルミル)グリシンメチルエステルである
と確認した。
この実施例3で得られたN−(ジエチルホスホノメチル
)−N−(ホルミル)グリシ/メチルエステルは、実施
例4のようにして加水分解してN−ホスホノメチルグリ
シンを得る。
実施例4 N−ホスホノメチルグリシンの調製 0.9yのN−(ジエチルホスホノメチル)−N−(ホ
ルミル)クリシンメチルエステルと20m1の濃塩酸を
反応フラスコに取シ、16時間還流する。この溶液をス
トリップし、2.3mAのエタノールを加える。生成し
た沈殿を沖過する。白色同体の400m9の生成物が得
られた。これは想定どおり、N−ホスホノメチルグリシ
ンであることが、高圧法液クロマトグラフ、NMR,お
よび” CNMRで確認された。
本発明の方法によって製造されたN−ホスホノメチルグ
リシン化合物は、それ自体に除草能力あるいは植物生長
調節能力を有している。しかしながら、酸の形のままで
は水溶液に溶は易くはないので、除草剤成分にするには
、これらの化合物を塩の形に変えることが好ましい。高
い除草効果あるいは植物生長調節能力を有する塩として
は、米国特許第4、315.765号に記されているよ
うに、N−ホスホノメチルグリシンのトリアルキルスル
ホニウノ、塩である。その調製方法は上記特許中に記述
されている。
代理人 弁理士  桑 原 英 明

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 次の段階を包含するN−ホスホノメチルグリンンの
    製造方法: (2)  ホルノ・アルデヒド1p89〜10の範囲で
    ホルムアミドと反応させ、N−(ヒドロキシメチル)ホ
    ルムアミド全生成する(b)N−(ヒドロキシメチル)
    ポルノ、アミド全トリエチルポスファイトと反応させジ
    エチル−N−(ホルミル)アミンメチルホスホネートを
    生成すZl、 ((゛)ジエチル−N−(ホルミル)アミノメチルホス
    ホオ、−トケメヂルークロロ酢酸と反応させて、N−(
    ジエチルホスホノメチル)−N−(ホルミル)グリシン
    メチルエステルを生成する。 (d)N−(ジエチルホスホノメチル)−N−(ホルミ
    ル)グリシンメチルエステルを加水分解剤と反応させで
    、N−ホスホノメチルグリ7ン全生成する。 2 段階(al ’tホルムアルデヒドに対するポルム
    アミドのモル比を約2〜]の範囲とし、温度約20〜2
    5℃、反応が完了するに十分な時間行う特許請求の範囲
    第1項の方法。 3 段階(b)金、トリエチルホスファイトに対するN
    −(ヒドロキシメチル)ホルノ、アルデヒドのモル比全
    約1〜1.1の範囲とし、温度約120〜125℃で、
    反応が完了するに十分な時間行う特許請求の範囲第1項
    の方法。 4 段階(C) ’k 、メチルクロロ酢酸に対するジ
    エチル−N−(ホルミル)アミンメチルホスホネートの
    モル比全約1対1の範囲とし、ナトリウムハイドライド
    と溶媒としてのテトラヒドロフランの存在下、温度約1
    0〜25℃の範囲で行う特許請求の範囲第1項の方法。 5  段階(d)が、N−(ジエチルホスホノメチル)
    −N−(ホルミル)グリシンメチルエステルに対する塩
    酸のモル比全約1〜5の範囲とし、温度約120〜12
    5℃の範囲で行う特許請求の範囲第1項の方法。 6 段階(C)における溶媒がテトラヒドロフラン、ト
    ルエン、ジメチルホルムアミドおよびキシレンよりなる
    群から選ばれる特許請求の範囲第1項の方法。 7 段階(dlにおける加水分解剤が塩酸である特許請
    求の範囲第1項の方法。 8 次の段階を包含するN−ホスホノメチルグリシンの
    製造方法: (a)  次の式を有するアミノメチルホスホネート化
    合物を、 1 R−NH−CH2−P −(OR’)。 ここにRはホルミル、アセチル、メト キシカーボニル、フェニルオキシカー ボニル、ベンジルよシなる群より選ば れ、 R′は、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル
    、ヘキシルよりなる群 より選ばれる、 有機溶媒およびプロトン引き抜き塩基の存在下反応が完
    了されるような温度で、メチルクロロ酢酸と反応させ、
    中間体としてのN−(ジアルキルホスホノメチル)−N
    −(置換)グリシンメチルエステルを生成し、 (b)  とのN−(ジアルキルホスホノメチル)−N
    −(置換)グリシンメチルエステルと加水分解剤とを、
    N−ホスホノメチルグリシンを生成するに十分な温度と
    時間反応させる。 9 溶媒が、テトラヒドロフラン、トルエン、メチルイ
    ソブチルケトン、ジメチルホルムアミドよりなる群から
    選ばれる特許請求の範囲第8項の方法。 】0 プロトン引き抜き塩基が水素化ナトリウムである
    特許請求の範囲第8項の方法。 11  加水分解剤が塩酸である特許請求の範囲第8項
    の方法。
JP58115298A 1982-06-30 1983-06-28 N−ホスホノメチルグリシンの製造方法 Pending JPS5913795A (ja)

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US06/393,574 US4422982A (en) 1982-06-30 1982-06-30 Method for preparation of N-phosphonomethylglycine
US393574 1982-06-30

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JPS5913795A true JPS5913795A (ja) 1984-01-24

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