JPS59126651A - Program circuit device in redundancy circuit - Google Patents

Program circuit device in redundancy circuit

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Publication number
JPS59126651A
JPS59126651A JP58003144A JP314483A JPS59126651A JP S59126651 A JPS59126651 A JP S59126651A JP 58003144 A JP58003144 A JP 58003144A JP 314483 A JP314483 A JP 314483A JP S59126651 A JPS59126651 A JP S59126651A
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JP
Japan
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type region
conductivity type
fuse
output
circuit
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Pending
Application number
JP58003144A
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Japanese (ja)
Inventor
Hideharu Toyomoto
豊本 英晴
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/70Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components formed in or on a common substrate or of parts thereof; Manufacture of integrated circuit devices or of parts thereof
    • H01L21/77Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate
    • H01L21/78Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices
    • H01L21/82Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices to produce devices, e.g. integrated circuits, each consisting of a plurality of components

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  • Hardware Redundancy (AREA)
  • Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)
  • For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)

Abstract

PURPOSE:To enable circuit design with a single power source without the necessity of impressing a high voltage by utilizing the latch-up phenomenon of a complementary field effect transistor. CONSTITUTION:In order to fuse a fuse 19, first when an address is selected by setting the output of a control circuit 13 at an ''H'' level, the output of an address decoder 12 turns at an ''L'' level. Therefore, a p-MOSFET 17 comes to an ON-state. Next, when a negative surge voltage is impressed on an input terminal 16, an n-p-n transistor 32 comes to an ON-state, and a current flows, in the direction from an output terminal 22 to the input terminal 16, through the base resistor 31 of a p-n-p transistor 30, thus leading the transistor 30 to an ON- state. Accordingly, the current flows from the output terminal 22 to a ground point 21 through the base resistor 34 of an n-p-n transistor 33, resulting in the ON-state of the n-p-n transistor 33; so-called a latch-up phenomenon occurs. Consequently, the fuse 19 fuses by the flow of this high current to said fuse, the output terminal 22 turns at the ''L'' level, and then becomes a mode whereby a redundant memory is driven.

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 この発明は冗長部分を有する半導体メモリ装置の冗長回
路部分を活性化させるために当該部分のヒユーズを溶断
するプログラム回路に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Technical Field of the Invention] The present invention relates to a program circuit that blows out a fuse in a redundant circuit portion of a semiconductor memory device having a redundant portion in order to activate the portion.

〔従来技術〕[Prior art]

従来この種の装置として第1図に示すものがあった。第
1図は冗長回路におけるプログラム回路の一例を示し、
図において、(1)はnチャネル形ディグレンジョン形
電界効果トランジスタ(以下n−DMO8と呼称する。
A conventional device of this type is shown in FIG. FIG. 1 shows an example of a program circuit in a redundant circuit,
In the figure, (1) is an n-channel type derangement field effect transistor (hereinafter referred to as n-DMO8).

)である。(2)は高電圧V が印P 加される端子であり、n−DMO8(1)のドレインに
接続される。(3)はnチャネル形電界効果トランジス
タ(以下nMO8と呼称する。)であり、(4)はnM
O8(3)のケートに信号を印加するための入力端子で
ある。(5)は低電位点でnMO8(3)のソースに接
続され通常接地嘔れる。(6)は出力線であり、n −
D M OS (1)のソース及びゲートに接続され、
またnMO8(3)のドレインに接続されている。(7
)けnMO8であり、nMO8(7)のゲートには出力
# (6)が接続され、またnMO8(7)のソースは
接地されている。(8)は多結晶シリコンからなシ、高
電流を流すことにより溶断するヒユーズである。(9)
け高電位点(voo)でありヒユーズ(3)の一端に接
続される。ヒユーズ(8)の他端はnMO8(7)のド
レインに接続されており、OIは出力端子であF)、n
MO8(7Jのドレインに接続され、このプログラム回
路の出力端子である。また、(11)はn−DMO8で
あり、n−DMO8(lりのソースおよびゲートは接地
され、ドレインは出力端子QQに接続されている。
). (2) is a terminal to which a high voltage V is applied, and is connected to the drain of the n-DMO8 (1). (3) is an n-channel field effect transistor (hereinafter referred to as nMO8), and (4) is an nM
This is an input terminal for applying a signal to the gate of O8(3). (5) is connected to the source of nMO8 (3) at a low potential point and is normally grounded. (6) is the output line, n −
connected to the source and gate of DMOS (1);
It is also connected to the drain of nMO8(3). (7
) nMO8, the output #(6) is connected to the gate of nMO8(7), and the source of nMO8(7) is grounded. The fuse (8) is made of polycrystalline silicon and is blown by flowing a high current. (9)
It is a high potential point (voo) and is connected to one end of the fuse (3). The other end of the fuse (8) is connected to the drain of nMO8 (7), and OI is the output terminal (F), n
MO8 (connected to the drain of 7J and is the output terminal of this program circuit). Also, (11) is n-DMO8, the source and gate of n-DMO8 (1) are grounded, and the drain is connected to the output terminal QQ. It is connected.

恣に動作について説明する。入力端子(4〕は通常筒(
+all)レベルにあり、この状態にある時は、nMO
8(3)はON状態にあり、出力線(6)は接地レベル
にある。従って、nMO8(7)はOFF状態にあり、
プログラム回路の出力端子q1)l′1l−H11レベ
ルにあり、この時冗長メモリは作動しない。次に、入力
端子(4)ニ低(IILII) L/ベベル信号を印加
すると、n M O5(3)はOFF状態になり、出力
線(6)は高電位となりn M OBC7)には高電流
が流れる。従って、ヒユーズ(8)は溶断し、プログラ
ム回路の出力はIIL11レベルとなって冗長メモリが
駆動されるモードになる。
Explain the operation arbitrarily. The input terminal (4) is normally a tube (
+all) level, and when in this state, nMO
8 (3) is in the ON state and the output line (6) is at ground level. Therefore, nMO8 (7) is in the OFF state,
The output terminal of the program circuit is at the level q1)l'1l-H11, and the redundant memory is not activated at this time. Next, when a low (IILII) L/bevel signal is applied to the input terminal (4), nM O5 (3) turns OFF, the output line (6) becomes a high potential, and a high current flows to nM OBC7). flows. Therefore, the fuse (8) is blown and the output of the program circuit becomes the IIL11 level, thereby entering the mode in which the redundant memory is driven.

従来の装置は以上のように構成されているので、ヒユー
ズを溶断するには高電流が必要であシ、従って高電圧を
印加しなければならず、またそのための高電圧回路が必
要に々るという欠点があった。
Since the conventional device is constructed as described above, a high current is required to blow the fuse, and therefore a high voltage must be applied, and a high voltage circuit is required for this purpose. There was a drawback.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

この発明は上記のような従来のものの欠点を除去するた
めになきれたもので、相補形電界効果トランジスタのラ
ッチアンプ現象を利用することにより、高電圧及び高置
回路を必要としない冗長回路におけるプログラム回路装
置を提供するものである。
This invention was developed in order to eliminate the drawbacks of the conventional ones as described above, and by utilizing the latch amplifier phenomenon of complementary field effect transistors, it can be used in redundant circuits that do not require high voltage and high-mounted circuits. A program circuit device is provided.

〔発明の実施例〕[Embodiments of the invention]

以下、この発明の一実施例を図について説明する。第2
図において、(12はアドレスデコーダ、04はプログ
ラム制御回路であシ、圓は2人力ANDゲートであり、
アドレスデコーダθりの出力と、プログラム制御回路賭
の出力とを入力としている。
An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. Second
In the figure, (12 is an address decoder, 04 is a program control circuit, circle is a two-man AND gate,
The output of the address decoder θ and the output of the program control circuit are input.

(I5)はプログラムイネーブル回路であり、端は入力
端子で、プログラムイネーブル回路05)の入力に接続
される。Oηはpチャネル形電界効果トランジスタ(以
下pMO8と呼称する。)であり、鵠は高電位点(■C
C)であってpMO8Qηのソースに接続され、またp
MO8QηのゲートにはANDゲート(14)の出方が
接続される。(I9)は多結晶シリコンからなるヒユー
ズであり、(社)はn−DMO8である。Q])は低電
位点(接地)であシ、n−DMO8岡のゲートおよびソ
ースが接続されている。@はこのプログラム回路の出力
端子である。ヒユーズ四の一端はp M OSQカのド
レインに接続され、またヒユーズα9)の他端にはn−
DMO8(20)のドレインおよびプログラムイネーブ
ル回路05)の出力端子が接続され、また出方端子(財
)にも接続はれている。
(I5) is a program enable circuit, and its end is an input terminal, which is connected to the input of the program enable circuit 05). Oη is a p-channel field effect transistor (hereinafter referred to as pMO8), and Oη is a high potential point (■C
C) connected to the source of pMO8Qη, and p
The output of the AND gate (14) is connected to the gate of MO8Qη. (I9) is a fuse made of polycrystalline silicon, and the fuse is n-DMO8. Q]) is a low potential point (ground) to which the gate and source of the n-DMO8 are connected. @ is the output terminal of this program circuit. One end of fuse 4 is connected to the drain of pM OSQ, and the other end of fuse α9 is connected to n-
The drain of the DMO8 (20) and the output terminal of the program enable circuit 05) are connected, and also connected to the output terminal.

第3図は第2図におけるプログラム・イネーブル回路(
I6)の詳細構成を示す断面図である。図において、@
rI′in形半導体基板、■は基板−の表面部の一部に
形成された第1のp影領域、物は基板(至)の表面部の
他の部分に形成された第2のp影領域、(ホ)は基板■
の表面部の史に他の部分に形成され基板(2)より高不
純物濃度を有する第1のn影領域、@は第1のp影領域
(財)の表面部に形成されこれより高不純物濃度を有す
る第3のp影領域、(ホ)およびC211″iそれぞれ
第1のp影領域(財)の表面部に形成され基板(4)よ
り高不純物濃度を有する第2および第3のn影領域であ
る。そし、て、第2のp影領域に)および第1のn影領
域(至)は出力端子に接続さ級第4図は第3図に示した
プログラムイネーブル回路の動作説明のためにその内部
に潜在するバイポーラ形トランジスタをも含めて示す断
面図である0第4図において、(1)は第2のp形不純
物領域卿をエミッタ、基板(2)をベース、第1のp形
不純物憤域cI19をコレクタとするpnp形トランジ
スタであシ、cll)はこのpnp形トランジスタqの
ペース抵抗である。また、(ハ)は第3のn形不純物領
域翰をエミッタ、第1のp形不純物領域(財)をペース
、基板脅をコレクタとする第1のnpn形トランジスタ
である。同様に、(至)は第2のn形不純物領域(ハ)
をエミッタ、第1のp形不純物領域(ハ)をベース、基
板−をコレクタとする第2のnpn形トランジスタであ
る。(ロ)はこのnpn形トランジスタ(ト)のベース
抵抗である。
Figure 3 shows the program enable circuit (
I6) is a cross-sectional view showing the detailed configuration of I6). In the figure, @
rI'in-type semiconductor substrate, ■ is the first p-shade region formed on a part of the surface of the substrate, and object is the second p-shade formed on the other part of the surface of the substrate. Area, (e) is the board ■
A first n-shaded region is formed on the surface of the substrate (2) and has a higher impurity concentration than the substrate (2), and @ is formed on the surface of the first p-shaded region and has a higher impurity concentration than the substrate A third p shadow region (E) having a higher impurity concentration than the substrate (4) and a second and third n The second p-shaded region (to) and the first n-shaded region (to) are connected to the output terminal. Figure 4 explains the operation of the program enable circuit shown in Figure 3. In FIG. 4, which is a cross-sectional view including the bipolar transistor hidden inside, (1) shows the second p-type impurity region as the emitter, the substrate (2) as the base, and the first region as the emitter. (c) is a pnp transistor whose collector is the p-type impurity region cI19, and cll) is the pace resistance of this pnp-type transistor q. This is a first npn type transistor in which the first p-type impurity region (material) is used as a pace and the substrate layer is used as a collector.Similarly, (to) is a second n-type impurity region (c).
This is a second npn type transistor having an emitter, a first p type impurity region (c) as a base, and a substrate as a collector. (b) is the base resistance of this npn type transistor (g).

次に、この発明の実施例の動作について説明する。まず
、冗長メモリが使用されない通常の状態について説明す
る。第2図において、プログラム制御回路−の出力はプ
ログラム時、即ちヒユーズtt@を溶断する時以外は1
IL11レベルにあり、また、アドレスデコーダの出方
は、アドレスが選択された時に一1L■レベルとなり、
非選択時にはIIHIIレベルとなるような論理構成で
ある。従って、通常の状態では、ANDゲー)(14)
の出力はII L I+レベルであり、pMO8Q7)
はON状態にあるので、プログラム回路の出力端子(イ
)はII H11レベルにある。
Next, the operation of the embodiment of this invention will be explained. First, a normal state in which redundant memory is not used will be described. In Fig. 2, the output of the program control circuit is 1 except when programming, that is, when fuse tt@ is blown.
It is at IL11 level, and the output of the address decoder is -11L level when an address is selected.
The logic configuration is such that the level is IIHII when not selected. Therefore, under normal conditions, AND game) (14)
The output of is II L I+ level, pMO8Q7)
is in the ON state, so the output terminal (a) of the program circuit is at the IIH11 level.

次に、ヒユーズ99)を溶断する方法について説明する
。まず、プログラム制御回路j3)の出力をIIHII
レベルにし、アドレスを選択すると、アドレスデコーダ
Hの出力けIILI+レベルになる。従ってpMo S
OηはON状態になる。次に、この状態において、入力
端子(国に負のサージ電圧を印加する0第4図において
、入力端子0@に負のサージ電圧が印加されると、出力
端子(4)、即ちnpn形トランジスタに)のコレクタ
はV。。レベルにあシ、ペースは接地されているので、
npn形トランジスタ(2)はON状態となシ、出力端
子(2)から入力端子(I@の方向へ、pnp形トラン
ジスタ(7)のベース抵抗C31)を通って電流が流れ
、pnp形トランジスタ内はON状態になる。よって、
出力端子−から接地点Qυへnpn形トランジスタ(至
)のベース抵抗(至)を通り電流が流れ、npn形トラ
ンジスタに)はON状態になり、’PnP形トランジス
タqとnpn形トランジスタ卿とはON状態を保ち、出
力端子−から接地点<29の方向へ高電流が流れる、い
わゆるラッテアップ現象が起る。従って、この高電流が
ヒユーズリ9)に流れヒユーズ四が溶断し、出力端子@
 1ltIIL11レベルとなり、冗長メモリが駆動て
れるモードになる。
Next, a method for blowing out the fuse 99) will be explained. First, the output of the program control circuit j3) is
When the address is set to the level and an address is selected, the output of the address decoder H becomes the IILI+ level. Therefore pMo S
Oη becomes ON state. Next, in this state, when a negative surge voltage is applied to the input terminal (0) in Figure 4, when a negative surge voltage is applied to the input terminal (4), the output terminal (4), that is, the npn type transistor )'s collector is V. . Since the foot is on the level and the pace is grounded,
When the npn transistor (2) is in the ON state, current flows from the output terminal (2) through the input terminal (in the direction of I@, the base resistor C31 of the pnp transistor (7)), and the current flows inside the pnp transistor. becomes ON state. Therefore,
A current flows from the output terminal - to the ground point Qυ through the base resistor (to) of the npn transistor (to), and the npn transistor (to) turns on, and the 'PnP transistor q and npn transistor are turned on. A so-called ratte-up phenomenon occurs in which a high current flows from the output terminal to the ground point <29. Therefore, this high current flows to fuse 9), fuse 4 melts, and the output terminal @
The level becomes 1ltIIL11, and the mode becomes such that the redundant memory can be driven.

また、プログラム制御回路−の出力をIIHI+レベル
にしてもアドレスが非選択の場合、即ちアドレスデコー
ダflの出力がII H11レベルの場合はpMo8(
+7)はOFFである。従って、ヒユーズ09)は溶断
しない0 なお、上記実施例では入力端子(国に負のサージ電圧を
印加する構造について説明したが、正のサージ電圧で動
作するようすることもできる。第5図はその場合に用い
るプログラムイネ−フル回路の他の例を示す回路図で、
第5図の例では第3図の構成において第1のp影領域(
ハ)の表面部に設けた第3のn影領域の代シに、n形基
板(イ)の表面部に第1のp影領域(財)とは独立に第
4のp影領域μsが形成され、これが入力端子(16)
に接続されており、上述のように入力端子(+6)への
正のケージ電圧によって、第3図の回路と同様の動作を
する。
Furthermore, if the address is not selected even if the output of the program control circuit is set to IIHI+ level, that is, if the output of address decoder fl is at IIH11 level, pMo8(
+7) is OFF. Therefore, the fuse 09) will not blow out. In the above embodiment, a structure in which a negative surge voltage is applied to the input terminal (power terminal) has been described, but it is also possible to operate with a positive surge voltage. This is a circuit diagram showing another example of a program-enabled circuit used in that case.
In the example of FIG. 5, the first p shadow region (
In place of the third n-shaded area provided on the surface of (c), a fourth p-shaded area μs is provided on the surface of the n-type substrate (a) independently of the first p-shaded area (material). This is the input terminal (16)
The circuit of FIG. 3 operates similarly to the circuit of FIG. 3 with a positive cage voltage applied to the input terminal (+6) as described above.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明したように、この発明ではヒユーズの溶断手段
として、相補形電界効果トランジスタのラッチアンプ現
象を利用したので、従来のように高−電圧を印加する必
要がなく、単一電源での回路設計が可能になる。
As explained above, in this invention, the latch amplifier phenomenon of complementary field effect transistors is used as a fuse blowing means, so there is no need to apply a high voltage as in the conventional case, and circuit design using a single power supply is possible. becomes possible.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は従来の冗長回路におけるプログラム回路を示す
回路図、第2図はこの発明の一実施例になるプログラム
回路のブロック構成を示す回路図、第3図はどの発明に
用いるプログラムイネ−グル回路の構成の一例を示す断
面図、第4図は上記プログラムイネーブル回路の動作を
説明するだめの等価回路図、第5図はこの発明に用いる
プログラムイネ−フル回路の構成の他の例を示す断面図
である。 図において、(121はアドレスデコーダ、t131i
j)〜ログラム制御回路、(14)はAND回路、U3
1f’lフログラムイネ−フル回路、θ6)は入力端子
、(17)はpMO8(第2伝導形チヤネル電界効果ト
ランジスタ′)、(19)はヒユーズ、(20)はn−
DMO8(第1伝導形チヤネルテイプレンジヨン電界効
果トランジスタ)、■υは接地点、cAI″i出力端子
、脅は半導体基板、□は第1のp形(第2伝導形)領域
、(2)は第2のp形(第2伝導形)領域、(ホ)は第
1の第1伝導形領域、(イ)は第3の第2伝導形領域、
翰は第2の第1伝導形領域、翰は第3の第1伝導形領域
、曽は第4の第2伝導形領域である。 なお、図中同一符号は同一または相当部分を示す。 代理人 葛野信−(外1名) 第1図 第2図 、!’/       ll     l/第3図 J 第4図 J 第5図 丁続補正書(自発) 1.事件の表示   特願昭58−3144号3、補正
をする者 事件との関係 f−1・許出1g(i人件 所    
東京都千代田区丸の内二j’112番3お一名 称  
(601)三菱電機株式会社代表者片山仁八部 4、代理人 5、補正の対象 明細書の特許請求の範囲の欄、および図面の簡単な説明
の欄 6、補正の内容 (1)明細書の特許請求の範囲を添付別紙のとおシに訂
正する。 (2)明細書の第11頁第16行、第17行および第2
0行、並びに第12頁第1行(2箇所)、第2行(2箇
所)、第3行および第4行に「伝導」とあるのをすべて
「導電」と訂正する。 7、添付書類の目録 訂正後の特許請求の範囲を示す書面  1通以上 特許請求の範囲 (1)第14ilE形の半導体基板の主面部の一部に形
成された第1の第21形領域と、上記半導体基板の上記
主面部の他の部分に形成され上記第1の第2導電形領域
よシ高い不純物濃度を有する第2の第2導電形領域およ
び上記半導体基板より高い不純物濃度を有する第1の第
1導電形領域と、上記第1の第2導電形領域の表面部の
一部に形成され上記第1の第2刊形領域より高い不純物
濃度を有する第3の第2導電形領域および上記半導体基
板より高い不純物濃度を有する第2の第1導電形領域と
、上記第1の第2導電形領域の表面部の他の部分に形成
され上記半導体基板より高い不純物濃度を有する第3の
第1導電形領域捷たけ上記半導体基板の上記主面部の更
に他の部分に形成され上記第1の第2導電暦領域より高
い不純物濃度を有する第4の第2導電形領域とからなり
、上記第2の第1導電形領域と上記第3の第2見!形領
域とが接地され、上記第3の第1導電形領域または第4
の第2導電形領域が入力端子に接続され、かり上記第1
の第1導電形領域と上記第2の第2導電形領域とが出力
端子に接続されたプログラムイネーブル回路装置を備え
、アドレスデコーダの出力とプログラム制御回路の出力
との論理積を得るAllD回路の出力がゲートに供給さ
れ、ソースが電源に接続された第2導電形チヤネルの電
界効果トランジスタのドレインと上記出力端子との間に
ヒユーズが接続され、上記出力端子にゲートおよびソー
スが接地された第1導電形チヤネルのディプレッション
電界効果トランジスタのドレインが接続されてなり、上
記入力端子へ所要極性のトリガサージ電圧を印加するこ
とによって上記プログラムイネーブル回路装置内にラッ
チアップ現象を生ぜしめて上記ヒユーズを溶断させるよ
うにしたことを特徴とする冗長回路におけるプログラム
回路装置。 (2)  ヒユーズが多結晶シリコンからなることを特
徴とする特許請求の範囲第1項記載の冗長回路における
プログラム回路装置。
Figure 1 is a circuit diagram showing a program circuit in a conventional redundant circuit, Figure 2 is a circuit diagram showing a block configuration of a program circuit according to an embodiment of the present invention, and Figure 3 is a program enabler used in which invention. FIG. 4 is an equivalent circuit diagram for explaining the operation of the program enable circuit; FIG. 5 is a cross-sectional view showing an example of the circuit configuration; FIG. 5 is a diagram showing another example of the configuration of the program enable circuit used in the present invention. FIG. In the figure, (121 is an address decoder, t131i
j) ~ program control circuit, (14) is AND circuit, U3
1f'l program enable circuit, θ6) is an input terminal, (17) is pMO8 (second conduction type channel field effect transistor'), (19) is a fuse, (20) is n-
DMO8 (first conduction type channel tapered field effect transistor), ■υ is the ground point, cAI''i output terminal, □ is the semiconductor substrate, □ is the first p-type (second conduction type) region, (2) is the second p-type (second conductivity type) region, (e) is the first first conductivity type region, (a) is the third second conductivity type region,
Kan is the second first conductivity type region, Kan is the third first conductivity type region, and Zeng is the fourth second conduction type region. Note that the same reference numerals in the figures indicate the same or corresponding parts. Agent Makoto Kuzuno (1 other person) Figure 1 Figure 2,! ' / ll l / Figure 3 J Figure 4 J Figure 5 Continuation of amendment (voluntary) 1. Indication of the case Japanese Patent Application No. 58-3144 No. 3, Relationship with the person making the amendment case
2J'112-3 Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo First name
(601) Mitsubishi Electric Co., Ltd. Representative Hitoshi Katayama 4, Agent 5, Claims column of the specification to be amended and Brief description of drawings column 6, Contents of the amendment (1) Specification amend the scope of the claims as per the attached appendix. (2) Page 11, lines 16, 17 and 2 of the specification
In line 0, and in the first line (two places), second line (two places), third line, and fourth line of page 12, the words "conduction" are all corrected to "conduction." 7. Documents showing the scope of claims after correction of list of attached documents One or more copies Claims (1) A first 21st type region formed in a part of the main surface of a 14ILE type semiconductor substrate; , a second second conductivity type region formed in another portion of the main surface of the semiconductor substrate and having a higher impurity concentration than the first second conductivity type region; and a second second conductivity type region having a higher impurity concentration than the semiconductor substrate. a third second conductivity type region formed in a part of the surface of the first second conductivity type region and having a higher impurity concentration than the first second conductivity type region; and a second first conductivity type region having an impurity concentration higher than that of the semiconductor substrate, and a third region having an impurity concentration higher than the semiconductor substrate formed in another part of the surface of the first second conductivity type region. a fourth second conductivity type region formed in another part of the main surface portion of the semiconductor substrate and having a higher impurity concentration than the first second conductivity type region; The second first conductivity type region and the third second region! type region is grounded, and the third first conductivity type region or the fourth conductivity type region is grounded.
The second conductivity type region is connected to the input terminal, and the first conductivity type region is connected to the input terminal.
The first conductivity type region and the second second conductivity type region are provided with a program enable circuit device connected to an output terminal, and the All-D circuit obtains the AND of the output of the address decoder and the output of the program control circuit. A fuse is connected between the drain of the field effect transistor of the second conductivity type channel, the output of which is supplied to the gate, and the source of which is connected to the power supply, and the output terminal; The drain of a depletion field effect transistor of one conductivity type channel is connected, and by applying a trigger surge voltage of a desired polarity to the input terminal, a latch-up phenomenon is caused in the program enable circuit device and the fuse is blown. A program circuit device in a redundant circuit, characterized in that: (2) A program circuit device in a redundant circuit according to claim 1, wherein the fuse is made of polycrystalline silicon.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)第1伝導形の半導体基板の主面部の一部に形成さ
れた第1の第2伝導形領域と、上記半導体基板の上記主
面部の他の部分に形成され上記第1の第2伝導形領域よ
り高い不純物濃度を有する第2の第2伝導形領域および
上記半導体基板よ)高い不純物濃度を有する第1の第1
伝導形領域と、上記第1の第2伝導形領域の表面部の一
部に形成され上記第1の第2伝導形領域より高い不純物
濃度を有する第3の第2伝導形領域および上記半導体基
板より高い不純物濃度を有する第2の第1伝導形領域と
、上記第1の第2伝導形領域の表面部の他の部分に形成
され上記半導体基板より高い不純物濃度を有する男3の
第1伝導形領域または上記半導体基板の上記主面部の更
に他の部分に形成され上記第1の第2伝導形領域より高
い不純物濃度を有する第4の第2伝導形領域とからなシ
、上記第2の第1伝導形領域と上記第3の第2伝導形領
域とが接地され、上記第3の第1伝導形領域または第4
の第2伝導形領域が入力端子に接続され、かつ上記第1
の第1伝導形領域と上記第2の第2伝導形領域とが出力
端子に接続されたプログラムイネーブル回路装置を備え
、アドレスデコーダの・出力とプログラム制御回路の出
力との論理積を得、。 るAND回路の出力がゲートに供給され、ソースが電源
に接続された第2伝導形チヤネルの電界効果トランジス
タのドレインと上記出力端子との間にヒユーズが接続さ
れ、上記出力端子にゲートおよびソースが接地された第
1伝導形チヤネルのディプレッション電界効果トランジ
スタのドレインが接続烙れてなり゛、上記入力端子へ所
要極性のトリガサージ電圧を印加することによって上記
プログラムイネーブル回路装置内にラッテアップ現象を
生せしめて上記ヒユーズを溶結させるようにしたことを
特徴とする冗長回路におけるプログラム回路装置。
(1) a first second conductivity type region formed in a part of the main surface of the semiconductor substrate of the first conductivity type; and a first second conductivity type region formed in another part of the main surface of the semiconductor substrate; a second conduction type region having a higher impurity concentration than the conduction type region; and a first conduction type region having a higher impurity concentration than the semiconductor substrate;
a conduction type region, a third second conductivity type region formed in a part of the surface of the first second conductivity type region and having a higher impurity concentration than the first second conductivity type region, and the semiconductor substrate. a second first conductivity type region having a higher impurity concentration; and a second first conductivity type region formed in another part of the surface of the first second conductivity type region and having a higher impurity concentration than the semiconductor substrate. a second conductivity type region or a fourth second conductivity type region formed in another part of the main surface portion of the semiconductor substrate and having a higher impurity concentration than the first second conductivity type region; The first conductivity type region and the third second conductivity type region are grounded, and the third first conductivity type region or the fourth conductivity type region is grounded.
the second conductivity type region is connected to the input terminal, and the first conductivity type region is connected to the input terminal;
and a program enable circuit device in which the first conductivity type region and the second second conductivity type region are connected to an output terminal, and the output of the address decoder and the output of the program control circuit are logically ANDed. A fuse is connected between the drain of the field effect transistor of the second conduction type channel, whose gate is supplied with the output of the AND circuit whose source is connected to the power supply, and the output terminal, and the gate and source are connected to the output terminal. The drain of the depletion field effect transistor of the grounded first conduction type channel becomes disconnected and causes a ratt-up phenomenon in the program enable circuit device by applying a trigger surge voltage of a desired polarity to the input terminal. 1. A program circuit device in a redundant circuit, characterized in that the fuse is fused by the fuse.
(2)  ヒユーズが多結晶シリコンからなることを特
徴とする特許請求の範囲第1項記載の冗長回路における
プログラム回路装置。
(2) A program circuit device in a redundant circuit according to claim 1, wherein the fuse is made of polycrystalline silicon.
JP58003144A 1983-01-10 1983-01-10 Program circuit device in redundancy circuit Pending JPS59126651A (en)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61222098A (en) * 1985-01-15 1986-10-02 エスジェーエス―トムソン ミクロエレクトロニクス ソシエテ アノニム Integrated circuit memory
JPS62115742A (en) * 1985-11-14 1987-05-27 Nec Corp Adjusting method for semiconductor integrated circuit
US5552338A (en) * 1994-09-26 1996-09-03 Intel Corporation Method of using latchup current to blow a fuse in an integrated circuit
US6548884B2 (en) * 2000-05-10 2003-04-15 Nec Corporation Semiconductor device

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