JPS59124311A - 反射光学系 - Google Patents
反射光学系Info
- Publication number
- JPS59124311A JPS59124311A JP57232283A JP23228382A JPS59124311A JP S59124311 A JPS59124311 A JP S59124311A JP 57232283 A JP57232283 A JP 57232283A JP 23228382 A JP23228382 A JP 23228382A JP S59124311 A JPS59124311 A JP S59124311A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mirror
- primary mirror
- optical system
- axis
- primary
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B17/00—Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
- G02B17/02—Catoptric systems, e.g. image erecting and reversing system
- G02B17/06—Catoptric systems, e.g. image erecting and reversing system using mirrors only, i.e. having only one curved mirror
- G02B17/0605—Catoptric systems, e.g. image erecting and reversing system using mirrors only, i.e. having only one curved mirror using two curved mirrors
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
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- Optics & Photonics (AREA)
- Lenses (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は小型、軽量、低価格化が実現できる反射光学
系に関するものである。
系に関するものである。
反射光学系として従来よく用いられるものとして、第1
次鏡に回転放物面、第2次鏡に回転双曲面を用いたもの
があった。しかし、これら側曲面とも非球面である光学
系を製作するのは容易でなく、高価なものとならざるを
得ない難点がある。
次鏡に回転放物面、第2次鏡に回転双曲面を用いたもの
があった。しかし、これら側曲面とも非球面である光学
系を製作するのは容易でなく、高価なものとならざるを
得ない難点がある。
一般に球面は製作が容易で、かつ9球心から出た光線が
球心に戻る性質を利用して容易に検査できる利点がある
が9両面とも球面とすれば球面収差が発生し、特に大口
径の光学系においてこの収差が非常に大きくなるため、
許容できる小収差の範囲で明るい、短焦点の光学系を実
現しにくい欠点がある。この欠点を解決する方法として
、第1次鏡を製作容易な球面、第2次鏡を非球面とする
光学系が考えられるが、第1次鏡を球面、第2次鏡を非
球面とした場合、入射光線の高さがある値を超えたとこ
ろで第2次鏡曲面に折り返しが生じ。
球心に戻る性質を利用して容易に検査できる利点がある
が9両面とも球面とすれば球面収差が発生し、特に大口
径の光学系においてこの収差が非常に大きくなるため、
許容できる小収差の範囲で明るい、短焦点の光学系を実
現しにくい欠点がある。この欠点を解決する方法として
、第1次鏡を製作容易な球面、第2次鏡を非球面とする
光学系が考えられるが、第1次鏡を球面、第2次鏡を非
球面とした場合、入射光線の高さがある値を超えたとこ
ろで第2次鏡曲面に折り返しが生じ。
それより低い高さの入射光線に対する曲面をおおってし
まうことになるので、入射光線の高さは前記入射光線高
さ以下に制限され、あまり大きな口径をもつ反射光学系
を実現できない欠点があった。
まうことになるので、入射光線の高さは前記入射光線高
さ以下に制限され、あまり大きな口径をもつ反射光学系
を実現できない欠点があった。
そこでこの発明においては、第2次鏡を製作。
検査の容易な球面鏡、第1次鏡を非球面鏡とし。
さらに、これらの反射鏡の少なくとも一方を熱膨張係数
の小さいCFRPで形成することにより。
の小さいCFRPで形成することにより。
従来の反射光学系の欠点を除去する手段を提供するもの
である。
である。
以下、この発明を図を用いて詳細に説明する。
第1図は、この発明による光学系の構成および諸元を示
す図で、(1)は第1次鏡、(2)は第2次鏡。
す図で、(1)は第1次鏡、(2)は第2次鏡。
(3)はy軸、(4)は原点、(5)はy軸、(6)は
光線である。
光線である。
第1次鏡(1)と第2次鏡(2)の回転中心軸はy軸(
3)で。
3)で。
第2次鏡の球面の半径はR9第1次鏡の頂点の座標はH
(h、o)である。
(h、o)である。
y軸(3)に平行に入射する光線(6)は第1次鏡上の
点Bで反射し、第2次鏡上の点Cで再び反射して。
点Bで反射し、第2次鏡上の点Cで再び反射して。
y軸(3)上の点D(d、o)に収れんする。
LCQD−θとすると、すべてのθに対し光線が点りに
収れんするためには、AB+BC+CDが一定であ′る
ことか必要で、これを満たす第1次鏡の曲面は第1図に
示す量γ(d)、 g(ct))を用いて。
収れんするためには、AB+BC+CDが一定であ′る
ことか必要で、これを満たす第1次鏡の曲面は第1図に
示す量γ(d)、 g(ct))を用いて。
g(α)−γ、−γ(α)房a ・・・
(6)であられされる。ただし、、α、 r+、r*
は式f1)〜式(4)であられされる。
(6)であられされる。ただし、、α、 r+、r*
は式f1)〜式(4)であられされる。
第1図が示すように、 r(α)は第1次鏡(2)の
曲率半径で9 g(α)はその曲率中心EのX座標であ
る。
曲率半径で9 g(α)はその曲率中心EのX座標であ
る。
第2図は曲率半径r(α)のdに対する変化を示す図で
ある。曲率半径がαとともに増加、つまり曲率がdとと
もに小さくなるので鏡面加工が容易であることがわかる
。
ある。曲率半径がαとともに増加、つまり曲率がdとと
もに小さくなるので鏡面加工が容易であることがわかる
。
式(5)(61が示す第1次鏡曲面を実現するには、金
属を鏡面素材とし、これを直接、数値制御加工し。
属を鏡面素材とし、これを直接、数値制御加工し。
加工後の面に1例えば、ニッケルを主成分とする硬度の
大きいカニゼンナッキを施して光学研磨し。
大きいカニゼンナッキを施して光学研磨し。
研磨後、アルミニウム等を真空蒸着して鏡面とすること
ができるが、この方法だと、製品ごとの工程が多く高価
なものとなるだけでなく1口径が大きくなると重量が非
常に大きくなる欠点がある。
ができるが、この方法だと、製品ごとの工程が多く高価
なものとなるだけでなく1口径が大きくなると重量が非
常に大きくなる欠点がある。
第3図は、この様な欠点を解決するため1例えば、CF
RPを鏡面構造体として鏡面を構成する方法を示す図で
、(7)は第1次鏡曲面母型、(8)はCFRP、(9
)は第1次鏡曲面である。
RPを鏡面構造体として鏡面を構成する方法を示す図で
、(7)は第1次鏡曲面母型、(8)はCFRP、(9
)は第1次鏡曲面である。
第3図(a)において、金属を数値制御加工することに
より1式(5)(6)で示される第1次鏡曲面(9)を
有する凸型の第1次鏡曲面母型(7)が最初に作られる
。
より1式(5)(6)で示される第1次鏡曲面(9)を
有する凸型の第1次鏡曲面母型(7)が最初に作られる
。
第1次鏡曲面(9)は、数値制御加工精度が、扱う光線
の波長に比べ十分良ければ、加工後の曲面をそのまま用
いることができ、そうでなければ、加工面の上にカニゼ
ンナッキを施し、これを光学研磨することにより、十分
精度の良い鏡面母型を得ることができる。
の波長に比べ十分良ければ、加工後の曲面をそのまま用
いることができ、そうでなければ、加工面の上にカニゼ
ンナッキを施し、これを光学研磨することにより、十分
精度の良い鏡面母型を得ることができる。
第1次鏡曲面母型(7)が得られたならば9第3図(b
)に示すように、CFRP(8)を凸型の第1次鏡曲面
(9)に層状に塗り重ね、必要な強度を有する厚さにし
た後、CFRP(31を第1次鏡曲面母型(7)から分
離することにより、第3図(c)に示すような1式(5
1+6+で示される第1次鏡曲面(9)を有する凹型の
CF RP (3)が得られる。このCF RP C8
)の曲面は。
)に示すように、CFRP(8)を凸型の第1次鏡曲面
(9)に層状に塗り重ね、必要な強度を有する厚さにし
た後、CFRP(31を第1次鏡曲面母型(7)から分
離することにより、第3図(c)に示すような1式(5
1+6+で示される第1次鏡曲面(9)を有する凹型の
CF RP (3)が得られる。このCF RP C8
)の曲面は。
第1次鏡曲面母型(7)のレプリカであり、鏡面がその
まま転写された。精度の高い第1次鏡曲面となっている
。従って、この曲面に、直接、アルミニウム等を蒸着す
ることにより、ただちに、第1次鏡曲面として用いるこ
とができる。
まま転写された。精度の高い第1次鏡曲面となっている
。従って、この曲面に、直接、アルミニウム等を蒸着す
ることにより、ただちに、第1次鏡曲面として用いるこ
とができる。
なお、この例においては、第1次鏡をCFRPで構成す
る場合について示したが1球面鏡である第2次鏡もCF
RPで構成することができる。
る場合について示したが1球面鏡である第2次鏡もCF
RPで構成することができる。
このように、この発明によれば、第2次鏡を加工、検査
の容易な球面鏡とし、第1次鏡のみを非球面鏡とし、少
なくとも一方を熱膨張係数の小さいCFRP等の繊維強
化プラスチックで構成するので9反射光学系を、小型、
軽量、安価に構成することができる。
の容易な球面鏡とし、第1次鏡のみを非球面鏡とし、少
なくとも一方を熱膨張係数の小さいCFRP等の繊維強
化プラスチックで構成するので9反射光学系を、小型、
軽量、安価に構成することができる。
第1図はこの発明による光学系の構成および諸元を示す
図、第2図は曲率半径γ(d)のαに対する変化を示す
図、第3図は鏡面を構成する方法を示す図であって、(
1)は第1次鏡、(2)は第2次鏡、(3)はX軸、(
4)は原点、(5)はy軸、(6)は光線、(7)は第
1次鏡曲面母型、(8)はCPRP、jglは第1次鏡
曲面である。 なお1図中、同一あるいは相当部分には、同一符号を付
して示しである。 代理人 葛 野 信 − 第1図 第2図 第 (α) (
図、第2図は曲率半径γ(d)のαに対する変化を示す
図、第3図は鏡面を構成する方法を示す図であって、(
1)は第1次鏡、(2)は第2次鏡、(3)はX軸、(
4)は原点、(5)はy軸、(6)は光線、(7)は第
1次鏡曲面母型、(8)はCPRP、jglは第1次鏡
曲面である。 なお1図中、同一あるいは相当部分には、同一符号を付
して示しである。 代理人 葛 野 信 − 第1図 第2図 第 (α) (
Claims (2)
- (1)第1次鏡と第2次鏡とを構成要素にもつ反射光学
系において1球面反射面を有する第2次鏡と、前記第2
次鏡球心を原点、光軸をX軸、これに垂直にy軸をとり
、第2次鏡半径なR1第1次鏡頂点座標なH(h、o)
、結像点座標なり(d。 o)、0を媒介変数として。 γ、=Rsinθ/5LrI2(α−θ>
−= (21を用いて9次式で表わされる曲率半径γ
(α)1曲率中心(9(α)、0) g(ct)−γ・−γ(α)■α
・・・(6)を有する回転曲面を反射面とする第1次
鏡とを備えたことを特徴とする反射光学系。 - (2)第1次鏡および第2次鏡の少なくとも一方を繊維
強化プラスチック(以下、CFRPとよぶ)で形成した
ことを特徴とする特許請求範囲第(1)項記載の反射光
学系。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57232283A JPS59124311A (ja) | 1982-12-29 | 1982-12-29 | 反射光学系 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57232283A JPS59124311A (ja) | 1982-12-29 | 1982-12-29 | 反射光学系 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59124311A true JPS59124311A (ja) | 1984-07-18 |
Family
ID=16936795
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57232283A Pending JPS59124311A (ja) | 1982-12-29 | 1982-12-29 | 反射光学系 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59124311A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5144496A (en) * | 1989-07-19 | 1992-09-01 | Olympus Optical Co., Ltd. | Reflecting objective system including a negative optical power second mirror with increasing negative optical power off-axis |
US5253117A (en) * | 1989-07-19 | 1993-10-12 | Olympus Optical Co., Ltd. | Reflecting objective system |
JPH07146442A (ja) * | 1994-08-04 | 1995-06-06 | Canon Inc | 反射光学系 |
-
1982
- 1982-12-29 JP JP57232283A patent/JPS59124311A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5144496A (en) * | 1989-07-19 | 1992-09-01 | Olympus Optical Co., Ltd. | Reflecting objective system including a negative optical power second mirror with increasing negative optical power off-axis |
US5253117A (en) * | 1989-07-19 | 1993-10-12 | Olympus Optical Co., Ltd. | Reflecting objective system |
US5291340A (en) * | 1989-07-19 | 1994-03-01 | Olympus Optical Co., Ltd. | Reflecting objective system |
JPH07146442A (ja) * | 1994-08-04 | 1995-06-06 | Canon Inc | 反射光学系 |
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