JPS59124031A - 磁気デイスク製造法 - Google Patents
磁気デイスク製造法Info
- Publication number
- JPS59124031A JPS59124031A JP57233710A JP23371082A JPS59124031A JP S59124031 A JPS59124031 A JP S59124031A JP 57233710 A JP57233710 A JP 57233710A JP 23371082 A JP23371082 A JP 23371082A JP S59124031 A JPS59124031 A JP S59124031A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- oxide film
- layer
- magnetic disk
- lubricant
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/72—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction
- G11B5/726—Two or more protective coatings
- G11B5/7262—Inorganic protective coating
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Lubricants (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（１）発明の技術分野
本発明は耐久性の良い磁気ディスクに関する。
（２）技術の背景
磁気ディスクは一般にＡＩ基板上に順次ＡＩ基板／ ｒ
Ｆｅ２０Ｂ層／５ｉ０２層／潤滑剤という構成に各
々の層を形成したものである。ここで潤滑剤はヘッドと
ディスクとの接触によるディスク面の損傷を防ぐことを
目的として塗布されている。
Ｆｅ２０Ｂ層／５ｉ０２層／潤滑剤という構成に各
々の層を形成したものである。ここで潤滑剤はヘッドと
ディスクとの接触によるディスク面の損傷を防ぐことを
目的として塗布されている。
（３）従来技術と問題点
しかし滑かなＳ ｒ Ｏｘ層と潤滑剤との密着性は悪い
ため、潤滑剤は均一に保持されにくい。また、たとえ初
期状態として均一に塗布されていたとしても、ヘッドと
ディスク面との接触により、潤滑剤はヘッドにかき集め
られるため、不均一に分布することになり、それがディ
スク面の損傷につながる。才た従来技術では、ヘッドの
クリーニンク機構が無いためヘッドに潤滑剤が吸着しや
すく、このこともディスク面の損傷の原因となっている
。
ため、潤滑剤は均一に保持されにくい。また、たとえ初
期状態として均一に塗布されていたとしても、ヘッドと
ディスク面との接触により、潤滑剤はヘッドにかき集め
られるため、不均一に分布することになり、それがディ
スク面の損傷につながる。才た従来技術では、ヘッドの
クリーニンク機構が無いためヘッドに潤滑剤が吸着しや
すく、このこともディスク面の損傷の原因となっている
。
（４）発明の目的
本発明は、上述の点に鑑みてなされたものでレーザー加
工とドライエツチングとの組み合せにより、ミクロンオ
ーダーで荒れた８１０２層を形成し、適量の潤滑剤を均
一に保持せしめると同時に、ヘッドのクリーニング効果
を持たせ、吸着を防止することにより耐久性の良い磁気
ディスクを提供すること番こある。
工とドライエツチングとの組み合せにより、ミクロンオ
ーダーで荒れた８１０２層を形成し、適量の潤滑剤を均
一に保持せしめると同時に、ヘッドのクリーニング効果
を持たせ、吸着を防止することにより耐久性の良い磁気
ディスクを提供すること番こある。
（５）発明の構成
本発明は磁気記録媒体上にＳ ｉ０２薄膜を形成しさら
ｌこＳ ｎ ｒ Ｂ ｒ ＋ Ｔ ｅ ＋ Ｐ ｂ ＋
Ａ Ｉで代表される低融点金属の金属膜あるいは合金
膜を形成し、これにレーザービームを照射することによ
り上記金属膜あるいは合金膜に微細穴を開けた後５Ｉ０
２膜および上記金属あるいは合金膜を順々に選択エツチ
ングし、微細孔をもつ５１０２膜を得、この上に潤滑剤
を塗布することを特徴とする磁気ディスク製造法により
達成される。
ｌこＳ ｎ ｒ Ｂ ｒ ＋ Ｔ ｅ ＋ Ｐ ｂ ＋
Ａ Ｉで代表される低融点金属の金属膜あるいは合金
膜を形成し、これにレーザービームを照射することによ
り上記金属膜あるいは合金膜に微細穴を開けた後５Ｉ０
２膜および上記金属あるいは合金膜を順々に選択エツチ
ングし、微細孔をもつ５１０２膜を得、この上に潤滑剤
を塗布することを特徴とする磁気ディスク製造法により
達成される。
（６）発明の実施例
以下本発明について図面を参照して説明する。
実施例１）
厚さ０．１５μｍのγ−Ｆｅｔｕｓ層２が形成された、
アルミディスク基板１上に、まず５００ＡのＳｉｎ。
アルミディスク基板１上に、まず５００ＡのＳｉｎ。
層３次いで１００ＡのＡ１層４をスパッタによって形成
する（第１図）。これに強度変調されたＡｒレーザーを
数ミクロンのスポット径で断続的に照射し、Ａｒレーザ
ー照射部のＡ１層を溶融せしめ数ミクロン間隔でＡ１層
４に穴５をあける（第２図）。
する（第１図）。これに強度変調されたＡｒレーザーを
数ミクロンのスポット径で断続的に照射し、Ａｒレーザ
ー照射部のＡ１層を溶融せしめ数ミクロン間隔でＡ１層
４に穴５をあける（第２図）。
次にガスプラズマ中ＣＦ４により８１０２層３を２００
又程腿ドライエツチング（第３図）したのち、上 。
又程腿ドライエツチング（第３図）したのち、上 。
部のＡ１層４をＣＣＬを含むガスプラズマのドライエツ
チングにより除去する（第４図）。この際、ＣＦ、のＳ
ｉＯ２とＡＩに対するエツチングレイトおよびＣＣＩ、
のＡｌと５ＩＯ２に対するエツチングレイトは十分具な
っているため、５ｉＣｈ層３には深さ２００Ａ程度、直
径数ミクロンの穴が形成される。
チングにより除去する（第４図）。この際、ＣＦ、のＳ
ｉＯ２とＡＩに対するエツチングレイトおよびＣＣＩ、
のＡｌと５ＩＯ２に対するエツチングレイトは十分具な
っているため、５ｉＣｈ層３には深さ２００Ａ程度、直
径数ミクロンの穴が形成される。
次いで潤滑剤を塗布する。
本実施例では酸化膜としてノンドープの５ｉ０２膜を用
いる例を上げたが、金属膜とのエツチングレートが適正
でありさえすれば、ドープされた酸化膜でも良い。又レ
ーザービームとしてはＡｒレーザーの他に炭酸ガスレー
ザー、ヤグレーザ−等を用いても良い。
いる例を上げたが、金属膜とのエツチングレートが適正
でありさえすれば、ドープされた酸化膜でも良い。又レ
ーザービームとしてはＡｒレーザーの他に炭酸ガスレー
ザー、ヤグレーザ−等を用いても良い。
（７）発明の効果
レーザー加工の精密さおよびＳｉＯ２とＡＩのエツチン
グ選択性を利用することにより、ミクロンオーダーの荒
れた表面を得るようにした本発明によれば、Ｓ ｉ ０
２層を膜厚に近い程度にまで荒らすことができ、これに
よりディスク面には適量の潤滑剤を保持せしめ、潤滑効
果を向上させると同時に、凹凸の５ＩＯ２表面によりヘ
ッドのクリーニング効果を生じさせるため、吸着を防止
することもできる。
グ選択性を利用することにより、ミクロンオーダーの荒
れた表面を得るようにした本発明によれば、Ｓ ｉ ０
２層を膜厚に近い程度にまで荒らすことができ、これに
よりディスク面には適量の潤滑剤を保持せしめ、潤滑効
果を向上させると同時に、凹凸の５ＩＯ２表面によりヘ
ッドのクリーニング効果を生じさせるため、吸着を防止
することもできる。
第１図〜第４図は本発明の詳細な説明する断面図で、第
１図はγ−Ｆ ｅｘ Ｏｓ層を形成したアルミニウム基
板上にＳｉＯ，、Ａ１層をスパッタしたもの、第２図は
レーザービームによってＡ１層に穴をあけたもの、第３
図はＣＦ４により５ｉｆｔがＳｉＯ２膜の途中までドラ
イエッチされた後のもの、第４図はＣＣｌ４によりＡ１
層が除去された後のものである。 １：ＡＩ基板、２：γ−Ｆ ｅ２０Ｂ層、３：ＳｉＯ２
層、４：Ａ１層、５：穴。
１図はγ−Ｆ ｅｘ Ｏｓ層を形成したアルミニウム基
板上にＳｉＯ，、Ａ１層をスパッタしたもの、第２図は
レーザービームによってＡ１層に穴をあけたもの、第３
図はＣＦ４により５ｉｆｔがＳｉＯ２膜の途中までドラ
イエッチされた後のもの、第４図はＣＣｌ４によりＡ１
層が除去された後のものである。 １：ＡＩ基板、２：γ−Ｆ ｅ２０Ｂ層、３：ＳｉＯ２
層、４：Ａ１層、５：穴。
Claims (6)
- （１）磁気記録媒体上に酸化膜を形成する工程と、該酸
化膜上に低融点金属もしくはその合金の金属膜を形成す
る工程と、 該金属膜の所望個所にレーザービームを照射し、金属膜
に穴を開ける工程と、 第１のガスプラズマ中核金属膜をマスクに穴部の酸化膜
をその厚さ方向途中までドライエッチし、次いで、第２
のガスプラズマ中核金属膜を除去し、表面に凹部を有す
る酸化膜を形成する工程と、該酸化膜上に潤滑剤を塗布
する工程とを有することを特徴とする磁気ディスク製造
法。 - （２）上記低融点金属がスズ、ビスマス、テルル、鉛、
もしくはＡＩであることを特徴とする特許請求の範囲第
１項記載の磁気ディスク製造法。 - （３）上記レーザーがアルゴンレーザー、ヤグレーザ−
であることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の磁
気ディスク製造法。 - （４）上記第１のガスプラズマがフッ素を含むプラズマ
であることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の磁
気ディスク製造法。 - （５）上記第２のガスプラズマが塩素を含むプラズマで
あることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の磁気
ディスク製造法。 - （６）上記酸化膜が不純物をドープした酸化膜であるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の磁気ディス
ク製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57233710A JPS59124031A (ja) | 1982-12-29 | 1982-12-29 | 磁気デイスク製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57233710A JPS59124031A (ja) | 1982-12-29 | 1982-12-29 | 磁気デイスク製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59124031A true JPS59124031A (ja) | 1984-07-18 |
Family
ID=16959333
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57233710A Pending JPS59124031A (ja) | 1982-12-29 | 1982-12-29 | 磁気デイスク製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59124031A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0422640A2 (en) * | 1989-10-13 | 1991-04-17 | Hitachi, Ltd. | Magnetic disk apparatus and magnetic disk |
| EP0464786A2 (en) * | 1990-07-04 | 1992-01-08 | Hitachi, Ltd. | Magnetic disk, method of manufacturing the same and magnetic disk apparatus including the magnetic disk |
| US5504646A (en) * | 1989-10-13 | 1996-04-02 | Hitachi, Ltd. | Magnetic disk including protective layer having surface with protusions and magnetic disk apparatus including the magnetic disk |
-
1982
- 1982-12-29 JP JP57233710A patent/JPS59124031A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0422640A2 (en) * | 1989-10-13 | 1991-04-17 | Hitachi, Ltd. | Magnetic disk apparatus and magnetic disk |
| US5285343A (en) * | 1989-10-13 | 1994-02-08 | Hitachi, Ltd. | Magnetic disk with surface protective layer having convex portions and magnetic disk apparatus including such a magnetic disk |
| US5504646A (en) * | 1989-10-13 | 1996-04-02 | Hitachi, Ltd. | Magnetic disk including protective layer having surface with protusions and magnetic disk apparatus including the magnetic disk |
| US5930073A (en) * | 1989-10-13 | 1999-07-27 | Hitachi, Ltd. | Magnetic disk including protective layer having surface with magnetic disk including protrusions, and magnetic disk apparatus including the magnetic disk |
| US6303205B1 (en) | 1989-10-13 | 2001-10-16 | Hitachi, Ltd. | Magnetic disk including protective layer having surface with protrusions, and substrate therefor |
| EP0464786A2 (en) * | 1990-07-04 | 1992-01-08 | Hitachi, Ltd. | Magnetic disk, method of manufacturing the same and magnetic disk apparatus including the magnetic disk |
| US5656349A (en) * | 1990-07-04 | 1997-08-12 | Hitachi, Ltd. | Magnetic disk, method of manufacturing the same and magnetic disk apparatus including the magnetic disk |
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