JPS59119355A - 露光装置 - Google Patents

露光装置

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JPS59119355A
JPS59119355A JP57228385A JP22838582A JPS59119355A JP S59119355 A JPS59119355 A JP S59119355A JP 57228385 A JP57228385 A JP 57228385A JP 22838582 A JP22838582 A JP 22838582A JP S59119355 A JPS59119355 A JP S59119355A
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JP
Japan
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dry plate
hard dry
hard
plate
centering
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JP57228385A
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Noboru Fukui
昇 福井
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Fujitsu Ltd
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Fujitsu Ltd
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F9/00Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ・(1)発明の技術分野 本発明は露光装置、詳しくはステッパーまたはフォトマ
スクリピータ−におけるウェハまたはガラス乾板(ハー
ド乾板)位置ぎめおよび解放用の芯出し機構に関する。
(2)技術の背景 例えばフォトマスクの製造においては1.フォトマスク
リピータ−を用いハード乾板に対して露光を行う。かが
るフォトマスクリピータ−は第1図の概略断面図に示さ
れる構造のものであり、同図において、Lはレンズ1a
の上方位置におかれた水銀灯からの光、la、lb、1
c4;i:レンズ、2は実際に形成されるパターンの例
えば10倍のパターンが作られたレチクル、3は本体、
4はレンズカバー、5はハード乾板、6は金属性の台(
ステージ)を示し、ハード乾板5はソーダガラスの上に
クロム(Cr) IIIが、またこのクロム1戻の上に
フォトレジスト膜が塗布されたものであり、ハード乾板
5上にレチクル2のパターンが順次縮小投影される。
台6は図示しない駆動源に接続されてXY方向の動きを
なし、レチクル2のパターンが一駒ずつ順次ハード乾板
5上に縮小投影されることを可能にし、所定の露光が終
ると現像工程、エソチング工程等を経てフォトマスクが
完成される。かがるフォトマスクは例えばウェハの露光
に用いられるものである。
第2図は台6の平面図であり、この台6の上にハード乾
板5が配置される。同図において7は台6の中心、8は
溝、9は図示しない排気装置に連結された排気孔を示し
、溝8と排気孔9はハード乾板5が台6上に置かれると
き、排気孔8がら排気することによりハード乾板5を台
6に接し真空吸着する如き真空吸着手段を構成する。こ
こでハード乾板5が正しく位置ぎめしてセントされるこ
とが前記した露光のために重要であり、その目的開位置
ぎめピンのための孔10a、10b 、、、が設けられ
る。
ハード乾板5は、1辺が例えば10.16cm  (4
インチ) 、12.7cm (5インチ) 、l’5.
24cm  (fiインチ)の長さの方形のもので(こ
れらを以下には4インチハード乾板09.と略称する)
、それの位置ぎめのために、中心7がら一定の距離の点
10a。
10b 、、、に穴を形成しておき、ハード乾板5の寸
法に応じ3点例えば10a、 10b、 10cにピン
を挿入し、3点固定法によってハード乾板5を位置ぎめ
する。
ハード乾板5が位置ぎめされてセントされると、それは
前記した真空チャックによって強固に台6上に吸着固定
され、しかる後に露光が行われる。
以上にはフォトマスクの製造に用いるフォトマスクリピ
ータ−について説明したが、ウェハの露光に際してはス
テッパーが用いられる。しかし、ステッパーも上記のリ
ピータ−と同一構成であり、ウェハを台6上に固定する
についても全く同様の機構が用いられうる。
(3)従来技術と問題点 上記したフォトマスクリピータ−は一般に良好に作動す
るが、のハード乾板5の位置ぎめおよびそれの露光後の
取出しにおいて問題がある。
第2図に戻りハード乾板の位置ぎめに関し説明すると前
記した如くハード乾板の寸法に応じてその都度所定の穴
10a、、、にピ°ンの入れ替えを行わなければならな
い。フォトマスクの種類が頻繁に代えられたとすると、
かかるピンの入れ替えに余分の時間を要し、フォトマス
クリピータ−の作業性が低下する原因となる。
ハード乾板5の露光が終ると、それを台6から取り出さ
なければならない。第1図に戻ると、ハード乾板5の上
表面とレンズカバー4の先端部分との間隔はきわめて小
であり、ハード乾板5上のフォトレジスト膜を剥離する
ことなく引き出すには、ハード乾板5を台5にほぼ平行
に出さなければならない。
ところが、ハード乾板5は台6に接して真空吸着されて
いるので、引き出すときにハード乾板5の台6と接して
いる裏面が台6とこすり合う。
台6は前記したように金属性のものであるので、ハード
乾板5がこずられたとき裏面に傷が付くことがある。か
かる傷はフォトマスクを用いて露光すると5の被照射体
例えばウェハ上に転写されるので、不良品の原因となる
おそれがある。
(4)発明の目的 本発明は上記従来の問題点に鑑み、乾板またはウェハを
、容易にかつ正確に位置ぎめしてセットし、またそれを
傷付けることなく容易に取り出すことが可能な露光装置
を提供するにある。
(5)発明の構成 そしてこの目的は本発明によれば、複数の気体通路と、
該気体通路の圧力に応じて上下動する複数の位置決めピ
ンを有する試料台を備え、該位置決めピンを複数の被露
光乾板のサイズに対応して配置し、被露光乾板のサイズ
に応じて該気体通路の圧力を切り換え、該位置決めピン
を選択的に該試料台上に突出させるようにしたことを特
徴とする露光装置を提供することによって達成され、ま
た該露光装置において、前記位置決めピンの1または数
個は、最も小なる乾板のための位置決めピンよりは試料
台の中心に近い位置に配置され、乾板の取出しの際に該
試料台の表面の上に突出する構成としてもよい。
(6)発明の実施例 以下本発明実施例を図面によって詳述する。
第3図に本発明にかかる露光装置機構、すなわちフォト
マスクリピータ−の台の平面図が示され、この台は以下
に説明する芯出し機構を除くと第2図に示した従来の台
6と同1.;構成のものであるので、第3図において既
に図示した部分と同じ部分は同一符号を付して示す。
台6には、第2図の実施c7)例(7)穴10a、10
b、、。
に対応する位置に、芯出し機構20a、20b、、、を
設ける。すなわち図において、芯出し機構20a、20
b。
20cは4インヂハード乾板のためのものであり、20
d、 20e、 20fは次のより大なる寸法の5イン
チハード乾板のためのものであり、順次同様にして異な
る寸法のハード乾板を位置ぎめするよう芯出し機構を配
置する。
芯出し機構20aは第4図に示される構成のもので、同
図において11は気体流路、12は切替スイッチで、流
路11は気体例えば窒素(N2)ガスまたはドライエア
の供給源(図示せず)に連結されている。切替スイッチ
には処理されるべきハード乾板の寸法に対応して認識符
号を付けておき、与えられたハード乾板に対して切り替
えられるべきスイッチが容易に幌織されうるようにする
第4図の芯出し機構20a 、 、 、は突出位置にあ
り、その1つの詳細は第5図(alに示される。それは
、弁部21、ピン部22、封止部23から成り、例えば
ドライエアが第5図(alに矢印で示す方向に送られる
と、弁部21が持ち上げられてピン部22が台6の上表
面の上に突出する。その状態が第4図に示されるが、こ
の位置で所定の例えば4インチハード乾板が位置ぎめさ
れうる。すなわち、操作者は、ハード乾板の1辺は芯出
し機構20a、20bに、他の1辺は芯出し機構20c
に接するようハード乾板を押し付けると、3点固定の原
理でハード乾板の中心は台6の中心7と一致する。
他の例えば5インチハード乾板を位置ぎめしたいときは
、第5図(blに矢印で示される方向にドライエアが流
れるようスイッチを切り替えると、弁部2Iが下がり、
それと共にピン91422の頂部は台60表面と同一面
上に位置し、また封止部23が流路11の孔を封じ、芯
出し機構20aは舎内に隠れることになる。次いで、5
インチハード乾板のための切替スイッチを切り替えて、
芯出し機構20d。
20e、20fを第4図、第5図(81に示される如く
に突出させる。かくして、与えられたハード乾板に対し
、それの位置ぎめのためには、従来技術における位置ぎ
めピンの入れ替え等をなすことなく、切替スイッチの操
作のみによって位置ぎめ用の芯出し機構を容易に台6の
上表面の上に突出させまたは台6内に隠させることが可
能になり、それによって異なった寸法のハード乾板の位
置ぎめが容易に、かつ、正確になされうる。なお、特定
のハート乾板に関して芯出し機構の数と配置をいかにす
るかは前辺って選定しておけばよいが、図示の3個の芯
出し機構の配置で満足すべき操作が可能となった。
本発明の実施例においては、上記した芯出し機構と同様
の解放用芯出し機構30a、30b 、、’、を、台6
上に載置される最も小なる寸法のハード乾板用の芯出し
機構、例えば4インチハード乾板が最も小なる寸法のも
のであるときは芯出し機構20a、20b。
20cの内方にすなわちそれよりも中心7により近い位
置に、1111Ilないし複数個設置する。これらのM
成用芯出し機構30a、、、は第4図、第5図に示した
芯出し機構と同様の原理で働くよう構成する。
第3図に戻り、ハード乾板の処理が終ると(そのときま
で機構30a 、、、は第5図(blに示す台G内に隠
れた状態にある)、前記したと同様に、すなわ、ち所定
のスイッチ(それにも認識符号が付けられている)を切
り替え、芯出し機構30a、、、を台6の上表面の上に
突出させる。それによってハード乾板は真空手段により
真空吸着された状態から解放され自由になる。次いで操
作者は自由になっ−たハード乾板を引き出せばよく、そ
のときハード乾板は台6から完全に離れているから、従
来例における如くハード乾板の裏面と台6の表面とがこ
すり合されハード乾板の裏面が傷付けられることが防止
されうる。
上記した解放用芯出し機構は1個ないし数個設置しうる
が、第3図に示す如く方形を構成する如く4個設置し、
または真空チャックの溝8の外側に3個等間隔に設置し
てもよい。
(7ン発明の効果 、 以上、詳細に説明したように、本発明の露光装置に
よるときは、フォトマスクリピータ−を用いるフォトマ
スク用のハード乾板の露光において、ハード乾板の位置
ぎめが容易に、かつ、正確になされうるだけでなく、露
光の終った後のハート乾板の取出しが真空吸着手段の影
響を受けることなく自由な状態でなされ、その際ハード
乾板の裏面が傷付けられることが防止されるので、半導
体装置の製造歩留りと、製造されるフォトマスクの信頼
性向上に効果大である。なお、上記においてはフォトマ
スクリピータ−におけるハード乾板の位置ぎめ、取出し
について説明したが、本発明適用範囲はその場合に限定
されるものでなく、ステッパーを用いるウェハの処理の
場合にも及ぶものであることはいうまでもない。更に、
本発明の適用範囲は図示し説明した配置に限定されるも
のではなく、その他の配置を用いる場合にも及ぶもので
ある。
【図面の簡単な説明】
第1図はフォトマスクリピータ−の概略断面図、第2図
は前記フォトマスクリピータ−の台の平面図、第3図は
本発明にかかる露光装置を備えたフォトマスクリピータ
−の台の平面図、第4図は第3図の露光装置の一部の断
面図、第5図(a)と(blは第4図の機構の芯出し機
構を詳細に示す断面図である。 5−ハード乾板、6一台(ステージ)、7一台6の中心
、8−溝、9−排気孔、11−気体流路、12−切替ス
イフチ、20a、20b−一芯出し機構、21−・−弁
部、22− ピン部、23−封止部、30a、30b 
−解放用芯出し機構

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)複数の気体通路と、該気体通路の圧力に応じて上
    下動する複数の位置決めピンを有する試料台を備え、該
    位置決めピンを複数の被露光乾板のサイズに対応して配
    置し、被露光乾板のサイズに応じて該気体通路の圧力を
    切り換え、該位置決めピンを選択的に該試料台上に突出
    させるようにしたことを特徴とする露光装置。
  2. (2)前記位置決めピンの1または数個は、最も小なる
    乾板のための位置決めピンよりは試料台の中心に近い位
    置に配置され、乾板の取出しの際に該試料台の表面の上
    に突出する構成としたことを特徴とする特許請求の範囲
    第1項記載の露光装置。
JP57228385A 1982-12-27 1982-12-27 露光装置 Granted JPS59119355A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP57228385A JPS59119355A (ja) 1982-12-27 1982-12-27 露光装置

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JP57228385A JPS59119355A (ja) 1982-12-27 1982-12-27 露光装置

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JPS59119355A true JPS59119355A (ja) 1984-07-10
JPH0355974B2 JPH0355974B2 (ja) 1991-08-27

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JP57228385A Granted JPS59119355A (ja) 1982-12-27 1982-12-27 露光装置

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JP7153357B2 (ja) 2016-11-08 2022-10-14 ウーディオ オサケユキチュア 圧縮物品、およびその製造方法
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