JPH05259023A - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
- Publication number
- JPH05259023A JPH05259023A JP5301792A JP5301792A JPH05259023A JP H05259023 A JPH05259023 A JP H05259023A JP 5301792 A JP5301792 A JP 5301792A JP 5301792 A JP5301792 A JP 5301792A JP H05259023 A JPH05259023 A JP H05259023A
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- Japan
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- chuck
- jig
- stage
- wafer
- cleaning
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Projection-Type Copiers In General (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 露光装置に関し、ウェーハを保持するチャッ
クの表面を自動的に洗浄することを目的とする。 【構成】 ステージ１に載置されたチャック２にウェー
ハ３を吸着し、該ウェーハ３の表面にレチクルパターン
を縮小投影露光する露光装置であって、洗浄治具４と、
再生治具５から構成されており、前記洗浄治具４は、チ
ャック２の表面を洗浄するものであり、前記再生治具５
は、洗浄治具４を再使用できるように洗浄するものであ
って、ステージ１にチャック２と面一に並べて載置され
ているものであり、洗浄治具４は、常に再生治具５によ
って洗浄されたあと、チャック２を洗浄するものである
ように構成する。
クの表面を自動的に洗浄することを目的とする。 【構成】 ステージ１に載置されたチャック２にウェー
ハ３を吸着し、該ウェーハ３の表面にレチクルパターン
を縮小投影露光する露光装置であって、洗浄治具４と、
再生治具５から構成されており、前記洗浄治具４は、チ
ャック２の表面を洗浄するものであり、前記再生治具５
は、洗浄治具４を再使用できるように洗浄するものであ
って、ステージ１にチャック２と面一に並べて載置され
ているものであり、洗浄治具４は、常に再生治具５によ
って洗浄されたあと、チャック２を洗浄するものである
ように構成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は露光装置に係わり、ウェ
ーハのチャックの表面を自動的に洗浄できる露光装置に
関する。
ーハのチャックの表面を自動的に洗浄できる露光装置に
関する。
【０００２】近年、半導体装置の高集積、高機能化に伴
い、素子を形成するパターンがますます微細になってい
る。それに伴い、微細パターンを形成するための各種微
細加工技術の開発が精力的に行われている。
い、素子を形成するパターンがますます微細になってい
る。それに伴い、微細パターンを形成するための各種微
細加工技術の開発が精力的に行われている。
【０００３】微細パターンを形成する技術には、一般に
ホトリソグラフィ（写真蝕刻法）と呼ばれているホトエ
ッチングを中核としたパターニング技術が最も活用され
ており、その要素技術の１つに露光技術がある。
ホトリソグラフィ（写真蝕刻法）と呼ばれているホトエ
ッチングを中核としたパターニング技術が最も活用され
ており、その要素技術の１つに露光技術がある。
【０００４】露光技術には、密着露光、近接露光、投影
露光などがある。その中で投影露光は、マスクパターン
とウェーハが完全に離れており、光学系によってマスク
パターンをウェーハ表面に焦点を合わせてパターンを形
成する特長が活かされて、微細で高密度のパターニング
の主力として用いられるようになってきている。
露光などがある。その中で投影露光は、マスクパターン
とウェーハが完全に離れており、光学系によってマスク
パターンをウェーハ表面に焦点を合わせてパターンを形
成する特長が活かされて、微細で高密度のパターニング
の主力として用いられるようになってきている。
【０００５】ところで、投影露光においては、マスクパ
ターンをウェーハの表面に焦点を合わせることが前提と
なるために、焦点合わせを如何に効率よく行うかが課題
の一つになっている。
ターンをウェーハの表面に焦点を合わせることが前提と
なるために、焦点合わせを如何に効率よく行うかが課題
の一つになっている。
【０００６】
【従来の技術】投影露光装置のパターン倍率は等倍と縮
小に分けられ、光学系にはレンズやミラーが用いられる
が、こゝでは光学系にレンズを用いた縮小投影露光装置
を採り上げている。
小に分けられ、光学系にはレンズやミラーが用いられる
が、こゝでは光学系にレンズを用いた縮小投影露光装置
を採り上げている。
【０００７】図３は従来の縮小投影露光装置の一例の構
成を示す斜視図である。図中、１はステージ、２はチャ
ック、３はウェーハ、６は光源、７はマスク、８は縮小
投影レンズ系、９はウェーハアライメント光学系、10は
縮小投影露光装置である。
成を示す斜視図である。図中、１はステージ、２はチャ
ック、３はウェーハ、６は光源、７はマスク、８は縮小
投影レンズ系、９はウェーハアライメント光学系、10は
縮小投影露光装置である。
【０００８】図３において、縮小投影露光装置10は、光
源６から出射してコンデンサレンズによって作られた平
行光線がマスク７を透過し、縮小投影レンズ系８で縮小
されてウェーハ３の表面に結像される露光装置である。
源６から出射してコンデンサレンズによって作られた平
行光線がマスク７を透過し、縮小投影レンズ系８で縮小
されてウェーハ３の表面に結像される露光装置である。
【０００９】縮小投影露光で用いられるマスク７は、原
寸よりも拡大されたマスクパターンが焼き付けられてお
り、レチクルと呼ばれている。そして、縮小率が１／２
のとき２倍レチクル、１／10のとき10倍レチクルなどと
呼ばれている。
寸よりも拡大されたマスクパターンが焼き付けられてお
り、レチクルと呼ばれている。そして、縮小率が１／２
のとき２倍レチクル、１／10のとき10倍レチクルなどと
呼ばれている。
【００１０】ウェーハ３は、例えば干渉計によって精密
に位置決めされるＸＹテーブルからなるステージ１に保
持されてＸＹ方向に粗動したり微動したりできるように
なっており、ウェーハ３の表面に縮小して焦点合わせさ
れた結像は、例えばウェーハアライメント光学系９によ
って、ウェーハ３のどの位置に露光するかを制御される
ようになっている。
に位置決めされるＸＹテーブルからなるステージ１に保
持されてＸＹ方向に粗動したり微動したりできるように
なっており、ウェーハ３の表面に縮小して焦点合わせさ
れた結像は、例えばウェーハアライメント光学系９によ
って、ウェーハ３のどの位置に露光するかを制御される
ようになっている。
【００１１】ウェーハ３をステージ１の上に保持するに
は、ステージ１に載置されたチャック２が用いられる。
このチャック２は、精密に平滑仕上げされた表面に、図
示してない真空排気系に連なる複数個の小さい孔が開口
した円盤からなる真空チャックである。そして、ウェー
ハ３は、チャック２の上に載せられて排気すれば大気圧
に押圧されて保持される。
は、ステージ１に載置されたチャック２が用いられる。
このチャック２は、精密に平滑仕上げされた表面に、図
示してない真空排気系に連なる複数個の小さい孔が開口
した円盤からなる真空チャックである。そして、ウェー
ハ３は、チャック２の上に載せられて排気すれば大気圧
に押圧されて保持される。
【００１２】ところで、縮小投影露光装置10において
は、ウェーハ３の表面に露光されるパターンは、例えば
１ショットとか４ステップといったモードでステップ・
アンド・リピートを行ってウェーハ３の上に順次露光さ
れるようになっている。
は、ウェーハ３の表面に露光されるパターンは、例えば
１ショットとか４ステップといったモードでステップ・
アンド・リピートを行ってウェーハ３の上に順次露光さ
れるようになっている。
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】このようなステップ・
アンド・リピートを行ってウェーハ３の全面に露光する
には、それぞれの露光の際の結像がウェーハ３の表面に
正確に焦点が合っていることが前提となっている。その
ためには、ウェーハ３が平滑に仕上げられたチャック２
の表面に一様に密接していることが望ましい。
アンド・リピートを行ってウェーハ３の全面に露光する
には、それぞれの露光の際の結像がウェーハ３の表面に
正確に焦点が合っていることが前提となっている。その
ためには、ウェーハ３が平滑に仕上げられたチャック２
の表面に一様に密接していることが望ましい。
【００１４】ところが、真空吸着用のチャック２の表面
には、吸引された塵埃などの異物が付着してしまうこと
が避けられず、この異物をチャック２の表面に挟んでウ
ェーハ３を吸着した場合には、チャック２の表面とウェ
ーハ３の一様な密接がなされない。そして、ウェーハ３
の表面に結像の焦点が合わなくなってしまうことが間々
起こる。
には、吸引された塵埃などの異物が付着してしまうこと
が避けられず、この異物をチャック２の表面に挟んでウ
ェーハ３を吸着した場合には、チャック２の表面とウェ
ーハ３の一様な密接がなされない。そして、ウェーハ３
の表面に結像の焦点が合わなくなってしまうことが間々
起こる。
【００１５】そのため、従来、異物が付着した都度、あ
るいは所定の周期ごと定期的に、例えば油砥石（オイル
ストーン）などを用いて手作業でチャック２の表面を洗
浄していた。しかし、この洗浄作業は狭い空間で熟練を
要する煩瑣な作業であるばかりでなく、手作業なのでチ
ャック２の表面に傷を付けてしまうことも間々生じてい
た。
るいは所定の周期ごと定期的に、例えば油砥石（オイル
ストーン）などを用いて手作業でチャック２の表面を洗
浄していた。しかし、この洗浄作業は狭い空間で熟練を
要する煩瑣な作業であるばかりでなく、手作業なのでチ
ャック２の表面に傷を付けてしまうことも間々生じてい
た。
【００１６】そこで本発明は、チャックの洗浄治具とそ
の洗浄治具を清浄にする再生治具を具え、自動的にチャ
ックの表面が洗浄できてなる露光装置を提供することを
目的としている。
の洗浄治具を清浄にする再生治具を具え、自動的にチャ
ックの表面が洗浄できてなる露光装置を提供することを
目的としている。
【００１７】
【課題を解決するための手段】上で述べた課題は、ステ
ージに載置されたチャックにウェーハを吸着し、該ウェ
ーハの表面にレチクルパターンを縮小投影露光する露光
装置であって、洗浄治具と、再生治具を有し、前記洗浄
治具は、チャックの表面を洗浄するものであり、前記再
生治具は、前記洗浄治具を再使用できるように洗浄する
ものであって、ステージにチャックと面一に並べて載置
されているものであり、前記洗浄治具は、常に再生治具
によって洗浄されたあと、チャックを洗浄するものであ
るように構成された露光装置によって解決される。
ージに載置されたチャックにウェーハを吸着し、該ウェ
ーハの表面にレチクルパターンを縮小投影露光する露光
装置であって、洗浄治具と、再生治具を有し、前記洗浄
治具は、チャックの表面を洗浄するものであり、前記再
生治具は、前記洗浄治具を再使用できるように洗浄する
ものであって、ステージにチャックと面一に並べて載置
されているものであり、前記洗浄治具は、常に再生治具
によって洗浄されたあと、チャックを洗浄するものであ
るように構成された露光装置によって解決される。
【００１８】
【作用】従来の縮小投影露光装置においては、煩瑣な手
作業で行っていたウェーハチャックの表面の洗浄を、本
発明においては、洗浄治具と再生治具を用いて手作業に
頼らずに行うにしている。
作業で行っていたウェーハチャックの表面の洗浄を、本
発明においては、洗浄治具と再生治具を用いて手作業に
頼らずに行うにしている。
【００１９】すなわち、チャックの表面は洗浄治具によ
って洗浄するようにしている。また、洗浄治具の汚れは
再生治具によって洗浄し、再使用できるようにしてい
る。さらに、再生治具はステージにチャックと面一に並
べて載置するようにし、１回の洗浄動作によって、洗浄
治具が常に再生治具によって洗浄されたあと、チャック
を洗浄するようにしている。
って洗浄するようにしている。また、洗浄治具の汚れは
再生治具によって洗浄し、再使用できるようにしてい
る。さらに、再生治具はステージにチャックと面一に並
べて載置するようにし、１回の洗浄動作によって、洗浄
治具が常に再生治具によって洗浄されたあと、チャック
を洗浄するようにしている。
【００２０】こうすると、所定の周期で自動的に、ある
いはチャックに異物が付着した際には適宜手動によって
洗浄動作を起動し、手作業に頼らずにチャックの表面の
洗浄を行うことができる。
いはチャックに異物が付着した際には適宜手動によって
洗浄動作を起動し、手作業に頼らずにチャックの表面の
洗浄を行うことができる。
【００２１】
【実施例】図１は本発明の一実施例の要部の斜視図、図
２は本発明の他の実施例の要部の斜視図である。図にお
いて、１はステージ、２はチャック、３はウェーハ、４
は洗浄治具、５は再生治具、10は縮小投影露光装置であ
る。
２は本発明の他の実施例の要部の斜視図である。図にお
いて、１はステージ、２はチャック、３はウェーハ、４
は洗浄治具、５は再生治具、10は縮小投影露光装置であ
る。
【００２２】実施例：１ 図１において、ステージ１はＸＹテーブルからなり、例
えば上側のＸステージにウェーハ３を真空吸着するチャ
ック２が載置されている。
えば上側のＸステージにウェーハ３を真空吸着するチャ
ック２が載置されている。
【００２３】洗浄治具４は、例えば油砥石などから構成
されており、ステージ１が下方を通過する際に、平滑に
仕上げられた下面がチャック２の表面と平行に当接する
ように固定されている。
されており、ステージ１が下方を通過する際に、平滑に
仕上げられた下面がチャック２の表面と平行に当接する
ように固定されている。
【００２４】再生治具５は、例えば不織布のような塵埃
の発生しない素材からなり、ステージ１の移動方向に並
設されている。そして、表面がチャック２と面一になっ
ており、ステージ１が洗浄治具４の下方を通過する際
に、洗浄治具４の表面を扱いて洗浄するようになってい
る。チャック２の洗浄が終わったら、ステージ１は元の
位置に戻る。
の発生しない素材からなり、ステージ１の移動方向に並
設されている。そして、表面がチャック２と面一になっ
ており、ステージ１が洗浄治具４の下方を通過する際
に、洗浄治具４の表面を扱いて洗浄するようになってい
る。チャック２の洗浄が終わったら、ステージ１は元の
位置に戻る。
【００２５】こうして構成された縮小投影露光装置10
は、所定の露光回数が終わったら自動的にステージ１が
動いて洗浄治具４によってチャック２の表面を清浄にす
ることができる。また、チャック２に異物が付着した際
には手動によって起動させてチャック２の表面を清浄に
することもできる。そして、洗浄治具４がチャック２の
表面に到達する前には必ず再生治具５の上を通過し、再
使用できるように洗浄治具４が洗浄されるようになって
いる。
は、所定の露光回数が終わったら自動的にステージ１が
動いて洗浄治具４によってチャック２の表面を清浄にす
ることができる。また、チャック２に異物が付着した際
には手動によって起動させてチャック２の表面を清浄に
することもできる。そして、洗浄治具４がチャック２の
表面に到達する前には必ず再生治具５の上を通過し、再
使用できるように洗浄治具４が洗浄されるようになって
いる。
【００２６】実施例：２ 図２において、洗浄治具４がステージ１の上を平行に移
動できるようになっている。そして、再生治具５の上に
通過する際に、再生治具５の表面を扱いて再使用できる
ように洗浄される。そのあとチャック２の上を通過する
際に、チャック２の表面を洗浄するようになっている。
チャック２の洗浄が終わったら、再び再生治具５の上を
通過して元の位置に戻る。
動できるようになっている。そして、再生治具５の上に
通過する際に、再生治具５の表面を扱いて再使用できる
ように洗浄される。そのあとチャック２の上を通過する
際に、チャック２の表面を洗浄するようになっている。
チャック２の洗浄が終わったら、再び再生治具５の上を
通過して元の位置に戻る。
【００２７】こうして構成された縮小投影露光装置10
は、所定の露光回数が終わったら自動的に洗浄治具４が
動いてチャック２の表面を清浄にすることができる。ま
た、チャック２に異物が付着した際には手動によって起
動させてチャック２の表面を清浄にすることもできる。
そして、実施例１と同様に、洗浄治具４がチャック２の
表面に到達する前には必ず再生治具５の上を通過し、再
使用できるように洗浄治具４が洗浄されるようになって
いる。
は、所定の露光回数が終わったら自動的に洗浄治具４が
動いてチャック２の表面を清浄にすることができる。ま
た、チャック２に異物が付着した際には手動によって起
動させてチャック２の表面を清浄にすることもできる。
そして、実施例１と同様に、洗浄治具４がチャック２の
表面に到達する前には必ず再生治具５の上を通過し、再
使用できるように洗浄治具４が洗浄されるようになって
いる。
【００２８】
【発明の効果】縮小投影露光においては、ウェーハがチ
ャックに密接していることが必要であるが、本発明によ
れば、自動的に、あるいは適宜手動によってチャックの
表面に付着した異物を除去することができる。従って、
従来のような煩瑣な手作業を無くし、手作業に起因する
チャック表面の損傷を防ぐことができる。
ャックに密接していることが必要であるが、本発明によ
れば、自動的に、あるいは適宜手動によってチャックの
表面に付着した異物を除去することができる。従って、
従来のような煩瑣な手作業を無くし、手作業に起因する
チャック表面の損傷を防ぐことができる。
【００２９】その結果、常にウェーハをチャックに安定
に密接して保持することができるようになり、特に半導
体装置の微細パターン化に対応して、今後ますます多用
される傾向にある縮小投影露光装置の生産性向上に対し
て、本発明は寄与するところが大である。
に密接して保持することができるようになり、特に半導
体装置の微細パターン化に対応して、今後ますます多用
される傾向にある縮小投影露光装置の生産性向上に対し
て、本発明は寄与するところが大である。
【図１】 本発明の一実施例の要部の斜視図である。
【図２】 本発明の他の実施例の要部の斜視図である。
【図３】 従来の縮小投影露光装置の一例の構成を示す
斜視図である。
斜視図である。
【符号の説明】 １ ステージ ２ チャック ３ ウェーハ ４ 洗浄治具 ５ 再生治具 10 縮小投影露光
装置
装置
Claims (3)
- 【請求項１】 ステージ(1) に載置されたチャック(2)
にウェーハ(3) を吸着し、該ウェーハ(3) の表面にレチ
クルパターンを縮小投影露光する露光装置であって、洗
浄治具(4) と、再生治具(5) を有し、 前記洗浄治具(4) は、前記チャック(2) の表面を洗浄す
るものであり、 前記再生治具(5) は、前記洗浄治具(4) を再使用できる
ように洗浄するものであって、前記ステージ(1) に前記
チャック(2) と面一に並べて載置されているものであ
り、 前記洗浄治具(4) は、常に前記再生治具(5) によって洗
浄されたあと、前記チャック(2) を洗浄するものである
ことを特徴とする露光装置。 - 【請求項２】 前記洗浄治具(4) は、固定して配設され
ており、前記ステージ(1) が下方を通過する際に、前記
チャック(2) の表面を洗浄する請求項１記載の露光装
置。 - 【請求項３】 前記洗浄治具(4) は、移動可能に配設さ
れており、前記ステージ(1) の上方を通過する際に、前
記チャック(2) の表面を洗浄する請求項１記載の露光装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5301792A JPH05259023A (ja) | 1992-03-12 | 1992-03-12 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5301792A JPH05259023A (ja) | 1992-03-12 | 1992-03-12 | 露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05259023A true JPH05259023A (ja) | 1993-10-08 |
Family
ID=12931135
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5301792A Withdrawn JPH05259023A (ja) | 1992-03-12 | 1992-03-12 | 露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05259023A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10223740A (ja) * | 1997-01-31 | 1998-08-21 | Motorola Inc | チャック洗浄を用いて基板上の粒子を減少させる方法 |
| JP2008298870A (ja) * | 2007-05-29 | 2008-12-11 | Orc Mfg Co Ltd | 描画装置 |
-
1992
- 1992-03-12 JP JP5301792A patent/JPH05259023A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10223740A (ja) * | 1997-01-31 | 1998-08-21 | Motorola Inc | チャック洗浄を用いて基板上の粒子を減少させる方法 |
| JP2008298870A (ja) * | 2007-05-29 | 2008-12-11 | Orc Mfg Co Ltd | 描画装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19990518 |