JPS59105643A - カラ−写真記録材料 - Google Patents
カラ−写真記録材料Info
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- JPS59105643A JPS59105643A JP58220862A JP22086283A JPS59105643A JP S59105643 A JPS59105643 A JP S59105643A JP 58220862 A JP58220862 A JP 58220862A JP 22086283 A JP22086283 A JP 22086283A JP S59105643 A JPS59105643 A JP S59105643A
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- JP
- Japan
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- formula
- alkyl
- group
- hydrogen
- phenyl
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- Pending
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D401/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom
- C07D401/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom containing two hetero rings
- C07D401/12—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom containing two hetero rings linked by a chain containing hetero atoms as chain links
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D401/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom
- C07D401/14—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom containing three or more hetero rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D491/00—Heterocyclic compounds containing in the condensed ring system both one or more rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms and one or more rings having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by groups C07D451/00 - C07D459/00, C07D463/00, C07D477/00 or C07D489/00
- C07D491/02—Heterocyclic compounds containing in the condensed ring system both one or more rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms and one or more rings having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by groups C07D451/00 - C07D459/00, C07D463/00, C07D477/00 or C07D489/00 in which the condensed system contains two hetero rings
- C07D491/10—Spiro-condensed systems
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C7/00—Multicolour photographic processes or agents therefor; Regeneration of such processing agents; Photosensitive materials for multicolour processes
- G03C7/30—Colour processes using colour-coupling substances; Materials therefor; Preparing or processing such materials
- G03C7/392—Additives
- G03C7/39208—Organic compounds
- G03C7/3924—Heterocyclic
- G03C7/39244—Heterocyclic the nucleus containing only nitrogen as hetero atoms
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/162—Protective or antiabrasion layer
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、少くとも一つの感光性ハロゲン化釧乳剤層お
よび／捷たけ少くとも一つの普通の補助層の中に、安定
剤として特定の複累環式化合物を含むカラー写真記録材
料（Ａｗｆｚｅｉｃｈｗｎｇｓｍａｔｔｒｉａｌ）に関
する。これらの化合物では、分子中に立体障害を受けた
フェノール基およびポリアルキルピペリジン基を含むイ
ンシアヌール酸誘導体かバルビッール酸誘導体である。
よび／捷たけ少くとも一つの普通の補助層の中に、安定
剤として特定の複累環式化合物を含むカラー写真記録材
料（Ａｗｆｚｅｉｃｈｗｎｇｓｍａｔｔｒｉａｌ）に関
する。これらの化合物では、分子中に立体障害を受けた
フェノール基およびポリアルキルピペリジン基を含むイ
ンシアヌール酸誘導体かバルビッール酸誘導体である。
Ｅｐ−Ａ１１０５１ から、立体障害を受けたフェノー
ルとポリアルキルピペリジンとを併有し、かつカラー写
真材料の安定剤として利用できるが、この際ヒドロキシ
ベンジルマロン酸のポリアルキルピペリジニルエステル
が関係している。本研究を更に進めたところ、立体障害
を受けたフェノール基とピペリジン基とを含む成る種の
複素環式化合物が同様にカラー写真に対して著るしい光
安定作用を有し、その上暗所においても記録材料を貯蔵
する際の色素の変化に対して安定させる作用を有するこ
とが判った。
ルとポリアルキルピペリジンとを併有し、かつカラー写
真材料の安定剤として利用できるが、この際ヒドロキシ
ベンジルマロン酸のポリアルキルピペリジニルエステル
が関係している。本研究を更に進めたところ、立体障害
を受けたフェノール基とピペリジン基とを含む成る種の
複素環式化合物が同様にカラー写真に対して著るしい光
安定作用を有し、その上暗所においても記録材料を貯蔵
する際の色素の変化に対して安定させる作用を有するこ
とが判った。
それ数本発明の対象となるのは、少くとも一つの、感光
性ノ・ロゲン化欽の乳剤層、中間層、受像層および／ま
たは保護膜において、安定剤として少くとも一つの（Ｉ
）式の化合物をきむカラー写真記録材料である。
性ノ・ロゲン化欽の乳剤層、中間層、受像層および／ま
たは保護膜において、安定剤として少くとも一つの（Ｉ
）式の化合物をきむカラー写真記録材料である。
わし、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は−価のＭ機
基で、その中、少くとも一つは立体障害を受けたフェノ
ール基を含み、かつ、少くとも一つはポリアルキルピペ
リジン基を有している。
基で、その中、少くとも一つは立体障害を受けたフェノ
ール基を含み、かつ、少くとも一つはポリアルキルピペ
リジン基を有している。
このような安定剤は、特に（Ｉ）式の如き化合物である
。この式において、Ｘは−Ｎ（Ｒ３）−基または一伐Ｒ
４）（Ｒ５）−基を表わし、またＲ１、Ｒ２、おかびＲ
３は、互いに独立して、下記のα）、ｂ）またはＣ）を
示す。
。この式において、Ｘは−Ｎ（Ｒ３）−基または一伐Ｒ
４）（Ｒ５）−基を表わし、またＲ１、Ｒ２、おかびＲ
３は、互いに独立して、下記のα）、ｂ）またはＣ）を
示す。
、） （［）式の基
６
上式において Ｒ６は水素、Ｃ７〜Ｃ８アルキル、Ｃ１
〜Ｃ８シクロアルキル、０７〜Ｃ，フェニルアルキル、
フェニル、または０７〜Ｃ１０アルキルフェニルヲ表わ
し、 Ｒ７はＣ，〜Ｃ８アルキル、Ｃ６〜Ｃ８シクロアルキノ
ジ、Ｃ７〜Ｃ９フエニルアルキル、フェニルマタハＣ７
〜Ｃ０゜アルキルフェニルを表わし、 Ｒは水素またはメチルである。
〜Ｃ８シクロアルキル、０７〜Ｃ，フェニルアルキル、
フェニル、または０７〜Ｃ１０アルキルフェニルヲ表わ
し、 Ｒ７はＣ，〜Ｃ８アルキル、Ｃ６〜Ｃ８シクロアルキノ
ジ、Ｃ７〜Ｃ９フエニルアルキル、フェニルマタハＣ７
〜Ｃ０゜アルキルフェニルを表わし、 Ｒは水素またはメチルである。
ｂ）下記の（ホ）式もしくはｎ式の基
−Ｃ，，Ｈ２ｍ−Ｃｏ−Ｙ−Ｄ
ｌｕｌｌ）−Ｃ１ｒｊＨ２ｍ−Ｃｏ−０−ＣｎＨ２ｎ
−Ｅ ＧＶ）上式においてｍは１〜４
であシ；ｎは２〜５であυ； アルキルアミノアルキル、捷たは下記の如き構造を有す
る基を表わす。
ｌｕｌｌ）−Ｃ１ｒｊＨ２ｍ−Ｃｏ−０−ＣｎＨ２ｎ
−Ｅ ＧＶ）上式においてｍは１〜４
であシ；ｎは２〜５であυ； アルキルアミノアルキル、捷たは下記の如き構造を有す
る基を表わす。
１１
１０
（但しｐは２〜１２）
或いはＲ９はＤに等しく、Ｄはヴ）、（ロ）または（至
）式の基である であシ； Ｅは（ホ）式の基である。
）式の基である であシ； Ｅは（ホ）式の基である。
上式においてＲは水素またはメチルであり；Ｒ１０はヒ
ドロキシル、０１〜ＣＸ□アルキル、ｃ、−ｃ、アルケ
ニル、０３〜Ｃ，アルキニル、Ｃ７〜Ｃ１２フエニルア
ルキル、グリシジル、ハロゲン、−ＣＮ。
ドロキシル、０１〜ＣＸ□アルキル、ｃ、−ｃ、アルケ
ニル、０３〜Ｃ，アルキニル、Ｃ７〜Ｃ１２フエニルア
ルキル、グリシジル、ハロゲン、−ＣＮ。
−ＣＯＯＲ”または−ＣＯＮ（Ｒ”）（Ｒ１７）で置換
された０１〜Ｃ，アルキル、或いは−ＣＯ−Ｒ１８、−
ＣＯ−ＯＲ１４、−ｃｏ−ｇｍ６） （Ｒ１７）、＝
ＣＨ，、−ｃＩｔ（Ｒ１９）−０Ｒ２０、−８ｏ−Ｒ”
、−８ｏ２−Ｒ２之ｏＲ，＋ ５または一００Ｃ−Ｒ１
８基を表わし；Ｒはメチルまたはエチルを表わし； Ｒは水素、−ＯＲ、−００Ｃ−Ｒｔ７’ｃ［−Ｎ（Ｒ９
）−Ｃ０−Ｒ′８ であり； Ｒ１３ハ水素、−ＣＮ 、 −Ｃ００Ｒ１５ｔ ７’（
は−ＣＯＮＨ，を表わすか、或いは Ｒ１２とＲ１３が一緒になって下式の基を形成しＲ１５
ハＣ８〜Ｃ１□アルキル、アリル、ベンジルマタハシク
ロヘキシルヲ表わし、 Ｒハ、ｃ、〜Ｃ０２アルキル、アリル、シクロヘキシル
ベンジルまたはフェニルを表わし； Ｒは水素またはＣ７〜ｃ８アルキルを表わすが、或いは
Ｒ１６とＲＩ ７が、Ｎ原子と一緒になって、５員また
は６員の複素環を形成し： Ｒ（ｒｉ水素、ｃｌ〜ｃ、２アルキル、Ｃ２〜Ｃ６アル
ケニル、クロロメチル、ｃ、〜ｃＩ２シクロアルキル、
Ｃ７〜Ｃ１２フエニルアルキル、フェニル、ｃ７〜ｃ１
０アルキルフェニル、或いは１乃至２個のＣ１〜Ｃ。
された０１〜Ｃ，アルキル、或いは−ＣＯ−Ｒ１８、−
ＣＯ−ＯＲ１４、−ｃｏ−ｇｍ６） （Ｒ１７）、＝
ＣＨ，、−ｃＩｔ（Ｒ１９）−０Ｒ２０、−８ｏ−Ｒ”
、−８ｏ２−Ｒ２之ｏＲ，＋ ５または一００Ｃ−Ｒ１
８基を表わし；Ｒはメチルまたはエチルを表わし； Ｒは水素、−ＯＲ、−００Ｃ−Ｒｔ７’ｃ［−Ｎ（Ｒ９
）−Ｃ０−Ｒ′８ であり； Ｒ１３ハ水素、−ＣＮ 、 −Ｃ００Ｒ１５ｔ ７’（
は−ＣＯＮＨ，を表わすか、或いは Ｒ１２とＲ１３が一緒になって下式の基を形成しＲ１５
ハＣ８〜Ｃ１□アルキル、アリル、ベンジルマタハシク
ロヘキシルヲ表わし、 Ｒハ、ｃ、〜Ｃ０２アルキル、アリル、シクロヘキシル
ベンジルまたはフェニルを表わし； Ｒは水素またはＣ７〜ｃ８アルキルを表わすが、或いは
Ｒ１６とＲＩ ７が、Ｎ原子と一緒になって、５員また
は６員の複素環を形成し： Ｒ（ｒｉ水素、ｃｌ〜ｃ、２アルキル、Ｃ２〜Ｃ６アル
ケニル、クロロメチル、ｃ、〜ｃＩ２シクロアルキル、
Ｃ７〜Ｃ１２フエニルアルキル、フェニル、ｃ７〜ｃ１
０アルキルフェニル、或いは１乃至２個のＣ１〜Ｃ。
アルキル基および水酸基で置換さｈ タフェニル、フェ
ニルメチルまたはフェニルエチルであシ：Ｒは水素、Ｃ
１〜Ｃ，アルキル、Ｃ２〜Ｃ，３アルコキシメチル、フ
ェニルまたはフェノキシメチルであり； Ｒｉ水素、Ｃ１〜ＣＩ２アルキル、−Ｃｏ−Ｒ１８’ｌ
： タＵ−ｃｏ−Ｎ（＃’）（Ｒ７） テ９ 、ｌｐ
；ＲはＣ１〜Ｃ１゜アルキル、フェニル゛またハ０７〜
ｃ１８アルキルアリールであり： Ｒｉｄ水素、Ｃ，〜ｃ１２アルキル、アリルまｆｃ ｔ
ｄベンジルであり； Ｒは水素、メチル捷たはエチルであシ：Ｒ２４とＲ２４
ｍ、互いに独立して、水素またはＣ１〜ｃ４アルキルを
表わし； Ｒ２５は水素、Ｃ１〜Ｃ１，ア／ｌ／ キル、Ｃ，−Ｃ
５］／Ｌｌ−＝ルマ７’ｉ［：Ｃ７〜Ｃ１２フエニルア
ルキルであす；Ｒ２ｇは水素、Ｃ１〜ＣＩ２アルキル、
ｃ３〜ｃ８シクロアルキルまたはベンジルであシ、； ＲハＣ，〜Ｃ１□アルキル、ｃ、〜ｃ８シクロアルキル
またはフェニルであるか、或いは、Ｃ原子と結合してい
るＲ２６ とＲ２７がこれと一緒になって、ｃ。
ニルメチルまたはフェニルエチルであシ：Ｒは水素、Ｃ
１〜Ｃ，アルキル、Ｃ２〜Ｃ，３アルコキシメチル、フ
ェニルまたはフェノキシメチルであり； Ｒｉ水素、Ｃ１〜ＣＩ２アルキル、−Ｃｏ−Ｒ１８’ｌ
： タＵ−ｃｏ−Ｎ（＃’）（Ｒ７） テ９ 、ｌｐ
；ＲはＣ１〜Ｃ１゜アルキル、フェニル゛またハ０７〜
ｃ１８アルキルアリールであり： Ｒｉｄ水素、Ｃ，〜ｃ１２アルキル、アリルまｆｃ ｔ
ｄベンジルであり； Ｒは水素、メチル捷たはエチルであシ：Ｒ２４とＲ２４
ｍ、互いに独立して、水素またはＣ１〜ｃ４アルキルを
表わし； Ｒ２５は水素、Ｃ１〜Ｃ１，ア／ｌ／ キル、Ｃ，−Ｃ
５］／Ｌｌ−＝ルマ７’ｉ［：Ｃ７〜Ｃ１２フエニルア
ルキルであす；Ｒ２ｇは水素、Ｃ１〜ＣＩ２アルキル、
ｃ３〜ｃ８シクロアルキルまたはベンジルであシ、； ＲハＣ，〜Ｃ１□アルキル、ｃ、〜ｃ８シクロアルキル
またはフェニルであるか、或いは、Ｃ原子と結合してい
るＲ２６ とＲ２７がこれと一緒になって、ｃ。
〜Ｃ１２シタロアルカンｉ ｆｃ ハＣ，〜ｃ、２アル
キルシクロアルカン猿ヲ形成している。
キルシクロアルカン猿ヲ形成している。
Ｃ）水素、Ｃ，〜Ｃ，８７ル＃ ／ｌ／、Ｃ３〜Ｃ６ア
ルケニル、Ｃ２〜Ｃ１□フエニルアルキル、Ｃ３〜ｃ、
２アルコキシアルキルｔ＊：はＣ３〜ｃ１４アルコキシ
カルボニルアルキルでめる。
ルケニル、Ｃ２〜Ｃ１□フエニルアルキル、Ｃ３〜ｃ、
２アルコキシアルキルｔ＊：はＣ３〜ｃ１４アルコキシ
カルボニルアルキルでめる。
さらに、上記式中、
Ｒ’ は水素、０１〜ＣＩ８アルキル、ｃ、〜Ｃ，シク
ロアルキノペまたは（ＩＩ）式の基、１０式もしくは（
５）式の基、捷たけ−ＣＪ（、、ｍ−Ｃｏｏ （Ｃ，〜
Ｃ，７Ａ／キ／ｌ／）基ヲａｂし： Ｒ５は水素、ｃ、〜ｃ１８アルキル、ｃ、〜ｃ８シクロ
アルキル、フェニル、０７〜ｃ９フエニルアルキル、（
ＩＩ）式の基、（２）式もしくは弼式の基、または（ト
）式の基を表わす。
ロアルキノペまたは（ＩＩ）式の基、１０式もしくは（
５）式の基、捷たけ−ＣＪ（、、ｍ−Ｃｏｏ （Ｃ，〜
Ｃ，７Ａ／キ／ｌ／）基ヲａｂし： Ｒ５は水素、ｃ、〜ｃ１８アルキル、ｃ、〜ｃ８シクロ
アルキル、フェニル、０７〜ｃ９フエニルアルキル、（
ＩＩ）式の基、（２）式もしくは弼式の基、または（ト
）式の基を表わす。
この場合、残基Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５のうち、
少くとも−っは立体障害を受けたフェノール基を有し、
また少くとも一つはポリアルキルピペリジン基を有する
。
少くとも−っは立体障害を受けたフェノール基を有し、
また少くとも一つはポリアルキルピペリジン基を有する
。
コレラノ式中、Ｒ１９、Ｒ２４オヨヒＲ２４ａハ、サラ
に、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル
、ｎ−ブチル、第ニブチルまたは第三ブチルのようなＣ
１〜Ｃ，アルキルであっテモよい。
に、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル
、ｎ−ブチル、第ニブチルまたは第三ブチルのようなＣ
１〜Ｃ，アルキルであっテモよい。
Ｒ６、Ｒ７オよびＲは、ｃ、〜ｃ８アルキルとして、例
えば、イソアミル、ｎ−ヘキシノペ ２−エチルブチル
、ｎ−オクチルまたは１．１，３．３−テトラメチルブ
チルであってもよい。
えば、イソアミル、ｎ−ヘキシノペ ２−エチルブチル
、ｎ−オクチルまたは１．１，３．３−テトラメチルブ
チルであってもよい。
Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１８、Ｒ２ｏ、Ｒ２
２、Ｒ２５およびＲは、さらに、Ｃ１〜Ｃ３，アルキル
として、例えば、ノニル、デシルまたはドデシルであっ
てもよい。Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ’オ、１：びＲ５は、
Ｃ，〜Ｃ，８７／ｌ／キルとして、さらに、例えば、テ
トラデシル、ヘキサデシル謙たはオクタデシルであって
もよい。
２、Ｒ２５およびＲは、さらに、Ｃ１〜Ｃ３，アルキル
として、例えば、ノニル、デシルまたはドデシルであっ
てもよい。Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ’オ、１：びＲ５は、
Ｃ，〜Ｃ，８７／ｌ／キルとして、さらに、例えば、テ
トラデシル、ヘキサデシル謙たはオクタデシルであって
もよい。
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＩ尤９は、Ｃ８〜ｃ１□アルコ
キシアルキルとして、例えば、２−メトキシエチル、２
−エトキシエチル、２−インプロポキシエチル、３−メ
トキシプロピル、２−ブトキシエチル、２−ブトキシプ
ロピルまたは２−へキシルオキシエチルであってもよい
。ＲＩ ９は、ｃ２〜ｃ１３アルコキシメチルとして、
例えば、メトキシ−、エトキシ−、ブトキシ−１２−エ
チルブチルオキシ−、ヘキシルオキシ−またはドデシル
オキシメチルであってもよい。
キシアルキルとして、例えば、２−メトキシエチル、２
−エトキシエチル、２−インプロポキシエチル、３−メ
トキシプロピル、２−ブトキシエチル、２−ブトキシプ
ロピルまたは２−へキシルオキシエチルであってもよい
。ＲＩ ９は、ｃ２〜ｃ１３アルコキシメチルとして、
例えば、メトキシ−、エトキシ−、ブトキシ−１２−エ
チルブチルオキシ−、ヘキシルオキシ−またはドデシル
オキシメチルであってもよい。
Ｒ９は、Ｃ４〜ＣＩ２ジアルキルアミノアルキルとして
、例えば、２−ジメチルアミノエチル、３−ジエチルア
ミノプロピル、２−ジメチルアミノエチルまたは３−ジ
ブチルアミノプロビルであってもよい。
、例えば、２−ジメチルアミノエチル、３−ジエチルア
ミノプロピル、２−ジメチルアミノエチルまたは３−ジ
ブチルアミノプロビルであってもよい。
Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、Ｃ３〜Ｃ１，アルコキシカル
ボニルアルキルとして、例えば、アルコキシカルボニル
メチル、２−アルコキシカルボニルエチルまたは２−ア
ルコキシカルボニルエチルであってもよい。
ボニルアルキルとして、例えば、アルコキシカルボニル
メチル、２−アルコキシカルボニルエチルまたは２−ア
ルコキシカルボニルエチルであってもよい。
ＲＸＲＸＲ，ＲＸＲおよびＲは、ｃ、〜ｃ６アルケニル
として、特に、例えば、アリル、メタリル、３−メチル
アリルまたは３，３−ジメチルアリルのようなＣ２〜Ｃ
，アルケニルメチルであってもよい。Ｒは、Ｃ３〜Ｃ，
アルキニルとして、例えば、フ、 ｏ、 ハ／ｌ／ キ
／Ｉ／ ｉたは３−メチルプロパルキルテあってもよい
。
として、特に、例えば、アリル、メタリル、３−メチル
アリルまたは３，３−ジメチルアリルのようなＣ２〜Ｃ
，アルケニルメチルであってもよい。Ｒは、Ｃ３〜Ｃ，
アルキニルとして、例えば、フ、 ｏ、 ハ／ｌ／ キ
／Ｉ／ ｉたは３−メチルプロパルキルテあってもよい
。
Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ２６およびＲは、ｃ、〜ｃ
８シクロアルキルとして、例えば、シクロペンチル、シ
クロヘキシル、メチルシクロヘキシル、ジメチルシクロ
ヘキシル、シクロへブチルまたはシクロオクチルであっ
てもよい。Ｒ９およびＲは、Ｃ，〜ｃＩ２シクロアルキ
ルとして、さらに、例えば、シクロデシルまたはシクロ
ドデシルであってもよい。
８シクロアルキルとして、例えば、シクロペンチル、シ
クロヘキシル、メチルシクロヘキシル、ジメチルシクロ
ヘキシル、シクロへブチルまたはシクロオクチルであっ
てもよい。Ｒ９およびＲは、Ｃ，〜ｃＩ２シクロアルキ
ルとして、さらに、例えば、シクロデシルまたはシクロ
ドデシルであってもよい。
Ｃ−ｉ子と結合しているＲ２６およびＲがこれ入−緒に
なって、シクロアルカンまたはアルキルシクロアルカン
環を作る場合は、この環は、例えば、シクロペンタン−
、シクロドデカン環、メチルシクロヘキサン−、ジメチ
ルシクロヘキサン−、シクロへブタン−、シクロオクタ
ン−址たはシクロドデカン環であってもよい。
なって、シクロアルカンまたはアルキルシクロアルカン
環を作る場合は、この環は、例えば、シクロペンタン−
、シクロドデカン環、メチルシクロヘキサン−、ジメチ
ルシクロヘキサン−、シクロへブタン−、シクロオクタ
ン−址たはシクロドデカン環であってもよい。
ｔ１Ｒ６およびＲ７は、Ｃ７〜Ｃ９フエニルアルキルと
しテ、例エバ、ベンジル、２−フェニルエチル、３−フ
ェニルプロピルまたは１−フェニルインプロビルであっ
てもよい。Ｒ１Ｒ，Ｒ，ＲＸ ＲおよびＲは、Ｃ７〜Ｃ
Ｉ２フエニルアルキルとして、さらに、例えば、３−フ
ェニルブチルまたは６−フェニルヘキシルであってもよ
い。
しテ、例エバ、ベンジル、２−フェニルエチル、３−フ
ェニルプロピルまたは１−フェニルインプロビルであっ
てもよい。Ｒ１Ｒ，Ｒ，ＲＸ ＲおよびＲは、Ｃ７〜Ｃ
Ｉ２フエニルアルキルとして、さらに、例えば、３−フ
ェニルブチルまたは６−フェニルヘキシルであってもよ
い。
Ｒ，ＲおよびＲ１８は、Ｃ７〜ＣＩ。アルキルフェニル
として、例えば、トリル、キシリル、エチルフェニル、
イソプロピルフェニルまたは第三ブチルフェニルであっ
てもよい。Ｒ２１は、Ｃ７〜Ｃｔｉ＋アルキルアリール
として、さらに、例えば、メチルナフチル、ブチルナフ
チル、ノニルフェニルまたはドデシルフェニルであって
もよい。
として、例えば、トリル、キシリル、エチルフェニル、
イソプロピルフェニルまたは第三ブチルフェニルであっ
てもよい。Ｒ２１は、Ｃ７〜Ｃｔｉ＋アルキルアリール
として、さらに、例えば、メチルナフチル、ブチルナフ
チル、ノニルフェニルまたはドデシルフェニルであって
もよい。
Ｎ−原子と結合しているＲ１６およびＲは、場合によっ
ては、これと−緒になって５員寸たは６員の複素環を形
成することも有シ得る。この環は、例えば、ピロリジン
−、ピペリジン−、モルホリン−廿たは４−メチルビペ
ラジン環である。
ては、これと−緒になって５員寸たは６員の複素環を形
成することも有シ得る。この環は、例えば、ピロリジン
−、ピペリジン−、モルホリン−廿たは４−メチルビペ
ラジン環である。
（ｎ）式のフェノール性残基において、水酸基は、ＣＨ
２基に対してメタでもパラの位置でもよいが、パラ位の
方が奸才しい。ＣＨ２基が水酸基に対してパラ位にある
場合には、Ｒは水酸基に対してメタ位と々るが、ＣＨ２
基がメタ位にある場合には、Ｒ８は水酸基に対してパラ
位となる。
２基に対してメタでもパラの位置でもよいが、パラ位の
方が奸才しい。ＣＨ２基が水酸基に対してパラ位にある
場合には、Ｒは水酸基に対してメタ位と々るが、ＣＨ２
基がメタ位にある場合には、Ｒ８は水酸基に対してパラ
位となる。
（Ｉ）式の安定剤の中で好ましいものは、この式におい
て、Ｘが−Ｎ（Ｒ３）−塘たは−Ｃ（Ｒ’χＲ５）−基
を表わし、残基Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５の中
少くとも一つが立体障害を受けたフェノール基を含み、
かつ、これらの基の少くとも一つはＮ −ｊ’ｌ換の２
．礼６．６−チトラメチルピベリジン基を含むものであ
る。
て、Ｘが−Ｎ（Ｒ３）−塘たは−Ｃ（Ｒ’χＲ５）−基
を表わし、残基Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５の中
少くとも一つが立体障害を受けたフェノール基を含み、
かつ、これらの基の少くとも一つはＮ −ｊ’ｌ換の２
．礼６．６−チトラメチルピベリジン基を含むものであ
る。
（ＩＪ式の安定剤の中で、特に好せしいものは、この式
において、Ｘが−Ｎ（Ｒ３）−丑たは−Ｃ（Ｒ’χＲ５
）−基を表わ１２、Ｒ，１、Ｒ２およびＲ３が、互いに
独立して、下記のα）、ｂ）またはＣ）のいずれかを表
わすものである。
において、Ｘが−Ｎ（Ｒ３）−丑たは−Ｃ（Ｒ’χＲ５
）−基を表わ１２、Ｒ，１、Ｒ２およびＲ３が、互いに
独立して、下記のα）、ｂ）またはＣ）のいずれかを表
わすものである。
α） 但ａ）式またはΦｂ）式の基
■？
上式においてＲ６は水素、０１〜Ｃ８アルキル、Ｃ６〜
Ｃ，シクロアルキルまたハ０７〜Ｃ，フェニルアルキル
で６Ｊ）−Ｒ’はＣ，−Ｃ，アルキル ルキルまたはフェニルである。
Ｃ，シクロアルキルまたハ０７〜Ｃ，フェニルアルキル
で６Ｊ）−Ｒ’はＣ，−Ｃ，アルキル ルキルまたはフェニルである。
ｂ）ＱＩＩ）式の基
この式において、田は１、２または３であシ；Ｙは一〇
−−または一Ｎ（Ｒ９）−（ここで、Ｒ９は水素、（、
−０１、アルキルまたはシクロヘキシルを表わすか、或
いはＤに等しく、 Ｄは（７）式〔この式においてＲは水素を表わし；Ｒ１
０ハＣ，〜Ｃ，Ｃｌキル、アリル、ベンジル、−ＣＮも
しくは一ＣＯＯＲ で置換された０１〜Ｃ，のアルキル
、または、−Ｃｏ−Ｒ１８、−ＣＯＯＲ１５、− ｃｏ
ｇ貨６ｘＲＩ７ ＞、− Ｃ Ｒ２− ＣＨ（Ｒ” ）
− ＯＲ”、−ｓｏＲ２’ 、−Ｓｏ２Ｒ”、 ｏｎ
１５もしくは一００〇−Ｒ１８（ここで、Ｒ．Ｉ Ｓは
Ｃ１〜Ｃ８ アルキルテアＩ） Ｔ Ｒ ｉｌ：
Ｃ，〜Ｃ８アルキル、シクロヘキシルまたはフェニルで
あり，Ｒ は水素またはＣ１〜Ｃ８アルキルを表わすか
、或いは、Ｒ およびＲ はＮ−原子と一緒になってピ
ロリジン、ピペリジンまたはモルホリンを表わし，Ｒ
はＣ１〜Ｃ， フルキル、Ｃ２〜Ｃ３アルケニル、シク
ロヘキシル、フェニル葦たにベンジルであ５．Ｒは水素
またはメチルでお沙，Ｒ は水素、Ｃ，〜Ｃ８アルキル
または■式 ％式％） の基であり；Ｒ２１ はＣ１〜Ｃ．アルキル、フェニ
ルまたはｐ − ） ＩＪルである）の基を表わす〕の
基を示す）である。
−−または一Ｎ（Ｒ９）−（ここで、Ｒ９は水素、（、
−０１、アルキルまたはシクロヘキシルを表わすか、或
いはＤに等しく、 Ｄは（７）式〔この式においてＲは水素を表わし；Ｒ１
０ハＣ，〜Ｃ，Ｃｌキル、アリル、ベンジル、−ＣＮも
しくは一ＣＯＯＲ で置換された０１〜Ｃ，のアルキル
、または、−Ｃｏ−Ｒ１８、−ＣＯＯＲ１５、− ｃｏ
ｇ貨６ｘＲＩ７ ＞、− Ｃ Ｒ２− ＣＨ（Ｒ” ）
− ＯＲ”、−ｓｏＲ２’ 、−Ｓｏ２Ｒ”、 ｏｎ
１５もしくは一００〇−Ｒ１８（ここで、Ｒ．Ｉ Ｓは
Ｃ１〜Ｃ８ アルキルテアＩ） Ｔ Ｒ ｉｌ：
Ｃ，〜Ｃ８アルキル、シクロヘキシルまたはフェニルで
あり，Ｒ は水素またはＣ１〜Ｃ８アルキルを表わすか
、或いは、Ｒ およびＲ はＮ−原子と一緒になってピ
ロリジン、ピペリジンまたはモルホリンを表わし，Ｒ
はＣ１〜Ｃ， フルキル、Ｃ２〜Ｃ３アルケニル、シク
ロヘキシル、フェニル葦たにベンジルであ５．Ｒは水素
またはメチルでお沙，Ｒ は水素、Ｃ，〜Ｃ８アルキル
または■式 ％式％） の基であり；Ｒ２１ はＣ１〜Ｃ．アルキル、フェニ
ルまたはｐ − ） ＩＪルである）の基を表わす〕の
基を示す）である。
Ｃ）水素
Ｒ４およびＲ５は、互いに独立して、水素またはＣｌ〜
Ｃ１２アルキルであるか、或いは上記のα）またはｈ）
の所で述べたような意味を有し、かつ、残基Ｒ１、Ｒ２
、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５の中、少くとも一つは立体障害
を受けたフェノール基を有し、また少くとも一つはＮ置
換された２，２，６．６ −テトラメチルピペリジン基
を有する。
Ｃ１２アルキルであるか、或いは上記のα）またはｈ）
の所で述べたような意味を有し、かつ、残基Ｒ１、Ｒ２
、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５の中、少くとも一つは立体障害
を受けたフェノール基を有し、また少くとも一つはＮ置
換された２，２，６．６ −テトラメチルピペリジン基
を有する。
（Ｉ）式においてＸが一Ｎ（Ｒ３斤基である化合物は、
インシアヌール酸エステルを形成する。この種類の安定
剤の中では、次のような内容のものが好ましい。即ち、
かかる好ましい化合物においては、Ｒ１およびＲ２はΦ
ａ）式（ここで Ｒ６は水素またはＣＩ−Ｃ，アルキル
であり：Ｒ７はＣ， −Ｃ， アルキルわす）の基でお
υ； Ｒ３はに）式（但し、この式で、ｍは１または２を表わ
し、Ｙは一〇−または一Ｎ（Ｒ’ ）− ［ Ｒ”は水
素またはＣ１〜ＣＩ２アルキルを表わすか或いはＤに等
しく、Ｄは（ト）式（但しこの式で、Ｒは水素を表わし
、またＲ１０はメチル、アリル、ベンジル、アセチル、
アクリロイル、メトキシ、エトキシ、アセトキシ捷たは
一ＣＨ２ＣＨ２０Ｒ” （ Ｒ２０は水素または（ホ）
式−この式でｑは０、１または２であシ Ｒ６およびＲ
７は上述のような意味を有する−の基を表わす）である
）の基を表わす〕の基である）の基である。
インシアヌール酸エステルを形成する。この種類の安定
剤の中では、次のような内容のものが好ましい。即ち、
かかる好ましい化合物においては、Ｒ１およびＲ２はΦ
ａ）式（ここで Ｒ６は水素またはＣＩ−Ｃ，アルキル
であり：Ｒ７はＣ， −Ｃ， アルキルわす）の基でお
υ； Ｒ３はに）式（但し、この式で、ｍは１または２を表わ
し、Ｙは一〇−または一Ｎ（Ｒ’ ）− ［ Ｒ”は水
素またはＣ１〜ＣＩ２アルキルを表わすか或いはＤに等
しく、Ｄは（ト）式（但しこの式で、Ｒは水素を表わし
、またＲ１０はメチル、アリル、ベンジル、アセチル、
アクリロイル、メトキシ、エトキシ、アセトキシ捷たは
一ＣＨ２ＣＨ２０Ｒ” （ Ｒ２０は水素または（ホ）
式−この式でｑは０、１または２であシ Ｒ６およびＲ
７は上述のような意味を有する−の基を表わす）である
）の基を表わす〕の基である）の基である。
（Ｉ）式においてＸが一Ｃ（Ｒ’ ）（Ｒ ’斤基であ
る化合物はバルビッール酸の誘導体を形成する。この種
類の安定剤の中では、次のようなものが好ましい。
る化合物はバルビッール酸の誘導体を形成する。この種
類の安定剤の中では、次のようなものが好ましい。
即ち、かかる好ましい化合物においては、Ｒ１およびＲ
２はΦａ）式（ここで Ｒ６は水素またはＣ１〜Ｃ４ア
ルキルであシ．ＲはＣ，〜Ｃ，Ｃｌキルを表わす）の基
であシ： Ｒ４は（ホ）式（但し、この式でｍは１または２を表わ
し、Ｙは一〇−または一Ｎ（Ｒ’）−（−は水素または
Ｃ１〜ＣＩ２アルキルを表わすか或いはＤに等しく、Ｄ
は（口）式（但し、この式でＲは水素を表わし、またＲ
１０はメチル、アリル、ベンジル、アセチル、アクリロ
イル、メトキシ、アセトキシもしくは−ＣＨ２ＣＨ２０
Ｒ” （Ｒ”は水素または（ホ）式−この式でｑは０、
】または２であシ；Ｒ６は水素またはＣ５〜Ｃ，アルキ
ルであり Ｒ７はＣ１〜Ｃ，アルキルを表わす−の基で
ある）の基である）の基である〕の基である）の基であ
り； Ｒ５はＲ４と同じ意味を有するか、またはＣ８〜Ｃ１２
アルキルであるか、或いはＲ１と同じ意味を有するが、
しかし、次のようなものが特に好ましい。
２はΦａ）式（ここで Ｒ６は水素またはＣ１〜Ｃ４ア
ルキルであシ．ＲはＣ，〜Ｃ，Ｃｌキルを表わす）の基
であシ： Ｒ４は（ホ）式（但し、この式でｍは１または２を表わ
し、Ｙは一〇−または一Ｎ（Ｒ’）−（−は水素または
Ｃ１〜ＣＩ２アルキルを表わすか或いはＤに等しく、Ｄ
は（口）式（但し、この式でＲは水素を表わし、またＲ
１０はメチル、アリル、ベンジル、アセチル、アクリロ
イル、メトキシ、アセトキシもしくは−ＣＨ２ＣＨ２０
Ｒ” （Ｒ”は水素または（ホ）式−この式でｑは０、
】または２であシ；Ｒ６は水素またはＣ５〜Ｃ，アルキ
ルであり Ｒ７はＣ１〜Ｃ，アルキルを表わす−の基で
ある）の基である）の基である〕の基である）の基であ
り； Ｒ５はＲ４と同じ意味を有するか、またはＣ８〜Ｃ１２
アルキルであるか、或いはＲ１と同じ意味を有するが、
しかし、次のようなものが特に好ましい。
即ち、かかる好塘しい化合物においては、Ｒ１およびＲ
２が（財）式（但し、この式でｍは１−！たは２を表わ
し、Ｙは一叶または−Ｎ（Ｒ９）−［Ｒ’は水素または
Ｃ１〜Ｃ１２アルキルを表わすか、或いはＤに等しく、
ここで、 Ｄは（ト）式（但し、この式でＲは水素を表わし、また
Ｒ１０ はメチル、アリル、ベンジル、アセチル、ア
クリロイル、メトかシ、アセトキシもしくは−ＣＨ２Ｃ
Ｉ（２０Ｒ” （Ｒ”は水素または（ホ）式−この式
でｑはｏ、ｉ−または２であｈ 、Ｒ６は水素またはＣ
６〜Ｃ４アルキルを、またＲ７はＣ，−Ｃ，アルキルを
表わす−の基である。）を表わす）の基である〕の基を
示す）の基であり： Ｒ４はΦり式（但しこの式で Ｒ６およびＲ７は上述の
ような意味を有する）の基であり；そして、ＲはＲと同
じ意味を有するか、またはＣ，−Ｃ，２アルキルである
か或いはＲ１と同じ意味を有する。
２が（財）式（但し、この式でｍは１−！たは２を表わ
し、Ｙは一叶または−Ｎ（Ｒ９）−［Ｒ’は水素または
Ｃ１〜Ｃ１２アルキルを表わすか、或いはＤに等しく、
ここで、 Ｄは（ト）式（但し、この式でＲは水素を表わし、また
Ｒ１０ はメチル、アリル、ベンジル、アセチル、ア
クリロイル、メトかシ、アセトキシもしくは−ＣＨ２Ｃ
Ｉ（２０Ｒ” （Ｒ”は水素または（ホ）式−この式
でｑはｏ、ｉ−または２であｈ 、Ｒ６は水素またはＣ
６〜Ｃ４アルキルを、またＲ７はＣ，−Ｃ，アルキルを
表わす−の基である。）を表わす）の基である〕の基を
示す）の基であり： Ｒ４はΦり式（但しこの式で Ｒ６およびＲ７は上述の
ような意味を有する）の基であり；そして、ＲはＲと同
じ意味を有するか、またはＣ，−Ｃ，２アルキルである
か或いはＲ１と同じ意味を有する。
上に記した（Ｉ）式でＸが−Ｎ（Ｒ３）−基である化合
物のいくつかは、西独特許公開公報第２７３０３９７や
米国特許明細書簡４，３１７，９１１から知られており
、それらには、その製法並びにプラスチックの安定剤と
しての利用について詳しく述べられている。
物のいくつかは、西独特許公開公報第２７３０３９７や
米国特許明細書簡４，３１７，９１１から知られており
、それらには、その製法並びにプラスチックの安定剤と
しての利用について詳しく述べられている。
捷だここに記した（Ｉ）式でＸが一〇（Ｒ）（Ｒ斤基で
ある化合物のいくつかは、西独特許公開公報第２７３０
５０３や米国特許明細書簡４，１８５，００７から知ら
れており、これにもその製法並びにプラスチックの安定
剤としての利用について述べられている。
ある化合物のいくつかは、西独特許公開公報第２７３０
５０３や米国特許明細書簡４，１８５，００７から知ら
れており、これにもその製法並びにプラスチックの安定
剤としての利用について述べられている。
ここに述べた化合物は新しいものであるが、既知の化合
物と同じように作られる。
物と同じように作られる。
Ｘが−Ｎ（Ｒ３）−基である（Ｉ）式の個々の化合物の
例は下記の如き構造式を有するものである。
例は下記の如き構造式を有するものである。
化合物Ｎ［ＬｍＹＲｌｏ
１ １ −０− −Ｃｏ−ＣＨ
＝ＣＨ２２１−０−−ＣＨ３ ３１−０−−ＣＨ，、−Ｃ＞ ４ １ −０− −Ｃｏ−Ｎ（Ｃ２
）Ｔ５）。
＝ＣＨ２２１−０−−ＣＨ３ ３１−０−−ＣＨ，、−Ｃ＞ ４ １ −０− −Ｃｏ−Ｎ（Ｃ２
）Ｔ５）。
５ １ −ＮＨ−−Ｃｏ−ＣＨ＝ＣＨ２６
１−ＮＨ−−Ｃｏ−ＣＨ８ ７１−Ｎ（Ｃ，Ｈ，）−−Ｃ０−ＣＨ８８２−０−−５
ｏ＝ｃ＞−喝 ９ ２ −ＮＨ−−ＣＨ２ＣＮＮｆＬ１０
ｍ＝＝ｌ Ｙ＝−叶 Ｒ”＝ −Ｃｏ−ＣＨ＝ＣＨ
２１１１−０−−Ｃｏ−Ｎ（Ｃ２Ｈ，）２１３
１ −０− −ＣＨ。
１−ＮＨ−−Ｃｏ−ＣＨ８ ７１−Ｎ（Ｃ，Ｈ，）−−Ｃ０−ＣＨ８８２−０−−５
ｏ＝ｃ＞−喝 ９ ２ −ＮＨ−−ＣＨ２ＣＮＮｆＬ１０
ｍ＝＝ｌ Ｙ＝−叶 Ｒ”＝ −Ｃｏ−ＣＨ＝ＣＨ
２１１１−０−−Ｃｏ−Ｎ（Ｃ２Ｈ，）２１３
１ −０− −ＣＨ。
１４ １ −０− −Ｇｏ−
ＣＨ。
ＣＨ。
１５ １ −Ｎｕ−−０Ｍ３１６
２ −０− −ＣＯ−ＣＨ＝Ｃ
１（。
２ −０− −ＣＯ−ＣＨ＝Ｃ
１（。
１７ ２ −０− −００Ｃ−
ＣＨ３１８２−ＫＣ，）ＬＤ−−Ｃｏ−Ｃｆ（３鴎ｌ
９ Ｒ”−−ＣＨ３ ２０−Ｃｏ−ＣＨ＝ＣＨ ２１−ＣＨ２ＣＨ２００ＣＣＨｓ 随２２ Ｒ１０＝ −ＣＯＣＨ。
ＣＨ３１８２−ＫＣ，）ＬＤ−−Ｃｏ−Ｃｆ（３鴎ｌ
９ Ｒ”−−ＣＨ３ ２０−Ｃｏ−ＣＨ＝ＣＨ ２１−ＣＨ２ＣＨ２００ＣＣＨｓ 随２２ Ｒ１０＝ −ＣＯＣＨ。
２３ −ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２−ゝＣ（惧）３
またＸが一〇（Ｒ’ ＸＲ５）−基である（Ｉ）式の化
合物の例は、下記の如き構造式を有するものである。
合物の例は、下記の如き構造式を有するものである。
８１１２５ ｍ−Ｉ Ｒｏ−−ＣＨ３２６１−
Ｃｏ−ＣＨ＝ＣＨ２ ２７２−ＣＩ（２ＣＨ＝ＣＨ２ ２９２−ＣＨ。
Ｃｏ−ＣＨ＝ＣＨ２ ２７２−ＣＩ（２ＣＨ＝ＣＨ２ ２９２−ＣＨ。
Ｎα３０ Ａ−−Ｃ１（２−Ｒ” ＝ −ＣＯ−Ｃ）
ｉ＝ＣＩ（２３１−Ｃ）１２ＣＨ２−−ＣＨ３ ３２−ＣＩ（ＣＩ（３）−Ｃ１（２−−ＣＯＣ）Ｔ３３
３ −ＣＨ（ＣＨａ） −ＣＩ（、−−Ｃ）（３１
＠ ３４ Ｒ” ＝−ｃｏｃＨ。
ｉ＝ＣＩ（２３１−Ｃ）１２ＣＨ２−−ＣＨ３ ３２−ＣＩ（ＣＩ（３）−Ｃ１（２−−ＣＯＣ）Ｔ３３
３ −ＣＨ（ＣＨａ） −ＣＩ（、−−Ｃ）（３１
＠ ３４ Ｒ” ＝−ｃｏｃＨ。
３５ −ＣＭ。
（Ｉ）式の安定剤は、単独または他の化合物と共に既知
の方法で写真材料に添加することができる。
の方法で写真材料に添加することができる。
この安定剤は通常、単独でまたは他の化合物、特に発色
剤（カラーカプラー）と共に、分散液の形で写真材料に
添加されるが、その際この分散物は溶剤を含まなくても
よいし、高沸点乃至低沸点の溶剤、或いはこれ等の混合
溶剤を含有していてもよい。もつと適当な添加形態は、
安定剤単独で、またはポリマーを加えたその他の化合物
と一緒に、ラテックスの形で写真材料に添加することで
あムこの分散体は次にカラー写真の記録材料層の作成に
用いられる。この層は例えば中間層または保護層でもよ
いが、特に感光性（青色、緑色および赤色感光性）のハ
ロゲン化銀乳剤層がよく、この場合、対応する発色剤か
ら成る露光した記録材料を現像すると、青緑色（シアン
）、紫色（マゼンタ）および黄色の色素が生ずる。
剤（カラーカプラー）と共に、分散液の形で写真材料に
添加されるが、その際この分散物は溶剤を含まなくても
よいし、高沸点乃至低沸点の溶剤、或いはこれ等の混合
溶剤を含有していてもよい。もつと適当な添加形態は、
安定剤単独で、またはポリマーを加えたその他の化合物
と一緒に、ラテックスの形で写真材料に添加することで
あムこの分散体は次にカラー写真の記録材料層の作成に
用いられる。この層は例えば中間層または保護層でもよ
いが、特に感光性（青色、緑色および赤色感光性）のハ
ロゲン化銀乳剤層がよく、この場合、対応する発色剤か
ら成る露光した記録材料を現像すると、青緑色（シアン
）、紫色（マゼンタ）および黄色の色素が生ずる。
ハロゲン化銀層は所望の発色剤、特に青緑色、紫色およ
び黄色の発色剤（上記の色素、従って色素像の生成に用
いられる）を含有することができる。
び黄色の発色剤（上記の色素、従って色素像の生成に用
いられる）を含有することができる。
ベース（基材）は安定剤の作用や安定性に影響を与える
ので、安定剤と共に、安定性を保つべき材料をできるだ
け安定させるようなペース（溶剤、ポリマー）が望まし
い。
ので、安定剤と共に、安定性を保つべき材料をできるだ
け安定させるようなペース（溶剤、ポリマー）が望まし
い。
安定剤は通常、その他に普通の方法で作られ増感された
ハロゲン化銀分散体を含有する層中に添加されるけれど
も、ハロゲン化銀含有層に隣接する層中にあってもよい
。
ハロゲン化銀分散体を含有する層中に添加されるけれど
も、ハロゲン化銀含有層に隣接する層中にあってもよい
。
本発明による写真ゼ料は、慣用の組成を有し、安定剤の
作用を強化するか、或いは少くとも悪い影響を与えない
、成分を含有している。
作用を強化するか、或いは少くとも悪い影響を与えない
、成分を含有している。
本発明による写真用記録材料では、（１）式の安定剤は
、発色剤と、それ以外に紫外線吸収剤やその他の光安定
剤とを同じ層の中で組合わせることもできる。
、発色剤と、それ以外に紫外線吸収剤やその他の光安定
剤とを同じ層の中で組合わせることもできる。
拡散転写法が利用できる場合は、安定剤は受容層に添加
してもよい。
してもよい。
本発明によるカラー写真用材料は、既知の方法で現像処
理することができる。更にこの材料は現像処理中または
現像処理後に、その安定性を一層高めるような例えば安
定剤の浴中で処理するか、または保護塗膜を塗布すると
いうような方法で処理することができる。
理することができる。更にこの材料は現像処理中または
現像処理後に、その安定性を一層高めるような例えば安
定剤の浴中で処理するか、または保護塗膜を塗布すると
いうような方法で処理することができる。
本発明に用いられる安定剤は、ある場合には、色素が直
接エマルジョン内に含捷れ、選択的漂白によって、像が
生ずるカラー写真層を保役するのにも適している。
接エマルジョン内に含捷れ、選択的漂白によって、像が
生ずるカラー写真層を保役するのにも適している。
一種または二種以上の安定剤の量は広い範囲に及んでも
差支えないが、安定剤が添加される層のＲ当υ大体１〜
２０００ｍｇ、好ましくは１００〜８００η、特に２０
０−５００〜の範囲がよい。
差支えないが、安定剤が添加される層のＲ当υ大体１〜
２０００ｍｇ、好ましくは１００〜８００η、特に２０
０−５００〜の範囲がよい。
写真材料が一つまたはそれ以上の紫外線吸収剤を含有す
る場合は、この吸収剤は安定剤と共に一つの層にあって
もよいし、或いは隣接する層の中にあってもよい。紫外
線吸収剤の量は広範囲に亘って変動しても差支えないが
、層Ｒ当９大体２００〜２０００■、好脣しくけ４００
〜１０００〜の範囲が好址しい。
る場合は、この吸収剤は安定剤と共に一つの層にあって
もよいし、或いは隣接する層の中にあってもよい。紫外
線吸収剤の量は広範囲に亘って変動しても差支えないが
、層Ｒ当９大体２００〜２０００■、好脣しくけ４００
〜１０００〜の範囲が好址しい。
適当な紫外線吸収剤の例としては、ベンゾフェノン、ア
クリロニトリル、チアゾリドン、ベンゾトリアゾール、
オキサゾール、チアゾール、およびイミダゾール型のも
のがある。
クリロニトリル、チアゾリドン、ベンゾトリアゾール、
オキサゾール、チアゾール、およびイミダゾール型のも
のがある。
本発明による記録拐料を用い、露光、現像して得られる
カラー像は、可視光線および紫外線に対して、非常にす
ぐれた耐光堅牢性を示す。（１）式の化合物は殆んど無
色なので、画像が変色するようなことはない。その上、
個々の層中に存在する普通の写真用添加物とよく調和す
る。この化合物はすぐれた効力を有しているので、その
使用類を減らすことができ、したがって写真層の作成に
用いられるバインダーの水性エマルジョン中に有機溶液
として添加されても、沈澱や晶出を防ぐことができる。
カラー像は、可視光線および紫外線に対して、非常にす
ぐれた耐光堅牢性を示す。（１）式の化合物は殆んど無
色なので、画像が変色するようなことはない。その上、
個々の層中に存在する普通の写真用添加物とよく調和す
る。この化合物はすぐれた効力を有しているので、その
使用類を減らすことができ、したがって写真層の作成に
用いられるバインダーの水性エマルジョン中に有機溶液
として添加されても、沈澱や晶出を防ぐことができる。
写真用記録材料を露光した後で行われるカラー写真作成
に必要な個々の処理工程は、（Ｉ）式の化合物によって
悪影響を与えられない。更に青色感光性乳剤において屡
々功われる所謂摩擦によるかぶりの生成は大幅に抑制す
ることができる。
に必要な個々の処理工程は、（Ｉ）式の化合物によって
悪影響を与えられない。更に青色感光性乳剤において屡
々功われる所謂摩擦によるかぶりの生成は大幅に抑制す
ることができる。
この摩擦によるかぶりの生成は、例えば、写真材料（天
然または合成物質から成る支持体の上に設けたハロゲン
化銀の乳剤層）に、現像の前に行われる調製または処理
中に生ずる回転、曲げ或いは摩擦のような機械応力が作
用する時に生ずる（ ｒ。
然または合成物質から成る支持体の上に設けたハロゲン
化銀の乳剤層）に、現像の前に行われる調製または処理
中に生ずる回転、曲げ或いは摩擦のような機械応力が作
用する時に生ずる（ ｒ。
Ｈ，Ｊａｍｅｓ、 Ｔｈｅ Ｔｈｅｏｒｙ ｏｆ
Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ Ｐｒｏｃｅｓｓ
４゜１９７７年／Ｖ 、 Ｙ、 Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ、
Ｊｆａｃｍｉｌｌａａ版、ｐ２３以下、Ｐ１６６以下）
。
Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ Ｐｒｏｃｅｓｓ
４゜１９７７年／Ｖ 、 Ｙ、 Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ、
Ｊｆａｃｍｉｌｌａａ版、ｐ２３以下、Ｐ１６６以下）
。
実施例
下式の如き構造を有する黄色発色剤０．０８’１および
後で示す表に記した一つの安定剤０１０２６ｇ１０２６
ｇトラジルホスフェート酢酸エチルの混合液（ｔｓｙ／
ｌｏｏゴ）に浴かし、この溶液に、６％のゼラチン浴液
７．０ ＋ｎｌ 、イソプロパツール／水（３：４）に
溶かした下記構造式を々する湿潤剤８チ浴液０．５ｍｇ
、および水０５ηｆを加え、５分間１００ワツトの電力
で超音波を用いて乳化させた。
後で示す表に記した一つの安定剤０１０２６ｇ１０２６
ｇトラジルホスフェート酢酸エチルの混合液（ｔｓｙ／
ｌｏｏゴ）に浴かし、この溶液に、６％のゼラチン浴液
７．０ ＋ｎｌ 、イソプロパツール／水（３：４）に
溶かした下記構造式を々する湿潤剤８チ浴液０．５ｍｇ
、および水０５ηｆを加え、５分間１００ワツトの電力
で超音波を用いて乳化させた。
得られた乳剤２．５艷に、１を当りの銀含有量が６．０
２の臭化銀乳剤２． Ｏｍｌ ％下式の如き硬化剤１％
水溶ｉ ０．７ ｍｌ。
２の臭化銀乳剤２． Ｏｍｌ ％下式の如き硬化剤１％
水溶ｉ ０．７ ｍｌ。
および水３８−を加え、混合物のｐＨ會６．５に調節し
てから、ガラス板上に下引きしプラスチックスを塗布し
た白紙上に注ぎ凝固後、乾燥箱にいれ通風しながら室温
で乾燥した。
てから、ガラス板上に下引きしプラスチックスを塗布し
た白紙上に注ぎ凝固後、乾燥箱にいれ通風しながら室温
で乾燥した。
７日後に、３５Ｘ１８０＋ｎ＋ｎ に切断した試料を段
階的光学楔（ＳｔｕｆｇＴＬｋｅｉＬ ） の後にお
いて３０００ルタスで露光し、次にコダック社のＥｋｔ
ｃｔｐτｉｎｔ （登録商標）の二段法（２−ｓｔａｇ
ｔｄ ｐｒｏｃｅｓｓ）で処理した。
階的光学楔（ＳｔｕｆｇＴＬｋｅｉＬ ） の後にお
いて３０００ルタスで露光し、次にコダック社のＥｋｔ
ｃｔｐτｉｎｔ （登録商標）の二段法（２−ｓｔａｇ
ｔｄ ｐｒｏｃｅｓｓ）で処理した。
このようにして得られた黄色の光学楔を、２５００ワツ
トのキセノンランプを備えたＡｔ１ａｓのウエザーオメ
ータ（塗膜の耐久性検査器械）中で全部で４２キロジユ
ール／ Ｃ＋４で照射した。（対照試別は光安定剤を含
ま寿い。）この時に生ずる色の濃度の減少を、濃度計（
Ｍａｃｂｅｔｈ社のＴＲ９２４Ａ）でλｍａｒにおける
色の濃度を測定して求めた。
トのキセノンランプを備えたＡｔ１ａｓのウエザーオメ
ータ（塗膜の耐久性検査器械）中で全部で４２キロジユ
ール／ Ｃ＋４で照射した。（対照試別は光安定剤を含
ま寿い。）この時に生ずる色の濃度の減少を、濃度計（
Ｍａｃｂｅｔｈ社のＴＲ９２４Ａ）でλｍａｒにおける
色の濃度を測定して求めた。
下表にその結果を列記する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、 少くとも一つの感光性ハロゲン化銀乳剤層、一つ
の中間層、一つの受像層および／′−またけ一つの保護
層中に、安定剤として少くとも一つの（Ｉ）式の化合物
を含むことを特徴とするカラー写真記録材料。 １ ■ その中、少くとも一つは立体障害フェノール基を、１だ
少くとも一つはポリアルキルピペリジ７基を有している
。） ２、 少くとも一つの（Ｉ）式の化合物を含んでいる特
許請求の範囲第１項記載のカラー写真記録材料。 但しくＩ）式ニオイテ、ＸバーＮ（Ｒ３） Ｍ”！ｆ
ｃバーＣ（Ｒ’）（Ｒ５）基を表わし、またＲ１、Ｒ２
およびＲ３は互いに独立して下記のα）、ｂ）またはＣ
）を示す。 α）（■）式の如き基 ６ （式中、Ｒ６は水素、０１〜Ｃ８のアルキル、Ｃ６〜Ｃ
８のシクロアルキル、Ｃ７〜Ｃ０のフェニルアルキル、
フェニル貰だはＣ７〜ｃ１０のアルキルフェニルｔａｂ
し、ＲはＣＩ〜Ｃ８のアルキル、ｃ、〜ｃ８のシクロア
ルキル、Ｃ７〜Ｃ，のフェニルアルキル、フェニルまた
はＣ７〜Ｃ１ｏのアルキルフェニルを表わし Ｒ８ハ水
累ｌたはメチルである）、 ｈ）下記の（ホ）式或いは句式の如き基−Ｃ−Ｒ２，、
−Ｃｏ−Ｙ−Ｄ Ｑｌｌ）−ＣｍＨ，、
ｌｌｌ−Ｃｏ−０−ＣｎＨ２１１−Ｅ （Ｖ）
〔式中、ｍは１〜４、ｎは２〜５、Ｙは一〇−または−
ＮＲ９−で、Ｒ９は水素、Ｃ１〜ｃ、のアルキル、Ｃ７
〜Ｃ１２のシクロアルギル、０３〜Ｃ１２のアルコキシ
アルキル、Ｃ３〜Ｃ１２のジアルキルアミノアルキルま
たは次式 （但しｐは２〜１２〕の構造を有する基を表わすか、 或いはＲ９はＤに等しく、 Ｄは（Ｖ）（ロ）または（（ホ）式のような基でまたＥ
は（Ｘ’ｌ１式の如き基である。 上式において、Ｒは水素またけメチル、ＲＩ Ｏはヒド
ロキシル；Ｃ１〜Ｃ１２のアルキル；Ｃ３〜Ｃ６のアル
ケニル；Ｃ８〜Ｃ，のアルキニル；Ｃ７〜Ｃ１２のフェ
ニルアルキル；グリシジル；ハロゲン、−ＣＮ、−Ｃ０
０Ｒ１５またはＣ０Ｎ（ＲＩ６ＸＲ１７） Ｔ 置換す
；ｈ タＣ，−Ｃ４（７） ７ ／ｌ／ キＡｙ ；
−Ｃｏ−Ｒ” ： −Ｃｏ−０−Ｒ” ： −Ｃｏ−Ｎ
（Ｒ”）（Ｒ１７） ： −ＣＨ２−ＣＨ（Ｒ”）
−０Ｒ２０： −８ｏ−Ｒ” ： −８ｏ２二ｆ
”；−〇Ｒ１５或いは−ｏｏｃ−Ｒ１８基を表わす。 Ｒ１１はメチルかエチル、 Ｒは水素、−〇Ｒ２２、−ｏｏｃ−Ｂ１０または−Ｎ（
Ｒ９）−Ｃｏ−Ｒ１８で Ｒは水素、−ＣＮ、−ＣＯＯＲ”または−ＣＯＮＨ，、
を表わすか、 或いはＲ１２とＲ′３が一緒になって下式のような基を
形成する。 ＲＩ Ｉｔは０１〜ＣＩ２のアルキル、アリル、ベンジ
ルまたはシクロヘキシル、 Ｒ１６はＣ０〜Ｃ０，のアルキル、アリル、シクロヘキ
シル、ベンジルマタハフェニル、 Ｒは水素またはＣ８〜Ｃ８のアルキルを表わすか、或い
はＲ１６とＲ１７がＮ原子と一緒になって、５員寸たは
６員の複素環を形成し、 Ｒは水素；Ｃ１〜Ｃ３２のアルキル；Ｃ２〜ｃｏのアル
ケニル；クロロメチル；Ｃ１〜Ｃ２２のシクロアルギル
； Ｃ７〜Ｃ，２（７）フェニルアルキル；フェニル；
Ｃ７〜Ｃ１ｏのアルキルフェニル戒めは１〜２個のＣ２
〜Ｃ，アルキル基と水酸基で置換されたフエニル：フェ
ニルエチルまたはフェニルエチルＲ１９ は水素、Ｃ１
〜Ｃ．のアルキル、Ｃ２〜Ｃ１３のアルコキシメチル、
フェニルまたはフェノキシメチル、 Ｒ は水素、Ｃ，〜Ｃ１□のアルキル、− Ｃｏ−Ｒ′
８または− Ｃｏ−Ｎ（Ｒ１６）（Ｒ１７）、 ＲハＣ，〜Ｃ１□のアルキル、フェニルｉ ｆｃ ハＣ
ｖ〜Ｃ１８のアルキルアリール、 Ｒ は水素、Ｃ，〜Ｃ，２のアルキル、アリルイたはベ
ン ジ ル 、 Ｒ は水素、メチルオたはエチル Ｒ２４とＲ２４１１は互いに独立して ＨまたはＣ，〜
Ｃ．のアルキルを表わし、 Ｒ２ｓハ水素、Ｃ，〜Ｃ，２（Ｄ ７ ／ｌ／ キル、
Ｃｓ 〜Ｃ６（７） ７ ／Ｌ／ケニル４７ＶはＣ７〜
Ｃ１２のフェニルアルキル、Ｒは水素、Ｃ１〜Ｃ１゜の
アルキル、Ｃ３〜Ｃ８のシクｏフルキル捷タハベンジル
、 ＲはＣ１〜Ｃ５２のアルキル、Ｃ６〜Ｃ８のシクロアル
ギルまたはフェニル、或いは Ｃ−原子と結合しているＲ２６ とＲ２７がこれと御粘
になって、Ｃ７〜Ｃ７２のシクロアルカン 甘たはアル
キルシクロアルカン］−ｅ形成している〕、又は、 Ｃ）水素、０１〜Ｃｌ１１のアルキル、Ｃ３〜Ｃ６のア
ルケニル、Ｃ７〜Ｃ８２のフェニルアルキル、Ｃ８〜Ｃ
１２のアルコキシアルキルまたはＣ３〜ＣＩ４のアルコ
キシカルボニルアルキル、 Ｒ４は水素、Ｃ１〜ＣＩ８のアルキル、Ｃ５〜Ｃ８のシ
クロアルキル、（ｎ）式、四り式或いは（９式の基、廿
たけ−ＣｆＩ、Ｈ，，，，−Ｃｏｏ （Ｃ，〜Ｃ，アル
キル）基を表わし、Ｒ５は水素、０１〜ＣＩ８のアルキ
ル、Ｃ７〜Ｃ８のシクロアルキル、フェニル、Ｃ７〜Ｃ
９のフェニルアルキル、（ＩＩ）式、（ト）式、幌式ま
たは（ロ）式の基を表わし、ここで、残基Ｒ１、Ｒ２、
Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５の中、少くとも一つは立体障害フェノ
ール基を有し、また少くとも一つはポリアルキルピペリ
ジン基を有する。 ３、 少くとも一つの（Ｉ）式の化合物を含んでいる特
許請求の範囲第１項記載のカラー写真記録材料。 但しくＩ）式において、Ｘは−Ｎ（Ｒ３）基捷だは−Ｃ
（Ｒ’）（１５斤基を表わし、丑た残基Ｒ１、Ｒ２、Ｒ
３、Ｒ４およびＲ５の中、少くとも一つは立体障害フェ
ノール基と、Ｎ置換２，２，６．６−チトラメチルピベ
リジン基を有する。 ４、 （Ｉ）式の化合物を含んでいる特許請求の範囲
第２項記載のカラー写真記録材料。但しくＩ）式にオイ
テ、ｘ Ｉｄ、 −Ｎ（Ｒ”）−Ｍ カーＣ（Ｒ’ＸＲ
５）−Ｍ ヲＨワし、７トた、Ｒ，ＲおよびＲ３は互い
に独立して下記のａ）、ｈ）またはＣ）のいずれかであ
る。 ｔＬ）（ＩＩ ａ）式または（ＩＩ ｂ）式のような基
゛ゝＲ７ 上式において Ｒ６は水素、Ｃ１〜Ｃ８のアルキルＣ，
〜Ｃ８のシクロアルキルまたはＣ，〜Ｃ．の フェニル
アルキルで、Ｒ７は０１〜Ｃ８のアルキル、Ｃ，〜Ｃ８
のシクロアルギルまたはフェニルである。 ｈ）（ホ）式のような基、但しｍは１、２または３、Ｙ
は一叶または一Ｎ（Ｒ９辷、但しＲ９は水素、ｃ，〜Ｃ
，２のアルギルまたはシクロヘキシルを表わす力）、或
いはＤに等しく、 Ｄは（ト）式のような基であって、但しこの式において
Ｒは水素を表わし、またＲ１０はＣ，〜Ｃ６のアルキル
；アリル；ベンジル；−ＣＮまたは一〇〇〇Ｒ１５で置
換されたＣ，〜Ｃ４のアルキル； −Ｃｏ−Ｒ’ ニ
ーｃｏｏｉｔ１５；−ｃｏｎ（Ｒ１６）（ば７） ；−
ｃＨ２−ｃｌ（罰９）−〇Ｒ２０；−ＳＯＲ” ニーＳ
ｏ２Ｒ” ： −ＯＲ１５ｔたは−０００−Ｒ１８（こ
こでＲＩ ６はＣ，〜Ｃ８のアルキル、Ｒ１６はＣ１〜
Ｃ８のアルキル、シクロヘキシルまたはフェニルで、Ｒ
″は水素捷たはＣ１〜Ｃ８のアルキルを表わすか、或い
はＲ１６とＲ１７はＮ＝原子と一緒になって、ピロリジ
ン、ピペリジンまたはモルホリンを表わし、Ｒ１８はｃ
，−ｃ，のアルキル、Ｃ２〜Ｃ，のアルケニル、シクロ
ヘキシル、フェニルマタハヘンジル、Ｒ ｌ 、ｑは水
素丑たはメチル、Ｒ は水素、Ｃ。 〜Ｃ８のアルキル捷たは（ホ）式の基 ６ （ｑ−小］またに２） マ／こＲＵＣ，〜Ｃ，めアルキ７し、フェニル丑たはＰ
−トリルを表わす） Ｃ）水素、 Ｒ４とＲ５は互いに独立して水素またはＣ１〜Ｃ，２の
アルキルであるか、或いはａ）ｔたはｂ）の所で示した
ような怠味を有し、また残基Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４お
よびＲ５の中、少くとも一つは立体障害フェノール基を
有し、また少くとも一つはＮが置換２，２，６．６−テ
トラメチルピペリジン基を有する。 ５． （Ｉ）式の化合物を含んでいる特許請求の範囲
第４項記載のカラー写真記録材料。但しこの式において
、 Ｘは−Ｎ（Ｒ３斤基 Ｒ１およびＲ２は［有］ａ）式（但し式中、Ｒ６は水素
またはｃ、〜Ｃ３のアルキルで、Ｒ１１−ｊ：Ｃ，〜Ｃ
４のアルキルを表わす）の基、 Ｒ３は（２）式の基、但し式中ｍは１または２、Ｙは−
Ｏ−または−Ｎ（Ｒ９）−（ここで、Ｒ９は水素 また
は０１〜Ｃ１２のアルキルを表わすか、或いはＤに等し
い）、 Ｄは（ト）式の基、但し式中、Ｒは水素を表わし、まり
Ｒ”ｉＪ、メチル、アリル、ベンジル、アセチル、アク
リロイル、メトキシ、エトキシ、アセトキシまたは−Ｃ
ＨＩＣＨ，ＯＲ（Ｒは水素または■式の如き基一式中ｑ
は０．１または２であり、Ｒ６およびＲ７は上記の如き
意味を有する）を表わす。 ６、 （１）式の化合物を含んでいる特許請求の範囲
第４項記載のカラー写真記録材料。但しこの式において
、 ｘ バーＣ（Ｒ’ ）（Ｒ５）−基、 Ｒ１およびＲ２はωａ）の基（但しＲ６は水素または０
１〜Ｃ４のアルキルを表わし、ＲはＣ８〜Ｃ′４のアル
キルを表わす）、 Ｒ４は（ホ）式の基、但し式中、ｍは１または２で、Ｙ
は一〇−または−Ｎ（Ｒ９） （但しＲ９は水素または
Ｃ８〜ＣＩ２のアルキルを表わすか、或いはＤに等しい
）、ＤはＭ式の基（但し式中、Ｒは水素を表わし、Ｒ１
０はメチル、アリル、ベンジル、アセチル、アクリロイ
ル、メトキシ、アセトキシ、または−ＣＨ２ＣＨ２０Ｒ
２０（Ｒ２０は水素または■式−ここで９は０・１また
は２、Ｒ６は水素またはＣ１〜Ｃ１の（７）フルキル
Ｒ７はＣ８〜Ｃ１のアルキルを表わすｍ−を示す）、 Ｒ５はＲと同じ意味を有するか、筐たはＣ１〜Ｃ，□の
アルキルか、或いはＲ１と同じ意味を有する。 ７、 （Ｉ）式の化合物を含んでいる特許請求の範囲第
４項記載のカラー写真記録材料。但しこの式において、 Ｘは−Ｃ（ＲＸＲ）基、 Ｒ′およびＲ２は（９）式の基、但しこの式において、
Ｒ１は１または２で、 Ｙは一昨または一団Ｒ９）−（但しＲ９は水素またはＣ
，〜Ｃ８２のアルキルを表わすか、或いはＤと等しい）
、 ＤＩ’ｌ：（Ｖ）式の基、但し式中、Ｒは水素を表わし
、Ｒ１０はメチル、アリル、ベンジル、アセチル、アク
リロイル、メトキシ、アセトキシ、または−ＣＨ２ＣＨ
２０Ｒ２０（Ｒ２０は水素または（３）式−ここでｑは
０．１または２、Ｒ６は水素またはｃ、〜Ｃ４のアルキ
ル ａ？はＣ１〜Ｃ４のアルキルを表わす−を示す）、 Ｒは［有］ａ）式の基（但し式中Ｒ６およびＲは上述の
如き意味を有する）、 ＲはＲと同じ意味を有するか、或いはＣ１〜Ｃ８２のア
ルキルまたはＲと同じ意味を有する。 ８、 （Ｉ）式の安定剤の他に、紫外線吸収剤から成
る安定剤を含有する特許請求の範囲第１項記載のカラー
写真記録材料。 ９、 （Ｉ）式の化合物の含量が、添加する層１−に
ついて、１〜２０００、好ましくは１００〜８００■で
ある特許請求の範囲第１項記載のカラー写真記録材料。 １０、 カラー写真記録材料の安定剤としての特許請
求の範囲第１項に記載した（Ｉ）式の化合物の使用。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CH6894/826 | 1982-11-26 | ||
| CH689482 | 1982-11-26 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59105643A true JPS59105643A (ja) | 1984-06-19 |
Family
ID=4316727
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58220862A Pending JPS59105643A (ja) | 1982-11-26 | 1983-11-25 | カラ−写真記録材料 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4518688A (ja) |
| EP (1) | EP0110828B1 (ja) |
| JP (1) | JPS59105643A (ja) |
| CA (1) | CA1211308A (ja) |
| DE (1) | DE3375432D1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2012020749A1 (ja) * | 2010-08-10 | 2012-02-16 | 塩野義製薬株式会社 | トリアジン誘導体およびそれを含有する鎮痛作用を有する医薬組成物 |
Families Citing this family (7)
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|---|---|---|---|---|
| US4639415A (en) * | 1984-09-17 | 1987-01-27 | Konishiroku Photo Industry Co., Ltd. | Silver halide color photographic material containing a magenta color image-forming coupler |
| US4859759A (en) * | 1988-04-14 | 1989-08-22 | Kimberly-Clark Corporation | Siloxane containing benzotriazolyl/tetraalkylpiperidyl substituent |
| JP4171425B2 (ja) * | 2002-03-05 | 2008-10-22 | チバ ホールディング インコーポレーテッド | カラー写真記録材料 |
| EP2399910B1 (en) | 2009-02-13 | 2014-04-02 | Shionogi&Co., Ltd. | Triazine derivatives as p2x3 and/or p2x2/3 receptor antagonists and pharmaceutical composition containing them |
| WO2012020742A1 (ja) | 2010-08-10 | 2012-02-16 | 塩野義製薬株式会社 | 新規複素環誘導体およびそれらを含有する医薬組成物 |
| WO2013118855A1 (ja) | 2012-02-09 | 2013-08-15 | 塩野義製薬株式会社 | 複素環および炭素環誘導体 |
| TWI637949B (zh) | 2013-06-14 | 2018-10-11 | 塩野義製藥股份有限公司 | 胺基三衍生物及含有其等之醫藥組合物 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1059842A (en) * | 1963-05-02 | 1967-02-22 | Eastman Kodak Co | Identification of photographic materials |
| CH601232A5 (ja) * | 1975-12-08 | 1978-06-30 | Ciba Geigy Ag | |
| US4185007A (en) * | 1976-07-08 | 1980-01-22 | Ciba-Geigy Corporation | Barbituric acid derivatives containing a phenolic moiety and/or a hindered amine moiety |
| EP0011051B1 (de) * | 1978-11-06 | 1982-09-15 | Ciba-Geigy Ag | Farbphotographisches Aufzeichnungsmaterial, Verfahren zu seiner Stabilisierung und Herstellung photographischer Farbbilder |
| EP0082817B1 (de) * | 1981-12-17 | 1987-03-04 | Ciba-Geigy Ag | Farbphotographisches Aufzeichnungsmaterial |
-
1983
- 1983-11-21 EP EP83810536A patent/EP0110828B1/de not_active Expired
- 1983-11-21 DE DE8383810536T patent/DE3375432D1/de not_active Expired
- 1983-11-24 CA CA000441913A patent/CA1211308A/en not_active Expired
- 1983-11-25 JP JP58220862A patent/JPS59105643A/ja active Pending
- 1983-11-25 US US06/555,633 patent/US4518688A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2012020749A1 (ja) * | 2010-08-10 | 2012-02-16 | 塩野義製薬株式会社 | トリアジン誘導体およびそれを含有する鎮痛作用を有する医薬組成物 |
| JP5594706B2 (ja) * | 2010-08-10 | 2014-09-24 | 塩野義製薬株式会社 | トリアジン誘導体およびそれを含有する鎮痛作用を有する医薬組成物 |
| KR101867110B1 (ko) * | 2010-08-10 | 2018-06-12 | 시오노기 앤드 컴파니, 리미티드 | 트라이아진 유도체 및 그것을 함유하는 진통 작용을 갖는 의약 조성물 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0110828A2 (de) | 1984-06-13 |
| EP0110828A3 (en) | 1985-12-27 |
| EP0110828B1 (de) | 1988-01-20 |
| US4518688A (en) | 1985-05-21 |
| CA1211308A (en) | 1986-09-16 |
| DE3375432D1 (en) | 1988-02-25 |
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