JPS59105522A - 流量センサ−及びその製造方法 - Google Patents
流量センサ−及びその製造方法Info
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- JPS59105522A JPS59105522A JP57216082A JP21608282A JPS59105522A JP S59105522 A JPS59105522 A JP S59105522A JP 57216082 A JP57216082 A JP 57216082A JP 21608282 A JP21608282 A JP 21608282A JP S59105522 A JPS59105522 A JP S59105522A
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- Japan
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- capillary
- flow rate
- film
- base material
- rate sensor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01F—MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
- G01F1/00—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow
- G01F1/68—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow by using thermal effects
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Fluid Mechanics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Measuring Volume Flow (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、気体(以下、被測定ガスという。)の質量流
量の計測や制御に用いられる流量センサー、並びに、そ
の流量センサーの製造方法に関する。
量の計測や制御に用いられる流量センサー、並びに、そ
の流量センサーの製造方法に関する。
従来の流量センサーは、第9図に示すように、内径が0
.2 NM〜1.OH程度の毛管流路を備えるステンレ
ス等の毛細管10を用いて、これに1o声〜50μ笹程
度の非常に細い白金や鉄、ニッケル合金等の金F!4線
を巻付けて毛管流路で間隔をへたてる2個の発熱抵抗体
11 、15を形成するものであり、そして、被測定力
スの質量流量の計測や制御に際しては、前記抵抗体11
、15に設けた3本の引出線12・・にブリッジ回路
13を掻続すると共に、該ブリッジ回路13に電源14
から電流を流して抵抗体1.1 、15を発熱させ、か
つ、毛管流路に被測定ガスを流すのである。
.2 NM〜1.OH程度の毛管流路を備えるステンレ
ス等の毛細管10を用いて、これに1o声〜50μ笹程
度の非常に細い白金や鉄、ニッケル合金等の金F!4線
を巻付けて毛管流路で間隔をへたてる2個の発熱抵抗体
11 、15を形成するものであり、そして、被測定力
スの質量流量の計測や制御に際しては、前記抵抗体11
、15に設けた3本の引出線12・・にブリッジ回路
13を掻続すると共に、該ブリッジ回路13に電源14
から電流を流して抵抗体1.1 、15を発熱させ、か
つ、毛管流路に被測定ガスを流すのである。
すると、毛管流路を流れる被測定カスが熱運搬媒体とな
って、上流側の抵抗体11と下流側の抵抗体15との間
で湿度差を生じ、上流側抵抗体11の電気抵抗値が減少
すると共に下流側抵抗体15の電気抵抗値が増大する結
果、前記ブリッジ回路13の平衡が崩れて、この電気抵
抗値の差に基いて被測定カスの質量流量に応じた電圧が
端子16.16から出力されるもので、この出力電圧を
基にして被測定カスの賀釦流量を計測し、あるいは、成
る質量流量に相当する電圧を出力するようにガス原画を
調節することによって、被測定ガスの質量流iを制御す
るものである。
って、上流側の抵抗体11と下流側の抵抗体15との間
で湿度差を生じ、上流側抵抗体11の電気抵抗値が減少
すると共に下流側抵抗体15の電気抵抗値が増大する結
果、前記ブリッジ回路13の平衡が崩れて、この電気抵
抗値の差に基いて被測定カスの質量流量に応じた電圧が
端子16.16から出力されるもので、この出力電圧を
基にして被測定カスの賀釦流量を計測し、あるいは、成
る質量流量に相当する電圧を出力するようにガス原画を
調節することによって、被測定ガスの質量流iを制御す
るものである。
ところが、温度差の検出を2個の抵抗体11 、15の
抵抗値変化として捉えるための電源14を要し、しかも
、その電源14の安定度によって検出感度が左右される
が故に、高感度測定にとって高安定電源を必要とするも
のであった。
抵抗値変化として捉えるための電源14を要し、しかも
、その電源14の安定度によって検出感度が左右される
が故に、高感度測定にとって高安定電源を必要とするも
のであった。
また、個々の毛細管10に極細の金属線を巻付ける作業
は、これの自動化に限度があって、どうしても熟練者の
手作業に頼らざるを得す、生産性が悪い上、巻付けが不
均一になったり密着度が異なったりするなど性能のばら
つきも多くなり、かつ、大量生産が困難で、生産コスト
が高くつく欠点があった。
は、これの自動化に限度があって、どうしても熟練者の
手作業に頼らざるを得す、生産性が悪い上、巻付けが不
均一になったり密着度が異なったりするなど性能のばら
つきも多くなり、かつ、大量生産が困難で、生産コスト
が高くつく欠点があった。
更に、抵抗体11 、15の金属線として、絶縁の目的
で有機物質を塗布したものが用いられ、かつ、金属線の
巻き終り端の固定に際しても有機化合物の接着剤が用い
られているが、流量センサーの使用状態においては抵抗
体11. 、15が120°C〜150°C程度に昇温
するものであり、このような条件下では経時的に有機物
質が変質し、センサーの出力特性に影1が現われること
は必至で、ゼロドリフト及び感度の経時変化をきたし、
計測並びに制御の安定面でも問題があった。
で有機物質を塗布したものが用いられ、かつ、金属線の
巻き終り端の固定に際しても有機化合物の接着剤が用い
られているが、流量センサーの使用状態においては抵抗
体11. 、15が120°C〜150°C程度に昇温
するものであり、このような条件下では経時的に有機物
質が変質し、センサーの出力特性に影1が現われること
は必至で、ゼロドリフト及び感度の経時変化をきたし、
計測並びに制御の安定面でも問題があった。
本発明は、上述の実情に鑑みて成7されたものであって
、本第1発明においては、従来のものとは測定形態の異
なる新規な構成をもって、特性が均質で経年変化を生じ
ず、しかも高感度測定を期し得る流量センサーの提供を
目的としており、而して本第1発明による流量センサー
は、内部に毛管流路を形成した陶1面矩形のシリコン結
晶製毛管基材に対してそれの一側平面に、無機物質の電
気絶縁膜を設け、該電気絶縁膜上に膜状の発熱抵抗体を
形成すると共に、該発熱抵抗体に対してそれの上流側に
冷接点をかつ下流側に温接点を位置させる状態で膜状の
サーモバイルを設け、更に、前記抵抗体とサーモバイル
の夫々に外部配線接続用のポンディングパッドを設けで
あることを特徴としている。
、本第1発明においては、従来のものとは測定形態の異
なる新規な構成をもって、特性が均質で経年変化を生じ
ず、しかも高感度測定を期し得る流量センサーの提供を
目的としており、而して本第1発明による流量センサー
は、内部に毛管流路を形成した陶1面矩形のシリコン結
晶製毛管基材に対してそれの一側平面に、無機物質の電
気絶縁膜を設け、該電気絶縁膜上に膜状の発熱抵抗体を
形成すると共に、該発熱抵抗体に対してそれの上流側に
冷接点をかつ下流側に温接点を位置させる状態で膜状の
サーモバイルを設け、更に、前記抵抗体とサーモバイル
の夫々に外部配線接続用のポンディングパッドを設けで
あることを特徴としている。
そして本第2発明においては、上記構成の流量センサー
を大量生産し得、延いては、該流量センサーを廉価に製
造することのできる方法の提供を目的としており、而し
て本第2発明による流量センサーの製造方法は、はぼ同
寸法の複数個の溝を互いに平行に形成した板状基材と、
該基材の前記溝を閉じる板状魚体とを拡散接合して、多
数の毛管流路を並列に備えるシリコン結晶製の毛管基板
を作製し、該毛管基板の一側平面に無機物質の絶縁膜を
設けると共に、前記毛管流路の夫々に対応する箇所の前
記電気絶縁膜上に膜状の発熱抵抗体を形成し、該発熱抵
抗体の夫々に対して毛管流路の上流側と下流側に相当す
る箇所に冷接点と温接点を位置させる状態で、かつ、前
記発熱抵抗体に対して絶縁状態で、膜状のサーモバイル
を形成すると共に、該サーモバイルに外部配線接続用の
ポンディングパッドを設け、かつ、前記サーモバイルの
形成に先立っであるいは形成後に前記抵抗体に外部配線
接続用のポンディングパッドを設け、更に、無機物質の
表面保護膜を設けて後に前記毛管基板を毛管流路の隣接
中間において切断分離して、複数個の流量センサーを作
製することを特徴としている。
を大量生産し得、延いては、該流量センサーを廉価に製
造することのできる方法の提供を目的としており、而し
て本第2発明による流量センサーの製造方法は、はぼ同
寸法の複数個の溝を互いに平行に形成した板状基材と、
該基材の前記溝を閉じる板状魚体とを拡散接合して、多
数の毛管流路を並列に備えるシリコン結晶製の毛管基板
を作製し、該毛管基板の一側平面に無機物質の絶縁膜を
設けると共に、前記毛管流路の夫々に対応する箇所の前
記電気絶縁膜上に膜状の発熱抵抗体を形成し、該発熱抵
抗体の夫々に対して毛管流路の上流側と下流側に相当す
る箇所に冷接点と温接点を位置させる状態で、かつ、前
記発熱抵抗体に対して絶縁状態で、膜状のサーモバイル
を形成すると共に、該サーモバイルに外部配線接続用の
ポンディングパッドを設け、かつ、前記サーモバイルの
形成に先立っであるいは形成後に前記抵抗体に外部配線
接続用のポンディングパッドを設け、更に、無機物質の
表面保護膜を設けて後に前記毛管基板を毛管流路の隣接
中間において切断分離して、複数個の流量センサーを作
製することを特徴としている。
以下、本発明による流量センサーの作製手順について説
明する。
明する。
■ 先ず、第1図1イ)に示すように、はぼ同寸法の複
数個の溝a・・を互いに平行に形成したシリコン結晶製
の板状基材1と、該基材1の前記溝a・・を閉じる同じ
くシリコン結晶製の板状蓋体2を用意する、 これら板状基材1並びに板状蓋体2の夫々は、シリコン
インゴットをスライスしたウニハラ使用しており、前記
板状基材1として、タイヤモンドカッターを備えたダイ
シングマシンによって、450pflさのシリコンウェ
ハに400P深さ・800μ巾・IJOO,uピッチの
渦a・・を加工したものを用い、板状数体2として、i
%la・・の長さよりもやや中挟に割円りノ除した45
0 /J、厚さのシリコンウェハt−用いているが、こ
れらの寸法設定は各種変更可能である。
数個の溝a・・を互いに平行に形成したシリコン結晶製
の板状基材1と、該基材1の前記溝a・・を閉じる同じ
くシリコン結晶製の板状蓋体2を用意する、 これら板状基材1並びに板状蓋体2の夫々は、シリコン
インゴットをスライスしたウニハラ使用しており、前記
板状基材1として、タイヤモンドカッターを備えたダイ
シングマシンによって、450pflさのシリコンウェ
ハに400P深さ・800μ巾・IJOO,uピッチの
渦a・・を加工したものを用い、板状数体2として、i
%la・・の長さよりもやや中挟に割円りノ除した45
0 /J、厚さのシリコンウェハt−用いているが、こ
れらの寸法設定は各種変更可能である。
e 次に、同図(ハ)に示すように、缶体2の割内部の
両側に溝端部を臨ませる状態でかつ該蓋体2によって溝
a・・を閉じる状態で、板状基材1と蓋体2とを接合し
、多数の毛管流路A・・を並列に備える毛管基板3を作
製する。
両側に溝端部を臨ませる状態でかつ該蓋体2によって溝
a・・を閉じる状態で、板状基材1と蓋体2とを接合し
、多数の毛管流路A・・を並列に備える毛管基板3を作
製する。
前記板状基材1に対して蓋体2を接合するに際して、同
図(ロ)に示すように、基材1と蓋体2の接合面に、真
空蒸着法やスパッタリング法などによって金の膜す、b
を予め形成し、そして両者1゜2を所定位置で重ね合わ
せてこれを高温・高真空下に保ち、かつ、上下から加圧
し、もって、金膜すを介して基材1と蓋体2とを拡散に
よって接合しである。
図(ロ)に示すように、基材1と蓋体2の接合面に、真
空蒸着法やスパッタリング法などによって金の膜す、b
を予め形成し、そして両者1゜2を所定位置で重ね合わ
せてこれを高温・高真空下に保ち、かつ、上下から加圧
し、もって、金膜すを介して基材1と蓋体2とを拡散に
よって接合しである。
而して、かかる拡散接合によれば、その接合面が合金化
するので機械的強度を高く期待でき、かつ、カスのリー
クも認められず、優れた接合を図り得るものとして採用
している。
するので機械的強度を高く期待でき、かつ、カスのリー
クも認められず、優れた接合を図り得るものとして採用
している。
■ 次に、同図(ホ)に示すように、前記蓋体2の外表
面である毛管基板3の一側平面(板状基材1の底面側で
あっても良い。)に、酸化法やスパッタリング法による
二酸化珪素や、あるいは、プラズマCV D (Che
micalVapourDepositionの略)法
による凹室化珪素等の無機物質の絶縁膜Cを形成する。
面である毛管基板3の一側平面(板状基材1の底面側で
あっても良い。)に、酸化法やスパッタリング法による
二酸化珪素や、あるいは、プラズマCV D (Che
micalVapourDepositionの略)法
による凹室化珪素等の無機物質の絶縁膜Cを形成する。
この絶縁膜Cの形成に先立って、同図に)に示すように
、前記蓋体2の絶縁膜形成面に研摩処理を施す。
、前記蓋体2の絶縁膜形成面に研摩処理を施す。
即チ、シリコンインコツトをスライス1.テ形成したシ
リコンウェハには、そのスライス面に30〜60μ深さ
に達する加工変質層が形成されていて、スライス面が荒
れており、これでは、その表面に絶縁膜Cを形成しても
これが剥離する虞れがあり、而してその加工変質層2′
に、ラッピング更にはポリッシング等の機械的な、ある
いは更にアルカリなどの化学溶液を併用した化学的な研
摩処理を施すことにより、絶縁膜Cの形成を確実ならし
めるものであり、そしてこの際、熱容量を小に、あるい
は、センサー感度並びに特性を良好にかつ均質ならしめ
る目的で、研摩後の蓋体2の厚さはもとより、毛管基板
3自体の厚さを所定寸法にするために、基材1の裏面側
も研摩する。
リコンウェハには、そのスライス面に30〜60μ深さ
に達する加工変質層が形成されていて、スライス面が荒
れており、これでは、その表面に絶縁膜Cを形成しても
これが剥離する虞れがあり、而してその加工変質層2′
に、ラッピング更にはポリッシング等の機械的な、ある
いは更にアルカリなどの化学溶液を併用した化学的な研
摩処理を施すことにより、絶縁膜Cの形成を確実ならし
めるものであり、そしてこの際、熱容量を小に、あるい
は、センサー感度並びに特性を良好にかつ均質ならしめ
る目的で、研摩後の蓋体2の厚さはもとより、毛管基板
3自体の厚さを所定寸法にするために、基材1の裏面側
も研摩する。
■ 次に、同図(へ)に示すように、前記毛管流路A・
・の夫々に対応する箇所の前記絶縁膜C上に、第4つて
形成する。
・の夫々に対応する箇所の前記絶縁膜C上に、第4つて
形成する。
詳しくは、前記蓋体2の両側に見える溝aの両端を位置
決めの目安にして毛管流路A・・に対応する所定位置に
、ニッケル・クロム膜をスパッタリング法などにより所
定大きさに形成し、該膜上にフォトレジストを塗布する
。
決めの目安にして毛管流路A・・に対応する所定位置に
、ニッケル・クロム膜をスパッタリング法などにより所
定大きさに形成し、該膜上にフォトレジストを塗布する
。
そして、所定形状の抵抗体パターンを有するマスクt−
前記フオドレジストにかりて露光並びに現像を行ない、
該フォトレジストにエツチングパターンを形成するので
ある。
前記フオドレジストにかりて露光並びに現像を行ない、
該フォトレジストにエツチングパターンを形成するので
ある。
そして次に、イオンビームミリング装置等によって抵抗
体膜をエツチングし、所定形状の抵抗体パター二/を形
成する。次いでイオンビームエツチング又は溶剤等によ
って前記フォトレジストを除去することにより、所定の
パターンの発熱抵抗体4を形成するのである。
体膜をエツチングし、所定形状の抵抗体パター二/を形
成する。次いでイオンビームエツチング又は溶剤等によ
って前記フォトレジストを除去することにより、所定の
パターンの発熱抵抗体4を形成するのである。
尚、第4図中のdは膜状抵抗体部分であり、e。
eはホンティングパッドである。
■ 次いで、第1図(ト)に示すように、前記ポンディ
ングパッドe・・を除く膜状抵抗体部分d・・の表面に
、スパッタリング法による二酸化珪素やプラズマCVD
法による1窒化珪素等の無機物質の絶縁膜fを形成する
。
ングパッドe・・を除く膜状抵抗体部分d・・の表面に
、スパッタリング法による二酸化珪素やプラズマCVD
法による1窒化珪素等の無機物質の絶縁膜fを形成する
。
■ さて次に、同図(力に示すように、前記発熱抵抗体
4の夫々に対してそれの毛管流路への上流側と下流側に
相当する箇所に冷接点C・・と温接点H・・を位置させ
る状態で、前記発熱抵抗体4の上部側にサーモバイル6
を形成する。
4の夫々に対してそれの毛管流路への上流側と下流側に
相当する箇所に冷接点C・・と温接点H・・を位置させ
る状態で、前記発熱抵抗体4の上部側にサーモバイル6
を形成する。
詳しくは、第5図に示すように、既述したフォトリソグ
ラフィー及びエツチング法によって、1個の発熱抵抗体
4に対して枚数の金属膜(例えばアンチモン:Sb)g
・・を並列状に形成し、次に、前記金属膜g・・の各端
部を除く状態で該金属膜g・・の上面に絶縁膜りを形成
すると共に、フォトリソグラフィー及びエツチングによ
って、隣る金属膜g、gの端部どうしを接続する状態で
、かつ、前記金属Pgとは異なる材質(例えばビスマス
=Ih)の金属膜1・・を形成し、これをもって膜状の
サーモパイル6を形成するのである。尚、図中のj、j
は、直列接続された金属膜g・・、1・・の端部夫々に
設けたポンディングパッドである。
ラフィー及びエツチング法によって、1個の発熱抵抗体
4に対して枚数の金属膜(例えばアンチモン:Sb)g
・・を並列状に形成し、次に、前記金属膜g・・の各端
部を除く状態で該金属膜g・・の上面に絶縁膜りを形成
すると共に、フォトリソグラフィー及びエツチングによ
って、隣る金属膜g、gの端部どうしを接続する状態で
、かつ、前記金属Pgとは異なる材質(例えばビスマス
=Ih)の金属膜1・・を形成し、これをもって膜状の
サーモパイル6を形成するのである。尚、図中のj、j
は、直列接続された金属膜g・・、1・・の端部夫々に
設けたポンディングパッドである。
■ 次に、第1図(男に示すように、外部配線接続用の
ポンディングパッド5・・を、例えば既述したフォトリ
ソグラフィー及びエツチングによって前記ポンディング
パッドe、jに接続状態で設け、かつ、該パッド5・・
を除いて保護膜kを設ける。尚、前記ポンディングパッ
ド5の材料としては、ボンディングの容易さ並びに化学
的安定性等の面から金が最も望ましいが、その材質は種
々変更可能である。
ポンディングパッド5・・を、例えば既述したフォトリ
ソグラフィー及びエツチングによって前記ポンディング
パッドe、jに接続状態で設け、かつ、該パッド5・・
を除いて保護膜kを設ける。尚、前記ポンディングパッ
ド5の材料としては、ボンディングの容易さ並びに化学
的安定性等の面から金が最も望ましいが、その材質は種
々変更可能である。
■ さて次に、第2図に示すように、前記毛管基板3を
歪体2の割円切除部近くに沿って切断(図中x 1)す
ると共に、更に、並列状態に形成した毛管流路A・・の
隣接中央において毛管基板3を切断(図中X2)分離し
、かつ、両側の毛管流路A、Aにおいては流路A・・の
隣接中央に相当する箇所で円弧部A、 、 A、を切断
(図中X3)切除して、毛管基板3を断面角形の毛管基
材7・・とすることによって、(功 第3図に示すような流量センサーSを、1個の毛管基板
3をもって一挙に多数個作製することができるのである
。
歪体2の割円切除部近くに沿って切断(図中x 1)す
ると共に、更に、並列状態に形成した毛管流路A・・の
隣接中央において毛管基板3を切断(図中X2)分離し
、かつ、両側の毛管流路A、Aにおいては流路A・・の
隣接中央に相当する箇所で円弧部A、 、 A、を切断
(図中X3)切除して、毛管基板3を断面角形の毛管基
材7・・とすることによって、(功 第3図に示すような流量センサーSを、1個の毛管基板
3をもって一挙に多数個作製することができるのである
。
上記構成の流量センサーSに、第6図に示す電気回路を
接続し、前記発熱抵抗体4に電源8から電流を流してこ
れを発熱さセると共に、毛管流路Aに被測定ガスを流す
のである。
接続し、前記発熱抵抗体4に電源8から電流を流してこ
れを発熱さセると共に、毛管流路Aに被測定ガスを流す
のである。
すると、該被測定ガスが加熱されて、発熱抵抗体4の上
流側と下流側における冷接点Cと温接点H間に温度差が
生じる結果、上記接点C,H間に、被測定ガスの質量流
量に応じた熱起電力が生じるものであり、この熱起電力
を基にして被測定ガスの質量流量を計測することができ
るのであり、あるいは、成る質量流量に相当する熱起電
力を生じさせるようにガス流量を調節することによって
、被測定ガスの質量流量の制御を行なうことができるの
である。
流側と下流側における冷接点Cと温接点H間に温度差が
生じる結果、上記接点C,H間に、被測定ガスの質量流
量に応じた熱起電力が生じるものであり、この熱起電力
を基にして被測定ガスの質量流量を計測することができ
るのであり、あるいは、成る質量流量に相当する熱起電
力を生じさせるようにガス流量を調節することによって
、被測定ガスの質量流量の制御を行なうことができるの
である。
第7図に毛管基板3の変影例を示す。このものは厚さ方
向で貫通するスリット溝a・・を互いに平行に形成した
シリコン結晶製の板状基材1と、該基材1の溝a・・を
上下から閉じる同じくシリコン結晶製の2枚の蓋体2,
2とから形成されている。
向で貫通するスリット溝a・・を互いに平行に形成した
シリコン結晶製の板状基材1と、該基材1の溝a・・を
上下から閉じる同じくシリコン結晶製の2枚の蓋体2,
2とから形成されている。
尚、既述した作製手順の一部を変更することによって、
単品の流量センサーSを作製することが司能である。
単品の流量センサーSを作製することが司能である。
即ち、第8図に示すように、適宜の手段によって毛管流
路Aを形成した断面が矩形のシリコン結晶製毛管基材7
を作製し、この毛管基材7に対しテ上記■、■、■、■
、■と同様のプロセスを経ることによって、単品の流量
センサーSを作製でき、かくして作製した複数個のセン
サーS・・は、それらの特性が同じものとなる。
路Aを形成した断面が矩形のシリコン結晶製毛管基材7
を作製し、この毛管基材7に対しテ上記■、■、■、■
、■と同様のプロセスを経ることによって、単品の流量
センサーSを作製でき、かくして作製した複数個のセン
サーS・・は、それらの特性が同じものとなる。
本発明の流量センサーS並びにその製造方法においては
、 ■=発熱抵抗体4及びサーモパイル6を、す7トオフ法
によって形成すること。
、 ■=発熱抵抗体4及びサーモパイル6を、す7トオフ法
によって形成すること。
I:発熱抵抗体4を形成し、それのポンディングパッド
eにポンディングパッド5,5を設けて後に、サーモバ
イル6を形成すると共にそれのパッドj。
eにポンディングパッド5,5を設けて後に、サーモバ
イル6を形成すると共にそれのパッドj。
jにポンディングパッド5,5を設けること。
■;サーモパイル6において、一方の金属膜g・・の上
面に他方の金属膜1を設けること。
面に他方の金属膜1を設けること。
1v=毛管流路八方向においても複数のセンサー主体を
形成して、これらを切断分離して多数の流量センサーS
を作製すること。
形成して、これらを切断分離して多数の流量センサーS
を作製すること。
等の変形が可能である。
以上説明したように本第1発明の流量センサーは、温度
差検出器としてサーモパイルを用いたので無電源となり
、電源変動等の影響を受けない高感度測定が可能である
。
差検出器としてサーモパイルを用いたので無電源となり
、電源変動等の影響を受けない高感度測定が可能である
。
毛管流路の上流側及び下流側の絶対温度に関係の影響を
受は難い。
受は難い。
発熱抵抗体とサーモパイルを分離させていること、及び
、有機物質を全く用いていないことによって、センサー
素子の経年変化を生じることがない。
、有機物質を全く用いていないことによって、センサー
素子の経年変化を生じることがない。
断面矩形の毛管基材の一側平面に、発熱抵抗体とサーモ
パイルを設けるものであるから、それらα5) を半導体プロセスで形成することが可能となり、現在の
半導体技術をもって、均質で信頼性の高い流量センサー
を生産性良く得られる。
パイルを設けるものであるから、それらα5) を半導体プロセスで形成することが可能となり、現在の
半導体技術をもって、均質で信頼性の高い流量センサー
を生産性良く得られる。
更に、発熱抵抗体及びサーモパイルを、例えば金属製の
毛管基材の一側面に設けることが考えられるのであるが
、金属はその熱膨張率が高いために、抵抗体の発熱によ
って毛管流路が曲って計測上の誤差を生じる虞れがあり
、この点にあって毛管基材をシリコン結晶部とすること
により、シリコンはその熱膨張率が金属例えば鉄の約ん
で曲りによる計測上の誤差を極めて小にでき、優れた計
測結果を得ることができるのである。
毛管基材の一側面に設けることが考えられるのであるが
、金属はその熱膨張率が高いために、抵抗体の発熱によ
って毛管流路が曲って計測上の誤差を生じる虞れがあり
、この点にあって毛管基材をシリコン結晶部とすること
により、シリコンはその熱膨張率が金属例えば鉄の約ん
で曲りによる計測上の誤差を極めて小にでき、優れた計
測結果を得ることができるのである。
そして本第2発明による流量センサーの製造方法によれ
ば、上記した優れた機能を有する流量センサーの複数個
を一挙に得られるものであり、これによって、均質で信
頼性が高く、シかも、経年変化を生じない等の優れた機
能を有する流量センサーの多量生産を実現でき、延いて
は流量センサーの大幅なコストダウンを達成するに至っ
た。
ば、上記した優れた機能を有する流量センサーの複数個
を一挙に得られるものであり、これによって、均質で信
頼性が高く、シかも、経年変化を生じない等の優れた機
能を有する流量センサーの多量生産を実現でき、延いて
は流量センサーの大幅なコストダウンを達成するに至っ
た。
(16)
図面は本発明による流量センサー及びその製造方法に係
り、第1図(イ)〜(す)は流量センサーの製作手順を
示す説明図、第2図は流量センサーを切断分離する以前
の全体平面図、第3図は流量センサーの縦断面図、第4
図は発熱抵抗体のパターンを示す正面図、第5図はサー
モパイルの斜視図、第6図は電気回路図、第7図は毛管
基板の変形例を示す部分破断分解斜視図、第8図は毛管
基材の変形例を示す部分斜視図である。第9図は従来の
流量センサーと共に電気回路を示す説明図である。 1・・・板状基材、2・・・板状蓋体、3・・・毛管基
板、4・・・発熱抵抗体、5・・・ポンディングパッド
、6・・・サーモパイル、7・・・毛管基材、a・・・
溝、k・・・表面保護膜、A・・・毛管流路、C・・・
冷接点、H・・・温接点、S・・・流量センサー。 α“)−11?:
り、第1図(イ)〜(す)は流量センサーの製作手順を
示す説明図、第2図は流量センサーを切断分離する以前
の全体平面図、第3図は流量センサーの縦断面図、第4
図は発熱抵抗体のパターンを示す正面図、第5図はサー
モパイルの斜視図、第6図は電気回路図、第7図は毛管
基板の変形例を示す部分破断分解斜視図、第8図は毛管
基材の変形例を示す部分斜視図である。第9図は従来の
流量センサーと共に電気回路を示す説明図である。 1・・・板状基材、2・・・板状蓋体、3・・・毛管基
板、4・・・発熱抵抗体、5・・・ポンディングパッド
、6・・・サーモパイル、7・・・毛管基材、a・・・
溝、k・・・表面保護膜、A・・・毛管流路、C・・・
冷接点、H・・・温接点、S・・・流量センサー。 α“)−11?:
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ■ 内部に毛管流路を形成した断面矩形のシリコン結晶
製毛管基材に対してそれの一側平面に電気絶縁膜を設け
、該電気絶縁膜上に膜状の発熱抵抗体を形成すると共に
、該発熱抵抗体に対してそれの上流側に冷接点をかつ下
流側に温接点を位置させる状態で膜状のサーモパイルを
設け、更に、前記抵抗体とサーモパイルの夫々に外部配
線接続用のポンディングパッドを設けであることを特徴
とする流量センサー。 ■ はぼ同寸法の複数個の溝を互いに平行に形成した板
状基材と、該基材の前記溝を閉じる板状蓋体とを拡散接
合して、多数の毛管流路を並列に備えるシリコン結晶製
の毛管基板を作製し、該毛管基板の一側平面に電気絶縁
膜を設けると共に、前記毛管流路の夫々に対応する箇所
の前記電気絶縁膜上に膜状の発熱抵抗体な形成し、該発
熱抵抗体の夫々に対して毛管流、路の上流側と下流側に
相当する箇所に冷接点と温接点を位置させる状態で、か
つ、前記発熱抵抗体に対して電気絶縁状態で、膜状ノサ
ーモバイルを形成すると共に、該サーモパイルに外部配
線接続用のボンディングバッドヲ設け、かつ、前記サー
モパイルの形成に先立っであるいは形成後に前記抵抗体
に外部配線接続用のポンディングパッドを設け、巣に、
表面保論膜を設けて後に前記毛管基板を毛管流路の隣接
中間において切断分離して、複数個の流量センサーを作
製することを特徴とする流量センサーの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57216082A JPS59105522A (ja) | 1982-12-08 | 1982-12-08 | 流量センサ−及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57216082A JPS59105522A (ja) | 1982-12-08 | 1982-12-08 | 流量センサ−及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59105522A true JPS59105522A (ja) | 1984-06-18 |
JPH0146011B2 JPH0146011B2 (ja) | 1989-10-05 |
Family
ID=16682968
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57216082A Granted JPS59105522A (ja) | 1982-12-08 | 1982-12-08 | 流量センサ−及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59105522A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04115125A (ja) * | 1990-09-05 | 1992-04-16 | Anritsu Corp | 熱流量センサ |
EP0927874A1 (fr) * | 1997-12-30 | 1999-07-07 | Qualiflow S.A. | Procédé de réalisation de capteur à microthermocouple pour débitmètre massique et dispositif associe |
JP2009168805A (ja) * | 2008-01-11 | 2009-07-30 | Berkin Bv | 流量計、流量計のためのシステムチップ及びその製造方法 |
-
1982
- 1982-12-08 JP JP57216082A patent/JPS59105522A/ja active Granted
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04115125A (ja) * | 1990-09-05 | 1992-04-16 | Anritsu Corp | 熱流量センサ |
EP0927874A1 (fr) * | 1997-12-30 | 1999-07-07 | Qualiflow S.A. | Procédé de réalisation de capteur à microthermocouple pour débitmètre massique et dispositif associe |
JP2009168805A (ja) * | 2008-01-11 | 2009-07-30 | Berkin Bv | 流量計、流量計のためのシステムチップ及びその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0146011B2 (ja) | 1989-10-05 |
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