JPS59104436A - 金属ストリツプの冷却速度制御方法 - Google Patents
金属ストリツプの冷却速度制御方法Info
- Publication number
- JPS59104436A JPS59104436A JP21276682A JP21276682A JPS59104436A JP S59104436 A JPS59104436 A JP S59104436A JP 21276682 A JP21276682 A JP 21276682A JP 21276682 A JP21276682 A JP 21276682A JP S59104436 A JPS59104436 A JP S59104436A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cooling
- temp
- chamber
- roll
- metal strip
- Prior art date
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- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D9/00—Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor
- C21D9/52—Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor for wires; for strips ; for rods of unlimited length
- C21D9/54—Furnaces for treating strips or wire
- C21D9/56—Continuous furnaces for strip or wire
- C21D9/561—Continuous furnaces for strip or wire with a controlled atmosphere or vacuum
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Heat Treatment Of Strip Materials And Filament Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、金属ス） ＩＪツブの冷却速度制御方法に
関し、とくに冷却ロールに接触させて冷却を行う方式の
金（リストリップの冷却において、該金属ストリップと
冷却ロールとの間の熱伝達率を有利に、ｉｌｉ節するこ
とにより、金属ストリップの冷却速度の適切なコントロ
ールを可能ならしめようとするものである。
関し、とくに冷却ロールに接触させて冷却を行う方式の
金（リストリップの冷却において、該金属ストリップと
冷却ロールとの間の熱伝達率を有利に、ｉｌｉ節するこ
とにより、金属ストリップの冷却速度の適切なコントロ
ールを可能ならしめようとするものである。
冷却−過時効処理を含む冷延ス） ＩＪツブの連続焼鈍
における代表的な冷却方法として、従来は水冷却あるい
はガスジェット冷却などが主に行われてきた。
における代表的な冷却方法として、従来は水冷却あるい
はガスジェット冷却などが主に行われてきた。
しかしなから水冷却は、金属ストリップの冷却速度が一
般に大きすぎて制御しにくいこと、また冷却中にス）
ＩＪツブ表面が酸化するためその後に酸洗ラインを心安
とするなどの欠点があった。
般に大きすぎて制御しにくいこと、また冷却中にス）
ＩＪツブ表面が酸化するためその後に酸洗ラインを心安
とするなどの欠点があった。
一方ガスジエツト冷却は、還元性の雰囲気ガスをプロア
で昇圧し、ノズルよりストリップに吹けけて冷却する方
法であるが、冷却能力が小さく、従って小容量ラインで
は所定の冷却速度が得られるものの、大容量ラインでは
目的とする冷却速度を達成することはできない不利があ
った。
で昇圧し、ノズルよりストリップに吹けけて冷却する方
法であるが、冷却能力が小さく、従って小容量ラインで
は所定の冷却速度が得られるものの、大容量ラインでは
目的とする冷却速度を達成することはできない不利があ
った。
すなわち、一般にこの権冷却処理において套装とされる
冷却速度は、鋼種によって異なるけれども大体１０θ”
Ｃ／ Ｓ程度であるが、従来の冷却法では上述したよう
に、所定の冷却速度に制御することは難しかったのであ
る。
冷却速度は、鋼種によって異なるけれども大体１０θ”
Ｃ／ Ｓ程度であるが、従来の冷却法では上述したよう
に、所定の冷却速度に制御することは難しかったのであ
る。
この点、最近に至り、内部に冷媒を通した冷却ロールに
金属ス） ＩＪツブを接触させ接触伝熱によって該スト
リップを冷却する方法が開発された。
金属ス） ＩＪツブを接触させ接触伝熱によって該スト
リップを冷却する方法が開発された。
第１図に、上記の冷却ロールを縦断面で示す。
同図に示したとおり、この種の冷却ロールは、ロールシ
ェル１に設けたらせん状通路２中に冷媒たとえば冷却水
を通す構造になるものであるが、かような冷却ロールＱ
こおいては、冷却水の量を変更することによって金属ス
トリップの冷却速度を制・・御することはできなかった
。というのは冷却水の量を減少させると、冷却ロールの
軸方向における温度勾配が大となり、このため金属スト
リップの幅方向にわたる湿度の不均一が生じるからであ
る。
ェル１に設けたらせん状通路２中に冷媒たとえば冷却水
を通す構造になるものであるが、かような冷却ロールＱ
こおいては、冷却水の量を変更することによって金属ス
トリップの冷却速度を制・・御することはできなかった
。というのは冷却水の量を減少させると、冷却ロールの
軸方向における温度勾配が大となり、このため金属スト
リップの幅方向にわたる湿度の不均一が生じるからであ
る。
従ってかような冷却ロールを使用した場合に、金属スト
リップの冷却速度をコントロールする方法としてＧ↓、
該ストリップと冷却ロールの接触弧長すなわち接触面積
を調整する方式が採用され、この接触弧長の調整は専ら
ロール位置の変更により行っていた。
リップの冷却速度をコントロールする方法としてＧ↓、
該ストリップと冷却ロールの接触弧長すなわち接触面積
を調整する方式が採用され、この接触弧長の調整は専ら
ロール位置の変更により行っていた。
しかしながら全開ストリップの鋼種、板厚およびライン
速度などか変化する度毎に、所定の冷却速度とすべくロ
ール位置を変更することは、各冷却ロール間の平行度を
損うおそれが大きく、金属ス） ＩＪツブの蛇行発生の
原因となるところに問題を残していた。
速度などか変化する度毎に、所定の冷却速度とすべくロ
ール位置を変更することは、各冷却ロール間の平行度を
損うおそれが大きく、金属ス） ＩＪツブの蛇行発生の
原因となるところに問題を残していた。
この発明は、上記の問題を有利に解決するもので、冷却
ロール分用いる金属ス） ＩＪツブの冷却において、ロ
ール位置を変化させることなしに冷却速度を適切にコン
トロールすることができる金属ス） ＩＪツブの冷却速
度柄■方法を提案するものである。
ロール分用いる金属ス） ＩＪツブの冷却において、ロ
ール位置を変化させることなしに冷却速度を適切にコン
トロールすることができる金属ス） ＩＪツブの冷却速
度柄■方法を提案するものである。
この発明は、合羽ストリップと冷却ロール間の熱移動量
は両者間の介在気体の熱伝導率によって大きく変化する
、従って該ロールを収容した冷却室の雰囲気ガスの組成
調節（こよって該雰囲気ガスの熱伝導率を調整すること
により、金属ストリップの冷却速度を適切にコントロー
ルすることができるという新規知見に立脚する。
は両者間の介在気体の熱伝導率によって大きく変化する
、従って該ロールを収容した冷却室の雰囲気ガスの組成
調節（こよって該雰囲気ガスの熱伝導率を調整すること
により、金属ストリップの冷却速度を適切にコントロー
ルすることができるという新規知見に立脚する。
すなわちこの発明は、金属ストリップの連続焼・鈍ライ
ンにおいて、金属ストリップを、Ｈ２＋Ｎ２Ｕ合ガスを
雰囲気ガスとして充満した冷却室の内部に導き、そこに
設置した膜数の冷却ロールに順次に巻かけ接触させて冷
却するに際し、該冷却室内の雰囲気ガス中のＨ２濃度を
調整して金属ス） ＩＪツブと冷却ロールとの間の熱伝
達率をθム節することにより冷却速度をコントロールす
ることをもって、上記課題の解決手段とするものである
。
ンにおいて、金属ストリップを、Ｈ２＋Ｎ２Ｕ合ガスを
雰囲気ガスとして充満した冷却室の内部に導き、そこに
設置した膜数の冷却ロールに順次に巻かけ接触させて冷
却するに際し、該冷却室内の雰囲気ガス中のＨ２濃度を
調整して金属ス） ＩＪツブと冷却ロールとの間の熱伝
達率をθム節することにより冷却速度をコントロールす
ることをもって、上記課題の解決手段とするものである
。
以下この発明を具体的に説明する。
さて前掲第１図に示したような内部水冷型の冷却ロール
で金属ストリップを冷却する場合、金１’Ａストリップ
とロール内冷媒の熱移動は、次式（１）で与えられる。
で金属ストリップを冷却する場合、金１’Ａストリップ
とロール内冷媒の熱移動は、次式（１）で与えられる。
（１＝ Ｋ（ｔ８−ｔｗ） −−−−−（１）ｑ：
金属ストリップから冷媒への熱流束（Ｋｃａｌ／ｍ２ｈ
）Ｋ：熱貫流率（Ｋｃａｚ／ｍ２ｈ”Ｃ）ｔＳ：金属ス
トリップ温度（°Ｃ） ｔｗ：ロール内冷媒温度（°Ｃ） ここに熱貫流率には、次式（２）で表わされる。
金属ストリップから冷媒への熱流束（Ｋｃａｌ／ｍ２ｈ
）Ｋ：熱貫流率（Ｋｃａｚ／ｍ２ｈ”Ｃ）ｔＳ：金属ス
トリップ温度（°Ｃ） ｔｗ：ロール内冷媒温度（°Ｃ） ここに熱貫流率には、次式（２）で表わされる。
α、：金属ス） ＩＪツブとロールシェル間の熱伝達率
（Ｋｃａｌ／ｍ ２ｈ ’Ｃ） λ：ロールソエルの熱伝導率（Ｋｃａｌ／ｍｈ″Ｃ）Δ
Ｘ：ロールシエルの厚み（ｍ） θ、二ロールへの金属ストＩＪツブの巻は角度（度）α
２ ” ／Ｌ’内面と冷１１＝ｊの熱伝達率（Ｋｃａ
ｌ／ｍ”ｈ ’Ｃ）θ２：ロール内冷憚のぬれ角度（度
）（第１図に示したロールの場合θ２＝ ８６０°） さらに、ａ工は近似的に次式（３）で表わすことができ
る。
（Ｋｃａｌ／ｍ ２ｈ ’Ｃ） λ：ロールソエルの熱伝導率（Ｋｃａｌ／ｍｈ″Ｃ）Δ
Ｘ：ロールシエルの厚み（ｍ） θ、二ロールへの金属ストＩＪツブの巻は角度（度）α
２ ” ／Ｌ’内面と冷１１＝ｊの熱伝達率（Ｋｃａ
ｌ／ｍ”ｈ ’Ｃ）θ２：ロール内冷憚のぬれ角度（度
）（第１図に示したロールの場合θ２＝ ８６０°） さらに、ａ工は近似的に次式（３）で表わすことができ
る。
α ＝λｆ／ΔＸ’ −−−−−（３）λｆニスト
リップとロールシェル間の介在気体の熱伝導率（Ｋｃａ
ｚ／ｍｈ″Ｃ） ΔＸ′：ロールシエル、ストリップの表面粗度の合計（
ｍ）従って、ストリップとロールシェル間の介在気体の
熱伝導率λｆを変化させることにより、金属ストリップ
から冷媒への熱流束ｑを変化させることができるわけで
ある。
リップとロールシェル間の介在気体の熱伝導率（Ｋｃａ
ｚ／ｍｈ″Ｃ） ΔＸ′：ロールシエル、ストリップの表面粗度の合計（
ｍ）従って、ストリップとロールシェル間の介在気体の
熱伝導率λｆを変化させることにより、金属ストリップ
から冷媒への熱流束ｑを変化させることができるわけで
ある。
第２図に、５０°ＣのＨ２＋Ｎ２混合ガスすなわちＨＮ
ガス中のＨ２濃度の変化に伴うＨＮガスの熱伝導率の推
移を示す。
ガス中のＨ２濃度の変化に伴うＨＮガスの熱伝導率の推
移を示す。
同図に示したとおりＨＮガスにおいては、Ｈ２濃度が高
くなるに従って熱伝導率は次第に大きくなる。
くなるに従って熱伝導率は次第に大きくなる。
次に第８図に、金属ストリップとロールシェルの表面粗
度の合汀１ΔＸ′が２０μｍの場合における、ＨＮガス
中のＨ２濃度と金属ストリップ−ロールシェル間の熱伝
達率との関係を示す。また同しく第３図に、ロールシェ
ルの厚ミΔＸ：３５闘、該シェルの熱伝導率λ： ３５
ＫＣａｌ／ｍｈ℃、ロール内面と冷媒間の熱伝達率α
２： ４０００ ＫＣａ７／ｍ２ｈ”Ｃそして冷却ロー
ルへの金属ストリップの巻付角θ□：１２０°の場合に
おける熱貫流率Ｋを（２）式によって算出した結果を、
ＨＮガス中のＨ２ｏ度との関係で併せて示した。
度の合汀１ΔＸ′が２０μｍの場合における、ＨＮガス
中のＨ２濃度と金属ストリップ−ロールシェル間の熱伝
達率との関係を示す。また同しく第３図に、ロールシェ
ルの厚ミΔＸ：３５闘、該シェルの熱伝導率λ： ３５
ＫＣａｌ／ｍｈ℃、ロール内面と冷媒間の熱伝達率α
２： ４０００ ＫＣａ７／ｍ２ｈ”Ｃそして冷却ロー
ルへの金属ストリップの巻付角θ□：１２０°の場合に
おける熱貫流率Ｋを（２）式によって算出した結果を、
ＨＮガス中のＨ２ｏ度との関係で併せて示した。
金属ストリップと冷却ロール間の熱伝達率α、および熱
貫流率にとも、ＨＮガス中のＨ２ガス濃変に比例して増
減し、熱貫流率には約７００〜１７００［ＣａｊＡ２ｈ
”ｃの範囲にわたって変化することが明らかになった。
貫流率にとも、ＨＮガス中のＨ２ガス濃変に比例して増
減し、熱貫流率には約７００〜１７００［ＣａｊＡ２ｈ
”ｃの範囲にわたって変化することが明らかになった。
次に、板厚１．２ｍｉで５００°Ｃの金属ストリップを
、直径１．５ｍの冷却ロールに巻は角１２０°で接触さ
せて冷却するときの、熱貫流率にと冷却速度Ｖとの関係
を、ラインスピードをパラメータとして第１図に示す。
、直径１．５ｍの冷却ロールに巻は角１２０°で接触さ
せて冷却するときの、熱貫流率にと冷却速度Ｖとの関係
を、ラインスピードをパラメータとして第１図に示す。
なお冷却速度■は、冷却水の温度を５０°Ｃとし、ロー
ルとロール間の非冷却にさ全ロール巻寸しさのＶ３とし
たときの、ロール冷却部とロール間非冷却部との平均冷
却速度で示した。
ルとロール間の非冷却にさ全ロール巻寸しさのＶ３とし
たときの、ロール冷却部とロール間非冷却部との平均冷
却速度で示した。
同図から明らかなように、材質的に要求される冷却速度
を１００±１０°Ｃ／ ｓとすると、ラインスピードが
２００〜４００ ｍｐｍの場合は熱貫流率にの可変範囲
内にあり、従ってロール冷却室内の雰囲気ガス（ＨＮガ
ス）中のＨ２濃度を変化させることによって、ストリッ
プの冷却ロールに対する接触長さ従ってロール位置を変
えることなく、金属ストリップの冷却速度の制御が容易
に実施できるわけである。
を１００±１０°Ｃ／ ｓとすると、ラインスピードが
２００〜４００ ｍｐｍの場合は熱貫流率にの可変範囲
内にあり、従ってロール冷却室内の雰囲気ガス（ＨＮガ
ス）中のＨ２濃度を変化させることによって、ストリッ
プの冷却ロールに対する接触長さ従ってロール位置を変
えることなく、金属ストリップの冷却速度の制御が容易
に実施できるわけである。
次に、冷却室における雰囲気ガス（ＨＮガス）中のＨ２
ガス濃度の調整要領を、第５図を用いて具体的に説明す
る。
ガス濃度の調整要領を、第５図を用いて具体的に説明す
る。
図中番号８は加熱、均熱および徐冷セクションであり、
ここで熱処理を施された金属ス） ＩＪツブ舎は、ディ
フレククロール５および加熱均熱徐冷セクション８と冷
却室６との間の雰囲気ガスの相互流通を防止するシール
ロール対７を通り、冷却室６内に導かれる。冷却室６内
には複数の冷却ロール８が千鳥足状に配列されていて、
金属ス）ＩＪツブ４はこれらの冷却ロール８に順次に接
触しつつ迂曲通板する間に所定の温度に冷却される。つ
いで冷却されたストリップは必要に応じ過時効セクショ
ン９に送られる。
ここで熱処理を施された金属ス） ＩＪツブ舎は、ディ
フレククロール５および加熱均熱徐冷セクション８と冷
却室６との間の雰囲気ガスの相互流通を防止するシール
ロール対７を通り、冷却室６内に導かれる。冷却室６内
には複数の冷却ロール８が千鳥足状に配列されていて、
金属ス）ＩＪツブ４はこれらの冷却ロール８に順次に接
触しつつ迂曲通板する間に所定の温度に冷却される。つ
いで冷却されたストリップは必要に応じ過時効セクショ
ン９に送られる。
さて冷却室６内の雰囲気ガス中のＨ２濃度は、Ｈ２濃度
計１０によって常時監視しておき、Ｈ２濃度指示調節計
（［（ＩＣ）１１を介してＮ２．Ｈ２の各流量調節弁１
２．１８を操作することによって所定の濃度に調節する
。一方冷却室６内のガス圧は、後述の理由により大気圧
よりも幾分高目にしておく必要があるので、該ガス圧も
冷却室圧力検出器１４で常時監視しておき、圧力指示調
節計（ＰＩＯ）１５によってＨＮガスの流入晋流量調節
弁１６および排出管流Ｍ調節弁１７を調節して所定の圧
力に制御する。
計１０によって常時監視しておき、Ｈ２濃度指示調節計
（［（ＩＣ）１１を介してＮ２．Ｈ２の各流量調節弁１
２．１８を操作することによって所定の濃度に調節する
。一方冷却室６内のガス圧は、後述の理由により大気圧
よりも幾分高目にしておく必要があるので、該ガス圧も
冷却室圧力検出器１４で常時監視しておき、圧力指示調
節計（ＰＩＯ）１５によってＨＮガスの流入晋流量調節
弁１６および排出管流Ｍ調節弁１７を調節して所定の圧
力に制御する。
また冷却室６の出側には、出側板温計１８を設置してお
き、これで金属ストリップ４の湿度を測定し、目標温度
と実際の板温との差を調べ、その偏差に応して冷却室６
内のＨ２濃度をＴＩＣ１９＆こより調節して、所望の出
側板温が得られるように冷却速度をコントロールするの
である。
き、これで金属ストリップ４の湿度を測定し、目標温度
と実際の板温との差を調べ、その偏差に応して冷却室６
内のＨ２濃度をＴＩＣ１９＆こより調節して、所望の出
側板温が得られるように冷却速度をコントロールするの
である。
ところで雰囲気ガス中のＨ２濃度は、還元能力の而から
少なくとも４〜６％は必要であり、一方Ｈ２＋Ｎ２ガス
としては、ＮＨ８（１体アンモニア）の分解ガスを利用
するのが経済的であるので、通常７５％程度を上限とす
るのが望ましい。
少なくとも４〜６％は必要であり、一方Ｈ２＋Ｎ２ガス
としては、ＮＨ８（１体アンモニア）の分解ガスを利用
するのが経済的であるので、通常７５％程度を上限とす
るのが望ましい。
また空気中にｉけるＨ２の爆発濃度範囲は、常温で４゜
０〜７４．２％であり、温度か高くなるとその範囲はさ
らに拡大するので、安全性の而から、げ）冷却室内を正
圧すなわち外気圧よりも幾分高くして空気の混入を防止
する。
０〜７４．２％であり、温度か高くなるとその範囲はさ
らに拡大するので、安全性の而から、げ）冷却室内を正
圧すなわち外気圧よりも幾分高くして空気の混入を防止
する。
（ロ）ロール冷却室のまわりの換気をよくするなどの対
策を講じることが必要である。
策を講じることが必要である。
実際操業においては、金用ス） ＩＪツブと冷媒間の熱
貫流率にの可変範囲が約１００〜１７００Ｋｃａｚ／ｍ
ｈ″Ｃであるので、たとえばに＝ １２００Ｋｃａｌ
７ｍ”’ｈ”Ｃ程ザの中間値に初期設定しておけば、
冷却室内のＨ２７′ｔＡ度のθｄ整により、±４０％程
度の冷却速度のコントロールが可能となり、実用上、種
々の外乱に対する冷却速度の適切な制■が実現されるの
である。
貫流率にの可変範囲が約１００〜１７００Ｋｃａｚ／ｍ
ｈ″Ｃであるので、たとえばに＝ １２００Ｋｃａｌ
７ｍ”’ｈ”Ｃ程ザの中間値に初期設定しておけば、
冷却室内のＨ２７′ｔＡ度のθｄ整により、±４０％程
度の冷却速度のコントロールが可能となり、実用上、種
々の外乱に対する冷却速度の適切な制■が実現されるの
である。
以上述べたようにこの発明によれば、焼鈍を経た金属ス
） ＩＪツブの冷却（こ際し、蛇行の発生原因となるロ
ール位置の変更など發行うことなしに、単に冷却室内の
Ｈ２濃度を調整することによって、金属ストリップの冷
却速度を的確にコントロールすることができ、有利であ
る。
） ＩＪツブの冷却（こ際し、蛇行の発生原因となるロ
ール位置の変更など發行うことなしに、単に冷却室内の
Ｈ２濃度を調整することによって、金属ストリップの冷
却速度を的確にコントロールすることができ、有利であ
る。
第１図は内部冷却機構をそなえる冷却ロールの断面図、
第２図はＨＮガス中のＨ２濃（９）とＨＮカスの熱伝導
率との関係を示したグラフ、 第３図はＨＮガス中のＨ２濃度と、金属ス） ＩＪツブ
−冷却ロール間の熱伝達率α、および熱貫流率にとの関
係を示したグラフ、 第４図（ユ熱貝カＩＬ率にと金膨ス） ＩＪツブの冷却
速度Ｖとの関係をラインスピードをパラメータとして示
したグラフ、 第５図は冷却室における雰囲気ガス中のＨ，ガス濃度の
調整貿領説明図である。 特許出願人 川崎製鉄株式会社 同 出願人 三菱重工業株式会社 第２図 ＨＮがス中（ｒ）Ｈ２濃度（％） 第８図 ＨＮがス中のＨ２５１度（％〕 第４図
率との関係を示したグラフ、 第３図はＨＮガス中のＨ２濃度と、金属ス） ＩＪツブ
−冷却ロール間の熱伝達率α、および熱貫流率にとの関
係を示したグラフ、 第４図（ユ熱貝カＩＬ率にと金膨ス） ＩＪツブの冷却
速度Ｖとの関係をラインスピードをパラメータとして示
したグラフ、 第５図は冷却室における雰囲気ガス中のＨ，ガス濃度の
調整貿領説明図である。 特許出願人 川崎製鉄株式会社 同 出願人 三菱重工業株式会社 第２図 ＨＮがス中（ｒ）Ｈ２濃度（％） 第８図 ＨＮがス中のＨ２５１度（％〕 第４図
Claims (1)
- Ｌ 金属ストリップの連続焼鈍ラインにおいて、金属ス
トリップを、Ｈ２十Ｎ２混合ガスを雰囲気ガスとして充
満した冷却室の内部に導き、そこに設置した版数の冷却
ロールに順次に巻かけ接触させて冷却するに際し、該冷
却室内の雰囲気ガス中のＨ２ガス濃度を調整して金罵ス
トリップと冷却ロールとのｍＪの熱伝達率を調節するこ
とにより冷却速度全コントロールすることを特徴とする
金属ストリップの冷却速度制御方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21276682A JPS59104436A (ja) | 1982-12-06 | 1982-12-06 | 金属ストリツプの冷却速度制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21276682A JPS59104436A (ja) | 1982-12-06 | 1982-12-06 | 金属ストリツプの冷却速度制御方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59104436A true JPS59104436A (ja) | 1984-06-16 |
Family
ID=16628039
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21276682A Pending JPS59104436A (ja) | 1982-12-06 | 1982-12-06 | 金属ストリツプの冷却速度制御方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59104436A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62161925A (ja) * | 1986-01-09 | 1987-07-17 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | ストリツプの熱処理方法 |
-
1982
- 1982-12-06 JP JP21276682A patent/JPS59104436A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62161925A (ja) * | 1986-01-09 | 1987-07-17 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | ストリツプの熱処理方法 |
| JPH0672270B2 (ja) * | 1986-01-09 | 1994-09-14 | 三菱重工業株式会社 | ストリツプの熱処理方法 |
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