JPS59101645A - 増感剤の存在下で光架橋可能な混合物とそれから得られる製品および中間生成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、増感剤の存在下で光により架橋化する新規
な混合物とそれから得られる架橋化した製品および新規
な中間体に関するものである。

ドイツ公開公報第２６２６７６９号およびヨーロッパ特
許出願公開番号第３５５２号によって、側鎖にイミジル
基特にジメチルマレインイミノル基および特定の五環性
イミジル基を有する光架橋性ポリマーが知られている。

しかしその感光性にはまだ要望される部分が残されてい
る。

この発明の対象は、 Ａ）場合により式■ １ １ Ｒ′ で示される構成要素を有する脂肪族不飽和重縮合生成物
と、 Ｂ）式１１ て示されるヒスイミド〔式中、Ｒ（！：　Ｒ’は互に独
立したものであってＣ１−４−アルキル基を表わすか、
またはＲとＲ′とが一緒になって場合によってはメチル
基によって置換されたテトラメチレン基若しくは式ｍ て示される基を表わす。式Ｉ、式１１及び式■に於いて
Ｒ，は水素またはメチル基を表わし、Ｒ２とＲ３は互い
に独立したものであって、水素、ハロケン、Ｃ１−４−
アルキル基またはメトキシ基を表わし、Ａは−ＣＨ２−
１−ＣＨ，、Ｃ１（２−または芳香族環に酸素側が結合
している一０ＣＨ２−を表わす時にはＥは水素を表わす
、またはＡが一〇−を表わす時にＥは−ＣＨ３を表わす
。Ｒ４は、−ＣｍＨ２ｍ−（ｍ＝　１−２０　）、−（
ＣＨ２）Ｘ　Ｑ（ＣＨ２）Ｘ’−１−（ＣＨ２）２ＮＨ
（ＣＨ２）　２ＮＨ（ＣＨ２）２−１−ｃＨ２−Ｚ−Ｃ
Ｈ２−、フェニレン基（該フェニレン基４１個または２
個の塩素原子によって、または１個′たは特に−ＮＨ−
を表わし、ＸとＸ′は互に独立したものであって２〜４
の数、特に、それぞれが２の数を表わし、Ｚはフェニレ
ン基たはＣ４−６−シクロアルキレン基を表わし、Ｘは
単結合、−０−１−Ｓ−１−ｓｏ２−１−ＣＨ２−また
は−Ｃ（ＣＨ３）２−を表わし、ＹとＹ′はそれぞれ−
ＯＨを表わすか、−緒になって一〇−を表わす。〕とを
含有し、ポリマーＡ）に対して弐〇のビスイミドの割合
が０．１〜７５重量％好しくは１〜２５重量％である、
増感剤の存在下で光によって架橋化する新規な混合物で
ある。

Ｒ，Ｒ′、Ｒ，およびＲ３が表わすアルキル基は直鎖状
でも分岐状でもよい。そのような基の例としては、メチ
ル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル
および５ｅｃ−ブチル基が挙げられる。好ましいのはＣ
−原子数が１または２のアルキル基、特にメチル基であ
る。

ＲとＲ′か一緒になって式１■の基を表わす場合には、
Ｅ、几、およびＲ３かそれそ゛れ水素であり、かつＡが
−ＣＨ２−を表わすものか好ましい。ＲとＲ′は一緒に
なってテトラメチレン、３−または４−メチルテトラメ
チレン基を表わすものが好ましく、それぞれがメチル基
を表わすものか特に好ましい。

Ｒ４が−ＣｍＨ２ｍ−を表わす場合には、直鎖状または
分岐状の基、例えばメチレン、エチレン、■。

２−または１，３−プロピレン、テトラメチＩ／ン、１
．１，３．３−テトラメチルブチレン、ペンタメチレン
、ヘプタメチレン、ヘプタメチレン、オククメチレン、
ノナメチレン、デカメチレン、ウンデカメチレン、トリ
デカメチレン、テＩ・ラテカノチレン、ヘキザデカメチ
レン、ヘプタデカメチレン、オククデカメチレンおよび
アルキレン基等が挙けられる。好ましいのは直鎖状の−
ｃｍ＋（２ｍ−基（ｍ−２−１０）である。Ｉ（，４か
−ＣＨ２−Ｚ　−ＣＤ２−を表わす場合には、例えば１
，３−または１，４１．４−シクロヘキシレン基を表わ
すものである。

場合により１個あるいは２個の塩素原子または１個また
は２個のメチル基で置換されているフェニレン基を瓜が
表わす場合には、例えは１，３−および１，４−フェニ
レン−１０−またはｍ−トルイレン−１４，５−ジメチ
ル−１，２−フェニ特に４，４′−ンアミノソフェニル
メクノ、４，４′−ジアミノジフェニルエーテル、４，
４′−ジアミノンフェニルスルファイトまたは４，４′
−ノアミンジンクロヘキシルメタン等からなる基か挙げ
られるＯＲ，は、直鎖状の−ＣｍＨ，ｎｌ−（ｍ　＝　
２−１０　）、（ＣＨ２）２Ｑ（ＣＨ２）２−　　（Ｑ
　＝−８−１−〇−１および特に−ＮＨ−）、−ＣＨ２
−Ｚ−ＣＨ，、−（Ｚ　＝　１　、３−若しくは１゜４
−フェニレン、■、３−若しくは１，４−シクロ・＼キ
シレン基）；あるいは４，４′−ジアミノンフェニルメ
タン、４，４′−ジアミノジフェニルエーテルまたは４
，４′−ソアミノノフェニルスルフィト、１，３−また
は１．４−フェニレン等の基を表わすものが好ましい。

特に好ましいのは、ＲとＲ′がそれぞれメチル基を表わ
し、Ｒ１が水素を表４つじ、ＹとＹ′が一緒になって一
〇−を表わし、Ｒ４が−（ＣＨ２）　２　ＮＨ（ＣＨ２
）　２−および詩に直鎖状の−Ｃｍ　Ｈ２ｍ　−、（ｍ
　＝　２〜１０　）を表わす組成物である。

本発明に於いて使用されるポリマーは平均分子量が１０
００−１００００００および特に１０００〜３５０００
を有するものが好ましい。ポリマーの平均分子量は公知
の方法、例えば光散乱法、蒸気圧浸透法または超遠心分
離法によって測定さ九る。

好適な不飽和重縮合生成物は、例えば不飽和のポリアミ
ド、ポリエステル、ポリエステルアミ］・およびポリウ
レタンである。

Ｒ。

−０−Ｃｏ−Ｒ１−Ｃ＝ＣＨ−Ｒａ　−Ｃｏ　０−Ｒｌ
ｌ−（■）−Ｃｏ−０−ＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ２−
０−Ｃｏ−Ｒ８−（Ｖｌｌ）−Ｃｏ−０−ＣＨ−ＣＨ２
−０−Ｃｏ−Ｒ８−（■）ＣＨ １ Ｃ１（２ −ＮＨ−Ｃｏ−０−ＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ２−０−
Ｃｏ−ＮＨ−几、、−（ＩＸ）−Ｏ−Ｃｏ−ＮＨ−１１
，，２−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒｌ３−ＮＨ−ＣＯ−０−Ｒ１□
−（Ｘ）で示される繰り返し構成要素の内の１種を含み
、更にその選ばれた１、種の繰り返し構成要素を有する
原料ポリマーのＣ−Ｃ−二重結合に弐ぶで示される無水
物を部分的に付加して得られる繰り返し構成要素と、こ
のようにして生成された構成要素の付加された無水物基
の可能な場合の加水分解によって得られる繰り返し構成
要素との両方若しくはどちらか１種からなる飽和繰り返
し構成要素を必要に応じて含む重縮合生成物が好ましい
０上記式ＩＶ　−ＸＩに於いて、几、Ｒ′およびＲ７は
前述の式Ｉの場合と同じ意味を表わし、Ｒ６と島は互に
独立したものであって、単結合（この場合几、またはＲ
６の両側の部分は基等を介することなく直接に単結合す
る。）または＝ＣＨ２−を表わすか、または隅とＲ６の
一方が単結合で他方が−ＣＨ＝ＣＨ−または十ＣＨ２＋
を表わし、Ｒ７は芳香族ジアミン、特に１゜３−または
１．４−フェニレンの残基、４．４’−ジアミノジフェ
ニルメタンまたは４，４′−ジアミノジフェニルエーテ
ルの残基またはＣ−原子数１−１６の脂肪族、特に−Ｃ
ＯＨ２０（ｏ　＝　２−７　）の脂肪族ジアミノの残基
を表わし、Ｒ８は芳香族ジカルボン酸特にテレフタル酸
またはイソフタル酸の残基、または少なくともＣ−原子
数が６であり場合によりＣ＝Ｃ−二重結合を有する脂肪
族ジカルボン酸、特に÷ＣＨ２ｔ（ｐ＝４〜１２、特に
４〜８）の脂肪族ジカルボン酸の残基を表わし、ｌｔ９
と”１０は互いに独立したものであって、場合により置
換されかつ／またはＣ−Ｃ−二重結合を有する主鎖のＣ
−原子総数が４〜１２の脂肪族基を表わし、−ＣｑＨ２
’ｑ　−（ｑ’　＝　２−１０　、特に２〜４）を表わ
し、Ｒ□２とＲＩ３　　は互に独立したものであって一
＋Ｃ［（２ｅｙ（ｒ−１〜５）を表わす。

上記のものの中では式ＩＶおよび■中のＲ６およびＲ６
はそれぞれが単結合を表オ）してＲ□はメチル基および
特に水素を表わすか、またはＲ，は水素を表わして几、
および馬はそれぞれ＝ＣＨ２−を表わすものが好ましい
。特に好ましいのは弐■およびＶｌ中のＲ１が水素を表
わして、Ｒ５およびＲ６がそれぞれ単結合を表わすもの
である。

前記のポリマーとしてはホモポリマーまたはコポリマー
、例えばジオールＨＣ）−Ｒ，、−ＯＨと不飽和および
飽和ジカルボン酸の混合物（例えば無水マレイン酸とテ
レフタル酸または・Ｃの誘導体の混合物）とからのコポ
リエステルか挙げられる。

ポリエステルとしては、式ＩＶａ −Ｏ−Ｃｏ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｏ−０−ＲＨ−（■ａ）て
示される繰り返し構成要素および所望により弐〜１１ｂ
および／またはＩａ で示される繰り返し構成要素〔式中、ＲとＲ′は一緒に
なってテトラメチレン基を表わすか、または特にそれぞ
れがメチル基を表わし、亀ｌは＋ＣＨ２％−（ｓ　＝　
２−１２　、特に２〜４）を表わす０〕からなるものが
誉げられる。式１ａ　　の構成要素の割合としては、ポ
リエステルの繰り返し構成要素の総数に対し、て９５％
まで、特に３０〜８５％の範囲から選ぶことができる。

ポリエステルとして好ましいのは式ＶＩａ　　の繰り返
し構成要素を含み、更に所望に応じてｖ＋ｂ　　の繰り
返し構成要素を含むものである。

ポリアミドとしては式Ｖａ Ｑｓ　　　　　　　　　　　　　　　Ｑ　１１ Ｃ４Ｃ２（Ｖａ） で示される繰り返し構成要素、および所望により式■ｂ
、式１ｃ及び／または式■ｄ； ００＼。／ＣＯ（Ｉｂ） ３Ｑ１ １ て示される繰り返し構成要素〔式中、ＲとＲ′は一緒に
なってテトラメチレン基を表わすか、または特にそれぞ
れがメチル基を表わし、ＱｌはＣ１−１□−アルキル基
を表；１つし、Ｃ２は水１累１またはＣ”Ｉ−’１２−
アルキル基を表わし、Ｃ３はｃ、−１２−アルキル基、
環のＣ−原子数が４〜１２のシクロアルキル基、ｃ、ｉ
子数７または８のアルアルキル基またはフェニル基を表
わし、ｑは水素、Ｃｌ−１２−アルキル、環のＣ−原子
数が４〜１２のシクロアルキル基、ｃ−ｉ子数７オたは
８のアルアルキル基才たはフェニル基を表わし、または
ＱｌとＣ２および／またはＣ３とＣ４は一緒になってＣ
−原子数３〜１１のアルキレン基を表わし、Ｒ８はテレ
フタル酸、イソフタル酸および／またはＣ−原子数６〜
１２の飽和脂肪族ジカルボン酸の残基を表わす。〕から
なるポリアミドを使用することが特に好ましい。式１ｂ
、ｌｃおよび／またはｌｄ　の構成要素の割合は、ポリ
アミドの構成要素の総数に対して９５％まで、特に２０
〜９０％の範囲から選択することができる。

ＱｌはＣ１−５−アルキル基を表わし、Ｃ２は水素また
はＣ１−６−アルキル基を表わすか、またはＱｌとＣ２
が一緒になってＣ−原子数４〜７のアルキレン基を表わ
し、Ｃ３はＣ１−７−アルキル基、Ｃ５−８−シクロア
ルキル基またはフェニル基、特にｃ、−５−アルキル基
またはフェニル基を表わし、Ｃ４は水素またはＣ１−６
−アルキル基、特に水素またはメチル基を表わすものが
好ましい。

Ｑ＋はメチル基才たはエチル基を表わし、Ｃ２は水素、
メチル基またはエチル基を表わし、Ｃ３はＣ１−６−ア
ルキルまたはフェニル基を表わし、Ｃ４は水素またはメ
チル基を表わし、Ｒ８はテレフタル酸、イソフタル酸お
よび／またはＣ−原子数６〜１０の飽和脂肪族ジカルボ
ン酸の残基を表わすものがより好ましい。

その上特に好ましいものは、几とＲ′が一緒になってテ
Ｉ・ラメチレン基を表わすか若しくはそれぞれがメチル
基を表わし、Ｑ＋とＣ２がメチル基を表わし、Ｃ３がイ
ングロビル基を表わし、Ｃ４が水素を表わし、Ｒ８がテ
レフタル酸、インフタル酸および／またはアジピン酸の
残基を表わすものである場合での、式Ｖａ　　で示され
る繰り返し構成要素と所望により式１ｂ、ｌｃおよび／
またはｌｄ　　で示される繰り返し構成要素とからなる
ポリマー、特にＱｌとＣ２がメチル基を表わし、Ｃ３が
イングロビル基を表わし、Ｃ４が水素を表わし、Ｉ′ｔ
８がテレフタル酸、インフタル酸および／またはアジピ
ン酸の残基を表わす前記のポリマーであり、式１ｂ、ｌ
ｃおよび／またはｌｄ　　の構成要素の合計割合がポリ
アミドのジアミノ成分に対して４０〜８５％までのもの
である。最も好ましいのは、Ｑ、〜Ｑ４およびＲ８が上
記に示したものから成る式Ｖａ　　の繰り返し構成要素
のみからなるポリアミドである。

弐Ｉの繰り返し構成要素を有する脂肪族不飽和重縮合生
成物は新規であり、これも本発明の対象である。この場
合、Ｒ，、Ｒ、Ｒ’、ＹおよびＹ′が示すものとして、
かつ場合により　−Ｃ−Ｃｏ−Ｙ　　基で−Ｃ−Ｃｏ−
Ｙ’ 一部か修飾された好ましい不飽５ｉ′１１重縮合生成物
としては、前記のものが挙げられる０式Ｉの繰返し構成
要素を有するポリマーは、脂肪族不飽和重縮合生成物を
ラジカル的にあるいは光を作用させて式Ｘの化合物と反
応させ、場合によっては無水物基を加水分解することに
よって得ることができる。

この反応は、不活性雰囲気中、例えば窒素雰囲気中で、
しかも以下に記載するような不活性有機溶媒と増感剤の
存在下で行われる。該溶媒としては、例えば脂肪族、脂
環族または芳香族のノ’ｓｏゲン化されていてもよい炭
化水素（例えばペンクン、ヘキサン、ヘプタン、シクロ
ヘキサン、ベンゼン、トルエン、クロルベンセン、ジク
ロルベンゼン等またはこれらのハロゲン化物）；環状ま
たは脂肪族アミド（例えはＮ−メチルピロリドン、Ｎ−
エチル−２−ピロリドン、Ｎ−メチル−ε−カブロラク
クム、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ。

Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ、Ｎ−ジエチルアセトア
ミド等）；脂肪族および環状ケトン（アセトン、メチル
エチルケトン、シクロ・＼キサノンおよＯ・シクロペン
タノン等）；アルコール（メタノール、エタノールおよ
び２−７トキシエクノール等）を挙けることかできる。

上記のこれらの溶媒の混合物も使用することができる。

好ましい溶媒はＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドである。

弐Ｘの化合物および式１■〜Ｘの繰り返し構成要素を持
つポリマーは公知であるかまたは公知の方法によって製
造することができる。式■の化合物は公知の方法で、弐
Ｘの化合物とジアミンＨ２Ｎ−Ｒ，　−ＮＨ２　　との
反応および生成中間体のアミド酸の環化によって得るこ
とができる。Ｒ（！：Ｒ′が一緒になって場合によりメ
チル基により置換されたテトラメチレン基を表わし、Ｒ
４が前記のものを表わす式■の化合物は新規であり、こ
れもまた本発明の対象である。この場合、Ｒ４の示すも
のとしては、上記のものが適用され、几とＲ′は一緒に
なってテトラメチレン基を表わすものか好ましい。弐■
の繰り返し構成要素を持つポリマーの製造に必要なジア
ミ／は、例えは弐刈； ３Ｑ１ １ Ｈ，、Ｎ−Ｃ−ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−（ＣＨ２）２−ＣＨ
＝ＣＨ２−Ｃ−ＣＨ＝ＣＨ２１ ４Ｑ２ で示されるオキシムを直接還元してこれ（て対応するジ
アミンとするか、またはオキシムをます脱水してこれに
対応するニトリルとし、この二Ｉ・リルを還元してシア
ミンとすることによって得ることができる。弐■のオキ
シムは公知であり、またヨーロッパ特許出願公開第１１
５９９号に記載されている方法によって製造することが
できる。

本発明の混合物は、増感剤のほかに通常の添加剤、例え
ば他の架橋剤を含有してもよい。添加する架橋剤として
は、具体的にはドイツ公開公報第２６５７１０４号に記
載されているようなジアミン等が挙げられる。増感剤と
して具体的には、それを使用するときに、三重項励起状
態にある増感剤の三重項エネルキーが励起していない式
■の化合物へ移動することによって反応が起る三重項増
感剤（　Ｔｒｉｐｌｅｔｔｓｅｎｓｉｂｉｌｉｓａｔｏ
ｒｅｎ）が適しており、例えはアセトフェノン、ベンゾ
フェノン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイン
ブチルケトン、ミヒラーのケトン、１，２−ジ・＼ンジ
ルベンゼン・１、４−ンアセヂルベンセン、４−ンアノ
ヘンゾフエノン、チオキサンｌ−ン、アントラキノン、
１。

２−および１，４−ナフトキノン、２−メチルアントラ
キノン、ヘンズアントロン、ヒオールアンＩーロン、ｐ
　、　ｐ’−テ１−ラメチルンアミノヘンンフエノン、
クロルアニル等のケ１ーン類；アントラセン、クリセン
；ニトロベ゛ンゼン、ｐ−ジニトロベンゼン、ｌ−また
は２−二トロナフタリン、２−ニトロフルオレン、５−
ニトロアセナフテン、ニトロアニリン、２−クロル−４
−ニトロアニリン、２、６−ジクロル−４−ニトロアニ
リン等のニトロ化合物が挙げられる２，；ｌ増感剤とし
ては、アゾイソブチロニトリルまたは過酸化物（例えば
、ジベンソイルパーオキサイド）のようなラジカル開始
剤を使用することもできる。増感剤としては、ドイツ公
開公報第３０１８８９１号、同第３１１７５６８号およ
びヨーロッパ特許出願公開Ｗ３３７２０号に記載されて
いるような置換されていないチオキサントンまたは置換
されているチオキサントンを使用することが好ましい。

先に定義した混合物を増感剤の存在下および所望により
他の架橋剤の存在下で光を作用させて架橋化させること
によって得られる架橋化した製品もまた本発明の対象で
ある。増感剤としては例えば前記したものが挙げられる
。

架橋反応時に露光および必要に応じて前取って行われる
式Ｘの無水物とポリマーとの反応時の露光にはＴＪＶ−
光線を使用して行うことが好ましい。

光源としては、例えばキセノンランプ、炭素アーク光、
水銀ランプおよびハロケン化金属−水銀ランプが適して
いる。

本発明による混合物は、例えば種々の基材、特に金属（
アルミニウム、銅およびスチール）またはまたは合成樹
脂（ポリエステル、酢酸セルロース等）からなる基材上
の耐１Ｇ剤性被覆物およびコーティングの製造、または
オフセツ！〜印刷法用の印刷版の製造、非銀塩写真用の
フオＩ・オフセット塗料の製造、例えはカチオン性染料
により染色された写真像の光架橋による作成等に適して
いる。本発明の混合物は公知の方法による、印刷版の製
造のために、または印刷回路作成のためのいわゆるフォ
トレジスト材料古して使用することができる。

後者の応用においては、導電板上の感光層を備えた面が
回路パターンの像を有するフォトマスクを介して露光さ
れ、次いで現像され、感光層の露光していない部分が現
像ＵＰこよって流しおとされる。

式Ｉの構成要素を有するポリマーを含む混合物は水若し
くはアルカリ水溶液によって現像のできるシステムであ
り、有機溶剤をベースとする現像浴に比べて操作が安全
であり、公害を出さない等の生態学上の見地から有利な
ものである。このようなシステムは、またカチオン性染
料によって染めることもできる。支持体にはそれ自体慣
用されている方法、例えば浸漬法、スプレー法、フイー
シーコーティング法（ｗｈｉｒｌｅｒ−ｃｏｏｔｉｎｇ
　）　ｓカスケードコーチインク法、ナイフコーティン
グ法、カーテンコーチインク法またはいわゆるロールコ
ーチインク法等によって感光性混合物を塗布することが
できる。

本発明による混合物は特に高い感光性がある点に特徴が
ある。これによって得られる架橋製品は、耐溶剤性（イ
ンプロパツール中等で）が良好であり、耐摩耗性が高く
、かつ種々の支持体材料、特に金属に対する接着性が良
好である。

例１−５： アジピン酸と２，２−ツメチル−１１−イソプロピル−
１，１１−ジアミノウンデカ−４，８−ジエン（ＤＵＤ
）とからの原料ポリアミド５．０ｇをＮ＋Ｎ−ジメチル
ポルムアミド（ＤＭＦ）７０ｄ中に溶かした溶液をＵＶ
−反応器（１２５Ｗｌ（ＰＫフィリップス製浸漬ランプ
を取付けたフラスコ）に入れ、これにそれぞれ下記の表
１に示した量のジメチル無水マレイン酸と、チオキサン
トン０．２５９とをＤＭＦ８０−に溶かした溶液を窒素
雰囲気下で２０℃に２時間照射しながら滴下する。次に
、更に２０時間照射し、容量が３分の１になるまで濃縮
する。

２ｔのジエチルエーテル中に注いでポリマーを沈澱させ
る。得られたポリマーの分析データを表Ｉに総括して示
す。

本例に於いて使用した原料ポリアミドは以下のようにし
て製造することができる： ２．２−ジメチル−１１−イソプロピル−１゜１１−ジ
アミノ−ウンデカ−４，８−ジエン（ＤＬＩＤ　）’　
６２．８グ、アジピン酸３６．４　ｆ、１０％ＮＨ４Ｈ
，，ＰＯ，、水溶液０．２５＋ｍおよびジーｔｅｒｔ−
フチルーｐ−クレンール０．５９をオートクレーブ中で
窒素雰囲気下に４時間前縮合させ、次いで窒素ガスを流
しながら開放系のポリ縮合容器中で縮合を続け、更に１
時間高真空下て後縮合させる。ポリ縮合はすべて２５０
℃で行う。得られたポリアミドの元素分析： 計算値　Ｃ７２，］８８％Ｈｌｏ、５７％　Ｎ７．７３
％実測値　Ｃ７０，２０％　ｉ（１０，４７％　Ｎ７．
４５％末端基含量ニーＣ０ＯＨ％ｏ、　１６　ｒｎ　／
　当量／　ｒ　：　−Ｎｌ２．０．０４ｍ／当量、／′
？。

カラス転移温度、Ｔｇ（微分走査熱量計により測定）−
４５℃：還元粘度ηｒｅｄ　＝　０．７０　ｄ４／ｆ　
（ｍ−クレゾール中に０．５％の濃度で溶かした溶液で
２５℃にて測定）０ 使用したンアミンは以下のようにして製造することがで
きる： ２．２−ジメチル−１１−インプロビル−１１−アミノ
−ウンデカ−４，８ジエナールオキシム８０　？　（０
，３ｍｏｔ）を、かきませながら酢酸１０〇−に加える
。次にこれにＨＣｔ−カスを飽和するまで導入し、１５
分以内に無水酢酸３０，６　ｒ　（０，３ｍｏｂ　）を
滴下する。反応混合液を更に４時間還流下に加熱し、酢
酸を留去し、残留物を水に溶かす。

溶液を苛性ソーダ溶液で塩基性にした後、分離した有機
相をトルエンで抽出して蒸留して、１，１−ジメチル−
１０−イソプロピル−１Ｏ−アミノ−デカ−３，７−ジ
ニンニトリル６８．５　ｆ（０，２７６ｍｏＬ）を得た
。収率は理論量の９２％。ａ　Ｐａ下での沸点９４℃０ ナトリウム２３グ（ｌ　ｍｏｌ　）をトルエン１５〇−
に加え、混合物をすｌ−ＩＪウムが溶融するまで加熱す
る。次に加熱をやめ、ナトリウムが灰色の微分来状に分
散するまでかきませる。この混合液に先に得られた１、
１−ジメチル−１０−イソプロピル−１Ｏ−アミノ−デ
カ−３，７−ジニンーニトリル５３　ｔ　（０，２１４
ｍｏｔ）をイングロパノール１００ｍ１に溶かした溶液
を加える。更に３時間還流煮沸し、水２００ｍ７！を加
え、有機相を分離する。

溶媒を留去後２，２−ジメチル−１１−イソプロピル−
１，１１−ジアミノ−ウンデカ−４，８−ジエン４４　
Ｓ’　（０−１７５ｍｏｔ）を得た。収率は理論量の８
１．５％。沸点８６℃（圧力Ｉ　Ｐａ　）ｎ　’。＝１
．４８１０゜ 例６： 磁気攪拌器、音素導入口および窒素排出口および１２５
　Ｗ　ＨＰＫフィリップス製浸漬ランプを備えたフラス
コ中で、例１で使用したのと同様の原料ポリアミド５．
０２をＤＭＦ　７０−に溶がし、この溶液に窒素を流し
ながら２０℃でラングのスイッチを入れた後無水３，４
，５，６−チトラヒドロフタ／Ｌ／酸４．２０　ｆ　ト
（−、ｔ−１−サンｌ−：／　０．２５　ｆヲＤＭＦ８
０ゴに溶かした溶液を２．５時間かけて滴下する。

次いでこの溶液に窒素雰囲気下で更に１５．５時間光を
照射する。溶媒の半分が除去される。残留溶液に水１０
−を加え、５分間８０℃に加熱した後冷却する。生成物
を２ｔのジエチルエーテル中で沈澱させる。沈澱した生
成物をＰ別し、２０℃で真空乾燥する。ポリアミドの収
量ニア、９４Ｓ’（変換率７０．０％）；ηｒｅｄ　＝
　０，２９　ｄＬ／？　（ｍ−クレゾール中の濃度０．
５％、２５℃）；Ｔｇ−５５℃。

元素分析：　Ｃ６５，９０％　　Ｈ８，７０９ｏ　　Ｎ
　５．８６　％。

ポリマー中の酸の総含量：　３．９８　ｍ当量／ｌｏ従
って、ポリマー中のｃ−ｃ−二重結合の６６．３％が無
水３，４，５．６−チトラヒドロフタル酸と反応したこ
とになる。

例７−９： （ジメチル無水マレイン酸で修飾されている）例２で得
られたポリアミド０．３ｆ、チオキサントン１７１ｎ９
および下記の表■にそれぞれ示した量のＮ　、　Ｎ’−
エチレン−ビス−ジメチルマレインイミドをＤＭＦ７．
０グに溶かす。この溶液を７５μｍ−ドクターで銅−導
電板上に塗布し、１００℃で４分間乾燥する。次に被覆
層を段階的光学楔（ステップウェッジ）　（ｇｔｏｕｆ
ｆｅｒ社の２１段階感度指標）を有するフォトマスクを
介して７０ｔｙｎの距離から５０００　Ｗ高圧燈により
露光し、次いで３０秒間５％ＮａＯＨ溶液に浸し、脱イ
オン水で短時間洗浄し、５％ＨＣｔに３０秒間浸し、Ｆ
ｅＣ１５溶級中で腐刻する。露光時間と段階的光学楔中
の各段階中で像が形成された段階を表Ｈに示す。

例１Ｏ： 例１と同様の原料ポリアミド０．５２、Ｎ、Ｎ’−オク
タメチレン−ビス−ジメチルマレインイミド０．２５ｆ
およびチオキサントン４０■を、メチルセルソルブ４．
５Ｓ’、メチルエチルケトン２．２５ｇ″オヨヒクロロ
ホルムｌｆ（混合割合６：３：１）の混合液に俗かす。

この溶液を５０μ【ｎ−ドクタを用いて銅−導電板に塗
布し、１００℃で３分間乾燥する。次いで積層体を例７
−９に記載した段階的光学楔を介してｓｏｏｏｗ高圧燈
により露光し、上述の溶媒混合液中で３０秒間現像する
。下記の結果が得られた。

３００　　　　　　　　１０ ４２０　　　　　　　　　１２ 例１１： １．３−プロピレングリコ−９１００重量部、無水マレ
イン酸７２重量部および無水フタル酸５４重量部からな
り、２０℃における粘度が１０００ｍＰａ５であるポリ
エステル０．５ｆと、Ｎ　、　Ｎ’−オクタメチレン−
ビス−ジメチルマレインイミド０，２５　ｆｔと、チオ
キサントン３７７ｎｇをクロロホルム６．７５２に溶か
す。この溶液を５０μｍ−ドクターにより銅−導電板に
塗布し、１００℃で３分間乾燥する。

得られたコーティングは透明で光沢がある。この被覆層
を次に前記の段階的光学楔を介して７０ｃｔｎの距離か
ら５０００Ｗ高圧燈により露光し、１分間クロロホルム
／エタノール（１：１）の溶媒混合液中で現像する。下
記の結果が得られる。

露光時間　　　像が形成された最終段階９０　　　　　
　　　４ １８０　　　　　　　　６ 原料ポリマー中の二重結合のビスイミドに対する比は０
．６である。

例１２： 例２に於いて製造された、ジメチル無水マレイン酸で修
飾されたポリアミド１．０？、Ｎ　、　Ｎ’−オクタメ
チレンービスージメチルマレインイミド０．２０ｆおよ
びチオキサントン６０■をクロロホルム２４１に溶かす
。この溶液を５０μｌη−ドクターで銅−導電板上に塗
布し、１００℃で４分間乾燥する。この被覆層を前記の
段階的光学楔を介して７０ｃｍの距離から５０００Ｗ高
圧燈により３０秒間露光し・次いで５％ＮａＯＨ溶液中
に３０℃にて３０秒間浸し、脱イオン水で短時間洗い、
５％Ｈｃｔに３０秒間浸し、ＦｅＣｔ３溶液中で腐刻す
る。

像が形成された最終段階二６、像は腐刻性が良好である
。

例１３： 例１に於いて調製された、ジメチル無水マレイン酸で修
飾されたポリアミド０．５グ、次式で示されるビスイミ
ド５０乃至ｉ　ｏ　ｏ　ｍ’ｉおよびチオキサントン３
０〜をＤＭＦ　９．５　Ｆに溶かす。この溶液を２４μ
ｍ−ドクターにより銅−導電板に塗布し、１２５℃で４
分間乾燥する。この被覆層を前記の段階的光学楔を介し
て５ｏｏｏｗ４圧燈により７０ｃｍの距離から３０秒間
露光し、次いで５％Ｎａ　ＯＨ溶液に１分間浸し、洗浄
した後次に５％ＨＣＡ中に３０秒間浸し、かつｐｅｃ７
３　　ｍ　Ｆ’２Ｌ中で腐刻する。

ビスアミド５０■を使用したときの像が形成された最終
段階＝２ ビス°ｒミドｔｏｏｙｖを使用したときの像が形成され
た最終段階＝１ ２．２−ジメチル−１１−イノプロピル−１゜１１−ジ
アミンウンデカ−４，８−ジエンとアジピン酸とからの
ポリアミｌ’ｃ例１〜５に記載したのと同様にして調製
：　’Ｉｇ＝　５８℃、η、。ｄ＝０．６５ｄ１．／ｆ
　１、（ｍ−フレソール溶液に５％濃度で溶解し２５℃
で測定））Ｏ，ｓｙ、下記Ａ）、Ｂ）およびＣ）のヒス
イミＩ・それぞれ５０　ｍｇ： Ａ）Ｎ、Ｎ’−へキサメチレン−ヒス−（３−メチル−
３，４，５，６−チトラヒトロフタルイミ１−’　）と
Ｎ　、　Ｎ’−ヘキサメチレン−ビス−（４−メチ、ル
ー３，４，５．６−チトラヒドロフタルイミド）（混合
割合約１５：８５重量％）との混合物、 Ｂ）　　、Ｎ　、　Ｎ’−へキサメチレン−ヒス−３、
４、５゜６−チトラヒドロフタルイミド、 Ｃ）Ｎ、Ｎ’−９キサメチレン−ビス−ジメチルマレイ
ンイミド、 およびチオキサントン−７−メチル−３−カルボン酸エ
チルエステル２７．５７ｖをクロロホルム１１１に溶か
ず。得られた溶液を５０μｍ−ｈククーにより銅−導′
成板に塗布し、８０℃で３分間乾燥する。被覆層を５ｔ
ｏｕｆｆｅｒ社の段階的光学楔（２１段階感度指標）を
介して７０ｃｍの距離から５０００Ｗ高圧燈により露光
する。露光されていない部分をクロロホルム中で洗う（
３０秒間）ことにより溶出させる。結果を下記の表■に
示す。

表　　　Ｉｎ 上記の例１４および１５で使用した新規なビスイミドＡ
）およびＢ）は以下のようにして製造することができる
。

ａ）１．６−ジアミツヘキサン２３．２　ｒ　（０，２
モル）と、３−メチル−１−シクロヘキサン−１゜２−
ジカルボン酸無水物約１５重量％と４−メチル−１−シ
クロヘキサン−１，２−ジカルボン酸無水物約８５重量
％との混合物６６．４　ｒ（０，４モル）をトルエン３
５０　ｎｔ中に溶かす。

還流しながら生成した水を２４時間分離除去する。次い
でトルエン３００　ｔｎｌを留去し、生成した結晶を濾
過し、シクロヘキサンで洗浄し、粗生成物をメタノール
から再結晶する。約１５重量％ノＮ、Ｎ’−へキサメチ
レン−ビス−（３−メチル−３，４，５，６−チトラヒ
ドロフタルイミト）と約８５重量％のＮ　、　Ｎ’−へ
キサメチレン−ヒス−（４−メチル−３，４，５，６−
チトラヒドロフタルイミト）からなる混合物３５′？（
対理論量の４２．５％）を得る。融点９３−−９５℃。

元素分析： 計算値　Ｃ６９，８８％　Ｈ７，８２％Ｎ　６．７９％
実部１イ直　　Ｃ７０，０％　Ｈ７，８％　　Ｎ　６．
７　％薄層クロマトクラム：溶剤トルエン／エタノール
（８０：　２０容量比）：ｌ主要スポソ）・０ｂ）１．
６−ジアミツヘキサン２３．２　？（０，２モル）と１
−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸無水物６０．
８２（０，４ｍｏｔ）をトルエン３５０−に溶かし、還
流下に生成した水を２０時間分離除去する。次いでトル
エン３００７を留去し、沈澱生成物をｒ過し、トルエン
／シクロヘキサンで洗浄し、メタノール６００づから再
結晶する。得られた白色結晶を６０℃で２４時間真空乾
燥する。Ｎ　、　Ｎ’−へキサメチレン−ヒス−３、４
、５、６−チトラヒトロフタルイミド５０２（対理論量
の６４．１％）０融点１２３−１２４℃。

元素分析： 計算値　Ｃ６８，７３％　Ｈ７，３４％　Ｎ７．４％実
測値　Ｃ６８，９％　Ｈ７，４％　Ｎ７．４％薄層クロ
マトグラム：溶剤トルエン／エタノール（８０：　２０
容量比）：１スポツト〇ａ）　　ｆｆｌ素導入口および
シト出口、冷却器および攪拌器を備えたフラスコに、ア
シピノ酸ノフェニルエステル７２２、ジス−２−ブテン
ーＩＩ４−ンオール２１．２６　ｆおよびチタンテ、ト
ライ゛ノプロピラート２００　ｐｐｍを入れる。次に窒
素ガスで数回パージし、フラスコを１５０から２５０℃
へ３０時間にわたり加熱する。次いて更に３時間幅度を
２５０℃に保つ。冷却後生成した溶融物を１５０　ｍｌ
のＤＭＦに加え、生成物をジエチルエーテル３．５を中
で沈澱させ、沈澱生成物を戸別し、ジエチルエーテルで
洗浄し、３５℃で真空乾燥する。収量：　３６　ｙ（対
理論量の９７．７４％）　’ｒｇ　＝　４．０℃。

元素分析： 計算値　Ｃ６０，６％　Ｈ７，１２％、実測値　Ｃ６１
，０％　Ｈ７，０５％ ηｒｏｄ０．３２　ｄ４／ｆ　（ｍ−クレゾールに０．
５％の濃度で溶かした溶液、２５℃）Ｏ ｂ）　　ａ）により得られたポリマー５．０７およびＤ
ＭＦ６０〃ｆを、１２５Ｗ　ＨＰＫフィリンプス製水製
水正高圧ランプ素導入口および排出口、還流冷却器、滴
下Ｅ斗および磁気攪拌器を備えた反応容器に入れる。ジ
メチル無水マレイン酸２．３８ｆとチオキサントン−７
−メチル−３−カルホン酸エチルエステル２５０　ｍｆ
をＤＭＦ８０−に溶かした溶液を、窒素雰囲気下で２５
℃にて３時間で滴下する。次に、この溶液を更に１８時
間照射する。水２５ゴを加え、濃度を９０℃に３時間保
つ。次いでポリマーをジエチルエーテル３を中に沈澱さ
せ、２５℃で真空乾燥する。収量７．２　ｆｌｏ　Ｔｇ
＝　　２９℃。

元素分析： 実測値　Ｃ５６，８％　Ｈ７，０６％ ηｒｅｄ＝　０．２２　ｄｔ／？　（ｍ−クレゾールに
０．５％の濃度で溶かした溶液、２５℃）０酸の総含量
＝２．７７ｍａ量／ｒ（Ｃ＝Ｃ−二重結合の約８０％が
占有されたことになる。）Ｏ ｃ）　　ｂ）により得られたポリマー０．５２、Ｎ　、
　Ｎ′−ヘキサメチレン−ビス−ジメチルマレインイミ
ド５０ｍ２およびチオキサントン−７−メチル−３−カ
ルホン酸エチルエステル２７．５　ｍｇ　ヲクＯロホル
ム１１艷に溶かし、５０μｍ−ドクターにより銅−導電
板上に塗布する。被覆層を８０℃　　。

で３分間乾燥し、次に前記の例に記載した段階的光学棟
を介して７０ｃｒｎの距離から１０分間５０００Ｗ高圧
燈により露光する。露光されていない部分を５％Ｎａ２
ＣＯ３−溶液て３０秒間洗浄する。像の形成された最終
段階：３゜ 例１８： ａ）無水マレイン酸２０．Ｏｆ、１．４−ヒス−（ヒド
ロキシメチル）−シクロへ−Ｉ−サ：、’　２９，４２
９Ｊ６よ？Ｊｐ−トルエンスルホン酸１．２４　Ｓ”ｉ
ベンゼン２２５ｒｎｌ中に懸濁し、水を分離除去しなが
ら６．５時間還流加熱する。溶液を冷却後、沈澱生成物
を戸別し、ベンゼンで洗浄して２０℃で真空乾燥する。

ポリエステルの収量：４２２（対理論量の９２％）。Ｔ
ｇ＝４０℃。

元素分析： 計算値　Ｃ６４，２７％　Ｈ７，１９％実測値　Ｃ６３
，６０％　Ｈ７，０７％η、、ｄ＝　０，４０　ｄ７／
ｒ　（ｍ−クレゾール溶液に０．５％の濃度で溶した溶
液、２５℃）。

ｂ）　　ａ）により調製したポリエステル５．０２をＤ
ＭＦ３３０２に溶かし、例１７ｂ）に記載した反応容器
に入れる０窒素雰囲気下２５℃で３時間力きけて、ジメ
チル無水マレイン酸２．１１２とチオキサントン−７−
メチル−３−カルボン酸エチルエステル２５０　ｍｇを
ＤＭＦ　ｌ　４７　ｆに溶かした溶液を滴下する。溶１
夜を１００艷に濃縮した後、ポリマーをジエチルエーテ
ル２を中で沈澱さ一仕、２５℃で真空乾燥する。収量’
−６，８４ｏ　Ｔｇ＝５７℃Ｏ 元素分析： 実測値　Ｃ５９，０％　Ｈ７，６７％ ηｒｅｄ　＝０．２２　ｄｌ−／ｌ　（ｍ−クレゾール
溶液に０．５％濃度で溶かした溶液、２５℃）０酸の総
含量二０．９８ｍＰ量／ｆ（ポリマーのＣ＝Ｃ−二重結
合の２２％が占有されたことになる０　）。

ａ）またはｂ）で得られたポリエステル０．５１、チオ
キサントン−７−メチル−３−カルボン酸エチルエステ
ル２７．５■およびＮ　、　Ｎ’−ヘキサノチレンービ
スージメチルマレインイミド５０ＴｎｇをＤＭＦ［ａ）
によるポリエステルについて）１１ｆ。

またはクロロホルムｒｂ）によるポリエステルについて
）ｌｌｒｖｃ溶かす。この溶液を′５０μｍ−ドクター
により銅−導電板に塗布し、９０℃で３分間乾燥する。

露光は５０００Ｗ高圧燈により前記の段階的光学楔を介
して７０ｃｍの距離から行う。結果および現像に関する
詳細を下記に示す。

特許出願人 ０発　明　者　フリードリツヒ・ローゼスイス連邦国４
１０４オウバヴイル ・ビュツケンシュトラーセ２３

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、Ａ）Ｊ４合により式Ｉ １ Ｒ′ で示される構成要素を有する脂肪族不飽和重縮合生成物
   と、 Ｂ）式■ で示されるビスイミド〔式中、ＲとＲ′は互に独立した
   ものであってＣ１−４−アルキル基であるか、またはＲ
   とＲ′が一緒になって場合によってはメチル基によって
   置換されたテ）−ラノチレン基若しくは弐■ で示される基を表わし；式Ｉ２式１及び式ＩＩＩに於い
   てＲ１は水素またはメチル基を表わし、Ｒ２と几３は互
   に独立したものであって、それぞれ水素、ハロゲン、Ｃ
   １−４−アルキル基またはメトキシ基を表オつし、Ａは
   −ＣＨ２−ｌ−ＣＨ２Ｃ［（２−または芳香族環に酸素
   側が結合している一０ＣＨ２−を表わしてＥが水素を若
   しくはＡか−０−てかつＥが−ＣＨ３を表わし、Ｒ４は
   一〇ｍＨｚｍ　−（ｍ　＝　１　ｗ　２０　）、より、
   才たは場合により１個才たは２個のノチ基を表わし、Ｑ
   は−８−１−〇−または−ＮＨ−を表わし、又とＸ′は
   互に独立したものであって２〜４の数を表４つじ、Ｚは
   フェニレン基またはＣ４−６−シクロアルキレン基を表
   わし、Ｘは単結合、−０−１−Ｓ−１−ＳＯ２−５−Ｃ
   Ｈ２−または−Ｃ（ＣＨ３）２−を表わし、ＹとＹ′は
   それぞれ−０）１を表オつすか、−緒になって一〇−を
   表わす。〕とを含有し・ポリマーＡ）に対して式Ｕのビ
   スイミドの割合が０．１〜７５重量％である、増感剤の
   存在下で光により架橋化する混合物０ ２、　式■のビスイミドの割合が、ポＩＪ　−７−Ａ）
   に対して１〜２５重量％である特許請求の範囲第１項に
   記載の混合物。 ３、　　Ｒと■が一緒になって弐■の基を表わし、その
   際Ｅ、Ｒ２およびＲ３が水素で、Ａか−ＣＨ２−である
   特許請求の範囲第１項に記載の混合物。 ４　ＲとＲ′が一緒になってテトラメチレン基若しくは
   ３−または４−メチルテトラメチレン基、または特にそ
   れぞれがメチル基を表わす特許請求の範囲第１項に記載
   の混合物。 ５　電が直鎖状の−Ｃｍ■（２ｍ−（ｍ−２〜ｌＯ）、
   −（ＣＨ２）２Ｑ（ＣＨ２）２−　（Ｑは−５−１−〇
   −または特Ｖζシクロヘキシレン基）、４．４’−ジア
   ミノジフェニルメタン基、４　、４’−ジアミノジフェ
   ニルエーテル若しくは４，４′−ジアミノフェニルスル
   ファイド基または１，３若しくは１，４−フェニレン基
   を表わす特許請求の範囲第１項に記載の混合物。 ６、　　ＲとＲ′がそれぞれメチル基を°表わし、Ｒ１
   が水素を表わし、ＹとＹ′が一緒になって一〇−を表わ
   し、Ｒ４が−（ＣＨ２）　２　ＮＨ（ＣＨ２）　２−　
   若しくは特に直鎖状の−ＣｍＨ２ｍ　−（ｍ　”’　２
   〜１０　）を表わす特許請求の範囲第１項に記載の混合
   物。 ７　増感剤が置換されていない、または置換されている
   チオキサントンである特許請求の範囲第６項に記載の混
   合物。 ８、ポリマーが式Ｖｉａ −Ｏ−ＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯ−０−Ｒ１１−（Ｖｉａ
   ）で示される繰り返し構成要素と所望により加・えられ
   た式■ｂ　および／またはＩａ で示される繰り返し構成要素とがらなり〔式中、ＲとＲ
   ′は一緒になってテトラメチレン基を表わすか、または
   特にそれぞれがメチル基を表わし、基、または−（ＣＨ
   ２）８−基（基中、３＝２−１２）を表わす。〕式１ａ
   　　の構成要素の割合がポリエステルの繰り返し構成要
   素の総数に対して９５％までである特許請求の範囲第１
   項に記載の混合物。 ９、　ポリマーが式Ｖｌａ　　の構成要素と所望により
   加えられた式Ｖｌｂ　　の構成要素からなる特許請求の
   範囲第８項に記載の混合物。 １０、ポリマーが式Ｖａ Ｑ３（ｈ で示される繰り返し構成要素と、所望により加えられた
   式Ｉｂ　、　Ｉｃおよび／またはＩｄｏｃ　　　　ｃ。 ＼ｏ／（より） ｏｃ　　　　　ｃｏ　　　　　　ｏｃ　　　　　ｃ。 ＼　／　　　　　＼　／　　　　　　（Ｉｄ）０　　　
   　　　　　　　　０ で示される繰り返し構成要素とからなり〔式中、ＲとＲ
   ′は一緒になってテトラメチレン基を表わすか若しくは
   特にそれぞれがメチル基を表わし、ｑはＣ１−１゜−ア
   ルキル基を表わし、Ｃ２は水素またはＣＩ　１２−アル
   キル基を表わし、Ｃ３はｃ、　　！２−アル（以下余白
   ） キル、環のＣ−原子数が４〜１２のシクロアルキル基、
   フェニル基またはＣ−原子数７または８のアルアルキル
   基を表わし、あるいはまたＱｌとＣ２および／またはＣ
   ３とＣ４は一緒になってＣ−原子数３〜１１のアルキレ
   ン基を表イっす。更に馬はテレフタル酸、インフタル酸
   および／またはＣ−原子数６〜１２の飽和脂肪族ジカル
   ボン酸の残基を表わす。〕、式）ｂ　、　ｌｃおよび／
   またはｌｄ　　の構成要素の総割合がポリアミドの繰り
   返し構成要素の総数に対して９５％までである特許請求
   の範囲第１項に記載の混合物。 １１、　　Ｑ、がメチル基またはエチル基を表わし、Ｃ
   ２が水素、メチル基またはエチル基を表わし、Ｃ３がＣ
   １−６−アルキル基またはフェニル基を表わし、Ｃ４が
   水素またはメチル基を表わし、Ｒ８がテレフタル酸、イ
   ソフタル酸および／またはＣ−原子数６−１０の飽和脂
   肪族ジカルボン酸の残基を表わす特許請求の範囲第１０
   項に記載の混合物。 １２、ポリマーが、ＱＩとＣ２がそれぞれメチル基を表
   わし、Ｃ３がイソプロピル基を表わし、Ｃ４が水素を表
   わし、Ｒ８がテレフタル酸および／またはアジピン酸の
   残基を表わす式Ｖａ　　の繰り返し構成要素のみからな
   る特許請求の範囲第９項に記載の混合物。 １３、　　Ａ）　　場合により式■ 几 １ Ｒ′ で示される構成要素を有する脂肪族不飽和重縮合生成物
   と、 Ｂ）式１１ で示されるビスイミド〔式中、几とＲ／は互に独ル基に
   よって置換されたテトラメチレン基若しくは式ＩＩＩ Ｃ−Ａ で示される基を表わし；式１１式■及び式■に於いて几
   １は水素またはメチル基を表わし、Ｒ２とＲ３は互に独
   立したものであって、水素、ハロゲン、Ｃ１−４−アル
   キル基またはメトキシ基を表わし、Ａは−ＣＨ２−１−
   〇Ｈ２ｃＨ２−または芳香族環に酸素側が結合している
   一ｏｃＨ２−を表わしてＥが水素を表わすか若しくはＡ
   が−０−でＥが−ｃＨ３を表わし、Ｒ４は−ＣｍＦ（Ｈ
   ，−（ｍ＝１−２０　）、により、または場合により１
   個または２個のメ表わし、Ｑは−５−１−〇−１または
   −ＮＨ−を表わし、Ｘと７は互に独立したものであって
   ２〜４の数を表わし、２はフェニレン基またはＣ，−ａ
   　＋シクロアルキレン基を表わし、Ｘは単結合、−〇−
   １−Ｓ−１−ＳＯ２−１−Ｃ）Ｉ２−または−〇（ＣＨ
   ３）２−を表わし、ＹとＹ′はそれぞれ−ＯＨを表わす
   か、−緒になって一〇−を表わす。〕とを含有し、ポリ
   マーＡ）に対して式■のビスイミドの割合が０．１〜７
   ５重量％である、増感剤の存在下で光により架橋化する
   混合物からなる感光用被覆物。 １４　式Ｉ １ １ Ｒ′ 〔式中、ＲとＲ′は互に独立したものであってＣ３−４
   −アルキル基を表わすか、または−緒になって場合によ
   りメチル基により置換されたテトラメチレン基若しくは
   式■で示さｎる基を表わし・　　　　　Ｅ 式１および式■に於いて、Ｒ１は水素またはメチル基を
   表わし、Ｒ２とＲ３は互に独立したものであって、それ
   そ゛れ水素、ハロゲン、Ｃ１−４−アルキル基またはメ
   トキシ基を表わし、Ａは−Ｃ１（２−１−ＣＨ２ＣＨ２
   −または芳香族環に酸素側が結合している一０ＣＨ２−
   を表わしてＥは水素を表イつすか、あるいはまたＡは一
   〇−を表わしかつＥは−ＣＨ３を表わす。］で示される
   繰り返し構成要素を有する重縮合生成物。 １５、　　ＲとＲ′が一緒になってテトラメチレン基を
   表わすか、または特にそれぞれかメチル基を表わし、Ｒ
   １が水素を表イつす特許請求の範囲第１４項に記載の重
   縮合生成物。 １６　式■ 〔式中、几とＲ′は一緒になって場合によりメチル基に
   よって置換されたテトラメチレン基ヲ表わし、Ｒ４は−
   ＣｍＨ２ｍ−（ｍ−１〜２０）、−（ＣＨ２）　ｘ　Ｑ
   （ＣＨ２）　ｘ’−１（ＣＨ２）　２　ＮＨ（ＣＨ２）
   　２　ＮＨ（ＣＨ２）　２−１−ＣＨ，Ｚ−ＣＨ２−、
   場合により１個または２個の塩素原子にあるいは１個ま
   たは２個のメチル基にし、Ｑは−８−１−〇−または−
   ＮＨ−を表わし、ＸとＸ′は互に独立したものであって
   ２〜４の数を表わし、ＺはフェニレンまたはＣ４−６−
   シクロアルキレン基を表わし、Ｘは単結合、−０−１−
   Ｓ−１−８０２−１−Ｃ［−１２−または−Ｃ（ＣＨ３
   ）２−を表わす。〕で示される化合物。