JPS59100443A - 電子写真感光体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は支持体電極、光導ｒｇ　ノｔｉ　ｓよびｌ！
痴絶縁層を有する゛直子写ＪｊＮ盛ブＣ体に関ｒる。・
従来、この、Ｉ！！感丸体、を用いて複写ｒるには、−
次コロナ帯覗同時光像曜光、二次コロナ帯戒、全面光照
射と云うプロセス（こよって、靜成潜１象を形成する。

方法、が知られている。　・ 第１図は、この静鑞潜１象工程を示したもので、（ａｌ
は一次コロナ帯電同時光像露光、（ｂ）はその後、キャ
リアが移動した時の状態、（Ｃ）は暗中での二次コロナ
帯電ｉｄ）は全面光照射□、（Ｃ）はその後、キャリア
が移動し、最終的な静電潜像ができた状態を示すもの・
である。なお、Ｐは透明絶縁□層１．光導電層２および
支持体電極３よりなる感光体で４はコロナ帯ｇ　ｒｈ　
Ｊ　”ｓは原稿である。

上・記原稿５を介して露光し、静ｔｌｔ、ｙｅｌ像を感
光体上に形成するプロセスが第１図であるが、この状態
は・理想的な場合であり、・実際（こは暗中においても
。

支持体電極から光導電層へのキャリアの注入または光導
電層から支持体電極への注入、先導成層の暗減衰などに
：より、第１図に示す形態とは異なる形をとっている。

実際の形態において、′暗・中でのキャリアの注入が多
いと、最終的に得られ・る静電層１象の明部と暗・部の
表面成位の□差、□即ちコントラスト電位が小さくなり
十分な、＠度をもつ画像が得られなくなる。

このような：現象は、支持体電極の材料によって、□異
なり□１例えば８ｉ５−’・光導電）−として用いたと
ぎ。

注入の効果が濃青になり、上記の作家グロセスを適用し
た時は、低いコントラスｌ−電位しかとれなくなる。ま
た、従宋間、礪（こさイ１なかった支持体電・画表面の
粗さくこよっても注入性に差がある。即ち支持体表面を
境面７ＪＤ　Ｉ　したものと、加工しないもの、とでも
大きな祭が出来、鏡面加工を怖さない支持体４往嘆をイ
イ４″る感光体の方が、上記作１象プロセスを適用した
４合、コントラスト４位が１氏くなってしまうと云う間
須を有しでいる。

四には、支持体ｉ！弥吉光導イ層の界面に、注意をはら
れ「にＳ　ｅなどをへや蒸精した場合は、真空蒸音直後
はｒｔ値”Ｆ−５八感光体としての十分な帯成が得らな
いが１時・１月の経過さともに苛性が向ヒ４−る吉云う
、所謂エージングの効果カベあられれ１時１１４］をお
かないと感光体の品纜チェックが出来ず２ｔｔ産性（こ
も間１鳴を有しＣいた。

この発明は上、）１シの間“須に鑑みてなされたもので
。

支持体１イ極表面上（こパラキシリ１／ンよりなるバリ
ア一層を設けることにより、感光体作成直後から高いコ
ントラスト屈位を得ることが出来、高（４度で良好な画
像を得ることの出来ろ１裡子写戊感牟休を提１共するこ
とを目的、Ｊ：する、−１以下７この発明の一友施例を
図［ｒｉｉを珍１！（（シっ二）説明する。第２図は電
子写真感光体の慴木的構造を示すもので、３は支持体電
極で、その成極３のＦにバラキシリレンよりなるバリｒ
一層６を気相蒸着により０゜１〜１μｍの１１さに破ｌ
漠イーる。

Ｆ′Ａ１バリア一層６のにに光導或；イ２を彩成す゛る
が、光導暫Ｉ慴２の中１児ず１慌荷輸送層７を彩戎１，
７た上に電荷発生層８を形成し、この先尊准層２を覆う
ようｆこ透明４色縁＋４１を設けている。。

上記絶縁層１（こ用いる材料古しＣは、　、）：）ｌ；
低ｊＪ１：の高い（ＸＯ＋４Ωｃｍ以上）ポリエヂレン
デレ−７タート。

テフロン、ポリプロピｌ／ン、ボ１１弗化ビニル、ポリ
アミド、ポリニスデル等をフィルノ、状に成模したもの
や、バラキシリレン等を気柑蒸楕によって形成したもの
、あるいは＋４化ビニル、と酢酸ビニルの共東合樹−１
１１．メタアクリル向詣、塙化ビニリ／ン樹脂、ポリス
チレン樹脂等の熱ｌ：ｌＪ′塑性哨脂や。

エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、アクリル内層。

■フレタン樹脂、シリコーン樹脂等の熱硬化性、Ｍ脂を
塗工したものなどがあげられる。

また、光導ｉｄ１周２の材料としでは、　ＣｄＳ、　Ｚ
ｎＣｄ５゜Ｚｌｌｏ等のバインゲー系の先導心性物゛；
４はＰＶｆ（、ＴＮＦ等のイｆ磯光導准性物質またはＳ
ｅ　ＨＳｅ　Ｔ　ｅ　！　Ｓｅ　Ａ　Ｓなどがあげられ
る。

上記ゲ０導屈層２を屯萌端生１−８と電荷輸送者７に分
りでいるが、必４”しもこのような機能分離型の積層１
．弯；責にする事はない。例えばＳ　ｅ　’ｒ　ｅを１
つのｔｉｕ　ｆｉＡボー・ドで蒸）１貸し、）Ｙ；導電
層をＳ　ｅ　Ｔ　ｅ均一１１とした場合も、実際の′ｖ
ｅの深さ方向の分布は、Ｓｅの蒸気圧より、′ｖｅの蒸
気圧が低いために、支持体色極側では′［ｅカ（少く、
光導イ層の表面ＩＪＩ＋に多いき云う分イ５１こ４，７
ってしまう。

このような１ｖｅの分布は、別々の加熱ボードを用い、
Ｓｅを′、に荷・論送層きし、その上１こＳ　ｅ　Ｔ　
ｅを電荷発生層さしで積層した場合と似た状態となる１
■が知られＣいる。従って実際には電荷発生層。

電荷輸１輌と云うｌ（現は、光導礪層内の構造もさるこ
とな・バら１作・使方法からも規定されるべき表現であ
ることを、ふまえておく必安恨ある。

上記光導電層では、上記の始き材料（こよって形成され
るものであるが１層の！ｆ、さとし−Ｃは材料によって
６多少の差はあるが、１〜１００μｍの範１１［］内と
し、好ましくは５〜７０μｍがよい。

バＩＪ　’Ｔ　−鳴６の材料みしてバラキシリレンがよ
いのは、酸化アルミ層やシリコン（偕または他の有機絶
縁材料が用いられていた事・バあるが、特開昭５１−１
３４６３７号公報に記載さイｌ、ているよう（こ。

均一性、密椅性の点でバラキシリレン力（４れでいるか
らである。

なお、バリア一層の膜厚は数μｍ以下がよく望ましくは
０．１〜１μｍ１以内さするのが最適で、数μｍ以上の
厚さであると、キャリアの注入が室端に悪くなり、」ン
トラスト＋を位の低下につながり、また薄過ぎると、バ
リア一層の効果がなくなってしまうからである。

一方、支持体電極３は、上記バリアー１′憎６がない場
合、支持体電極の材料は、光導・１層の材料により、あ
る限られた材料しか期用できなかったり。

電極表面を硯面にしなければならなかった。しかし、バ
イア一層６を用けることにより支持体電極材料の選択度
が大きくなり、　ｋｌ、　Ｎｉ、　Ｍｏ、　Ａｕ、　Ａ
ｇ。

Ｐｔ、　Ｚｎ、　Ｎｂ、　’Ｉ”ａ、　Ｖ、　Ｔｉ、　
’ｒｅ、　Ｐｂ、　Ｆｅ、　Ｉｒ、　ステンレスその他
の金４や合金、あるいはそれら、またハＩＴＯ等で導、
を処理を施したガラス、セラミック。

合成樹脂フィルム等が使用できる。そして支持体′ｌｔ
極の形状としては、ドラム伏、ベルト状あるいは平板状
のいづれでもよく、複写装置に合せて形成することかで
きるものである。

なお、上記電子写真感光体は、バリア一層を設けて、暗
中でのキャリアの注入を防いでいるため。

適用される静電ＩＰｒ＠の作像プロセスにも制限が出来
る。例えば、ＮＰ方式のようにコロナ帯電同時露光の前
に一次コロナ帯鴫をもつようなプロセスでは、−次コロ
ナ帯或時に絶縁１−と、光導電層の界面、又は光導電層
の絶縁層寄りの部分に絶縁層の自由表面側の電荷さ対応
する逆極性の戊荷がある事が望ましいからである。しか
し本願のような感光体にこの方式を用いた場合、バリア
一層にょリキャリアが効率よく注入されなくなり、最終
的に、得られるコントラスト電位は小さくなってしまう
。

これに対し、−次コロナ帯゛屯同時光像露光、二次コロ
ナ帯α、全面光照射というような作像プロセスにおいて
は暗中でのキャリ、アの注入をきらうため、このバリア
一層が有効に１＃き高いコントラスト電位を取ることが
できる。

このバリア一層の効果を確めるため、　ＡＩ！ドラムに
真空蒸着でＳｅおよび８ｅＴｅを約５０μｍの厚さに積
層し、ポリエチレンテレフタレートフィルムにより絶縁
層を形成した感光体において、　ＡＩ！ドラムと８ｅ光
導′亀層の間にバリア一層としてバラキシリレン層を約
０．２μ晶を設けたものと、バリア一層を設けてないも
のの２種類を作成して実験をしてみた。

先ず、暗中においてコロナ帯電器により正又は負に帯電
させた後、十分に強い光を照射した後感光体の表面・４
位の変化量を測定した。

両者とも、先ず表面電位が一１０００ｖとなるように帯
電し、ハロゲンランプにより光照射したところバリア一
層を設けた感光体の表面電位の変化量が３５０Ｖであっ
たの）こ対し、バリア一層を設けてない感光体の変化量
が２８０ｖと明らかｌこバリア一層の効暇がある事がわ
かった。

次に、バラキシリレンのバリア一層を設けた感光体を用
いて作像プロセス依存ｉ生を調べた。

−次帯電としてスコロトロンによりグリッド電圧−２Ｋ
Ｖ、　ワイヤー電圧−７ＫＶで帯、戎し、ついで光像露
光をしながら６．５　ＫＶでＡＣ除屯し、最後に全面照
射を行った古ころ、コントラストα位は８０Ｖしかとれ
なかった。

これに対し、−次帯電としてコロトロンで＋６ＫＶをワ
イヤーにかけながら光像露光を行い、ついでスコロトロ
ンによりグリッド亀圧−１，５ＫＶ、光照射を行ったと
ころ、コントラスト磁位は６００Ｖであった。また、エ
ージングの効果を見るためバリア一層を設けたドラムと
そうでないドラム２種類を用い、真空蒸着し、感光体を
作成した一１後と、−ケ月後のコントラスト電位を測定
した。

適用した作像プロセスとしては、−次コロナ帯電用時光
像露光、二次コロナ帯（、全面光照射からなるプロセス
を採用し、パラメータとしては上記と同様な値で、静に
層１象を形成した結果１次のとうりでぶった。− 以上の事から解るようにバラキシリレンのバリア一層を
設轟感光体は感光体作成直後からも十分に実用ｌこたえ
るコントラストα位を安定して得る事ができる。

以上詳述したように、この発明によると、支持□体電極
と光導電層の間にバラキシリレンのバリア一層を設ける
ことにより、−次コロナ帯′、道同時光像露光、二次コ
ロナ帯１比、全面光照射よりなる作像プロセスを用いた
時、高いコントラストα位が感光体作成直後からも得ら
れ、高濃度の両１象を得るこ吉の出来る゛電子写真感光
体を提体することができる。

【図面の簡単な説明】

第１　Ｍ　ｆａ）　（ｈｌ　ｆｃｉ　ｉｄ）　（ｅ）は
、この光間ノーＪ　Ａｌ　ｆｆ１Ｊ　＠　Ｆａ明する１
、ｒめ（ハｆ’Ｌｊ、＋タプロセス図’　ｇｇ　（＋図
はこの光間０）−辞涌１１ζＩ４づ［・・ｊ々セ２＃イ
「構、告図である。 １　・・・１角縁ｊ凶 ２　・・・　ン’Ｌ　　’ｊｌ”Ｍ　ｆ１’シー３・・
・支持体（＋ｊ　Ｉ令 ４・・・バリア一層 ５　−　Ｉｌｉ　Ｍ　Ｑ”Ｍ　ｉｌ：　１４８・・・１
イ苛発′−（−１皆 出１人　　オリンパス光学工窄株式会ｄ二〜；　ｌ、％
Ｔ’（ａ）第 み （ｄ） １図 （Ｃ） 券 」 司願明細書中第７頁第１３行乃至第１４行目　２．特許
請求のｉ記載の「・・・にも制限が出来る。」を「・・
・にも　　（１）−次コロ艮が加わる。」吉訂正する。 　　　　　　　　　　電、全面光用願明：ＰｆＩ与中＠
９頁＠１８行目に記載の「ド　　用いる電子−とそうで
ないドラム」を「感光ドラムとそ　　　上にバリアー次
コロナ帯電用時光像バ光」を「−次コロ　　（２）　　
上記パリ際電同時光像露光」と訂正する。　　　　　　
　　皇を特徴とｑｉ８Ａ細書中第１０頁第５行目に記載
の［と　　　電子写真窓）であった。］を「通りであっ
た。」と訂正３゜ 弓願明細書中第１１頁第１０行目と第１１行）間に「６
・・・バリア一層、７・・・電荷輸送層」日入する。 ］願添付の図面中温１図（ａｌおよび＋ｄｌを別紙の：
に訂正する。 ３６７− 範囲 す帯電同時光像露光、二次コロナ帯 照射の厄で静電潜像形成プロセスを 写真感光体において、支持体電極の 一層、光導電層および透明絶縁Ｐ１５：る際、バリア一
層をバラキシリレン 事を特徴上する電子写真感光体。 ア一層の厚さが０．１〜１７ｚｍ以内であるする特許請
求の範囲第１項に記載の 光体。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）　　−次コロナ帯鑞同時光１象稽光、二次コロナ
   帯屯、全面光照射の順で静電１ｄｌｉＪ形成プロセスを
   用いる・ル子写政惑九体において、支持体電極の上にバ
   リアーｉ４　、先導成層および絶縁層を噴火積層する際
   、バリアーｒ脅をパラギシリ、レンで形成した餌を特徴
   とする電子写真九本。
2. （２）」＝１己バリアー１時の１４さカ５Ｏ９１〜１μ
   ｌｎ以内である事を特徴とする特許請求の１屯間第１１
   頁に記・戒の′峨子厚貞感光体。　、　　　、