JPS5890735A - 薄板体の移しかえ方法 - Google Patents
薄板体の移しかえ方法Info
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- JPS5890735A JPS5890735A JP20130282A JP20130282A JPS5890735A JP S5890735 A JPS5890735 A JP S5890735A JP 20130282 A JP20130282 A JP 20130282A JP 20130282 A JP20130282 A JP 20130282A JP S5890735 A JPS5890735 A JP S5890735A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
この発明は薄板体の液処理時などに用いる枠形保持具と
不純物拡散時などに用いるボート状保持具との相互間の
移しか先の方法に関するものである。
不純物拡散時などに用いるボート状保持具との相互間の
移しか先の方法に関するものである。
第1図(A) 、 (B)は従来の半導体ウェハの移し
かえ手順を説!するための図で、第1図(A)は半導体
ウェハの液処理時などに用いる枠形保持具を示す斜視図
で、この枠形保持具(1)はポリテトラフルオルエチレ
ンのような合成樹脂で形成された側板(2)が2枚対向
してスペーサ(3)Kよって固定爆れており、側板(2
)の内側面にはそれぞれ平行にくし形溝(4)が複数本
形成されている。そして、く巴形溝(4)は側板(2)
の上端面KU達しているが、下端面には達せず、ウェハ
(5ンを図示のように挿入し保持させることができ、硝
酸などの強酸類による叙多くのウェハ(5)・の拡散前
処理が一度にできるようになっている。そして、側板(
2)の上端面には保合突起(6)および係合穴(7)か
設けられている。m1図(B)は半導体ウェハに小軛物
拡散などを行なうときに用いるボート状保持具を示す斜
視図で、このボート状保持具(8)は使用中拡散炉の中
で、流動ガス雰囲気内で1000℃〜1300’cの^
温に曝されるので、耐熱性材料で構成てれ、がっ、図示
のような単純な形状を自°することが賛求妊れる。すな
わち、保持するウェハ(5)へ九分カスを環流させるた
めと、ウェハ(5)の力臼熱a!歴を一様にするために
、ボート状保持J4c(8)#−を皿状のものが適して
おり、構成材料も石英。
かえ手順を説!するための図で、第1図(A)は半導体
ウェハの液処理時などに用いる枠形保持具を示す斜視図
で、この枠形保持具(1)はポリテトラフルオルエチレ
ンのような合成樹脂で形成された側板(2)が2枚対向
してスペーサ(3)Kよって固定爆れており、側板(2
)の内側面にはそれぞれ平行にくし形溝(4)が複数本
形成されている。そして、く巴形溝(4)は側板(2)
の上端面KU達しているが、下端面には達せず、ウェハ
(5ンを図示のように挿入し保持させることができ、硝
酸などの強酸類による叙多くのウェハ(5)・の拡散前
処理が一度にできるようになっている。そして、側板(
2)の上端面には保合突起(6)および係合穴(7)か
設けられている。m1図(B)は半導体ウェハに小軛物
拡散などを行なうときに用いるボート状保持具を示す斜
視図で、このボート状保持具(8)は使用中拡散炉の中
で、流動ガス雰囲気内で1000℃〜1300’cの^
温に曝されるので、耐熱性材料で構成てれ、がっ、図示
のような単純な形状を自°することが賛求妊れる。すな
わち、保持するウェハ(5)へ九分カスを環流させるた
めと、ウェハ(5)の力臼熱a!歴を一様にするために
、ボート状保持J4c(8)#−を皿状のものが適して
おり、構成材料も石英。
7リコン、シリコンカーバイト、セラミックなど比較的
力り工し離いものになっている。そし・て、皿状の内表
面にはウェハ(5)保持用の円弧状帽9)が複数個並行
に形成されている。
力り工し離いものになっている。そし・て、皿状の内表
面にはウェハ(5)保持用の円弧状帽9)が複数個並行
に形成されている。
芒て、このような保持具の収扱いに当っては、撹浄脈持
にI!thxが払われ、実除の作業では保持具と同じ材
料で構成された清浄工具ですくったり、押したりする株
度で、手でつかむことなとは許されない。そして、これ
らの枠形保持X(11とボート状保持具(8)との相互
間のウェハ(5)の移しがえは、従来第1図(A) 、
(B)に示すように、ピンセラ) (10で1枚づつ
、く巴形溝(4)と円弧状# (9)との間を移しかえ
ていた。従って、この場合はくし形4(4)のピッチと
円弧状溝(9)のピッチとは同一であっても、異なって
いても移しかえは可能であるが、作業性が悪く、ウェハ
(5)を破損しゃすぐ、取扱1/−IK熟練を景する他
に、ウェハ(δ〕がピンセント四で汚染されるという欠
点があった。
にI!thxが払われ、実除の作業では保持具と同じ材
料で構成された清浄工具ですくったり、押したりする株
度で、手でつかむことなとは許されない。そして、これ
らの枠形保持X(11とボート状保持具(8)との相互
間のウェハ(5)の移しがえは、従来第1図(A) 、
(B)に示すように、ピンセラ) (10で1枚づつ
、く巴形溝(4)と円弧状# (9)との間を移しかえ
ていた。従って、この場合はくし形4(4)のピッチと
円弧状溝(9)のピッチとは同一であっても、異なって
いても移しかえは可能であるが、作業性が悪く、ウェハ
(5)を破損しゃすぐ、取扱1/−IK熟練を景する他
に、ウェハ(δ〕がピンセント四で汚染されるという欠
点があった。
そこで、ます、傳板体保持溝のピッチが互いに等しbボ
ート状保持共(8)と枠形保持具(1)との間で薄板体
をその配列のままで一括して移しかえできる薄板体径し
かえ用具が案出されている。
ート状保持共(8)と枠形保持具(1)との間で薄板体
をその配列のままで一括して移しかえできる薄板体径し
かえ用具が案出されている。
第2図はこのような目的で案出された薄板体径しかえ用
具の一例を示す分解斜視図である。図tでおいて、ボー
ト状保持A(8)を支承する支承枠(ll)は全体がポ
リテトラフルオルエチレンのような1乗品性の合成楯脂
で構成され、2枚の側板(12a)。
具の一例を示す分解斜視図である。図tでおいて、ボー
ト状保持A(8)を支承する支承枠(ll)は全体がポ
リテトラフルオルエチレンのような1乗品性の合成楯脂
で構成され、2枚の側板(12a)。
(12b)が対向してスベー″fjt+iによ−・って
固定され1側板(12a ) e (12b )の内側
面にはそれぞれ一方形の座取り部(14a ) 、 (
14b)が形成されている。そして、この座取りBtB
(14a )、 (14b) nそれぞれ側板(12
a)。
固定され1側板(12a ) e (12b )の内側
面にはそれぞれ一方形の座取り部(14a ) 、 (
14b)が形成されている。そして、この座取りBtB
(14a )、 (14b) nそれぞれ側板(12
a)。
(12b)の上端面には達しているが下端面には達せず
、両91i1 板(12a) 、 (12b)の座取り
部(14a) 、(14b)の間にわたるようにボート
状保持具(8)を挿入すれV′よ、これを支承するよう
になっている。ボート状保持具(8)は例えば保持すべ
きウェハの径に近似する内径をMする石英管を90°毎
に縦割りに4等分し7、その内面に所定ピンチ、例えば
2mmピンチで円弧状陶(9)を所定数形成した簡単な
構造のものである。そして、このボート状保持具(8)
の横幅Wは支承枠(Iりの両側板(12a)、(12b
)の部数り部(x4a)+(14b)の間隔よりや\小
さく選ぶべきことは勿論である。J51は支承枠(1り
と組合わせられて、この移しかえ用具の要部をなすガイ
ドで、二の字形状をなし1、その下面には支承枠(11
)の上に1ね、この支承枠(1りの上端面部が挿入され
る#JllGが設けられている。そして、コの字形状を
なすガイド弘の内側壁面には、ボート状保持具(8〕の
円弧状#I(9)と同一ピッチのくし形溝1.llが形
成されている。そして、第1図(A)に示した、上記ボ
ート状保持具(8)の円弧状#(9)と同一ピンチのく
し形111(4)を有する枠形保持具(1)との間でウ
ェハの移しかえに用いるときの便利なように、ガイド1
61の上端面には係合穴0I19および係合突起−が設
けられ、このガイド(1〜の上に第1図(A)に示した
状態とは上下逆圧して電ねて置かれたとき、枠形保持具
(1)の保合突起(6)および保合穴(7)とそれぞれ
係合し、両者のくし形溝(4)と(llとが揃うように
構成されている。
、両91i1 板(12a) 、 (12b)の座取り
部(14a) 、(14b)の間にわたるようにボート
状保持具(8)を挿入すれV′よ、これを支承するよう
になっている。ボート状保持具(8)は例えば保持すべ
きウェハの径に近似する内径をMする石英管を90°毎
に縦割りに4等分し7、その内面に所定ピンチ、例えば
2mmピンチで円弧状陶(9)を所定数形成した簡単な
構造のものである。そして、このボート状保持具(8)
の横幅Wは支承枠(Iりの両側板(12a)、(12b
)の部数り部(x4a)+(14b)の間隔よりや\小
さく選ぶべきことは勿論である。J51は支承枠(1り
と組合わせられて、この移しかえ用具の要部をなすガイ
ドで、二の字形状をなし1、その下面には支承枠(11
)の上に1ね、この支承枠(1りの上端面部が挿入され
る#JllGが設けられている。そして、コの字形状を
なすガイド弘の内側壁面には、ボート状保持具(8〕の
円弧状#I(9)と同一ピッチのくし形溝1.llが形
成されている。そして、第1図(A)に示した、上記ボ
ート状保持具(8)の円弧状#(9)と同一ピンチのく
し形111(4)を有する枠形保持具(1)との間でウ
ェハの移しかえに用いるときの便利なように、ガイド1
61の上端面には係合穴0I19および係合突起−が設
けられ、このガイド(1〜の上に第1図(A)に示した
状態とは上下逆圧して電ねて置かれたとき、枠形保持具
(1)の保合突起(6)および保合穴(7)とそれぞれ
係合し、両者のくし形溝(4)と(llとが揃うように
構成されている。
まず、この薄板体径しかえ用具を用いて、同一ピンチの
纒を有する枠形保持A(1)とボート状保持具(8)と
の間のウェハの移しか先の状況のf+視図を第3図に示
し、ウェハ(5)の枠形保持具(1)からボート状保持
具(8)への移しかえ手順について説明する。
纒を有する枠形保持A(1)とボート状保持具(8)と
の間のウェハの移しか先の状況のf+視図を第3図に示
し、ウェハ(5)の枠形保持具(1)からボート状保持
具(8)への移しかえ手順について説明する。
まず、ボート状保持具(8)を支承枠(11)に収納し
たのち、カイト州を跨座させる。このとき、ボート状保
持具(8)の円弧状溝(9)とガイド−のくし形#ll
J力とは互いに合紋している。枠形保持具(1)で一括
して拡散前処理を終えたウェー・(5)はそのま\枠形
保持具(1)内に収納しておき、この枠形保持具(1)
を例えばその側板(2)の側端面(2S)を下にして立
てる。次に、ボート状保持具(8)を収納した支承枠(
lりとガイド06)との組立体も側板α4の側端面(1
28)を下にして立てる。そして、両者の保合突起(6
)、保合穴霞および保合穴(7)、保合突起−をそれぞ
れ係1合させると、枠形保持具(1)のくし形溝(4)
、ガイド(1@のくし形溝07)お、よびボート状保持
具(8)の円弧状溝(9)はすべて合致する。このよう
Kして係合させた係合体を、第3図に示すような枠形保
持具(1)が上方へくる位置関係に静かに倒すと、ウエ
ノ・(5)はすべて、一括してガイドll51を通って
ボート状保持具(8)へ移しかえることができる。
たのち、カイト州を跨座させる。このとき、ボート状保
持具(8)の円弧状溝(9)とガイド−のくし形#ll
J力とは互いに合紋している。枠形保持具(1)で一括
して拡散前処理を終えたウェー・(5)はそのま\枠形
保持具(1)内に収納しておき、この枠形保持具(1)
を例えばその側板(2)の側端面(2S)を下にして立
てる。次に、ボート状保持具(8)を収納した支承枠(
lりとガイド06)との組立体も側板α4の側端面(1
28)を下にして立てる。そして、両者の保合突起(6
)、保合穴霞および保合穴(7)、保合突起−をそれぞ
れ係1合させると、枠形保持具(1)のくし形溝(4)
、ガイド(1@のくし形溝07)お、よびボート状保持
具(8)の円弧状溝(9)はすべて合致する。このよう
Kして係合させた係合体を、第3図に示すような枠形保
持具(1)が上方へくる位置関係に静かに倒すと、ウエ
ノ・(5)はすべて、一括してガイドll51を通って
ボート状保持具(8)へ移しかえることができる。
このとき、くし形+4(4)、0力および円弧状溝(9
)の横断面形状を7字形にしておけば、ウェハ(5)は
その係合体の間を点接触の状態で移動するので、汚染を
受けることなく、また、ピンセットで扱う場合のように
外力が加わって破損することもなくなる0 次に、ボ・−ト状保持具(3)に移しかえられたウェー
・(5)は不純wlJ孤敢の工程に送られる訳であるが
、ボート状保持具(8)を支承枠(11)から取り出す
必要がある。第4図はこの状況を示す斜視図で、図に示
すように断面形状が凸形をなす押上台(ホ)の凸部に支
承枠(1すの下端開口を合わせて、支承枠(lりを沈め
ると、ウェハ(5)を保持したボート状保持具(8)を
゛取出すことができる。
)の横断面形状を7字形にしておけば、ウェハ(5)は
その係合体の間を点接触の状態で移動するので、汚染を
受けることなく、また、ピンセットで扱う場合のように
外力が加わって破損することもなくなる0 次に、ボ・−ト状保持具(3)に移しかえられたウェー
・(5)は不純wlJ孤敢の工程に送られる訳であるが
、ボート状保持具(8)を支承枠(11)から取り出す
必要がある。第4図はこの状況を示す斜視図で、図に示
すように断面形状が凸形をなす押上台(ホ)の凸部に支
承枠(1すの下端開口を合わせて、支承枠(lりを沈め
ると、ウェハ(5)を保持したボート状保持具(8)を
゛取出すことができる。
以上、枠形保持具(1)からボート状保持具(3)への
ウェハ(5)の移しかえについて説明したが、ボート状
保持具(8)から枠形保持具(1)への移しかえは上述
の手順を逆に実行すれば、安全a実に一括移しかえがで
きる。
ウェハ(5)の移しかえについて説明したが、ボート状
保持具(8)から枠形保持具(1)への移しかえは上述
の手順を逆に実行すれば、安全a実に一括移しかえがで
きる。
以上のように同一ヒツチの溝を有する枠形保持具(1)
とボート状保持具(8ンとの間の移しかえは、この用具
を用いて容易に行なうことができるが、両保持具間で溝
のピッチが異なる場合には過当な移しかえの手段がなく
、第1図で説明したようにピンセットによる外になかっ
た。
とボート状保持具(8ンとの間の移しかえは、この用具
を用いて容易に行なうことができるが、両保持具間で溝
のピッチが異なる場合には過当な移しかえの手段がなく
、第1図で説明したようにピンセットによる外になかっ
た。
この発明は以上のような点に鑑みてなされたもので、第
2図に示したような移しかえ用具を掬いることによって
ボート状保持具に収容された薄板体を、その保持具を立
てても薄板体が保持されたままであるようにして溝ピッ
チの異なる枠形保持具との間で移しかえする方法を提供
するものである。
2図に示したような移しかえ用具を掬いることによって
ボート状保持具に収容された薄板体を、その保持具を立
てても薄板体が保持されたままであるようにして溝ピッ
チの異なる枠形保持具との間で移しかえする方法を提供
するものである。
一般に、午導体ウェー・に不純物を拡散する手順として
は、あらかじめ拡散前処理と称してこのウェハを硝酸な
どの@酸群で洗浄し、しかる後K、1000〜1300
”Cの詞−炉で所要の雰曲気ガスとともに一定時間熱
処理が行なわれる。この場合可能な限り多飲枚のウェー
・を一括処理することが工業的に望ましい。そして、拡
散前処理は通常液相で行なわれるので、ウェハを保持具
に並べるピッチはに、4〜4.8mmが採用され、拡散
熱処理は気相で行なわれるので1.5〜3mmのヒツチ
でこと足りる。従って、拡散前処理でのウェハの配列ピ
ッチのま\で、拡散熱処理したのでは生圧注の低下をき
たす。
は、あらかじめ拡散前処理と称してこのウェハを硝酸な
どの@酸群で洗浄し、しかる後K、1000〜1300
”Cの詞−炉で所要の雰曲気ガスとともに一定時間熱
処理が行なわれる。この場合可能な限り多飲枚のウェー
・を一括処理することが工業的に望ましい。そして、拡
散前処理は通常液相で行なわれるので、ウェハを保持具
に並べるピッチはに、4〜4.8mmが採用され、拡散
熱処理は気相で行なわれるので1.5〜3mmのヒツチ
でこと足りる。従って、拡散前処理でのウェハの配列ピ
ッチのま\で、拡散熱処理したのでは生圧注の低下をき
たす。
捷た、一部の特定ウェハでは逆に拡散前処理時のピッチ
よりも大きなピッチで拡散熱処理をするととが必要な場
合がある。
よりも大きなピッチで拡散熱処理をするととが必要な場
合がある。
このように1液相処理用の枠形保持具と気相処理用のボ
ート状保持具とではウェハの保持ピッチが異り、このよ
うな両保持臭間でウェハの移しかえを行なわねばならな
い場合も多い。第5図はウェハ保持ピッチの異る保持具
間でのウェハの移しかえるこの発明の一実施例の状況を
示す一部破断正面図である。図はウェハ(5)をくし形
溝(4)に保持した枠形保持具(1)から、これ、より
保持ピッチの小さいボート状保持具(8)の円弧状#1
(9)へのウェハ(5)の移しかえの状況を示している
。
ート状保持具とではウェハの保持ピッチが異り、このよ
うな両保持臭間でウェハの移しかえを行なわねばならな
い場合も多い。第5図はウェハ保持ピッチの異る保持具
間でのウェハの移しかえるこの発明の一実施例の状況を
示す一部破断正面図である。図はウェハ(5)をくし形
溝(4)に保持した枠形保持具(1)から、これ、より
保持ピッチの小さいボート状保持具(8)の円弧状#1
(9)へのウェハ(5)の移しかえの状況を示している
。
一方のエレベータ(21a)の上には第3図について説
明したと同様にボート状保持具(8)を収納した支承枠
fil) Kガイド(1〜を跨座させた後、支承枠(+
gの側板Q@の側端面(128)を下にしてセットされ
ている。勿論カイト05)のくシ形#1(17)のピッ
チはボート状保持具(8)の円弧状# (9)のピッチ
と一致させる。
明したと同様にボート状保持具(8)を収納した支承枠
fil) Kガイド(1〜を跨座させた後、支承枠(+
gの側板Q@の側端面(128)を下にしてセットされ
ている。勿論カイト05)のくシ形#1(17)のピッ
チはボート状保持具(8)の円弧状# (9)のピッチ
と一致させる。
そして、他方のエレベータ(2xb)の上には拡散前処
理を終えたウェハ(6)が枠形保持具(1)のくし形牌
(4)に収容されたまま、枠形保持具(1)の側板(2
)の側端面(2S)を下にしてセットされている。この
例ではエレベータはウェハ(5)を供給する側を高く、
移しかえを受ける側を低くセントしである。さて、枠形
保持具(1)からボート状保持具(8)へのウェハ(5
)の移しかえは次の手順によって行なわれる。
理を終えたウェハ(6)が枠形保持具(1)のくし形牌
(4)に収容されたまま、枠形保持具(1)の側板(2
)の側端面(2S)を下にしてセットされている。この
例ではエレベータはウェハ(5)を供給する側を高く、
移しかえを受ける側を低くセントしである。さて、枠形
保持具(1)からボート状保持具(8)へのウェハ(5
)の移しかえは次の手順によって行なわれる。
1す、枠形保持具(1)のくし形溝(4)の最下段と、
刀イド161のくし形溝Oηの最上段とが一致するよう
にエレベータ(21a) 、 (21b)の高さを調整
する。次にピストンシリンダ磐からピストン(ホ)が枠
形保持具(1)の中へその鳳を通じて突き出され、くシ
形溝(4)のウェハ(5)を突き出す。突き出場れたウ
ェハ(5)はガイトリ荀のくし形#1IG7)を通って
ボート状保持具(8)の円弧状溝(9)に収納される。
刀イド161のくし形溝Oηの最上段とが一致するよう
にエレベータ(21a) 、 (21b)の高さを調整
する。次にピストンシリンダ磐からピストン(ホ)が枠
形保持具(1)の中へその鳳を通じて突き出され、くシ
形溝(4)のウェハ(5)を突き出す。突き出場れたウ
ェハ(5)はガイトリ荀のくし形#1IG7)を通って
ボート状保持具(8)の円弧状溝(9)に収納される。
次にピストン磐を引っ込めて、エレベータ(21a)を
くし形溝Qカの1ヒツチ分上昇させ、エレベータ(21
b)をくし形溝(4)の1ピッチ分下降させる。引きつ
yいて、ピストン鱒を作動させて次のウェハ(5)を枠
形保持具(1)からボート状保持具(3)へ移しかえる
。以下、同様の操作を祿り返してすべてのウニ・・(5
)の移しかえを行なうこ、とができる。
くし形溝Qカの1ヒツチ分上昇させ、エレベータ(21
b)をくし形溝(4)の1ピッチ分下降させる。引きつ
yいて、ピストン鱒を作動させて次のウェハ(5)を枠
形保持具(1)からボート状保持具(3)へ移しかえる
。以下、同様の操作を祿り返してすべてのウニ・・(5
)の移しかえを行なうこ、とができる。
以上のように1ウエハ(5)の移しかえは勿嗣、移しか
え完了後のボート状保持具(8)は手で直接触れること
なく、支承枠(1りを介してハンドリング出来るのでボ
ート状保持具(3)を汚染することもなく、溝ピッチの
異なる保持具相互間のウェハ(5)の極しかえも自動化
することができる。なお、ボート状保持具(8)から枠
形保持具(1)へのクエ・・(5)の移しかえも、ボー
ト状保持具(3)の底部にピストン@操作用の開口を設
ければ、同様に容易に可能でめることは理解できるであ
ろう。
え完了後のボート状保持具(8)は手で直接触れること
なく、支承枠(1りを介してハンドリング出来るのでボ
ート状保持具(3)を汚染することもなく、溝ピッチの
異なる保持具相互間のウェハ(5)の極しかえも自動化
することができる。なお、ボート状保持具(8)から枠
形保持具(1)へのクエ・・(5)の移しかえも、ボー
ト状保持具(3)の底部にピストン@操作用の開口を設
ければ、同様に容易に可能でめることは理解できるであ
ろう。
上述の実施例ではボート状保持具(8)を収容する支承
枠(lりと、その上に跨座させてウェハ(5ンを導くガ
イド115)とを用いたが、ボート状保持具(8)の幅
と支承枠(11)の−との差を考慮すれば支承枠(11
7の両側板(12a ) j(12b )に形成ちれる
座取り部(14a) 、(14b)のそれぞれの底面〔
両側板(12a) 、 (12b)の両内開面に相当す
る〕にボート状保持具(8)の円弧状溝(9)と同じピ
ッチを有するくし状溝を設けて、ガイド四t−省いても
よい。なお、上記説明では半導体ウェハの取扱いについ
て述べ喪が、セラミック板。
枠(lりと、その上に跨座させてウェハ(5ンを導くガ
イド115)とを用いたが、ボート状保持具(8)の幅
と支承枠(11)の−との差を考慮すれば支承枠(11
7の両側板(12a ) j(12b )に形成ちれる
座取り部(14a) 、(14b)のそれぞれの底面〔
両側板(12a) 、 (12b)の両内開面に相当す
る〕にボート状保持具(8)の円弧状溝(9)と同じピ
ッチを有するくし状溝を設けて、ガイド四t−省いても
よい。なお、上記説明では半導体ウェハの取扱いについ
て述べ喪が、セラミック板。
カラス板、?ファイア板などの薄板体の移しかえにもこ
の考案は適用できる。
の考案は適用できる。
以上詳述したようにこの発明では、ボート状保持具が一
部の開口からその開口面に千行く保持しつ\挿入され、
その内部に支承される支承枠を有し13.この支承枠の
側板の内側に上記ボート状保持具の薄板体保持溝と同一
ヒツチのくし形溝を有する薄板体案内手段を用いたので
、と、の薄板体案内手段を立ててもボート状保持具に保
持された薄板体は脱出することがなく、この薄板体案内
手段と、薄板体の移しかえを行なう相手の枠形保持具と
を、それぞれエレベータの上に立てて載置し、画体持具
の溝ピッチに対応してエレベータを上下させ、画体持具
の任意の縛を互いに同一レベルに一致させ、一方の保持
具の底からピストン棒を押出して薄板体を他方の保持具
へ移行させることができ、纒ピッチの異なる保持具相互
間の移しかえか、ビンセットなどで薄板体を扱う必要な
く、薄板体は勿論、拡散用ボート状保持具などを汚染す
ることなく行なうことができ、その自動化も容易である
0
部の開口からその開口面に千行く保持しつ\挿入され、
その内部に支承される支承枠を有し13.この支承枠の
側板の内側に上記ボート状保持具の薄板体保持溝と同一
ヒツチのくし形溝を有する薄板体案内手段を用いたので
、と、の薄板体案内手段を立ててもボート状保持具に保
持された薄板体は脱出することがなく、この薄板体案内
手段と、薄板体の移しかえを行なう相手の枠形保持具と
を、それぞれエレベータの上に立てて載置し、画体持具
の溝ピッチに対応してエレベータを上下させ、画体持具
の任意の縛を互いに同一レベルに一致させ、一方の保持
具の底からピストン棒を押出して薄板体を他方の保持具
へ移行させることができ、纒ピッチの異なる保持具相互
間の移しかえか、ビンセットなどで薄板体を扱う必要な
く、薄板体は勿論、拡散用ボート状保持具などを汚染す
ることなく行なうことができ、その自動化も容易である
0
第1図は従来の半導体ウニ〆・の移しかえの手順を説明
するための斜視図、第2図はこの発明に用いる移しかえ
用具の一例を示す分解斜視図、第3図はこの移しかえ用
具を用いて溝ピッチの等しい保持具間のつ二/・の移し
かえ状況を示す斜視図、第4図はこの移しかえ用具から
ボート状保持具を収り出す状況を示す斜視図、第5図は
この発明の一実施例である溝ピッチの異なる保持具相互
間でのつニー・の移しかえ状況を示す一部破断正面図で
ある。 図において、(1)は枠形保持具、(4〕はくし形溝、
(5)はつニー・(へ板体) 、<8)はボート状保持
具、(9)は円弧状溝(薄板体保持溝)、(lりは支承
枠、すηはくし形溝、σ67はガイド(薄板体案内手段
)、(21a)fillのエレベータ、(21b)は第
2のエレベータ、c14#′iピストン(棒状体)であ
る。 なお、図中同一符号は同一または相当部分を示す0 第1図 第2図
するための斜視図、第2図はこの発明に用いる移しかえ
用具の一例を示す分解斜視図、第3図はこの移しかえ用
具を用いて溝ピッチの等しい保持具間のつ二/・の移し
かえ状況を示す斜視図、第4図はこの移しかえ用具から
ボート状保持具を収り出す状況を示す斜視図、第5図は
この発明の一実施例である溝ピッチの異なる保持具相互
間でのつニー・の移しかえ状況を示す一部破断正面図で
ある。 図において、(1)は枠形保持具、(4〕はくし形溝、
(5)はつニー・(へ板体) 、<8)はボート状保持
具、(9)は円弧状溝(薄板体保持溝)、(lりは支承
枠、すηはくし形溝、σ67はガイド(薄板体案内手段
)、(21a)fillのエレベータ、(21b)は第
2のエレベータ、c14#′iピストン(棒状体)であ
る。 なお、図中同一符号は同一または相当部分を示す0 第1図 第2図
Claims (1)
- (1)複数本の薄板体保持溝を有するボート状保持具が
一方の開口からその開口面に平行に保持しつつ挿入され
その内部に支承された支承枠と、この支承枠の側板の内
側に上記薄板体保持溝と同一の第1のピンチのくし形溝
を有する薄板体案内手段とを有する得板体の移しかえ用
具を上記薄板体保持溝が水平になるように立てて第1の
エレベータ上に載置し、両側板内側面に上記第1のピッ
チと異なる第2のピンチのくし形溝を有し対向する上記
くし形4間に薄板体を保持する枠形保持具を上記くし形
溝が水平になるように立てて第2のエレベータ上に載置
し、上記第1および第2のエレベータをそれぞれ駆動し
て上記ボート状保持具の薄板体保持溝と上記枠形−保持
具のくし形唖とが順次同一水平位置にるるようにして、
棒状体によって当該鍔の一方にろる薄板体を他力に移す
ことを特徴とする薄板体の移しかえ方法0
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20130282A JPS5890735A (ja) | 1982-11-15 | 1982-11-15 | 薄板体の移しかえ方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20130282A JPS5890735A (ja) | 1982-11-15 | 1982-11-15 | 薄板体の移しかえ方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5890735A true JPS5890735A (ja) | 1983-05-30 |
Family
ID=16438738
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP20130282A Pending JPS5890735A (ja) | 1982-11-15 | 1982-11-15 | 薄板体の移しかえ方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5890735A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61263533A (ja) * | 1985-05-15 | 1986-11-21 | Denkoo:Kk | 半導体移換え装置 |
US5155888A (en) * | 1991-05-22 | 1992-10-20 | Mactronix | Semiconductor wafer lifter |
US6961639B2 (en) | 2002-01-29 | 2005-11-01 | Recif, Societe Anonyme | Apparatus and process for identification of characters inscribed on a semiconductor wafer containing an orientation mark |
US7108476B2 (en) | 1998-05-05 | 2006-09-19 | Recif Technologies Sas | Method and device for changing a semiconductor wafer position |
CN103151289A (zh) * | 2011-12-07 | 2013-06-12 | 无锡华润华晶微电子有限公司 | 晶舟、晶舟转移装置以及包括其的晶片转移系统 |
CN110900182A (zh) * | 2019-11-20 | 2020-03-24 | 上海至纯洁净系统科技股份有限公司 | 可自由安装于湿法设备内的模组化导片装置 |
-
1982
- 1982-11-15 JP JP20130282A patent/JPS5890735A/ja active Pending
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61263533A (ja) * | 1985-05-15 | 1986-11-21 | Denkoo:Kk | 半導体移換え装置 |
US5155888A (en) * | 1991-05-22 | 1992-10-20 | Mactronix | Semiconductor wafer lifter |
US7108476B2 (en) | 1998-05-05 | 2006-09-19 | Recif Technologies Sas | Method and device for changing a semiconductor wafer position |
US6961639B2 (en) | 2002-01-29 | 2005-11-01 | Recif, Societe Anonyme | Apparatus and process for identification of characters inscribed on a semiconductor wafer containing an orientation mark |
CN103151289A (zh) * | 2011-12-07 | 2013-06-12 | 无锡华润华晶微电子有限公司 | 晶舟、晶舟转移装置以及包括其的晶片转移系统 |
CN110900182A (zh) * | 2019-11-20 | 2020-03-24 | 上海至纯洁净系统科技股份有限公司 | 可自由安装于湿法设备内的模组化导片装置 |
CN110900182B (zh) * | 2019-11-20 | 2021-07-06 | 上海至纯洁净系统科技股份有限公司 | 可自由安装于湿法设备内的模组化导片装置 |
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