JPS5887443A - 液体連続循環装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は液体を連続的Ｋ１１ｌｌさせるための装置、さ
らに詳しくはサンプリング又唸制御操作が行なわれる貯
槽とコンテナとの間にこの液体を循環させるための装置
に関する。

液体サンプリング装置、とくに分析目的のためのものが
当面する困難性の主なものは、サンプリング点において
貯槽中に入れられ友液体の均質的且つ代表的すンプルを
得ることである。

現在量４用いられているシステムでは、良好な均質化お
よびこれによる嵐好な代表性を保障するように１貯槽と
サンプリング点との間を液体が循環している。解決すべ
きもう一つの困難性社装置の艶に沿って形成されゐ邪魔
＊＊＊物である。なぜなら、これらの沈澱物はその後の
制御０関、別の液体によって溶解されて調定Ｏ結果を誤
らせるからである。現在、エアリフトと称されるシステ
ムがしばしば用いられてお）、これらにおいては、貯槽
とサンプリング点とを連結しているパイプ中に圧搾空気
を、吹込んで筐体０ＩＩＩＩＩを容品にしている。かよ
うなシステムは筐体の良好な均質化を可能にしていると
はいえ、とくに真空が予め形成されているコンテナｉ九
はジョツキに孔をあけている中空の針の助けによってサ
ンプリングを行なう場合には、液体中の気泡は偏在的に
存在している、。

本発明は前述した不利点を解消し、液体の良好な均質化
およびサンプリング後の装置の効果的な排液を可能にす
るのみならず、サンプリング点において液体中に気泡が
存在するのを防止するような液体を連続的に循環させる
装置に関する。

而して本発明はとくに貯槽と、サンプリング又は制御が
行なわれるコンテナ又は通過ポットとの間を液体が連続
的に循環する装置に関する１、この装置は、圧搾カス源
、貯槽をその上方に配置せしめたセパレータの下方部に
連結せしめている供給パイプ、セパレータの下部を通過
ポットの下方部に連結せしめているダクト、セパレータ
よりも高い位置にある通過ポットの下方部、通過ポット
の上方部と貯槽とを連結せしめているリターンパイプお
よびセパレータの上方部を、減圧を可能にしている装置
に連結せしめているスプラッシュヘッドを備えたパイプ
から構成される。

貯槽とセパレータとを連結しているパイプ中に圧搾空気
を吹込むと液体の上昇が容易になる。真空源またはファ
ンである減圧を可能にしている装置の機能はセパレータ
において液体中に存在するガスを除去することである。

すなわち、セパレータの下方部に染められているものは
完全に脱ガスした液体でお９、そしてそれは通過ポット
まで上昇して行く。

本発明の第一の癲１ｍＶ−よれば、供給パイプ社直線的
でＴｏシ、貯槽に垂直的に入れられている。この場合、
圧搾ガス源れ、貯槽中の液体の遊離表面の水準の上方の
点において供給パイプに至っているパイプに連結してお
υそして減圧を可能にしている装＊Ｆｉ真空渾である。

本発明のもう一つの態様によれば、供給パイプ社貯槽の
下方部に至っており、７ソして仁の領域で曲ｐ部を有し
ている。Ｐ−Ｏ場合、装置が効果的でなく且つ減圧を可
能くする装置がファンである時には圧搾ガス源を供給パ
イプに連結しているノくイブは貯槽中の液体の自由表面
下の点において供給パイプに至っている。

最後に、本発明に基づく装置のもう一つの特徴によれば
、本装置社セパレータの上方部をリターンパイプに連結
しているオバーフロー排出パイプを有している。

本発明を更Ｋ１１ｉＩＩＡに説明するために、以下に図
面に基いて実施態様を記載するが、本発明はこれらＫａ
定されるものではない。

第１図において、貯槽２に液体１が入れられている。こ
の貯槽２は貯蔵槽またはかなシ大容量の貯槽に連結され
た供給槽のいずれでもよい。供給パイプと称される第１
のパイプ４は、セパレータと称されて貯槽２の上方に位
置しておシ、液体と圧搾ガスの分離を生ずるコンテナ６
の下方部と貯槽２とを連結している。セパレータ６の内
部に置かれた有孔チューブ９は、液体用の鎮静装置とし
て働き、通過ポット１０を傷つけるような攪拌を防止す
る一方、２個の泡立てロッド１５はセパレータ中の液体
の存在並びにその水準をチェックすることを可能にしで
いる。セパレータ６の下方部はダクト８によって、通過
ポットと称される液体の状態をチックするコンテナ１０
の下方部に連結されている。通過ポット１０の下方部は
セパレータ６の下方部よりも高い所にあることに注意す
べきである。通過ポット１０は制御装置１２を備えてい
る。この制御装置１２杜通過ボット１０内の液体の状態
を直接制御するととまたは制御が別の装置で行なわれる
場合に、サンプリングを実施することを可能にしている
。通過ポット１００上方部に連結し九すターンバイグ１
１は、通過ポット１０を貯槽２に連結している。

また、ダクト１４Ｆｉスプラツシユヘツド１６を備え且
つセパレータ６の上方部に連結した真空源１７にセパレ
ータ６を連結させている。スプラッシュヘッド１６は、
真空源１７によって吸込まれ九ガスによって運ばれ九連
続的な小滴の分−を可能にする働きをしている。オーバ
ーフロー排出パイプ７はセパレータ６の上方部をリター
ンパイプ１１そしてこれに続いて貯槽２に連結させてい
る。

配列はかようなもので、パイプ７の出発点はリターンパ
イプ１１の出発点よシ４高い所にある。圧搾空気パイプ
３もまた圧搾空気源５を供給パイプ４に連結させている
。第１図の態様において、供給パイプ４は直線的且つ垂
直的であ〕貯槽２の上方部に入っている一方、圧搾空気
パイグｓＦｉ貯槽２中の液体の自由表面上の点において
パイプ４に入っている。

本発明に係る装置は次の様に機能する。真空源１７が操
作に入ると、供給パイプ４に吸収作用が働く。次いで貯
槽２中の液体が前記パイプを伝って圧搾空気パイプ３の
連結点の下の点まで上昇する。この瞬間に圧搾空気がパ
イプ５を通ってパイプ４に吹込まれ、そして装置が真空
下にある事実によシ気泡が、貯槽中の液体を運んでいる
パイプ４中をすぐに上昇する。液体がセパレータ６の下
方部に到達すると、空気はダクト１４を通って排出され
る。この装置が貯槽２からセパレータ６まで液体の連続
的吸収を行なう場合に、セパレータ６中の液体の水準は
上昇しそしてそれ故にパイプ８中の液体の水準が上昇ゆ
く。すなわち、空気がセパレータにおいて液体マスから
除去されるので、その液体マス祉完全に脱ガスされ九液
体となって底部から上部のパイプ、次いで通過ポット１
０に入ってゆく。通過ポット中の液体の水準が充分な高
さに達すると、それはリターンパイプ１１を通つ、て貯
槽２に再び流下する。かくして、貯槽２からセパレータ
６に至るまでのそして次にノ（イブ８を通ってセパレー
タから通過ポットに至るまでのそして最後に、リターン
パイプ１１を通って通過パイプから貯槽に至るまでの連
続的機−がなされる。この循環は制御装置１２４Ｃより
液体レベルを均質化させることができる。さらに、セノ
（レータ６の内容物が通過ポットまで逆上る結果として
、そのものは通過ポットを通過するガス遊離筐体であや
そしてこれによりチェックし一＃：、をンプルの代表性
を有意に改善すること及びその結果としてのサンプリン
グを容易にしている。一方、何らカーの原因、例えばパ
イプ１１０偶発的閉塞の九めに、セパレータ６中の液体
水準が、不都合にも七〕くレータ６の上方部に連結され
たオーバーフロー排出ノ（イブ７を上昇する場合、その
ｔ体をリターンノくイ１１１及びそこから貯槽２へ排出
する仁とができる。制御１九はサンプリング操作が終了
すると、真空源が止められそして圧搾空気取入れが止め
られる。１この時、装置中に入れられ九全浪体は再度重
力によって貯槽２に流下する。とくに通過ボット１０に
入れられた液体線上）４レータ６の下方部の方向にパイ
プ８を通って再び流下しそしてセパレータ６から貯槽２
にパイプ４を通って流下する。

とくにパイプ８が斜傾している結果として、この配列は
装置の即時的且つ話合的排液を確実にしそして引続いて
行なう測定を誤らせる危険のある沈澱物を減少させるこ
とができる。

第２図における態様では、真空源１７がファン１８に代
えられている。更に１供給パイプ４はも社や貯槽２の上
方部に入っておらず、その代ＣＫその貯槽２の底部に至
っている。この領域では、曲）パイプ４ａを有してお夛
、これは常時、貯槽中の液体の自由表面の水準に等しい
水準まで液体で充たされている。圧搾空気供給パイプ３
は装置が効果的でない場合に、液体の自由表面下にある
点においてパイプ４の下方部に至っている。圧搾空気が
パイプ３を通過する時、気泡はすぐにパイプ４を通じて
液体を運ぶ。この場合、装置１８によって保障される通
風は、セパレータ６の下方部に集められている液体を脱
ガスするためにパイプＳによって導入された空気を除去
する働きをするだけである。かくして、液体線供給パイ
プ４に沿って空気が除去されているセパレータ６の下方
部まで上昇する。次いでそれ紘前述し九機構によシバイ
ブ８を通って上昇する。装置が操作されてい危い時、液
体は再度パイプ４に下がって貯槽２中の液体の自由表面
の水準に相当する水準に至る。

本発明に係る装置社多くの利点を有しているが、そのう
ち最も重要なととれ均質的且つ完全に脱ガスし丸液体の
サンプリング点通過を確ｌＩＫすることである。さらに
、装置が操作されていない場合、それは完全且つ非常に
効果的な排水を保障し、引続いて行なう測定を誤らせる
危陵性のある沈澱物を除去する。

かような装置が放射活性の波体サンプルを散る丸めの装
置、と〈Ｋ中空の針が、真空が予め形成されているジョ
ツキを貫通しているものにとくに有効に用いることがで
きると酸いえ、このもの社、液体が循穣し且つその液体
が完全に均質化及び脱ガスされることが所望されるいか
なる任意サンプリング装置にもまた用いることができる
。

【図面の簡単な説明】

諮１図は本発明に係る装置の第１の構造的な態様の概略
図、第２図社同じく第２の態様を示す概略図である。 図中、１＃′ｉ液体、２は貯槽、３祉圧搾空気パイプ、
４は供給パイプ、５は圧搾空気源、６はセパレータ、７
はオーバーフロー排出パイプ、８はパイプ、１０は通過
ポット、１１はリターンパイプ、１２は制御装置、１４
社ダクト、１７は真空源そして１８はファンを示す。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）圧搾ガス源、これの上方に位置してセパレータの下
   方部を貯槽に連結せしめている供給パイプ、セパレータ
   の下方部を通過ボッ）０下方部に連結せしめているダク
   ト、竜パレータよシも高い位置にある通過ポットの下方
   部、通過ポットの下方部を貯槽に連結、せしめているリ
   ターンパイプおよびスプラッシュヘッドを備えてお）、
   減圧を可能にしている装置にセパレータの上方部を連結
   せしめているパイプから構成されることを特徴とする貯
   槽とコンテナま九は通過ポットと０ｆ１４に液体を連続
   的に循環させてサンプリングま九鉱制御を行なう装置。 ２）減圧を可能にしている装置が真空源であシ、圧搾ガ
   、ス源が貯槽中ＯＷＸ体Ｏ体内自由表面も＾い位置で供
   給パイプに達しているパイプと連結していることを特徴
   とする特許請求Ｏ範圓菖１項記載の装置。 ５）減圧することを可能にしている装置がファンであり
   、装置が操作されていない時に、貯槽中の液体の自由表
   面の水準よりも低い水準にある点において圧搾ガスパイ
   プを供給パイプに至らしめていることを特徴とする４Ｉ
   杵請求の範囲第１項記載の装置。 ４）オーバーフロー排出パイプがセパレータの上方部と
   リターンパイプとを連結していることを特徴とする特許
   請求の範囲第１項記載の装置。