JPS588714A - 洗浄溶媒の回収方法 - Google Patents
洗浄溶媒の回収方法Info
- Publication number
- JPS588714A JPS588714A JP10627181A JP10627181A JPS588714A JP S588714 A JPS588714 A JP S588714A JP 10627181 A JP10627181 A JP 10627181A JP 10627181 A JP10627181 A JP 10627181A JP S588714 A JPS588714 A JP S588714A
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- monomer
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- cleaning
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- Polymerisation Methods In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、芳香族ビニル−アクリロニトリル共重合体の
製造装置等の洗浄に川(・た溶媒の再生回収方法に関す
る。
製造装置等の洗浄に川(・た溶媒の再生回収方法に関す
る。
芳香族ビニル−アクリロニトリル共重合体の製造時、製
造装置内に単量体や重合溶媒に不溶若しくは難溶な高分
子物質が生成することが知られている。この高分子物質
は反応槽内や伝熱装置などに付着し、製造装置に伝熱性
能の低下や配管の閉塞を起こす。これに伴ない、反応の
制御性の低下、生産性の低下が起こり、安定操業の大き
な障害となっている。また更には、高分子物質の一部が
製品中へ混入し、製品外観や色相の悪化が発生する。
造装置内に単量体や重合溶媒に不溶若しくは難溶な高分
子物質が生成することが知られている。この高分子物質
は反応槽内や伝熱装置などに付着し、製造装置に伝熱性
能の低下や配管の閉塞を起こす。これに伴ない、反応の
制御性の低下、生産性の低下が起こり、安定操業の大き
な障害となっている。また更には、高分子物質の一部が
製品中へ混入し、製品外観や色相の悪化が発生する。
このため適時操業を停止してこの高分子物質除去する必
要があった。
要があった。
この高分子物質の除去方法としては、人力による除去作
業も実施されているが多くの人手と時間とを要し、また
装置の破損や作業者の残在化学物質による汚染等も発生
し好ましい方法とは言えない。
業も実施されているが多くの人手と時間とを要し、また
装置の破損や作業者の残在化学物質による汚染等も発生
し好ましい方法とは言えない。
また高圧流体を用いて剥離除去する方法も知られている
が装置の構造上高圧流体を直接吹き付けられない個所が
存在する場合や、強度が不足している場合は適用できな
い。
が装置の構造上高圧流体を直接吹き付けられない個所が
存在する場合や、強度が不足している場合は適用できな
い。
このため溶剤による洗浄除去方法が一般に行なわれてい
る。単量体での洗浄は、低温では溶解能力が劣り高温で
は単量体の重合が心配され洗浄の効果が小さいので重合
体を溶解し、得る溶媒が用いられる。ジメチルホルムア
ミド等のアルギルアマイド及びジメチルスルホキシド等
のアルギルスルホキシドは、芳香族ビニル−アクリロニ
トリル共重合体に対して良好な溶媒であるが、洗浄に使
用し単量体等が混入すると高分子物質の溶解能力が低下
することが知られている。
る。単量体での洗浄は、低温では溶解能力が劣り高温で
は単量体の重合が心配され洗浄の効果が小さいので重合
体を溶解し、得る溶媒が用いられる。ジメチルホルムア
ミド等のアルギルアマイド及びジメチルスルホキシド等
のアルギルスルホキシドは、芳香族ビニル−アクリロニ
トリル共重合体に対して良好な溶媒であるが、洗浄に使
用し単量体等が混入すると高分子物質の溶解能力が低下
することが知られている。
この高分子物質は、芳香族ビニル−アクリロニトリル共
重合体の単量体等で膨1ij’l 1.た状態にあり、
それ自体に単量体を多く含んでいる。このためこの高分
子物質を溶媒を用いて洗トfIすると溶媒中に単量体が
混入し洗浄力を低下させる。一度の洗浄で高分子物質を
洗浄する能力が限界値に達することもある。例えば連続
塊状重合でスヂレンーアクリロニトリル共重合体を製造
した場合、重合終了時の重合装置内には高分子物71及
びlj量体が多く存在するため、洗浄溶媒を用い回分式
に洗浄した場合には該溶媒中お単量体等の濃度はλ〜、
20重量係、通常乙〜72重量係にも達し、とれを再度
洗浄に用いることは不適当であり、1jli %J+溶
媒の回収精製が必要となる。洗浄溶媒中の単量体等の濃
度の上昇を防ぐため重合装置内を乾燥させ単量体を除く
操作を行なう場合もあるが、乾燥時間が長く必要なこと
や、作業面に困難があるなどの理由から問題となるとと
が多い。
重合体の単量体等で膨1ij’l 1.た状態にあり、
それ自体に単量体を多く含んでいる。このためこの高分
子物質を溶媒を用いて洗トfIすると溶媒中に単量体が
混入し洗浄力を低下させる。一度の洗浄で高分子物質を
洗浄する能力が限界値に達することもある。例えば連続
塊状重合でスヂレンーアクリロニトリル共重合体を製造
した場合、重合終了時の重合装置内には高分子物71及
びlj量体が多く存在するため、洗浄溶媒を用い回分式
に洗浄した場合には該溶媒中お単量体等の濃度はλ〜、
20重量係、通常乙〜72重量係にも達し、とれを再度
洗浄に用いることは不適当であり、1jli %J+溶
媒の回収精製が必要となる。洗浄溶媒中の単量体等の濃
度の上昇を防ぐため重合装置内を乾燥させ単量体を除く
操作を行なう場合もあるが、乾燥時間が長く必要なこと
や、作業面に困難があるなどの理由から問題となるとと
が多い。
一般に、洗浄に用いる溶媒は高価であるため、回収して
再度利用する必要がある。しかし溶媒の回収には高分子
物質と単量体を分離する必要があり濾過法や吸収法は採
用できない。そのため蒸留操作で行なわれるのが一般的
であるが、高分子物質を含むため回分式で洗浄溶媒と単
量体とを分留しその後高分子物質を分離する方法が採ら
れる。
再度利用する必要がある。しかし溶媒の回収には高分子
物質と単量体を分離する必要があり濾過法や吸収法は採
用できない。そのため蒸留操作で行なわれるのが一般的
であるが、高分子物質を含むため回分式で洗浄溶媒と単
量体とを分留しその後高分子物質を分離する方法が採ら
れる。
しかし回分式の蒸留操作は単量体の分留時に溶媒のロス
が多いことや、手間がかかること、それに大量に処理す
る必要がある場合装置が大きくなり設備に要する費用も
大きくなるなど欠点が多い。
が多いことや、手間がかかること、それに大量に処理す
る必要がある場合装置が大きくなり設備に要する費用も
大きくなるなど欠点が多い。
そこで本発明者らは芳香族ビニル−アクリロニトリル共
重合体製造装置の溶媒による洗浄とその溶媒の回収の効
率的な実施につき鋭意研究したところ、従来法に見られ
たような難点のない芳香族ビニルザクリロニトリル共重
合体の製造装置の洗浄溶媒の回収方法を完成した。
重合体製造装置の溶媒による洗浄とその溶媒の回収の効
率的な実施につき鋭意研究したところ、従来法に見られ
たような難点のない芳香族ビニルザクリロニトリル共重
合体の製造装置の洗浄溶媒の回収方法を完成した。
本発明は、芳香族ビニル−アクリロニトリル共重合体を
製造する装置内に付着する高分子物質を、ジメチルホル
ムアミド、ジメチルアセトアミド及びジメチルスルホキ
シドから成る群より選ばれる一種を主成分とする洗浄溶
媒を用い7511f+除去し、洗浄の結果生じた高分子
物質及び単量体を含む溶媒から洗浄溶媒を回収するに際
し、 (a) 前記溶媒を連続的に蒸発装置に導入し、(b
) 該蒸発装置において洗浄溶媒及び単量体を蒸発さ
せ、前記溶媒中に含まれている高分子物質を分離し、 (C)蒸発装置から蒸発させた洗浄溶媒及び単量体の混
合物を蒸気として蒸留塔に供給し、((1) 同時に
蒸留塔内に水を供給し、塔頂部から水と単量体の共沸混
合物を主成分とする留分を留出し、 (e) 該留分を水を主成分とする相と単量体を主成
分とする相とに分液し、 (1)水を主成分とする相の一部又は全部を(C1)の
水として用い、 (g) 塔底から精製された洗浄溶媒を回収する、と
とを特徴とする洗浄溶媒の回収方法である。
製造する装置内に付着する高分子物質を、ジメチルホル
ムアミド、ジメチルアセトアミド及びジメチルスルホキ
シドから成る群より選ばれる一種を主成分とする洗浄溶
媒を用い7511f+除去し、洗浄の結果生じた高分子
物質及び単量体を含む溶媒から洗浄溶媒を回収するに際
し、 (a) 前記溶媒を連続的に蒸発装置に導入し、(b
) 該蒸発装置において洗浄溶媒及び単量体を蒸発さ
せ、前記溶媒中に含まれている高分子物質を分離し、 (C)蒸発装置から蒸発させた洗浄溶媒及び単量体の混
合物を蒸気として蒸留塔に供給し、((1) 同時に
蒸留塔内に水を供給し、塔頂部から水と単量体の共沸混
合物を主成分とする留分を留出し、 (e) 該留分を水を主成分とする相と単量体を主成
分とする相とに分液し、 (1)水を主成分とする相の一部又は全部を(C1)の
水として用い、 (g) 塔底から精製された洗浄溶媒を回収する、と
とを特徴とする洗浄溶媒の回収方法である。
本発明を適用しうる芳香族ビニル−アクリロニトリル共
重合体とは、好ま1〜くはアクリロニトリルを10〜S
O重量係、より好ましくは、20〜グ0重量係含む共重
合体で、アクリロニトリルの代りにメタアクリロニトリ
ル等のニトリル単量体を含むものでも良く、芳香族ビニ
ル単量体としては、スチレン、α−メチルスチレン等が
挙げられる。共重合体の製造方法は、懸濁重合、溶液重
合、塊状重合などどの方法にも適用できるが、特に溶液
重合、塊状重合では重合装置内に付着している高分子物
質が単量体等で膨潤した状態となっているため、本発明
を適用する効果が大きい。この芳香族ビニル−アクリロ
ニトリル共重合体を作る単量体は、前記のアクリロニト
リル、メタアクリロニトリル、スチレン、α−メチルス
チレン等の単量体で、水と共沸混合物を作りかつ水に溶
解しにくいものであり、また共重合11.11の重合溶
剤として使J’f’lサレ7;v ベンゼン、トルエン
、キシレン、エチルベンゼン、ヘギザン、ヘプタン等の
水と共沸混合物を作りかつ水に溶解しにくい溶剤を含む
ものであっても良い。
重合体とは、好ま1〜くはアクリロニトリルを10〜S
O重量係、より好ましくは、20〜グ0重量係含む共重
合体で、アクリロニトリルの代りにメタアクリロニトリ
ル等のニトリル単量体を含むものでも良く、芳香族ビニ
ル単量体としては、スチレン、α−メチルスチレン等が
挙げられる。共重合体の製造方法は、懸濁重合、溶液重
合、塊状重合などどの方法にも適用できるが、特に溶液
重合、塊状重合では重合装置内に付着している高分子物
質が単量体等で膨潤した状態となっているため、本発明
を適用する効果が大きい。この芳香族ビニル−アクリロ
ニトリル共重合体を作る単量体は、前記のアクリロニト
リル、メタアクリロニトリル、スチレン、α−メチルス
チレン等の単量体で、水と共沸混合物を作りかつ水に溶
解しにくいものであり、また共重合11.11の重合溶
剤として使J’f’lサレ7;v ベンゼン、トルエン
、キシレン、エチルベンゼン、ヘギザン、ヘプタン等の
水と共沸混合物を作りかつ水に溶解しにくい溶剤を含む
ものであっても良い。
本発明に用いろ洗aト溶媒ば、ジメチルポルムアミド、
ジメチルアセトアミド、ジメチルスルボキシドから成る
群より選ばれる7種を主成分とするもので・あるが、ス
チレン−アクリロニI・リル共重合体に対してはジメチ
ルポルムアミドが好適である。
ジメチルアセトアミド、ジメチルスルボキシドから成る
群より選ばれる7種を主成分とするもので・あるが、ス
チレン−アクリロニI・リル共重合体に対してはジメチ
ルポルムアミドが好適である。
洗浄の結果生じた高分子物質及び単量体を含む洗浄溶媒
は溶媒を連続的に蒸発させろ能力のある蒸発装置に導入
されろ。蒸発装置としては、フラッシュ蒸発器、薄膜蒸
発器、It 4’l′:容器等が利用でき高分子物質の
分+411.4Jl出を実施することも可能である。こ
の操作は加圧下、大気圧下あるいは減圧下で実施可能で
あるが操作の容易な大気圧下でのなく蒸気の形で、溶媒
と単量体とを分離するために蒸留塔に導かれる。蒸留塔
としては、通常充填塔あるいは棚段塔が用いられ、大気
圧下あるいは減圧下で分留が実施されるが、この分留に
対しては蒸留塔の段数は7〜20段で十分であり、溶媒
と単量体の混合蒸気は塔底と中間段の間、通常中段より
数段下に供給することが有利である。
は溶媒を連続的に蒸発させろ能力のある蒸発装置に導入
されろ。蒸発装置としては、フラッシュ蒸発器、薄膜蒸
発器、It 4’l′:容器等が利用でき高分子物質の
分+411.4Jl出を実施することも可能である。こ
の操作は加圧下、大気圧下あるいは減圧下で実施可能で
あるが操作の容易な大気圧下でのなく蒸気の形で、溶媒
と単量体とを分離するために蒸留塔に導かれる。蒸留塔
としては、通常充填塔あるいは棚段塔が用いられ、大気
圧下あるいは減圧下で分留が実施されるが、この分留に
対しては蒸留塔の段数は7〜20段で十分であり、溶媒
と単量体の混合蒸気は塔底と中間段の間、通常中段より
数段下に供給することが有利である。
この蒸留塔には単量体の除去のため水が供給される。塔
頂より留出する水と単量体との共沸混合物を主成分とす
る留出物は、単量体を主成分とする相と水を主成分とす
る相に分液されるが、この操作には通常静置分割槽が用
いられ、分液された水を主成分とする相の一部又は全部
を常に還流に用いることで水を閉鎖系で使用することが
可能である。水の供給は通常蒸留操作開始前に予め静置
分離槽に水を桑備しこれを還流に用いる方法や、蒸留塔
内に水又は蒸気を導入する方法で実施される。また洗浄
溶媒を蒸発装置に導入する際に水を供給することも可能
である。
頂より留出する水と単量体との共沸混合物を主成分とす
る留出物は、単量体を主成分とする相と水を主成分とす
る相に分液されるが、この操作には通常静置分割槽が用
いられ、分液された水を主成分とする相の一部又は全部
を常に還流に用いることで水を閉鎖系で使用することが
可能である。水の供給は通常蒸留操作開始前に予め静置
分離槽に水を桑備しこれを還流に用いる方法や、蒸留塔
内に水又は蒸気を導入する方法で実施される。また洗浄
溶媒を蒸発装置に導入する際に水を供給することも可能
である。
静置分離した単量体を主成分とする相は、連続的又は回
分的に抜出すことで除去される。
分的に抜出すことで除去される。
蒸留塔の塔底にはスチームジャケット、リボイラーなど
の加熱装置が精留のために収伺けられる。
の加熱装置が精留のために収伺けられる。
精製された洗浄溶媒は塔底より回収され貯蔵されるか、
あるいは洗トfiのため製造装置に再供給される。
あるいは洗トfiのため製造装置に再供給される。
ヌチレンーアクリロニトリルJ1、重合体製造装置の洗
浄に用いたジメチルポルノ・アミドに本発明を適用した
場合通常99重量係を超えろ純度のジメチルポルムアミ
ドが95重量係以−1−の回収率で回収可能である。
浄に用いたジメチルポルノ・アミドに本発明を適用した
場合通常99重量係を超えろ純度のジメチルポルムアミ
ドが95重量係以−1−の回収率で回収可能である。
本発明の方法によれば芳香族ビニル−アクリロニ) I
Jル共重合体の製造装置の洗’/’f−IF用いた/9
1:、浄溶媒の回収を効果的に実施することができる。
Jル共重合体の製造装置の洗’/’f−IF用いた/9
1:、浄溶媒の回収を効果的に実施することができる。
洗浄溶媒を連続的に回収することにより単量体等を効率
良く除去し溶媒の回収率も高い。また回収した溶媒を再
度重合装置に供給ずろことにより洗浄時間をより短くす
ると同時に高価フ、【溶媒の必要量を減少させることが
可能である。
良く除去し溶媒の回収率も高い。また回収した溶媒を再
度重合装置に供給ずろことにより洗浄時間をより短くす
ると同時に高価フ、【溶媒の必要量を減少させることが
可能である。
以下、本発明を実施例により、第7図を参照しつつ説明
する。
する。
実施例/
塊状重合法でスチレン−アクリロニトリル共重合体(ア
クリロニトリルを、211重量係含有)の製造を連続3
2 E1間実施1〜、品分子物質の付着した内容量3
m’の重合装置λをジメチルポルムアミドを用いて洗浄
した。
クリロニトリルを、211重量係含有)の製造を連続3
2 E1間実施1〜、品分子物質の付着した内容量3
m’の重合装置λをジメチルポルムアミドを用いて洗浄
した。
塊状重合が終了した後重合液が重合装置から排出されろ
。このとき装置内に付着している高分子物質は、単量体
であるアクリロニトリル、スチレン及び重合溶剤どして
用いているエチルベンゼンで膨湿した状態にある。
。このとき装置内に付着している高分子物質は、単量体
であるアクリロニトリル、スチレン及び重合溶剤どして
用いているエチルベンゼンで膨湿した状態にある。
この重合装置にジメチルポルムアミドを満液となるまで
供給槽/から供給し重合装置内を攪拌しながら730℃
で70時間洗浄した。洗浄終了後洗浄に用いた溶媒には
と重量係の単量体等及びグ重量係の高分子物質が含まれ
ていた。この洗浄に用いた溶媒は中継槽3を経て、ポン
プクで連続的に蒸発装置Sに送られる。
供給槽/から供給し重合装置内を攪拌しながら730℃
で70時間洗浄した。洗浄終了後洗浄に用いた溶媒には
と重量係の単量体等及びグ重量係の高分子物質が含まれ
ていた。この洗浄に用いた溶媒は中継槽3を経て、ポン
プクで連続的に蒸発装置Sに送られる。
この蒸発装置はgoolの加熱槽であり:130℃まで
加熱可能な蒸気及び熱媒ジャケット及び内部コイルが取
り付けである。蒸発装置の底部からは高分子物質を排出
するだめのギヤポンプ乙が取り付けられている。また加
熱槽上部には重合体の飛沫同伴を防ぐため300 n1
llの高さの充填部7が設U゛られている。蒸発操作は
+=: b=゛大気圧下(105atm)で行なわれ蒸
発装置は/ /15 ℃に保たれここで発生した蒸気は
2701(g/′nr の速度で蒸留塔gに送られる。
加熱可能な蒸気及び熱媒ジャケット及び内部コイルが取
り付けである。蒸発装置の底部からは高分子物質を排出
するだめのギヤポンプ乙が取り付けられている。また加
熱槽上部には重合体の飛沫同伴を防ぐため300 n1
llの高さの充填部7が設U゛られている。蒸発操作は
+=: b=゛大気圧下(105atm)で行なわれ蒸
発装置は/ /15 ℃に保たれここで発生した蒸気は
2701(g/′nr の速度で蒸留塔gに送られる。
この蒸留塔は塔径1I−3Omrnの充填塔で蒸気供給
部より上にグ段、蒸気供給部より下に3段合計7段の塔
である。この蒸留塔には塔底液加熱用のりボイラー7と
塔頂蒸気の凝縮器10及び凝縮液の分液槽//(容量1
000e )と還流用のポンプ/2が取り付けられてい
る。
部より上にグ段、蒸気供給部より下に3段合計7段の塔
である。この蒸留塔には塔底液加熱用のりボイラー7と
塔頂蒸気の凝縮器10及び凝縮液の分液槽//(容量1
000e )と還流用のポンプ/2が取り付けられてい
る。
′ 分留塔の塔頂では分液槽に]つめ用意された水を還
流し水と溶媒中の?l′L量体等を共dI′、させる。
流し水と溶媒中の?l′L量体等を共dI′、させる。
このとき共沸して塔頂より出た単111′体等は分液槽
で分岐され水層を還流に使用する。このときの還流比R
はり0であった。この操作に、1:すrlt量体等は殆
ど除かれ分留塔塔底からは′?97市沿係のジメチルポ
ルムアミドが得られた。このジメチルホルムアミドば/
3で示ず貯槽に集められた。
で分岐され水層を還流に使用する。このときの還流比R
はり0であった。この操作に、1:すrlt量体等は殆
ど除かれ分留塔塔底からは′?97市沿係のジメチルポ
ルムアミドが得られた。このジメチルホルムアミドば/
3で示ず貯槽に集められた。
この回収操作により9g重量係のジメチルホルムアミド
が回収された。
が回収された。
第1図は、本発明を実施するのに用いた装置のフローシ
ートの一例である。 /:溶媒供給槽 、!:重合装置 3:中継槽 Il、:ポンプ S:蒸発装置 乙:ギャボンプ 7:充填部 g:蒸留塔 ′?:リボイラー 10:凝縮器 //:分液槽 /2=還流用ポンプ/3:貯槽
M:モーター 代理人 若 林 忠 第 1 図
ートの一例である。 /:溶媒供給槽 、!:重合装置 3:中継槽 Il、:ポンプ S:蒸発装置 乙:ギャボンプ 7:充填部 g:蒸留塔 ′?:リボイラー 10:凝縮器 //:分液槽 /2=還流用ポンプ/3:貯槽
M:モーター 代理人 若 林 忠 第 1 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 / 芳香族ビニル−アクリロニトリル共重合体を製造す
る装置内に付着する高分子物質を、ジメチルポルムアミ
ド、ジメチルアセトアミド及びジメチルスルホキシドか
ら成る群より選ばれる一種を主成分とする洗浄溶媒を用
い洗浄除去し、洗浄の結果生じた高分子物質及び単量体
を含む溶媒から洗浄溶媒を回収するに際し、 (a) 前記溶媒を連続的に蒸発装置に導入し、(b
) 該蒸発装置において/!IL浄溶媒及び単量体を
蒸発させ、前記溶媒中に含まれている高分子物質を分離
し、 (C)蒸発装置から蒸発させた洗浄溶媒及び単量体の混
合物を蒸気として蒸留塔に供給し、(C1) 同時に
蒸留塔内に水を供給し、塔頂部から水と単量体の共沸混
合物を主成分とする留分を留出し、 (e) 該留分を水を主成分とず4)相とl’を量体
を主成分とする相とに分液し、 (ロ 水を主成分とずろ相の一部又は全部な(d)の水
として用い、 (g) 塔底から精製された洗(−f1’ni媒を回
収する、ことを特徴とする洗トfト溶媒の回収力lJミ
。 記 前記洗浄溶′媒がジメチルポルノ・アミドである特
許請求の範囲第1項記載の方法。 3、 前記単量体がアクリロニトリル及びヌチレンであ
る特許請求の範囲第1項記載の方?iミ。 ” 前記単ft 体力ベンゼン、!・ルエン、キシレ
ン、エチルベンゼン、ヘプタン等の水と共沸する炭化水
素を含む特許請求の範囲第/項記載の方法。
Priority Applications (9)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10627181A JPS5950686B2 (ja) | 1981-07-09 | 1981-07-09 | 洗浄溶媒の回収方法 |
IN687/CAL/82A IN158315B (ja) | 1981-06-19 | 1982-06-15 | |
GB08217465A GB2101613B (en) | 1981-06-19 | 1982-06-16 | Cleansing apparatus in which vinyl-acrylonitrile systems polymerise |
MX193207A MX164784B (es) | 1981-06-19 | 1982-06-17 | Metodo para lavar y retirar sustancias altamente moleculares y metodo para recobrar el solvente de lavado |
IT21938/82A IT1152424B (it) | 1981-06-19 | 1982-06-18 | Metodo di lavaggio e rimozione di sostanze ad elevato peso molecolare e metodo per il recupero di solvente di lavaggio |
US06/389,764 US4468257A (en) | 1981-06-19 | 1982-06-18 | Washing and removal method of high molecular substances |
CA000405509A CA1204371A (en) | 1981-06-19 | 1982-06-18 | Washing and removal method of high molecular substances and recovery method of washing solvent |
KR8202738A KR890002372B1 (ko) | 1981-06-19 | 1982-06-19 | 고분자 물질의 세척 및 제거방법 |
BR8203624A BR8203624A (pt) | 1981-06-19 | 1982-06-21 | Processo para lavagem e remocao de substancias de alto peso molecular aderidas no interior de um aparelho de producao ou maquina de moldagem na producao ou moldagem de um copolimero de vinila aromatica-acrilonitrila |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10627181A JPS5950686B2 (ja) | 1981-07-09 | 1981-07-09 | 洗浄溶媒の回収方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS588714A true JPS588714A (ja) | 1983-01-18 |
JPS5950686B2 JPS5950686B2 (ja) | 1984-12-10 |
Family
ID=14429413
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10627181A Expired JPS5950686B2 (ja) | 1981-06-19 | 1981-07-09 | 洗浄溶媒の回収方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5950686B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009504808A (ja) * | 2005-08-10 | 2009-02-05 | リンデ アーゲー | 反応器を洗浄する方法 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04168935A (ja) * | 1990-10-31 | 1992-06-17 | Fujitsu Ltd | 電源装置 |
-
1981
- 1981-07-09 JP JP10627181A patent/JPS5950686B2/ja not_active Expired
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009504808A (ja) * | 2005-08-10 | 2009-02-05 | リンデ アーゲー | 反応器を洗浄する方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5950686B2 (ja) | 1984-12-10 |
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