JPS5885129A - リ−クテストにおけるマスキング法 - Google Patents
リ−クテストにおけるマスキング法Info
- Publication number
- JPS5885129A JPS5885129A JP18221381A JP18221381A JPS5885129A JP S5885129 A JPS5885129 A JP S5885129A JP 18221381 A JP18221381 A JP 18221381A JP 18221381 A JP18221381 A JP 18221381A JP S5885129 A JPS5885129 A JP S5885129A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- helium
- gas
- space
- leakage
- masking
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01M—TESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01M3/00—Investigating fluid-tightness of structures
- G01M3/02—Investigating fluid-tightness of structures by using fluid or vacuum
- G01M3/04—Investigating fluid-tightness of structures by using fluid or vacuum by detecting the presence of fluid at the leakage point
- G01M3/20—Investigating fluid-tightness of structures by using fluid or vacuum by detecting the presence of fluid at the leakage point using special tracer materials, e.g. dye, fluorescent material, radioactive material
- G01M3/202—Investigating fluid-tightness of structures by using fluid or vacuum by detecting the presence of fluid at the leakage point using special tracer materials, e.g. dye, fluorescent material, radioactive material using mass spectrometer detection systems
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明はヘリウムリークディテクタまたに質量分析形
機器を用いて被試験物のリークｔｔ創定するリークテス
トにおけるマスキング法に胸するｔのでるる。
機器を用いて被試験物のリークｔｔ創定するリークテス
トにおけるマスキング法に胸するｔのでるる。
一般にリークテストとしては被試験容凶に運勢な気体上
充填して加圧し、リーク部位から漏れる気体上検知する
加圧法や容ｇ＃ｔ−Ｘ空に引いて検出器として真空計を
用いたり特別なガスを利用して測定を行なう真空法があ
るが、検出感度が比較的尚〈（ｉ！軸性、安定性や取扱
いの容易さ尋の観点からヘリウムリークディテクタや質
量分析形機器管利用してフード法によるリークテストか
広く用いられており、それにおいては被試験物ｔフード
で榎いその内ｌｌ１ｌｔ−真空排気してヘリウムガスを
注入してリーク部位から漏れるヘリウムガス【ヘリウム
リークディテクタまたは質量分析形機器で検出する。し
かしながらこのＬうな方法ではフードの内部に注入した
ヘリウムガスか被試験物のフードで―つ九部分以外の部
分へ蜘り込む恐れかめり。
充填して加圧し、リーク部位から漏れる気体上検知する
加圧法や容ｇ＃ｔ−Ｘ空に引いて検出器として真空計を
用いたり特別なガスを利用して測定を行なう真空法があ
るが、検出感度が比較的尚〈（ｉ！軸性、安定性や取扱
いの容易さ尋の観点からヘリウムリークディテクタや質
量分析形機器管利用してフード法によるリークテストか
広く用いられており、それにおいては被試験物ｔフード
で榎いその内ｌｌ１ｌｔ−真空排気してヘリウムガスを
注入してリーク部位から漏れるヘリウムガス【ヘリウム
リークディテクタまたは質量分析形機器で検出する。し
かしながらこのＬうな方法ではフードの内部に注入した
ヘリウムガスか被試験物のフードで―つ九部分以外の部
分へ蜘り込む恐れかめり。
その結果検出益で如何に正確に測定して％ ＩＪ−り部
位の判１ｆｒＶｔ誤った９真のリーク童を正確に測定で
きない尋の欠点かめる。
位の判１ｆｒＶｔ誤った９真のリーク童を正確に測定で
きない尋の欠点かめる。
この発明の目的σ、上述の欠点を解消したリークテスト
におけるマスキング法を提供することにある。
におけるマスキング法を提供することにある。
この発明に↓るマスキング法に本質的には、被試験物【
ＩＰＩｌえばビニルの、ような可撓性密封機い部材で完
全に後い、その外１ｍを同様な可撓性密封機一部材で二
重に＆い、上記二つの密刺棟い部材間に窒素ガスのよう
なヘリウム、水素以外のガス【注入し、そして内情の密
對嶺い部材と被試験物との間をＸ！２！排気してヘリウ
ムガスを注入することから成る。
ＩＰＩｌえばビニルの、ような可撓性密封機い部材で完
全に後い、その外１ｍを同様な可撓性密封機一部材で二
重に＆い、上記二つの密刺棟い部材間に窒素ガスのよう
なヘリウム、水素以外のガス【注入し、そして内情の密
對嶺い部材と被試験物との間をＸ！２！排気してヘリウ
ムガスを注入することから成る。
この↓うにこの発明によれば、被試験物に対して密封嶺
い部材【二１に施し、その間に窒素ガスのようなヘリウ
ム、水素以外のガスを充填するので、ヘリウムガスが他
の部分に廼り込むことかなく、従ってリーク部位を誤っ
て％足する危険か避けられるだけでなく正確なリーク量
【測定することかできる。
い部材【二１に施し、その間に窒素ガスのようなヘリウ
ム、水素以外のガスを充填するので、ヘリウムガスが他
の部分に廼り込むことかなく、従ってリーク部位を誤っ
て％足する危険か避けられるだけでなく正確なリーク量
【測定することかできる。
！たこの発明による方法に被試験物の寸法に関係なく例
えば／餅の配管からトーラスのＪＯ，径位筐での被試験
物に対して応用で！８、リークテスト上実用性の極めて
高いものでるる。
えば／餅の配管からトーラスのＪＯ，径位筐での被試験
物に対して応用で！８、リークテスト上実用性の極めて
高いものでるる。
以下、この発明を添附図？ｉＩを参照してその一実ＪＩ
Ｉｆ！１について説明する。
Ｉｆ！１について説明する。
図′ｔｈＩには真窒装置におけるのぞき窓からのリーク
電音測定するのにこの発明を実りした例を概略的に示し
、図面において／はのぞき窓、２．３にそれぞれビニル
のＬうな内情および外賀可撓性密封榎い部材、参に内顕
封榎い部材コ、Ｊ関の９間ｊ内へ一本ガスを供給する管
で、この管参の他層は図示してない窒素ガス源に連結筋
れる。また管６は内情の缶＠榎い部材−と被試験物であ
るのぞきｊｌ！／との間の空間７を真空排気する真空ポ
ンプ（図示してない）Ｋ結合芒れ、そして管ｔは真空排
気した９間７内へヘリウムガスを供給するようにされて
いる。
電音測定するのにこの発明を実りした例を概略的に示し
、図面において／はのぞき窓、２．３にそれぞれビニル
のＬうな内情および外賀可撓性密封榎い部材、参に内顕
封榎い部材コ、Ｊ関の９間ｊ内へ一本ガスを供給する管
で、この管参の他層は図示してない窒素ガス源に連結筋
れる。また管６は内情の缶＠榎い部材−と被試験物であ
るのぞきｊｌ！／との間の空間７を真空排気する真空ポ
ンプ（図示してない）Ｋ結合芒れ、そして管ｔは真空排
気した９間７内へヘリウムガスを供給するようにされて
いる。
この発明にＬれは、′ｔずのぞき窓ｌｔ−ビニルλで完
全にマスキングする０次にこのマスキングし九ビニルλ
の外餉會ビニル３でマスキングし、二重にプールする。
全にマスキングする０次にこのマスキングし九ビニルλ
の外餉會ビニル３でマスキングし、二重にプールする。
こうして形成したビニルλ、３間の！２関ｊ内に智弘を
介して皇累ガス【注入する。
介して皇累ガス【注入する。
そしてのぞき窓ｌとビニルλとの間の９間７ｔ−排気ｖ
４ｔ−介して真空排気し、そして管ｌ全弁してヘリウム
ガスを壮大する。ヘリウムガスの注入後直ちにその９聞
７ｔ−Ｘ空排気し、Ｆ）びヘリウムガスを注入する。こ
うしてこの操作ｉｊ回繰返して空間７内のヘリウムガス
の置換を十分に行なう。
４ｔ−介して真空排気し、そして管ｌ全弁してヘリウム
ガスを壮大する。ヘリウムガスの注入後直ちにその９聞
７ｔ−Ｘ空排気し、Ｆ）びヘリウムガスを注入する。こ
うしてこの操作ｉｊ回繰返して空間７内のヘリウムガス
の置換を十分に行なう。
こうした状態において図示してないヘリクムリークデイ
テクタまたに質量分析形＠ｆｃ器を用いてのぞき窓ｌの
リーク量の−」定か行なわれる。このようにして＃］定
【行なった結果、リーク量の測定値はほぼ真の値に近い
ものを得ることかできた。
テクタまたに質量分析形＠ｆｃ器を用いてのぞき窓ｌの
リーク量の−」定か行なわれる。このようにして＃］定
【行なった結果、リーク量の測定値はほぼ真の値に近い
ものを得ることかできた。
図面はこの発明の方法の−実り例を示す部分−［′［０
図である。 図中、ｌ・・・被試験物、コ、３・・・’ＦｉＪ涜性密
封蝋い部材。
図である。 図中、ｌ・・・被試験物、コ、３・・・’ＦｉＪ涜性密
封蝋い部材。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ヘリウムリークディテクタ筐たは５＆量分析形機Ｓ會用
いて被試験物のリーク電音測定するリークテストにお−
て、普試験物ｔｔＩ］＊性密封檄い部材で密封的に後い
、その外儒ｔｌＷｌ橡な可撓性＠剥樵い部材で二重ｔｃ
１１ｖｋｈ上記二つの＠上記一部材間にヘリウム、水嵩
以外のガスを注入し、そして内部の密封扱い部材と被試
験物との間で真空排気とヘリウムガス注入操作を繰返し
てヘリウムガスの置換【行なうことを特徴とするマスキ
ング法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18221381A JPS5885129A (ja) | 1981-11-16 | 1981-11-16 | リ−クテストにおけるマスキング法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18221381A JPS5885129A (ja) | 1981-11-16 | 1981-11-16 | リ−クテストにおけるマスキング法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5885129A true JPS5885129A (ja) | 1983-05-21 |
Family
ID=16114324
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18221381A Pending JPS5885129A (ja) | 1981-11-16 | 1981-11-16 | リ−クテストにおけるマスキング法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5885129A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6742384B2 (en) * | 2002-07-02 | 2004-06-01 | Carrier Corporation | Trace gas management system for leak detection operations |
| US11143571B2 (en) * | 2017-01-23 | 2021-10-12 | Inficon Gmbh | Film chamber having double film |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5525709U (ja) * | 1978-08-07 | 1980-02-19 |
-
1981
- 1981-11-16 JP JP18221381A patent/JPS5885129A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5525709U (ja) * | 1978-08-07 | 1980-02-19 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6742384B2 (en) * | 2002-07-02 | 2004-06-01 | Carrier Corporation | Trace gas management system for leak detection operations |
| US11143571B2 (en) * | 2017-01-23 | 2021-10-12 | Inficon Gmbh | Film chamber having double film |
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