JPS5878149A - 金属画像形成材料 - Google Patents
金属画像形成材料Info
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- JPS5878149A JPS5878149A JP56175800A JP17580081A JPS5878149A JP S5878149 A JPS5878149 A JP S5878149A JP 56175800 A JP56175800 A JP 56175800A JP 17580081 A JP17580081 A JP 17580081A JP S5878149 A JPS5878149 A JP S5878149A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/225—Oblique incidence of vaporised material on substrate
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/54—Absorbers, e.g. of opaque materials
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
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- Organic Chemistry (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、金属ｊ儂を形成するための材料に関し、詳し
゛〈は、ノーイコントラストｏｗｉｓａａ形成能を有し
、微細線ｒｉｔｅ、―点ＷｊＩ曽用に遣した、新規な金
属Ｓ＊形成材料に関する。
゛〈は、ノーイコントラストｏｗｉｓａａ形成能を有し
、微細線ｒｉｔｅ、―点ＷｊＩ曽用に遣した、新規な金
属Ｓ＊形成材料に関する。
一般に、感光性樹脂層勢―會形成層と金属等被加工材層
とからなる金ｘｔｉｉ儂形成材料を用φる時、被加工材
である金属あるいは非金属板上に一定のｉｍ＊、ａ柄を
有する耐腐蝕性皮輿を写真技法等を用−て形成させて後
、徴加工虻の露出部を化学的、または電気化学的Ｋｌｌ
解させて、所望の金属ｉｉｍを得たり、穴あけ、みヤ加
工を行なう技法として写真腐蝕法（以下フォトエツチン
グ法という、）がある。
とからなる金ｘｔｉｉ儂形成材料を用φる時、被加工材
である金属あるいは非金属板上に一定のｉｍ＊、ａ柄を
有する耐腐蝕性皮輿を写真技法等を用−て形成させて後
、徴加工虻の露出部を化学的、または電気化学的Ｋｌｌ
解させて、所望の金属ｉｉｍを得たり、穴あけ、みヤ加
工を行なう技法として写真腐蝕法（以下フォトエツチン
グ法という、）がある。
従来の金属１倫形成材料において、金属薄層を用いた゛
場合の７オトエツデング法では、ｌｉｇＩ形成のされた
感光性樹脂層で耐腐蝕性の特性を有する徴覆層（以下レ
ジストという。）がエツチング液によって浸される傾向
が有り、浸されない＠［に弱いエツチング液で杜、金属
薄層が鋏エツチング液によりエツチングされにくいこと
で、そのため通常は、エツチング時間が長（揖ることに
なる。
場合の７オトエツデング法では、ｌｉｇＩ形成のされた
感光性樹脂層で耐腐蝕性の特性を有する徴覆層（以下レ
ジストという。）がエツチング液によって浸される傾向
が有り、浸されない＠［に弱いエツチング液で杜、金属
薄層が鋏エツチング液によりエツチングされにくいこと
で、そのため通常は、エツチング時間が長（揖ることに
なる。
従って効率を昇ける為に強いエツチング液を用いなけれ
ばならず、作業上、環境上危険性が有〕、レジストとし
ては、耐腐蝕性の極めて強−ものを用いなければならな
いと−う欠点があった。しかも、強いエツチング液や弱
いレジストでは鮮鋭なｊ１１曽が得姻く、エツチングが
進行すると、エツチングは被加工材表面にｆｉｌ［方向
に進むと同時に横方向へも進行するので、いわゆるサイ
ドエラグが起きて、画像のエッヂの乱れを生ずると−う
不都合があった。
ばならず、作業上、環境上危険性が有〕、レジストとし
ては、耐腐蝕性の極めて強−ものを用いなければならな
いと−う欠点があった。しかも、強いエツチング液や弱
いレジストでは鮮鋭なｊ１１曽が得姻く、エツチングが
進行すると、エツチングは被加工材表面にｆｉｌ［方向
に進むと同時に横方向へも進行するので、いわゆるサイ
ドエラグが起きて、画像のエッヂの乱れを生ずると−う
不都合があった。
また、感光性−脂層へ所望０ｊｌｌを紫外線ランプ勢を
用いて焼き込む時に１感光性樹脂層を通過し先光が、下
層の金属薄層に反射してノ・レーションを起こすため、
焼込みＦＩＩｇＩＩの再現性が間層となっていた。
用いて焼き込む時に１感光性樹脂層を通過し先光が、下
層の金属薄層に反射してノ・レーションを起こすため、
焼込みＦＩＩｇＩＩの再現性が間層となっていた。
本発明の目的は、金属薄層を短時間にエツチングするた
めの強力なエツチング液を使用する仁となく、短時間に
金属薄層をエツチングして、しかも鮮鋭な画像を得るこ
とができる金属ｊｌｌ形成材料を提供するにある。
めの強力なエツチング液を使用する仁となく、短時間に
金属薄層をエツチングして、しかも鮮鋭な画像を得るこ
とができる金属ｊｌｌ形成材料を提供するにある。
かかる目的は、水系処理液可溶性又は填料性を有する下
引層を設けた支持体上に、咳下引層面に対して斜め方向
から金属を蒸着して形成された少なくとも１層の金属蒸
着層が設けられており、この金属蒸着層上に感光性ｉｋ
層が設妙られていることを特徴とする金属画像形成材料
によって達成される。
引層を設けた支持体上に、咳下引層面に対して斜め方向
から金属を蒸着して形成された少なくとも１層の金属蒸
着層が設けられており、この金属蒸着層上に感光性ｉｋ
層が設妙られていることを特徴とする金属画像形成材料
によって達成される。
本発明を以下に詳述する。
水系処理液に可溶性又祉親和性を有する下引層とは、本
社もちろん実買的に水を主成分とするアルカリ水溶液及
び酸水溶液あるいは、これらに少量の有機Ｓ課を加えた
従来公知の水系処理液に溶解するか、又社勉和性を有す
る素材からなる下引層を言う、具体的には水系処理液を
該下引層上に滴下した時に、滴下１分後の接触角が３０
°以下である仁と、あるいは、前記水系処理液に膨潤性
を有する素材からなる下引層である。この特性を有する
下引層を―整するためには、各種既知の水系処理液Ｋａ
Ｔ溶性又は填料性のある樹脂を単独あるいは複数で用い
ることが好ましい。この樹脂の例としては、水処理液の
場合は例えばポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリ
ビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ゼラテン、
メチルセルロース、とドロ午ジエチルセルロース、ヒド
ロキシグロビルメテルセルロース、カルボ中シメデルセ
ルロース、およびポリエナレンオキサイド等の水溶性樹
脂が挙げられる。
社もちろん実買的に水を主成分とするアルカリ水溶液及
び酸水溶液あるいは、これらに少量の有機Ｓ課を加えた
従来公知の水系処理液に溶解するか、又社勉和性を有す
る素材からなる下引層を言う、具体的には水系処理液を
該下引層上に滴下した時に、滴下１分後の接触角が３０
°以下である仁と、あるいは、前記水系処理液に膨潤性
を有する素材からなる下引層である。この特性を有する
下引層を―整するためには、各種既知の水系処理液Ｋａ
Ｔ溶性又は填料性のある樹脂を単独あるいは複数で用い
ることが好ましい。この樹脂の例としては、水処理液の
場合は例えばポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリ
ビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ゼラテン、
メチルセルロース、とドロ午ジエチルセルロース、ヒド
ロキシグロビルメテルセルロース、カルボ中シメデルセ
ルロース、およびポリエナレンオキサイド等の水溶性樹
脂が挙げられる。
水あるいはアルカリ水溶液処理の場合、ノボラック―脂
、ビニルピロリドン共重合体、アクリル酸共重合体、メ
タクリル酸共重合体、アクリルアミド共重合体、メタク
シルアミド共重合体、無水マレイン酸共重合体等の水溶
性あるいはアルカリ可溶性樹脂が挙げられる。
、ビニルピロリドン共重合体、アクリル酸共重合体、メ
タクリル酸共重合体、アクリルアミド共重合体、メタク
シルアミド共重合体、無水マレイン酸共重合体等の水溶
性あるいはアルカリ可溶性樹脂が挙げられる。
また、酸水溶液処理の場合は、例えば側鎖にシアル中ル
アξノ基を有するジメチルアミノメチルメタクリレート
共重合体、ジメチルアミノメチルメタクリレート共重合
体等が挙げられる。
アξノ基を有するジメチルアミノメチルメタクリレート
共重合体、ジメチルアミノメチルメタクリレート共重合
体等が挙げられる。
本発明における下引層の厚さは、ＩｉｇＩの解菅力、エ
ッヂのシャープネスの点で、出来るだけ薄いことが好ま
しく、通常２β以下、好ましくはＩＩｌ以下である。
ッヂのシャープネスの点で、出来るだけ薄いことが好ま
しく、通常２β以下、好ましくはＩＩｌ以下である。
本発明に用いられる支持体として紘、前述の下引層を保
持するものであって、それを用いて構成される本発明の
金属画像形成材料の用途を考慮して各種の形態のものと
することができる０通常漁業者が従来の経験から考えつ
くこの感光性画儂形成材料を必要とする多くの用途に対
しては、その基板は板状、シート状ま九社フィルム状と
一つ九形態のものが好適であり１その用途によって透明
なもの、半透明なものあるいは不透明なものとすること
ができる。そして支持体は金属層を腐蝕させるエツチン
グ［Ｋ侵されず、かつエラテン７によりその上に設けら
れている層が剥離し九〕剥離し晶くなったりするような
層に対する後着力が劣化してしまうものであってはなら
ない。
持するものであって、それを用いて構成される本発明の
金属画像形成材料の用途を考慮して各種の形態のものと
することができる０通常漁業者が従来の経験から考えつ
くこの感光性画儂形成材料を必要とする多くの用途に対
しては、その基板は板状、シート状ま九社フィルム状と
一つ九形態のものが好適であり１その用途によって透明
なもの、半透明なものあるいは不透明なものとすること
ができる。そして支持体は金属層を腐蝕させるエツチン
グ［Ｋ侵されず、かつエラテン７によりその上に設けら
れている層が剥離し九〕剥離し晶くなったりするような
層に対する後着力が劣化してしまうものであってはなら
ない。
支持体の素材として紘、従来公知の多くのものが用いら
れ、たとえと陶磁器、無定形ガラス、結晶性ガラス、金
属、合金、プラスチック及びこれらの複合材料などを挙
げることができる。これらの素材は不透明なものや透明
なものもあるが、必要によっては透明なものに着色＃ｊ
１１や不透明化剤を加えて半透明化あるいは不透明化さ
せることができる。しかしながら考えられる多くの用途
の分野は、本発明の金属画像形成材料に金属蒸着層によ
るｉｊ曽を形成せしめ、金属蒸着層がなく支持体が画面
に露出し・ている非Ｓ＊部分に光を透過せしめ、１ｉｉ
ｔｓ分は金ＪＩＩａ着層によって光を１断する、いわゆ
る光透過励の応用会費であり、そのような分野に用いら
れる金ｍ１ｓｓ形成材料の場合は、その支持体が透明で
あることが必要である。他方、形成されたｉｉｉ＠を反
射光によってｉｌ織する応用分野に適用されるものにあ
っては、その基板は透明であることを豐しない、かかる
支持体には、下引層との接着を改良する目的で、コロナ
放電、プラズマ逃場といった表面処理の技法を用いるこ
ともできる。
れ、たとえと陶磁器、無定形ガラス、結晶性ガラス、金
属、合金、プラスチック及びこれらの複合材料などを挙
げることができる。これらの素材は不透明なものや透明
なものもあるが、必要によっては透明なものに着色＃ｊ
１１や不透明化剤を加えて半透明化あるいは不透明化さ
せることができる。しかしながら考えられる多くの用途
の分野は、本発明の金属画像形成材料に金属蒸着層によ
るｉｊ曽を形成せしめ、金属蒸着層がなく支持体が画面
に露出し・ている非Ｓ＊部分に光を透過せしめ、１ｉｉ
ｔｓ分は金ＪＩＩａ着層によって光を１断する、いわゆ
る光透過励の応用会費であり、そのような分野に用いら
れる金ｍ１ｓｓ形成材料の場合は、その支持体が透明で
あることが必要である。他方、形成されたｉｉｉ＠を反
射光によってｉｌ織する応用分野に適用されるものにあ
っては、その基板は透明であることを豐しない、かかる
支持体には、下引層との接着を改良する目的で、コロナ
放電、プラズマ逃場といった表面処理の技法を用いるこ
ともできる。
本発明に係る金属Ｓ＊形成材料における金属薄層は金属
蒸着層であり、鍍金属蒸着層に用いられる金属としては
、例えば％開開５０−１３９７２０号公報に記載されて
いるアルミニウムを主体とする金属や、特開昭４８−６
５９２７号、同４８−６５９２８号、同５Ｇ−２９２５
号及び同５゜−１４１６１号の各公報に記載されている
ようなテルル、モリブテン、ボロニウム、コバルト、優
鉛、銅、ニッケル、鉄、錫、バナジウム、ケルマニウム
、銀及び銀工ｉルジｌン、を九クロム、チタニウム等や
合金を挙げることができる。
蒸着層であり、鍍金属蒸着層に用いられる金属としては
、例えば％開開５０−１３９７２０号公報に記載されて
いるアルミニウムを主体とする金属や、特開昭４８−６
５９２７号、同４８−６５９２８号、同５Ｇ−２９２５
号及び同５゜−１４１６１号の各公報に記載されている
ようなテルル、モリブテン、ボロニウム、コバルト、優
鉛、銅、ニッケル、鉄、錫、バナジウム、ケルマニウム
、銀及び銀工ｉルジｌン、を九クロム、チタニウム等や
合金を挙げることができる。
本発明において好ましい金属薄層はアルミニラ設された
支持体の面に対して、斜め方向から金属を蒸着して作成
された金属蒸着層であり、蒸着装置θ（支持体面、の法
線と蒸着粒子の入射方向とのなす角）は３０６以上であ
ることが好ましく、より好ましくは４５°以上である。
支持体の面に対して、斜め方向から金属を蒸着して作成
された金属蒸着層であり、蒸着装置θ（支持体面、の法
線と蒸着粒子の入射方向とのなす角）は３０６以上であ
ることが好ましく、より好ましくは４５°以上である。
本発明において蒸着とは、通常の抵抗加熱方式の真！２
！蒸着社もちろん、電子ビーム加熱蒸着法、スパッタリ
ング法、イオンブレーティング法勢ヲ含むものである。
！蒸着社もちろん、電子ビーム加熱蒸着法、スパッタリ
ング法、イオンブレーティング法勢ヲ含むものである。
本発明の金属蒸着層の厚さ昧、得られる一ｇＩＫ必要な
光学ａ［Ｋ：より、て決まってくるが、両者にほぼ比例
関係にあり、たとえばｉｊｓが線−や網点の場合は比歇
的１ｈａ＋［が必要であって少なくとも光学―度で２．
０以上、特に本発明の材料をＰａ印刷版に焼き付けを行
なう丸めのマスクとして用いる場合にはかな少の％９ｍ
Ｋが要求され、少なくとも３．０の光字―度が必要であ
るので、それに相応した厚さに決めるのである。このと
きの光学員度は［、金属蒸着層＋下引層〕を有するフィ
ルムのマクベス透過１１）ｆ計による計欄値である。
光学ａ［Ｋ：より、て決まってくるが、両者にほぼ比例
関係にあり、たとえばｉｊｓが線−や網点の場合は比歇
的１ｈａ＋［が必要であって少なくとも光学―度で２．
０以上、特に本発明の材料をＰａ印刷版に焼き付けを行
なう丸めのマスクとして用いる場合にはかな少の％９ｍ
Ｋが要求され、少なくとも３．０の光字―度が必要であ
るので、それに相応した厚さに決めるのである。このと
きの光学員度は［、金属蒸着層＋下引層〕を有するフィ
ルムのマクベス透過１１）ｆ計による計欄値である。
この金属蒸着層の犀さと光学鏝度との関係は、金属蒸着
層を形成させる方法、えとえば真空蒸着の条＃−によっ
て多少異なることはあるが大体においてほぼ同様である
゛、所望の光学＃Ｉ［を得るために金属蒸着層の厚さを
必要以上にすることは４１ｉＫ禁止されることはないが
、金属蒸着層の試料の浪費や後述するごときｍｍ形成の
ためのエツテングに過大な時間が要するととＫなるので
望ましいことではない、さらに過大なエツテング時間の
ためにレジストを劣化させることがあることを考慮すれ
ば金属蒸着層の必要以上の厚さはむしろ避けるべきであ
る。蒸着により形成される金属蒸着層の＠厚はｘｏｏＸ
〜３０００ム位が良いが、用途に従って要求される光学
ａ［を慢る□ようにするのに、好ましくは膜厚が４００
Ａ〜１５００＾である仁とが望ましい。
層を形成させる方法、えとえば真空蒸着の条＃−によっ
て多少異なることはあるが大体においてほぼ同様である
゛、所望の光学＃Ｉ［を得るために金属蒸着層の厚さを
必要以上にすることは４１ｉＫ禁止されることはないが
、金属蒸着層の試料の浪費や後述するごときｍｍ形成の
ためのエツテングに過大な時間が要するととＫなるので
望ましいことではない、さらに過大なエツテング時間の
ためにレジストを劣化させることがあることを考慮すれ
ば金属蒸着層の必要以上の厚さはむしろ避けるべきであ
る。蒸着により形成される金属蒸着層の＠厚はｘｏｏＸ
〜３０００ム位が良いが、用途に従って要求される光学
ａ［を慢る□ようにするのに、好ましくは膜厚が４００
Ａ〜１５００＾である仁とが望ましい。
本発明の金属蒸着層紘、少なくとも１層設社ちれておれ
ばよく、２以上の金属蒸着層とされる場合、少なくとも
最上層の金属蒸着層が、支持体の面に対して斜め方向か
ら金属を蒸着して形成されたものであればよい。また、
本発明における金属蒸着層は、該金属と蒸着可能な有機
物質を混在する層であってもよい。
ばよく、２以上の金属蒸着層とされる場合、少なくとも
最上層の金属蒸着層が、支持体の面に対して斜め方向か
ら金属を蒸着して形成されたものであればよい。また、
本発明における金属蒸着層は、該金属と蒸着可能な有機
物質を混在する層であってもよい。
本発明における感光性樹脂層は、従来公知の種々のレジ
スト形成用感光性樹脂を利用して形成させることかで１
きる。この感光性樹脂は輻射線（近紫外線または可゛撓
光）の照射を受けると短時間のうちにその分子構造が化
学的に変化し、それに伴なって溶媒に対する溶解性また
は粘着性といった物理的性貰が変化するモノマー、プレ
ポリマー及びポリマーなどの化合物及び組成物をすべて
包含する（なお、「感光性樹脂」の概念中に上記のごと
きモノマーやプレポリマーが含まれることは当業界にお
いては常識である。）。上記の感光性樹脂はその３Ｊｌ
像の態様から嬉＊（溶剤）による溶解湯と剥ａｍのもの
′と一大別され、さらに、それぞれポジティブワー中ン
グ履とネガティブリー中ング脂どに分類され、さらに化
学変゛化の内容から、輻射−の照゛射を受けると金属イ
オンを介して朱―反応をするものや、それ自体が二量化
する光架橋型感光性樹脂、輻射線の照射を受けると、共
に存在する光分解性物質が分解し、その分解物を介して
架橋反応をするもの、及び輻射線の照射を受けると重合
を開始するもめに分類され、これらのいずれも本発明の
金属画會形成＃料を一製するために用いられる。これら
の感光性樹脂はそれぞれ公知の多くのものがあるが、感
光性レジスト膜を形成し得る今後開発される感光性樹脂
もその区分を問わず公知のものの場合と全く同様に本発
明の金属ｍｓ形成材料に適用され得る。
スト形成用感光性樹脂を利用して形成させることかで１
きる。この感光性樹脂は輻射線（近紫外線または可゛撓
光）の照射を受けると短時間のうちにその分子構造が化
学的に変化し、それに伴なって溶媒に対する溶解性また
は粘着性といった物理的性貰が変化するモノマー、プレ
ポリマー及びポリマーなどの化合物及び組成物をすべて
包含する（なお、「感光性樹脂」の概念中に上記のごと
きモノマーやプレポリマーが含まれることは当業界にお
いては常識である。）。上記の感光性樹脂はその３Ｊｌ
像の態様から嬉＊（溶剤）による溶解湯と剥ａｍのもの
′と一大別され、さらに、それぞれポジティブワー中ン
グ履とネガティブリー中ング脂どに分類され、さらに化
学変゛化の内容から、輻射−の照゛射を受けると金属イ
オンを介して朱―反応をするものや、それ自体が二量化
する光架橋型感光性樹脂、輻射線の照射を受けると、共
に存在する光分解性物質が分解し、その分解物を介して
架橋反応をするもの、及び輻射線の照射を受けると重合
を開始するもめに分類され、これらのいずれも本発明の
金属画會形成＃料を一製するために用いられる。これら
の感光性樹脂はそれぞれ公知の多くのものがあるが、感
光性レジスト膜を形成し得る今後開発される感光性樹脂
もその区分を問わず公知のものの場合と全く同様に本発
明の金属ｍｓ形成材料に適用され得る。
感光性樹脂の実際の使用上からは、化学変化の内容から
の分類よ如屯その洩像の態様からの分類に着目して用い
られる感光性樹脂を概観することが望ましい、以下、そ
れ゛らに着目′して説明する。
の分類よ如屯その洩像の態様からの分類に着目して用い
られる感光性樹脂を概観することが望ましい、以下、そ
れ゛らに着目′して説明する。
溶剤溶解製の層゛をつくる感光性樹脂の場合、ポジティ
ブワーキング型は、□例えばＯ−キノンジアジド＃１４
にみられるように光′照射により分解してカルボ中シ゛
基を有する五員環化合物を生成してアルカリ液に可ａｍ
となシ、アルカリ液による現曽によって露光部分の樹脂
層が除去され、未露光部分の感光性樹脂層が所望の画線
部を形成して残留するように作用する型であり、一方、
ネガティブワーキング型は、例えばシンナモイル基、ジ
アゾニウム基等で代表される光架橋、およびアクリルア
ミド、アクリル酸エステルで代表される光重合に見られ
るように光照射により、分子の巨矢化や網目構造の形成
によって不溶化するものであって、適当な現＊ａを用い
ることＫよって、感覚性樹脂層の未＠４を部分を除去し
、不溶イヒした露光部分が所望のｉ１１紗部を形成して
残留するようＫｆ￥用する型である。
ブワーキング型は、□例えばＯ−キノンジアジド＃１４
にみられるように光′照射により分解してカルボ中シ゛
基を有する五員環化合物を生成してアルカリ液に可ａｍ
となシ、アルカリ液による現曽によって露光部分の樹脂
層が除去され、未露光部分の感光性樹脂層が所望の画線
部を形成して残留するように作用する型であり、一方、
ネガティブワーキング型は、例えばシンナモイル基、ジ
アゾニウム基等で代表される光架橋、およびアクリルア
ミド、アクリル酸エステルで代表される光重合に見られ
るように光照射により、分子の巨矢化や網目構造の形成
によって不溶化するものであって、適当な現＊ａを用い
ることＫよって、感覚性樹脂層の未＠４を部分を除去し
、不溶イヒした露光部分が所望のｉ１１紗部を形成して
残留するようＫｆ￥用する型である。
これらの溶剤溶解層感光性樹脂は２８版、ワイプオン版
および７オトエツナング用レジストなどの感光液として
広く一般に利用されている。
および７オトエツナング用レジストなどの感光液として
広く一般に利用されている。
ポジティブワーキング型の感光性樹脂としては、１．２
−ナフトキノンジアジド類が用いられるが、たとえば特
公１８３７−１８０１５号公報に記載の２．３．４−
）リオキシベンゾフェノンーピス〔ナツト中ノンー１．
２−ジアジド−５，５−スルホン酸エステル〕、特公昭
３７．−３６２７号公報に記載の２−〔す７トキノンー
１．２−ジアジド−５−スル７オニルオ、キシ〕−７−
ヒドｔａＱシナフタリン、特公昭３７−１９５４号公報
に記載のナツト中ノ／−１．２−ジアジド−５−スル７
アニリド、特公昭４５−９６１０号公報に記載のナツト
中ノン−１，２−ジアジド−スルホン酸ノボラックエス
テルなどがある。そして、市販されて−るものとしては
、ｘｐａ（ｔｙｐｅ３）（米！ｉＥａｓｔｍａｎ Ｋｏ
ｄａｋ社） ： ＡＸ−３４０，ＡＸ−１３５０，ＡＺ
−１１１％ＡＸ−１１９（ムｚｏｐｌａｔ＋５−ｓｈｌ
ｐｌＩｙ社）： Ｋａｌｌ＠Ａｋｔｉｎｇｅｓｅｌｌｓ
ｃｈａｆＬＤＣｏｐｉｎｇ Ｌａｃｑｕｅｒ−Ｐ ；
７オトゾール、７オトゾ一ル１％ ｘ ７オトゾール
Ｅ（東京応化工業■）：ＦＰＰＲ−３００、ＦＰＰＲ−
７００、ＦＰＰＲ−１０００（富士薬品工業＃）；など
がある。
−ナフトキノンジアジド類が用いられるが、たとえば特
公１８３７−１８０１５号公報に記載の２．３．４−
）リオキシベンゾフェノンーピス〔ナツト中ノンー１．
２−ジアジド−５，５−スルホン酸エステル〕、特公昭
３７．−３６２７号公報に記載の２−〔す７トキノンー
１．２−ジアジド−５−スル７オニルオ、キシ〕−７−
ヒドｔａＱシナフタリン、特公昭３７−１９５４号公報
に記載のナツト中ノ／−１．２−ジアジド−５−スル７
アニリド、特公昭４５−９６１０号公報に記載のナツト
中ノン−１，２−ジアジド−スルホン酸ノボラックエス
テルなどがある。そして、市販されて−るものとしては
、ｘｐａ（ｔｙｐｅ３）（米！ｉＥａｓｔｍａｎ Ｋｏ
ｄａｋ社） ： ＡＸ−３４０，ＡＸ−１３５０，ＡＺ
−１１１％ＡＸ−１１９（ムｚｏｐｌａｔ＋５−ｓｈｌ
ｐｌＩｙ社）： Ｋａｌｌ＠Ａｋｔｉｎｇｅｓｅｌｌｓ
ｃｈａｆＬＤＣｏｐｉｎｇ Ｌａｃｑｕｅｒ−Ｐ ；
７オトゾール、７オトゾ一ル１％ ｘ ７オトゾール
Ｅ（東京応化工業■）：ＦＰＰＲ−３００、ＦＰＰＲ−
７００、ＦＰＰＲ−１０００（富士薬品工業＃）；など
がある。
ネガティブワーキング瀧の感光性−５−のうち、水溶性
感光液では、開本化学工業、富士薬品工業、四輪産業な
どから市販されているものがあるが、Ｐｖムー重クりム
酸アンモン系の４０がほとんど大部分であり、ほかにグ
ル−１りロム酸アンモン系、カゼイン−重クロム酸アン
モン系のものがある。他に有用な感毒性樹脂として、ジ
アゾニウム塩類、アンド化合物、シンナモイル基を有す
る化合物などの多くの感光性物質が知られているが、ネ
ガティブワーキング瀝の感光性樹脂として用いられるジ
アゾニウム塩類としては、ｐ−ジアゾジフェニルアミン
のパラホ〜ムアルデ、ヒト、縮合物ヤ米国特許第１，７
６２，０３３号に一記載・の１−ジアゾ−４−ジメチル
アミノベンゼン・ヒドロ・フルオホレート、１−ジアゾ
−３−メチル−４−ジメチルアニリン・サルフェート１
．ｌ−ジアゾ−３−モノエテルナフチルアミン尋がある
０、またアジド化合物とし゛ては、米国特許第２，８５
２，３７９号及び同菖２，９４０，８５３号に記載のｐ
−７二二レンピスアジド、ｐ−アジドベンゾフェノン、
・４，４′−ジアジドベンゾフェノン、４．４’−ジア
ジドジフェニルメーン、４．４′−ジアジドスプルベン
、４．４′−ジアジドカルコン、２．６−ジー（４′−
アジドベンザル）シクロへ中、サノン、２，６−ジー（
４′−アンドベンずル）−４−メチルシクロへ中サノン
などがある。これらのアジド化合物状通常ゴム溶液中Ｋ
１１合されて「ゴム感光液」として用いられるが、この
ときに用いられるゴムは天然ゴムまたは合成ゴムであ勤
、合成ゴムの場合として紘特公１８４５−２２０８４号
に記載されているポリインブチレンが多く用いられてい
る。
感光液では、開本化学工業、富士薬品工業、四輪産業な
どから市販されているものがあるが、Ｐｖムー重クりム
酸アンモン系の４０がほとんど大部分であり、ほかにグ
ル−１りロム酸アンモン系、カゼイン−重クロム酸アン
モン系のものがある。他に有用な感毒性樹脂として、ジ
アゾニウム塩類、アンド化合物、シンナモイル基を有す
る化合物などの多くの感光性物質が知られているが、ネ
ガティブワーキング瀝の感光性樹脂として用いられるジ
アゾニウム塩類としては、ｐ−ジアゾジフェニルアミン
のパラホ〜ムアルデ、ヒト、縮合物ヤ米国特許第１，７
６２，０３３号に一記載・の１−ジアゾ−４−ジメチル
アミノベンゼン・ヒドロ・フルオホレート、１−ジアゾ
−３−メチル−４−ジメチルアニリン・サルフェート１
．ｌ−ジアゾ−３−モノエテルナフチルアミン尋がある
０、またアジド化合物とし゛ては、米国特許第２，８５
２，３７９号及び同菖２，９４０，８５３号に記載のｐ
−７二二レンピスアジド、ｐ−アジドベンゾフェノン、
・４，４′−ジアジドベンゾフェノン、４．４’−ジア
ジドジフェニルメーン、４．４′−ジアジドスプルベン
、４．４′−ジアジドカルコン、２．６−ジー（４′−
アジドベンザル）シクロへ中、サノン、２，６−ジー（
４′−アンドベンずル）−４−メチルシクロへ中サノン
などがある。これらのアジド化合物状通常ゴム溶液中Ｋ
１１合されて「ゴム感光液」として用いられるが、この
ときに用いられるゴムは天然ゴムまたは合成ゴムであ勤
、合成ゴムの場合として紘特公１８４５−２２０８４号
に記載されているポリインブチレンが多く用いられてい
る。
分子中にアジド基をもつポリマー０例としては、特公１
１４Ｇ−２８４９９号及び向４５−２２０８５号公報に
記載のポリアジド安息香酸ビニル、ポリアジド７Ｊル酸
ビニル、ポリビニルアジドベンザルアセタールなどがあ
る。シンナモイル基を感光基とする感光性樹脂としては
、ポリ桂皮酸ビニルがある。Ｐｖムのシンナミリデン酢
酸エステル銹導体も用いられる０例え杜、ポリビニルシ
ンナミリデンアセテート、ポリビニルシンナメート、シ
ンナイリデンアセテート、１′・ポリビニルエトキシカ
ルｌニルメテルカルパメートシンナミリテンアセテート
、ポリビニルアセテートシンナミリデンアセテートなど
がある。その他アクリロイル基を用いるもの、アクリル
アミド類を用いるもの、アクリレート類を用いるものな
ど多数のものが知られている。現在市販されているネガ
テイプヮー中ング型感光性樹脂も！１状、ＫＰＲ，区？
ＰＲ。
１４Ｇ−２８４９９号及び向４５−２２０８５号公報に
記載のポリアジド安息香酸ビニル、ポリアジド７Ｊル酸
ビニル、ポリビニルアジドベンザルアセタールなどがあ
る。シンナモイル基を感光基とする感光性樹脂としては
、ポリ桂皮酸ビニルがある。Ｐｖムのシンナミリデン酢
酸エステル銹導体も用いられる０例え杜、ポリビニルシ
ンナミリデンアセテート、ポリビニルシンナメート、シ
ンナイリデンアセテート、１′・ポリビニルエトキシカ
ルｌニルメテルカルパメートシンナミリテンアセテート
、ポリビニルアセテートシンナミリデンアセテートなど
がある。その他アクリロイル基を用いるもの、アクリル
アミド類を用いるもの、アクリレート類を用いるものな
ど多数のものが知られている。現在市販されているネガ
テイプヮー中ング型感光性樹脂も！１状、ＫＰＲ，区？
ＰＲ。
ＫＭＥＲ（米！ｉｇａｓｔｍａｎ Ｋｏｄａｋ社製）；
ウェスタンワイプオン（米１１Ｗ＠５ｔｅｒｎ Ｌｉｔ
ｈｅ Ｐｌａｔｅ社ＩＩ）、ワイプ−〇−セン７タイプ
ー（米ｇＬｌｔｈ。
ウェスタンワイプオン（米１１Ｗ＠５ｔｅｒｎ Ｌｉｔ
ｈｅ Ｐｌａｔｅ社ＩＩ）、ワイプ−〇−セン７タイプ
ー（米ｇＬｌｔｈ。
Ｃｈｅｍｉｃａｌ ＆ ５ｕｐｐｌｙ社製）；国外品と
してはこの他ＫＤｙｎａｅｈｓｍ ｃ’ｏｒｐｏｒａｔ
ｉｏｎ ｔＤ Ｄ ＣＲ（Ｄｙｎａｃｈｅｍ ｐｈｏｔ
ｏ Ｒ＠５ｉｓｔ ）、Ｐｈ１ｌｌｐ Ａ、 １ｌｕｎ
ｔＣｈｅｒｎｉｅａｌ ＣｏｒｐｏｒａｔｉｏｎのＷ
Ｐ Ｒ（Ｗａｙｅｏａｔｐｈｏｔｏ Ｒ＠５１ｓｔ
）、 Ｋａｌｌ＠ Ａｋｔｉｎｇｅｓ＠１ｌｓｅｈａ
ｆｔのＣｏｐｉｎｇ Ｌａｃｑｕｅｒ−Ｎなどが有る。
してはこの他ＫＤｙｎａｅｈｓｍ ｃ’ｏｒｐｏｒａｔ
ｉｏｎ ｔＤ Ｄ ＣＲ（Ｄｙｎａｃｈｅｍ ｐｈｏｔ
ｏ Ｒ＠５ｉｓｔ ）、Ｐｈ１ｌｌｐ Ａ、 １ｌｕｎ
ｔＣｈｅｒｎｉｅａｌ ＣｏｒｐｏｒａｔｉｏｎのＷ
Ｐ Ｒ（Ｗａｙｅｏａｔｐｈｏｔｏ Ｒ＠５１ｓｔ
）、 Ｋａｌｌ＠ Ａｋｔｉｎｇｅｓ＠１ｌｓｅｈａ
ｆｔのＣｏｐｉｎｇ Ｌａｃｑｕｅｒ−Ｎなどが有る。
国内品としては、ｇＦＰＲ，ＯＭＢ％’ｒＰＲ（ｊ［京
応化工業■製）；ネガコート７ジスーパーレジスト（富
士楽品工ｌＩ＃製）：ワイグドーにレジスト８（開本化
学ヱ業■製）、及びｔｙレジスト（ヤマトヤ商店）など
がある。
応化工業■製）；ネガコート７ジスーパーレジスト（富
士楽品工ｌＩ＃製）：ワイグドーにレジスト８（開本化
学ヱ業■製）、及びｔｙレジスト（ヤマトヤ商店）など
がある。
一方、剥離形の層をつくる感光性樹脂の場合、たとえば
特公昭３Ｂ−９６６３号、同４１−１５９３２号、同４
３−２２９Ｑ１号、同４８−４３１２６号、特開昭４７
−７７２８号、同４７−３３６２３号、同４ｇ−５８９
０９号、及び同４Ｂ−１０１１１７号に記載されてｉる
ように、感光性のポリｉ−すなわち光の照射を費妙九部
分、もしくは受妙なかった部分が下層すなわち支持１１
に隣接する金属層または中間層との接着性が誠少するか
あるいは失なわれる一實を有するボリーー、あるーは感
光性モノマーであって光の照射を受けると重合して硬化
し、下層との接着性が増大するかあるい祉減少または消
滅する性質を有するものであり、具体的にはきわめて多
種多様な一貢または゛組成物があり、それらの特性Ｏ１
１［を考慮して適宜選択することができる。
特公昭３Ｂ−９６６３号、同４１−１５９３２号、同４
３−２２９Ｑ１号、同４８−４３１２６号、特開昭４７
−７７２８号、同４７−３３６２３号、同４ｇ−５８９
０９号、及び同４Ｂ−１０１１１７号に記載されてｉる
ように、感光性のポリｉ−すなわち光の照射を費妙九部
分、もしくは受妙なかった部分が下層すなわち支持１１
に隣接する金属層または中間層との接着性が誠少するか
あるいは失なわれる一實を有するボリーー、あるーは感
光性モノマーであって光の照射を受けると重合して硬化
し、下層との接着性が増大するかあるい祉減少または消
滅する性質を有するものであり、具体的にはきわめて多
種多様な一貢または゛組成物があり、それらの特性Ｏ１
１［を考慮して適宜選択することができる。
本発明に係る金属ｉｉ＊形成材料を―整するには、まず
特定した支持体表面ＫｔＩｉ述の下引用樹脂を適当な溶
ＩＩＩＡＫ溶・解もしくは分散させ、九とえはローラー
塗布法、エアナイフ１１布法、浸漬法、カーテン−専決
、スプレー−専決など公知の塗布方法によって塗布乾燥
せしめることによって下引層を設ける。
特定した支持体表面ＫｔＩｉ述の下引用樹脂を適当な溶
ＩＩＩＡＫ溶・解もしくは分散させ、九とえはローラー
塗布法、エアナイフ１１布法、浸漬法、カーテン−専決
、スプレー−専決など公知の塗布方法によって塗布乾燥
せしめることによって下引層を設ける。
次いで、この上引層を施した支持体の下引層面に１真空
蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーテインク法な
どの方法によって所望の金属蒸着層を形成せしめる。そ
の方法の一例を説明すると以下の通りである。図は真２
２！蒸着法によシ支持体に金属蒸着層を設ける場合の、
本発明の実施態様の一例を示す真空蒸着装置の概略−で
ある。図において、蒸発１１２と対向すべき支持体１は
蒸着角度θとなるように＃３Ｉ斜をもって基板ホルダー
５により斜めに設置される。ｌｓ発源２は抵抗加熱、電
子ビーム加熱方式等の加熱手段によ如蒸発試料３を支持
体１に向かって飛翔させるものである。その飛翔行程の
途中に設けたシャツ４−４の開閉によって支持体１ｒＣ
対する蒸着継続時間を定めることができる。
蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーテインク法な
どの方法によって所望の金属蒸着層を形成せしめる。そ
の方法の一例を説明すると以下の通りである。図は真２
２！蒸着法によシ支持体に金属蒸着層を設ける場合の、
本発明の実施態様の一例を示す真空蒸着装置の概略−で
ある。図において、蒸発１１２と対向すべき支持体１は
蒸着角度θとなるように＃３Ｉ斜をもって基板ホルダー
５により斜めに設置される。ｌｓ発源２は抵抗加熱、電
子ビーム加熱方式等の加熱手段によ如蒸発試料３を支持
体１に向かって飛翔させるものである。その飛翔行程の
途中に設けたシャツ４−４の開閉によって支持体１ｒＣ
対する蒸着継続時間を定めることができる。
次に、この形成された金ｌｌ４ＪＩ着層膜面上に感光性
樹脂層を形成せしめることか行なわれる。この場合、感
光性樹脂層を形成せしめる塗布液として社１．劇述した
各種の感光性樹脂から選ばれた１つ又は複数−の樹脂を
ｊｌ［Ｋ１１ｌかし、溶液あるいは分散液となし、必要
な増感剤中各種−加鋼を加え、―導液とする。
樹脂層を形成せしめることか行なわれる。この場合、感
光性樹脂層を形成せしめる塗布液として社１．劇述した
各種の感光性樹脂から選ばれた１つ又は複数−の樹脂を
ｊｌ［Ｋ１１ｌかし、溶液あるいは分散液となし、必要
な増感剤中各種−加鋼を加え、―導液とする。
このようＫして１１１ｍ１シたｉｍｓ液は、たとえばロ
ーラー−電性、エアナイフ−電性、浸漬法、カーテン−
電性、スプレー−電性など公知の１布方法によって前記
の金属層上Ｅｌｌ布し乾燥せしめることによって感光性
樹脂層を形成せしめるのである。
ーラー−電性、エアナイフ−電性、浸漬法、カーテン−
電性、スプレー−電性など公知の１布方法によって前記
の金属層上Ｅｌｌ布し乾燥せしめることによって感光性
樹脂層を形成せしめるのである。
感光性樹脂層の乾ａＳさとしては０．１〜１０ａ程度で
あれｄよい。薄すぎる場合にはレジスト層として弱ｉも
のであり、厚すぎる場合紘エツチングに過大な時間がか
かシ、かつ露光ｆｌｌＫ対応した正確なｉＩｇＩのレジ
スト画曽ができなくなるという問題を生ずることがある
。ＩＩＩＩｌされた金属−ＩＩ形成材料には、公知の技
術によ〕感光性樹脂層に対して會露光を行ない、現像処
理液とエツチング液を篭ねえエツチング処理濠により感
光性ｓｎ層を現像し、同時Ｋ（１語法）又は次いでＣ２
ｆＩＩｉ法）金属蒸着層のエツチングを行ない、又＃１
１１ｍ＠珊液により感光性樹脂層を現像し、エツチング
液で金属蒸着層をエツチングして彼、所望によｐ感光性
樹脂層によるレジストを除去することｋより、目的とす
る黒”色ないし褐色の金属ｔｉｉ＊を得ることができる
。
あれｄよい。薄すぎる場合にはレジスト層として弱ｉも
のであり、厚すぎる場合紘エツチングに過大な時間がか
かシ、かつ露光ｆｌｌＫ対応した正確なｉＩｇＩのレジ
スト画曽ができなくなるという問題を生ずることがある
。ＩＩＩＩｌされた金属−ＩＩ形成材料には、公知の技
術によ〕感光性樹脂層に対して會露光を行ない、現像処
理液とエツチング液を篭ねえエツチング処理濠により感
光性ｓｎ層を現像し、同時Ｋ（１語法）又は次いでＣ２
ｆＩＩｉ法）金属蒸着層のエツチングを行ない、又＃１
１１ｍ＠珊液により感光性樹脂層を現像し、エツチング
液で金属蒸着層をエツチングして彼、所望によｐ感光性
樹脂層によるレジストを除去することｋより、目的とす
る黒”色ないし褐色の金属ｔｉｉ＊を得ることができる
。
本発明により、前記支持体の下引層上に設けられた金属
蒸着層は、鋏下引層向に対して斜め方向から蒸着されて
いることにより、金属蒸着層の膜表面は微細な凹凸にな
り、後の王権でこの上に設けられる感光性樹脂層Ｏｗ！
着保持能力が向上し、かつ画侭形成後に金属蒸着層が亀
山した部分へのエツチング液の浸透が早まり、且つ下引
層がエツチング液に可溶性あるいは親和性であるため極
めてエツチング液度が早くなる。従って、さほど強くな
いエツチング液でもエツチング処理が行なえる。エツチ
ング時間が短かいことは、レジストが侵されることがな
く、サイドエッチも少ないことから、画會現儂処理のプ
ロセス性の良いことに関遅し、腐蝕部分のエッヂのシャ
ープネスが良好な自惚が得られて、微細線画俸、網点ｍ
＊でも再現性よく、高精度で加工できる。また、斜め方
向からの蒸着により金属蒸着層社表面反射率が低下し、
感光性樹脂層の露光時Ｏハレーシｌン防止に％効果があ
る。
蒸着層は、鋏下引層向に対して斜め方向から蒸着されて
いることにより、金属蒸着層の膜表面は微細な凹凸にな
り、後の王権でこの上に設けられる感光性樹脂層Ｏｗ！
着保持能力が向上し、かつ画侭形成後に金属蒸着層が亀
山した部分へのエツチング液の浸透が早まり、且つ下引
層がエツチング液に可溶性あるいは親和性であるため極
めてエツチング液度が早くなる。従って、さほど強くな
いエツチング液でもエツチング処理が行なえる。エツチ
ング時間が短かいことは、レジストが侵されることがな
く、サイドエッチも少ないことから、画會現儂処理のプ
ロセス性の良いことに関遅し、腐蝕部分のエッヂのシャ
ープネスが良好な自惚が得られて、微細線画俸、網点ｍ
＊でも再現性よく、高精度で加工できる。また、斜め方
向からの蒸着により金属蒸着層社表面反射率が低下し、
感光性樹脂層の露光時Ｏハレーシｌン防止に％効果があ
る。
なお、本発明にお−では、必要に応じて感光性樹脂層を
２以上に分けること、中間層および／又は保鏝層を設け
ること等の構成とすることが可能ｔある。
２以上に分けること、中間層および／又は保鏝層を設け
ること等の構成とすることが可能ｔある。
以下、実施例を挙げて本発明を例証するが、本発明の実
施１様がこれＫよって限定されることはない。
施１様がこれＫよって限定されることはない。
実施例１ ・パ
厚さ０．５Ｊのクレゾールノがラック樹脂の下引層を般
社た、長帯状で厚さ１００Ｊ１のポリエチレンテレ２Ｊ
レートフイルム支持体（ＤＯ−ルを半連続蒸着装置内Ｋ
Ｍ着角寂θが８０′″Ｋｆｉるように配置し、真９！Ｍ
Ｌ ５ Ｘ １０ Ｔｏｒｒの真空下でカーボン製の
るつぼの中に置かれたアルミニウムを加熱することによ
り蒸着させる。４０ｍ／ｍｌ−の速さで搬送され・てい
るＩ１１起−〇ライルムの上に真空蒸着し、アルミ亭ゆ
ム蒸着層を有する前記下引加工済フィルムの透過濃度が
マクベス透過ａｍ計で３．５となるようにアルミニつふ
蒸着層を施したのちロール状ＫＩ１１６つた０次に−こ
の形成されたアルミニウム蒸着層のＩＩ！向上に、下記
の感光性樹脂組成物を乾燥後の膜厚が２．０ｊ４Ｃなる
ように＊ワラー一布し、１００℃乾燥器中で、５分間乾
燥した。
社た、長帯状で厚さ１００Ｊ１のポリエチレンテレ２Ｊ
レートフイルム支持体（ＤＯ−ルを半連続蒸着装置内Ｋ
Ｍ着角寂θが８０′″Ｋｆｉるように配置し、真９！Ｍ
Ｌ ５ Ｘ １０ Ｔｏｒｒの真空下でカーボン製の
るつぼの中に置かれたアルミニウムを加熱することによ
り蒸着させる。４０ｍ／ｍｌ−の速さで搬送され・てい
るＩ１１起−〇ライルムの上に真空蒸着し、アルミ亭ゆ
ム蒸着層を有する前記下引加工済フィルムの透過濃度が
マクベス透過ａｍ計で３．５となるようにアルミニつふ
蒸着層を施したのちロール状ＫＩ１１６つた０次に−こ
の形成されたアルミニウム蒸着層のＩＩ！向上に、下記
の感光性樹脂組成物を乾燥後の膜厚が２．０ｊ４Ｃなる
ように＊ワラー一布し、１００℃乾燥器中で、５分間乾
燥した。
このようにして得られえ感光材料の試料を明室プリンＪ
−ＵＰ”−６（３ＫｍＦ メタルハライドランプ、上
計化字鯛）ｔ−用い、網点原稿を通して２０秒間パター
ン廊光重、０．１・Ｎ水酸化ナトリウム水溶、液中に浸
漬した。−こ−の時、・液１ｂ３０秒において未Ｉｌ！
恍部の金属蒸着層は完全に除去される一方、露光部の金
属蒸着層は、原稿とほぼ完全に、明暗の逆転した金属光
沢のないアルミニウムＪ［１ｌＪＩｌて、ハレーシヨン
の影響のない黒色画蕾が得られた。また、一点のヱツデ
のシャープネスも良好であった。
−ＵＰ”−６（３ＫｍＦ メタルハライドランプ、上
計化字鯛）ｔ−用い、網点原稿を通して２０秒間パター
ン廊光重、０．１・Ｎ水酸化ナトリウム水溶、液中に浸
漬した。−こ−の時、・液１ｂ３０秒において未Ｉｌ！
恍部の金属蒸着層は完全に除去される一方、露光部の金
属蒸着層は、原稿とほぼ完全に、明暗の逆転した金属光
沢のないアルミニウムＪ［１ｌＪＩｌて、ハレーシヨン
の影響のない黒色画蕾が得られた。また、一点のヱツデ
のシャープネスも良好であった。
これに対し、蒸着角［θ＝Ｏ＠ であ抄、その他の点は
上記実施例と同様に行ったアルミニリム蒸着層と下引層
とを有する試料では、現儂時間４分と長時間を要し、網
点のエッヂのシャープネスが不良のうえ、金属光沢を有
する金属蒸着層のハレーＶヨンにより％網点の太り現象
を生じた。
上記実施例と同様に行ったアルミニリム蒸着層と下引層
とを有する試料では、現儂時間４分と長時間を要し、網
点のエッヂのシャープネスが不良のうえ、金属光沢を有
する金属蒸着層のハレーＶヨンにより％網点の太り現象
を生じた。
ＩＩ！施例２
厚さ０．３ ｐのスチレンとマレイン酸ナトリウムの共
重合体（モル比ｌ：１）の下引層を設けた、長帯状の厚
さ１００ＪＩのポリエチレンテレ７Ｊレートフイルム支
持体のロール上Ｋｌ！施例１と同様にしてアルミニウム
蒸着層を設けた。久に、この形成されたアルミニウム蒸
着層の膜面上に１下記の感光性物置組成物を乾燥後の―
厚が２．Ｏｓの厚さｋなるようにホワラー一布し、１０
０℃乾燥器で５分間転職した。
重合体（モル比ｌ：１）の下引層を設けた、長帯状の厚
さ１００ＪＩのポリエチレンテレ７Ｊレートフイルム支
持体のロール上Ｋｌ！施例１と同様にしてアルミニウム
蒸着層を設けた。久に、この形成されたアルミニウム蒸
着層の膜面上に１下記の感光性物置組成物を乾燥後の―
厚が２．Ｏｓの厚さｋなるようにホワラー一布し、１０
０℃乾燥器で５分間転職した。
仁のようｋして得られた感光材料の試料を明室プリンタ
ーＵＰ−６で網点原稿を通して２０秒間露光し、流水下
スポンジでζすシ現菅を行なったところ、未露光部のア
ルミニウム蒸着層祉完全に除去される一方、鳳光郁のア
ルミニウム蒸着層は原稿とほぼ完全に明暗の逆転してい
る黒色ｉｉ＊が得られた。
ーＵＰ−６で網点原稿を通して２０秒間露光し、流水下
スポンジでζすシ現菅を行なったところ、未露光部のア
ルミニウム蒸着層祉完全に除去される一方、鳳光郁のア
ルミニウム蒸着層は原稿とほぼ完全に明暗の逆転してい
る黒色ｉｉ＊が得られた。
図は、本発明に係る金属Ｓ＊形成材料における金属蒸着
層を得るのに用いる真空蒸着装置の一例を示す概略図で
ある。 図中、θは蒸着角度、１は支持体、２祉蒸発源、３＃ｉ
蒸発試料、４はシャッター、５は基板ホルターー、ＳＦ
ｉ真！！蒸着容器を示す。 特許出履人 小西六写真工業株式会社代濡八弁履士
坂 Ｏ信 昭 （ほか１名）
層を得るのに用いる真空蒸着装置の一例を示す概略図で
ある。 図中、θは蒸着角度、１は支持体、２祉蒸発源、３＃ｉ
蒸発試料、４はシャッター、５は基板ホルターー、ＳＦ
ｉ真！！蒸着容器を示す。 特許出履人 小西六写真工業株式会社代濡八弁履士
坂 Ｏ信 昭 （ほか１名）
Claims (1)
- 水系処理液に可溶性又紘親和性を有する下引層を設けた
支持体上に、諌下引層画に対して斜め方向から金属を蒸
着して形成された少なくとも１層の金属蒸着層が設けら
れており、この金属蒸着層上に感光性樹脂層が設けられ
ていることを特徴とする金属ｉＩｌ像形成材料。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56175800A JPS5878149A (ja) | 1981-11-04 | 1981-11-04 | 金属画像形成材料 |
| EP82305716A EP0082588A3 (en) | 1981-11-02 | 1982-10-27 | Photolithographic elements for the production of metal images |
| US06/688,743 US4591544A (en) | 1981-11-02 | 1985-01-02 | Metal image forming materials with light sensitive resin layer and oblique angle deposited metal underlayer |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56175800A JPS5878149A (ja) | 1981-11-04 | 1981-11-04 | 金属画像形成材料 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5878149A true JPS5878149A (ja) | 1983-05-11 |
| JPH0336217B2 JPH0336217B2 (ja) | 1991-05-30 |
Family
ID=16002464
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56175800A Granted JPS5878149A (ja) | 1981-11-02 | 1981-11-04 | 金属画像形成材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5878149A (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50139720A (ja) * | 1974-04-25 | 1975-11-08 | ||
| JPS5156178A (ja) * | 1974-11-12 | 1976-05-17 | Toppan Printing Co Ltd |
-
1981
- 1981-11-04 JP JP56175800A patent/JPS5878149A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50139720A (ja) * | 1974-04-25 | 1975-11-08 | ||
| JPS5156178A (ja) * | 1974-11-12 | 1976-05-17 | Toppan Printing Co Ltd |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0336217B2 (ja) | 1991-05-30 |
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