JPS5871674A - 平面型光干渉計とその製造方法 - Google Patents
平面型光干渉計とその製造方法Info
- Publication number
- JPS5871674A JPS5871674A JP56171083A JP17108381A JPS5871674A JP S5871674 A JPS5871674 A JP S5871674A JP 56171083 A JP56171083 A JP 56171083A JP 17108381 A JP17108381 A JP 17108381A JP S5871674 A JPS5871674 A JP S5871674A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical
- recess
- quartz glass
- glass substrate
- optical fiber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/24—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures
- G01B11/25—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures by projecting a pattern, e.g. one or more lines, moiré fringes on the object
- G01B11/254—Projection of a pattern, viewing through a pattern, e.g. moiré
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Vision & Pattern Recognition (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Gyroscopes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は光の位相情報を検出する小形でかつ安定な平面
型光干渉針とその製造方法に関する。
型光干渉針とその製造方法に関する。
従来、ファイバジャイロスコープ、光センナ等に利用さ
れている光干渉針は定盤上にレンズ。
れている光干渉針は定盤上にレンズ。
半透明板、スクリー7!一定距離隔てて固定し、形成さ
れている。
れている。
第1図は従来使用されていた光干渉針を示し、ファイバ
ジャイロスコープに適用した一例である。すなわち、光
ファイバ11から入射した光はレンズl1mKよ)平行
光に形成され、半透明板lO上に照射される。該半透明
板1ot−透過した光はレンズ1loKよ〕光ファイバ
Isの端面上に集光され入射される。ま九半透明板10
によ〕反射されえ光はレンズ11kKよ〕光ファイバ1
4の端面上に集束され入射される。
ジャイロスコープに適用した一例である。すなわち、光
ファイバ11から入射した光はレンズl1mKよ)平行
光に形成され、半透明板lO上に照射される。該半透明
板1ot−透過した光はレンズ1loKよ〕光ファイバ
Isの端面上に集光され入射される。ま九半透明板10
によ〕反射されえ光はレンズ11kKよ〕光ファイバ1
4の端面上に集束され入射される。
ことで光ファイバ14.15tSt光フアイバ17によ
って互hK接続されてお)光ファイバ14゜15に入射
され九先は光フアイバ17中【それヤれ他方の光ファイ
バに向って逆向龜に進行する。逆方向に進行する光は針
全体の回転速度に応じて位相変化を受け、光ファイバ1
4.1!!O各gIAWJから出射する。光ファイバI
s、14から出射する光はレンズllb、llaにより
再び平行光とな如半透明板lO上で重量され、位相差に
応じ九干渉縞會形成する。干渉縞はレンズ1111によ
りスクリーン12上に結像され、干渉縞16を生じる。
って互hK接続されてお)光ファイバ14゜15に入射
され九先は光フアイバ17中【それヤれ他方の光ファイ
バに向って逆向龜に進行する。逆方向に進行する光は針
全体の回転速度に応じて位相変化を受け、光ファイバ1
4.1!!O各gIAWJから出射する。光ファイバI
s、14から出射する光はレンズllb、llaにより
再び平行光とな如半透明板lO上で重量され、位相差に
応じ九干渉縞會形成する。干渉縞はレンズ1111によ
りスクリーン12上に結像され、干渉縞16を生じる。
針全体の回転速gK応じて干渉縞は一定方向に移動する
九め、この干渉縞の移動速を音検出すれば計の回転速度
に関する情報管得ることができる。このように従来の干
渉針はレンズ、半透明板、スクリーンが一定間隔を隔て
互いに分離して配置されているため、各構成体は物理的
安定性に欠ける。1+空間的に配置するため、系が大形
になる。
九め、この干渉縞の移動速を音検出すれば計の回転速度
に関する情報管得ることができる。このように従来の干
渉針はレンズ、半透明板、スクリーンが一定間隔を隔て
互いに分離して配置されているため、各構成体は物理的
安定性に欠ける。1+空間的に配置するため、系が大形
になる。
本発明は従来法のもつ欠点【解決するため、光干渉針を
千両的に一体化することによシ、干渉針の安定性’it
L、小形和するものであ条。
千両的に一体化することによシ、干渉針の安定性’it
L、小形和するものであ条。
次に本発明を図面に基づき詳細に説明する。
第2図は本発明の1!糟例の一つであって、20はその
中心部に凹み21と光導波膜を形成した石英ガラス基板
であ)、各11mKは光軸が直負するよう光ファイバ2
3,24.28と検出器26とが接続固定されている。
中心部に凹み21と光導波膜を形成した石英ガラス基板
であ)、各11mKは光軸が直負するよう光ファイバ2
3,24.28と検出器26とが接続固定されている。
更#!c鍍石英ガラス基板20#i凹み21の中心部を
通)前記光ファイバ23,24.25の光軸【斜めに横
断する切断線に沿って基11WjJK垂直に切断されて
おや、該断面上に半透明膜22が形成されている。
通)前記光ファイバ23,24.25の光軸【斜めに横
断する切断線に沿って基11WjJK垂直に切断されて
おや、該断面上に半透明膜22が形成されている。
本発明に係る上記光干渉針において、光ファイバ23か
ら出射する光は、石英ガラス基板上に形成された先導皺
膜瑚面に結合入射される。
ら出射する光は、石英ガラス基板上に形成された先導皺
膜瑚面に結合入射される。
石英ガラス基板上に形成された!!Iみ21がレンズと
して作用し一先導皺膜22に入射した光は該四み21に
よ)平行光線に整形された後、半透明膜22によ参一部
は透過光となり、一部は反射光になる。反射された光は
凹み21によ)集束され光ファイバ24端間上に照射さ
れて入射される。一方、透過した光は凹み21によ)集
束されて光ファイバ25に入射される。光ファイバ24
.26は互いに一定の長さをもつ光ファイバKm続され
てお)、光ファイバ24゜2sの端面に入射されえ光は
それぞれ他方の光ファイバlII’WJK向って逆方向
に遂行する。逆方向に遂行した光は光ファイバの受ける
物理現象例えば回転によ〕位相速度の差を生じ、これが
光ファイバ25.24から出射した後光導波膜中央部に
形成された凹み21によシ平行光とされた後半透明膜上
で干渉縞を形成する。
して作用し一先導皺膜22に入射した光は該四み21に
よ)平行光線に整形された後、半透明膜22によ参一部
は透過光となり、一部は反射光になる。反射された光は
凹み21によ)集束され光ファイバ24端間上に照射さ
れて入射される。一方、透過した光は凹み21によ)集
束されて光ファイバ25に入射される。光ファイバ24
.26は互いに一定の長さをもつ光ファイバKm続され
てお)、光ファイバ24゜2sの端面に入射されえ光は
それぞれ他方の光ファイバlII’WJK向って逆方向
に遂行する。逆方向に遂行した光は光ファイバの受ける
物理現象例えば回転によ〕位相速度の差を生じ、これが
光ファイバ25.24から出射した後光導波膜中央部に
形成された凹み21によシ平行光とされた後半透明膜上
で干渉縞を形成する。
干渉縞社凹み21で集束されて光検知器26上に結像し
、検知器によ)干渉縞の移動【l!み取る。
、検知器によ)干渉縞の移動【l!み取る。
次に千′#iJw光干渉針の製造方法の−f%It示す
。
。
正方形の石英ガラス基板20上にあらかじめ設計した曲
率半径をもつ凹み211加工研廖によ参形成する。凹み
21が形成された石英ガラス基板O面KOVD法、火炎
加水分解反応、あるいはスパッタなど真空蒸着法によ)
屈折率の大きい石英ガラスの光導波膜2 G’を形成す
る(第3図(b))。屈折率を変えるパーパントとして
8LO,KCk@O,、!ton # tto、 a
zoosなど會添加すれば屈折率#1810. の屈
折率よル高−もOKなる。石英ガラス基板20に形成さ
れえ凹み21は光導波膜2vの形成によ〕ジオデシツタ
レンズと呼ばれるレンズ作用管もつものになる。
率半径をもつ凹み211加工研廖によ参形成する。凹み
21が形成された石英ガラス基板O面KOVD法、火炎
加水分解反応、あるいはスパッタなど真空蒸着法によ)
屈折率の大きい石英ガラスの光導波膜2 G’を形成す
る(第3図(b))。屈折率を変えるパーパントとして
8LO,KCk@O,、!ton # tto、 a
zoosなど會添加すれば屈折率#1810. の屈
折率よル高−もOKなる。石英ガラス基板20に形成さ
れえ凹み21は光導波膜2vの形成によ〕ジオデシツタ
レンズと呼ばれるレンズ作用管もつものになる。
次iで、凹み210中心を通)石英ガラス基板の対角線
にそって、基板面KflI[IIC切断研磨する。断面
に一、ム8.ムj、Or などの金属膜を真空蒸着に
よ〕、または、zna 、 a@o、 、 tto、な
どO非金属at形成し50−透過になる厚みにする。金
属膜の場合は厚さ約1001に、非命j11[01n1
/4mJI、f4Lハ2sOej lK影形成る(jl
lijam)))、次iで切断した他の石英ガラス基板
を一体化して第3図(・)のように光7アイパ23,2
4.25と光検知器2・t!I合する。
にそって、基板面KflI[IIC切断研磨する。断面
に一、ム8.ムj、Or などの金属膜を真空蒸着に
よ〕、または、zna 、 a@o、 、 tto、な
どO非金属at形成し50−透過になる厚みにする。金
属膜の場合は厚さ約1001に、非命j11[01n1
/4mJI、f4Lハ2sOej lK影形成る(jl
lijam)))、次iで切断した他の石英ガラス基板
を一体化して第3図(・)のように光7アイパ23,2
4.25と光検知器2・t!I合する。
この場合光ファイバ2B、24.MS#1光学軸に合せ
て導*lIK接続する。凹み21の形成にあたって#i
クオデシツタレンズの設計に従えば嵐い。すなわち[3
図klにおいてレンズの端部27とレンズの曲率中心σ
6との距離を−、レンズの一率中心4y1と端部27t
−結ぶ角度會−1さらに石英ガラス端面28とレンズの
端部27の距離f:fとすれば ””a/2 (1−0081) て4見られる。今、R6wl Osw、 f −10
−とすると−=60e″となる。また第3図(C)にお
いて、検出器としてOODアレイを用いると御j定系の
構成が容易になる。
て導*lIK接続する。凹み21の形成にあたって#i
クオデシツタレンズの設計に従えば嵐い。すなわち[3
図klにおいてレンズの端部27とレンズの曲率中心σ
6との距離を−、レンズの一率中心4y1と端部27t
−結ぶ角度會−1さらに石英ガラス端面28とレンズの
端部27の距離f:fとすれば ””a/2 (1−0081) て4見られる。今、R6wl Osw、 f −10
−とすると−=60e″となる。また第3図(C)にお
いて、検出器としてOODアレイを用いると御j定系の
構成が容易になる。
実施例として正方形の石英ガラス基板音用いた例會示し
たが、この場合、干渉縞の間隔が蜜 表になる九め、
第4図に示すようtJ石英ガラス基板のように菱形のも
のを用いて奄良い。
たが、この場合、干渉縞の間隔が蜜 表になる九め、
第4図に示すようtJ石英ガラス基板のように菱形のも
のを用いて奄良い。
以上説明した様に、干渉針を石英ガラス基板上に形成し
、平面に一体化とすることにより、光学系の位置合せも
容易となシ、ま九石英基板の膨張係数は5XlO/’C
と小さいため、温度変化の影譬も少ない。例えば温度変
化が10℃あったと仮定し、石英基板サイズが5龜角と
すれば、その位置変化Fi5X1G am(50Gり
にすぎず、光ファイバのコア径5〜lO声−に比べても
十分無視てきる大きさである。仁のため物理的安定性良
すぐれてお〕、シかも小形とすることができる。また、
本発hrtファイバジャイロスコープとして説明したが
、この他に2本の光ファイバから入る位相情報【含む光
信号の干渉を取る目的にも使用できる。仁の場合の構成
は第2WIAにおいて、先導波膜に接続する光ファイバ
24.2$を互いに接続していなくても良い。
、平面に一体化とすることにより、光学系の位置合せも
容易となシ、ま九石英基板の膨張係数は5XlO/’C
と小さいため、温度変化の影譬も少ない。例えば温度変
化が10℃あったと仮定し、石英基板サイズが5龜角と
すれば、その位置変化Fi5X1G am(50Gり
にすぎず、光ファイバのコア径5〜lO声−に比べても
十分無視てきる大きさである。仁のため物理的安定性良
すぐれてお〕、シかも小形とすることができる。また、
本発hrtファイバジャイロスコープとして説明したが
、この他に2本の光ファイバから入る位相情報【含む光
信号の干渉を取る目的にも使用できる。仁の場合の構成
は第2WIAにおいて、先導波膜に接続する光ファイバ
24.2$を互いに接続していなくても良い。
第1図は従来の光干渉針の構成図、第2図は本発明の光
干渉針の構成図、第3図(転)(社)も)釦−)は本発
明の光干渉針の製造手me示す図であ夛、#14図は本
発明の他の実施例に係る光干渉針の構成図である。 図 面 中、 1Gは半透明膜、 11a 、 llb 、 lie 、 Allは
レンズ、12はスクリーン、 13.14,15.17は光ファイノ(,16は干渉縞
、 20F1石英ガラス基板、 21tli目み、 22は半透明膜、 23.24.25は光ファイノ(, 26は検知器である。 特、許出願人 日本電信電話公社 代 理 人 弁理士 光 石 士 部 (他1名) 第)図
干渉針の構成図、第3図(転)(社)も)釦−)は本発
明の光干渉針の製造手me示す図であ夛、#14図は本
発明の他の実施例に係る光干渉針の構成図である。 図 面 中、 1Gは半透明膜、 11a 、 llb 、 lie 、 Allは
レンズ、12はスクリーン、 13.14,15.17は光ファイノ(,16は干渉縞
、 20F1石英ガラス基板、 21tli目み、 22は半透明膜、 23.24.25は光ファイノ(, 26は検知器である。 特、許出願人 日本電信電話公社 代 理 人 弁理士 光 石 士 部 (他1名) 第)図
Claims (2)
- (1) 石英ガラス基板の°端1irK相対向して光
ファイバと光検知器とが接合される一方、皺石英ガラス
基板表面の中央には所定の一率半径【有する凹部が形成
され、更に鋏凹部を含む基板表N[K光導普膜が形成さ
れると共に鋏凹部O中心會通〕各光ファイバの光軸に対
して斜めに面する半透明膜が形成されてなるとと【特徴
とする平面型光干渉針。 - (2) 方形の石英ガラス基板の中心部に基板中心と
一致し、所定の一率半径をもつ凹みを機械加工し喪後、
該凹みを含む基板表面に一定の厚み管もつ光導波膜を形
成し、次いで、凹みの中心部を通る石英ガラス基板の対
角線にそって該石英ガラス基板を基板表面から垂直に切
断し、該切断面を光学面に研磨した後、牛透−膜を形成
し、更に両切断面を合体した後、石英ガラス基板の端面
に光ファイバ、光検知器等【取付けることを特徴とする
平面型光干渉針の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56171083A JPS5871674A (ja) | 1981-10-26 | 1981-10-26 | 平面型光干渉計とその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56171083A JPS5871674A (ja) | 1981-10-26 | 1981-10-26 | 平面型光干渉計とその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5871674A true JPS5871674A (ja) | 1983-04-28 |
Family
ID=15916685
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP56171083A Pending JPS5871674A (ja) | 1981-10-26 | 1981-10-26 | 平面型光干渉計とその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5871674A (ja) |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5057255A (ja) * | 1973-09-11 | 1975-05-19 | ||
JPS54164146A (en) * | 1978-05-26 | 1979-12-27 | Thomson Csf | Optical device |
JPS557523A (en) * | 1978-06-29 | 1980-01-19 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | Production of silver peroxide |
JPS5615522U (ja) * | 1979-07-16 | 1981-02-10 | ||
JPS56109306A (en) * | 1980-01-25 | 1981-08-29 | Ibm | Active wave guide element |
-
1981
- 1981-10-26 JP JP56171083A patent/JPS5871674A/ja active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5057255A (ja) * | 1973-09-11 | 1975-05-19 | ||
JPS54164146A (en) * | 1978-05-26 | 1979-12-27 | Thomson Csf | Optical device |
JPS557523A (en) * | 1978-06-29 | 1980-01-19 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | Production of silver peroxide |
JPS5615522U (ja) * | 1979-07-16 | 1981-02-10 | ||
JPS56109306A (en) * | 1980-01-25 | 1981-08-29 | Ibm | Active wave guide element |
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