JPS5871674A - 平面型光干渉計とその製造方法 - Google Patents

平面型光干渉計とその製造方法

Info

Publication number
JPS5871674A
JPS5871674A JP56171083A JP17108381A JPS5871674A JP S5871674 A JPS5871674 A JP S5871674A JP 56171083 A JP56171083 A JP 56171083A JP 17108381 A JP17108381 A JP 17108381A JP S5871674 A JPS5871674 A JP S5871674A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
optical
recess
quartz glass
glass substrate
optical fiber
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP56171083A
Other languages
English (en)
Inventor
Takao Edahiro
枝広 隆夫
Katsunari Okamoto
勝就 岡本
Toshito Hosaka
保坂 敏人
Noriyoshi Shibata
典義 柴田
Masao Kawachi
河内 正夫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Telegraph and Telephone Corp
Original Assignee
Nippon Telegraph and Telephone Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Telegraph and Telephone Corp filed Critical Nippon Telegraph and Telephone Corp
Priority to JP56171083A priority Critical patent/JPS5871674A/ja
Publication of JPS5871674A publication Critical patent/JPS5871674A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/24Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures
    • G01B11/25Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures by projecting a pattern, e.g. one or more lines, moiré fringes on the object
    • G01B11/254Projection of a pattern, viewing through a pattern, e.g. moiré

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Vision & Pattern Recognition (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Gyroscopes (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は光の位相情報を検出する小形でかつ安定な平面
型光干渉針とその製造方法に関する。
従来、ファイバジャイロスコープ、光センナ等に利用さ
れている光干渉針は定盤上にレンズ。
半透明板、スクリー7!一定距離隔てて固定し、形成さ
れている。
第1図は従来使用されていた光干渉針を示し、ファイバ
ジャイロスコープに適用した一例である。すなわち、光
ファイバ11から入射した光はレンズl1mKよ)平行
光に形成され、半透明板lO上に照射される。該半透明
板1ot−透過した光はレンズ1loKよ〕光ファイバ
Isの端面上に集光され入射される。ま九半透明板10
によ〕反射されえ光はレンズ11kKよ〕光ファイバ1
4の端面上に集束され入射される。
ことで光ファイバ14.15tSt光フアイバ17によ
って互hK接続されてお)光ファイバ14゜15に入射
され九先は光フアイバ17中【それヤれ他方の光ファイ
バに向って逆向龜に進行する。逆方向に進行する光は針
全体の回転速度に応じて位相変化を受け、光ファイバ1
4.1!!O各gIAWJから出射する。光ファイバI
s、14から出射する光はレンズllb、llaにより
再び平行光とな如半透明板lO上で重量され、位相差に
応じ九干渉縞會形成する。干渉縞はレンズ1111によ
りスクリーン12上に結像され、干渉縞16を生じる。
針全体の回転速gK応じて干渉縞は一定方向に移動する
九め、この干渉縞の移動速を音検出すれば計の回転速度
に関する情報管得ることができる。このように従来の干
渉針はレンズ、半透明板、スクリーンが一定間隔を隔て
互いに分離して配置されているため、各構成体は物理的
安定性に欠ける。1+空間的に配置するため、系が大形
になる。
本発明は従来法のもつ欠点【解決するため、光干渉針を
千両的に一体化することによシ、干渉針の安定性’it
L、小形和するものであ条。
次に本発明を図面に基づき詳細に説明する。
第2図は本発明の1!糟例の一つであって、20はその
中心部に凹み21と光導波膜を形成した石英ガラス基板
であ)、各11mKは光軸が直負するよう光ファイバ2
3,24.28と検出器26とが接続固定されている。
更#!c鍍石英ガラス基板20#i凹み21の中心部を
通)前記光ファイバ23,24.25の光軸【斜めに横
断する切断線に沿って基11WjJK垂直に切断されて
おや、該断面上に半透明膜22が形成されている。
本発明に係る上記光干渉針において、光ファイバ23か
ら出射する光は、石英ガラス基板上に形成された先導皺
膜瑚面に結合入射される。
石英ガラス基板上に形成された!!Iみ21がレンズと
して作用し一先導皺膜22に入射した光は該四み21に
よ)平行光線に整形された後、半透明膜22によ参一部
は透過光となり、一部は反射光になる。反射された光は
凹み21によ)集束され光ファイバ24端間上に照射さ
れて入射される。一方、透過した光は凹み21によ)集
束されて光ファイバ25に入射される。光ファイバ24
.26は互いに一定の長さをもつ光ファイバKm続され
てお)、光ファイバ24゜2sの端面に入射されえ光は
それぞれ他方の光ファイバlII’WJK向って逆方向
に遂行する。逆方向に遂行した光は光ファイバの受ける
物理現象例えば回転によ〕位相速度の差を生じ、これが
光ファイバ25.24から出射した後光導波膜中央部に
形成された凹み21によシ平行光とされた後半透明膜上
で干渉縞を形成する。
干渉縞社凹み21で集束されて光検知器26上に結像し
、検知器によ)干渉縞の移動【l!み取る。
次に千′#iJw光干渉針の製造方法の−f%It示す
正方形の石英ガラス基板20上にあらかじめ設計した曲
率半径をもつ凹み211加工研廖によ参形成する。凹み
21が形成された石英ガラス基板O面KOVD法、火炎
加水分解反応、あるいはスパッタなど真空蒸着法によ)
屈折率の大きい石英ガラスの光導波膜2 G’を形成す
る(第3図(b))。屈折率を変えるパーパントとして
8LO,KCk@O,、!ton # tto、 a 
zoosなど會添加すれば屈折率#1810.  の屈
折率よル高−もOKなる。石英ガラス基板20に形成さ
れえ凹み21は光導波膜2vの形成によ〕ジオデシツタ
レンズと呼ばれるレンズ作用管もつものになる。
次iで、凹み210中心を通)石英ガラス基板の対角線
にそって、基板面KflI[IIC切断研磨する。断面
に一、ム8.ムj、Or  などの金属膜を真空蒸着に
よ〕、または、zna 、 a@o、 、 tto、な
どO非金属at形成し50−透過になる厚みにする。金
属膜の場合は厚さ約1001に、非命j11[01n1
/4mJI、f4Lハ2sOej lK影形成る(jl
lijam)))、次iで切断した他の石英ガラス基板
を一体化して第3図(・)のように光7アイパ23,2
4.25と光検知器2・t!I合する。
この場合光ファイバ2B、24.MS#1光学軸に合せ
て導*lIK接続する。凹み21の形成にあたって#i
クオデシツタレンズの設計に従えば嵐い。すなわち[3
図klにおいてレンズの端部27とレンズの曲率中心σ
6との距離を−、レンズの一率中心4y1と端部27t
−結ぶ角度會−1さらに石英ガラス端面28とレンズの
端部27の距離f:fとすれば ””a/2 (1−0081) て4見られる。今、R6wl Osw、  f −10
−とすると−=60e″となる。また第3図(C)にお
いて、検出器としてOODアレイを用いると御j定系の
構成が容易になる。
実施例として正方形の石英ガラス基板音用いた例會示し
たが、この場合、干渉縞の間隔が蜜  表になる九め、
第4図に示すようtJ石英ガラス基板のように菱形のも
のを用いて奄良い。
以上説明した様に、干渉針を石英ガラス基板上に形成し
、平面に一体化とすることにより、光学系の位置合せも
容易となシ、ま九石英基板の膨張係数は5XlO/’C
と小さいため、温度変化の影譬も少ない。例えば温度変
化が10℃あったと仮定し、石英基板サイズが5龜角と
すれば、その位置変化Fi5X1G  am(50Gり
にすぎず、光ファイバのコア径5〜lO声−に比べても
十分無視てきる大きさである。仁のため物理的安定性良
すぐれてお〕、シかも小形とすることができる。また、
本発hrtファイバジャイロスコープとして説明したが
、この他に2本の光ファイバから入る位相情報【含む光
信号の干渉を取る目的にも使用できる。仁の場合の構成
は第2WIAにおいて、先導波膜に接続する光ファイバ
24.2$を互いに接続していなくても良い。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の光干渉針の構成図、第2図は本発明の光
干渉針の構成図、第3図(転)(社)も)釦−)は本発
明の光干渉針の製造手me示す図であ夛、#14図は本
発明の他の実施例に係る光干渉針の構成図である。 図  面  中、 1Gは半透明膜、 11a 、  llb 、  lie 、  Allは
レンズ、12はスクリーン、 13.14,15.17は光ファイノ(,16は干渉縞
、 20F1石英ガラス基板、 21tli目み、 22は半透明膜、 23.24.25は光ファイノ(, 26は検知器である。 特、許出願人 日本電信電話公社 代   理   人 弁理士  光 石 士 部 (他1名) 第)図

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)  石英ガラス基板の°端1irK相対向して光
    ファイバと光検知器とが接合される一方、皺石英ガラス
    基板表面の中央には所定の一率半径【有する凹部が形成
    され、更に鋏凹部を含む基板表N[K光導普膜が形成さ
    れると共に鋏凹部O中心會通〕各光ファイバの光軸に対
    して斜めに面する半透明膜が形成されてなるとと【特徴
    とする平面型光干渉針。
  2. (2)  方形の石英ガラス基板の中心部に基板中心と
    一致し、所定の一率半径をもつ凹みを機械加工し喪後、
    該凹みを含む基板表面に一定の厚み管もつ光導波膜を形
    成し、次いで、凹みの中心部を通る石英ガラス基板の対
    角線にそって該石英ガラス基板を基板表面から垂直に切
    断し、該切断面を光学面に研磨した後、牛透−膜を形成
    し、更に両切断面を合体した後、石英ガラス基板の端面
    に光ファイバ、光検知器等【取付けることを特徴とする
    平面型光干渉針の製造方法。
JP56171083A 1981-10-26 1981-10-26 平面型光干渉計とその製造方法 Pending JPS5871674A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP56171083A JPS5871674A (ja) 1981-10-26 1981-10-26 平面型光干渉計とその製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP56171083A JPS5871674A (ja) 1981-10-26 1981-10-26 平面型光干渉計とその製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS5871674A true JPS5871674A (ja) 1983-04-28

Family

ID=15916685

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP56171083A Pending JPS5871674A (ja) 1981-10-26 1981-10-26 平面型光干渉計とその製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS5871674A (ja)

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5057255A (ja) * 1973-09-11 1975-05-19
JPS54164146A (en) * 1978-05-26 1979-12-27 Thomson Csf Optical device
JPS557523A (en) * 1978-06-29 1980-01-19 Sumitomo Metal Mining Co Ltd Production of silver peroxide
JPS5615522U (ja) * 1979-07-16 1981-02-10
JPS56109306A (en) * 1980-01-25 1981-08-29 Ibm Active wave guide element

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5057255A (ja) * 1973-09-11 1975-05-19
JPS54164146A (en) * 1978-05-26 1979-12-27 Thomson Csf Optical device
JPS557523A (en) * 1978-06-29 1980-01-19 Sumitomo Metal Mining Co Ltd Production of silver peroxide
JPS5615522U (ja) * 1979-07-16 1981-02-10
JPS56109306A (en) * 1980-01-25 1981-08-29 Ibm Active wave guide element

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4147435A (en) Interferometric process and apparatus for the measurement of the etch rate of opaque surfaces
EP0322714B1 (en) Polarizing optical element and device using the same
CN108645405A (zh) 一种光学陀螺与加速度计高度融合的惯性传感单元
CN104345577A (zh) 对准装置
US4676643A (en) Ring laser gyro readout assembly simplification with adjustment capability
JPS5871674A (ja) 平面型光干渉計とその製造方法
US3432223A (en) Modulator for a light beam
WO2018209957A1 (zh) 一种传感器主体及回归反射型光电传感器
US3815977A (en) Photo-detector
WO2022068106A1 (zh) 摄像机及其成像组件
JPH0230490B2 (ja)
JP2710809B2 (ja) 交差型回折格子およびこれを用いた偏波回転検出装置
JPS60129645A (ja) ガス濃度測定装置
JPS5850899A (ja) マイクロホン装置
JPH10132507A (ja) 干渉計
CN218728383U (zh) 一种y形的扩展出瞳的光学结构
WO2022218025A1 (zh) 偏振态测量装置和偏振态测量方法
SU391387A1 (ru) Поляризационный интерферометр
JPS60218021A (ja) レ−ザジヤイロ
CA1063241A (en) Carrier provided with a spiral structure in which sound and/or image information is stored
JP2759115B2 (ja) 3次非線形光学特性の測定装置
SU802900A1 (ru) Модул тор излучени
JP2849248B2 (ja) 光学式振動センサ
SU1455331A1 (ru) Автоколлиматор
SU1465860A1 (ru) Приемна оптическа система