JPS5864134A - モリブデン−ビスマス−アンチモン含有触媒の製造法 - Google Patents
モリブデン−ビスマス−アンチモン含有触媒の製造法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明はモリプデ／−ビスマス−アンチモン含有触媒の
製造法に関する。詳しくは、プロピレン等のオレフィン
を高温度条件下にアンモニアおよび酸素と気相で反応さ
せてアークリルニトリル等の不飽和ニトリルを製造する
方法において、優れた触媒効果を示すモリブデン−ビス
マス−アンチモン含有触媒の製造法に関する。
製造法に関する。詳しくは、プロピレン等のオレフィン
を高温度条件下にアンモニアおよび酸素と気相で反応さ
せてアークリルニトリル等の不飽和ニトリルを製造する
方法において、優れた触媒効果を示すモリブデン−ビス
マス−アンチモン含有触媒の製造法に関する。
従来、プロピレンの気相接触アンモ酸化によシアクリロ
ニトリルを製造する触媒については種々提案されている
。とくにモリブデン、ビスマスを基本組成とし、さらに
鉄、ニッケル、コバルト等の金属元素を含む触媒を用い
ると、比較的高い収率で７クリロニトリルを製造するこ
とができるが、大きい空間速度で原料ガスを触媒層に供
給し、かつプロピレンの反応率を上げた場合には選択率
が低下し、十分高いアクリルニトリル収率を得ることは
困難であった０本発明者らは、大きい空間速度で原料ガ
スを供給し、また高い反応率でプロピレンを反応させた
場合においても高い選択率でアクリルニトリルを製造し
得る触媒を開発すべく鋭意検討した結果。
ニトリルを製造する触媒については種々提案されている
。とくにモリブデン、ビスマスを基本組成とし、さらに
鉄、ニッケル、コバルト等の金属元素を含む触媒を用い
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とができるが、大きい空間速度で原料ガスを触媒層に供
給し、かつプロピレンの反応率を上げた場合には選択率
が低下し、十分高いアクリルニトリル収率を得ることは
困難であった０本発明者らは、大きい空間速度で原料ガ
スを供給し、また高い反応率でプロピレンを反応させた
場合においても高い選択率でアクリルニトリルを製造し
得る触媒を開発すべく鋭意検討した結果。
原料として、細孔−通過法（０ｏｕｉｔ＠ｒ法）〔計量
管理協会編「計量管理技術双書（３１）粒度」（川口寅
之輔、田村暁司共著、昭和３！年コロナ社）参照〕で測
定した平均粒径が１７１以下の三酸化アンチモンを使用
することによシ活性の優れた触媒が得られることを見い
出し、本発明を完成した。
管理協会編「計量管理技術双書（３１）粒度」（川口寅
之輔、田村暁司共著、昭和３！年コロナ社）参照〕で測
定した平均粒径が１７１以下の三酸化アンチモンを使用
することによシ活性の優れた触媒が得られることを見い
出し、本発明を完成した。
すなわち、本発明の要旨は、モリブデン化合物、ビスマ
ス化合物および三酸化アンチモンを含むスラリーをｐＨ
７以下に調整し、得られたスラリーを噴霧乾燥して球状
の粒子を得、これを竣成してモリブデン−ビス！スーア
ンデモ／含有触媒を製造する方法において、原料の三酸
化アンチモンとして細孔通過法により測定した平均粒径
が！＃以下のものを使用することを特徴とするモリブデ
ン−ビスマス−アンチ毫ン含有触媒の製造法に存する。
ス化合物および三酸化アンチモンを含むスラリーをｐＨ
７以下に調整し、得られたスラリーを噴霧乾燥して球状
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ンデモ／含有触媒を製造する方法において、原料の三酸
化アンチモンとして細孔通過法により測定した平均粒径
が！＃以下のものを使用することを特徴とするモリブデ
ン−ビスマス−アンチ毫ン含有触媒の製造法に存する。
次に本発明の詳細な説明する。
本発明の方法によって製造される触媒の組成は限定的な
本のではないが、好ましい触媒組成は次の実頓式で表わ
される範囲に入るものである。
本のではないが、好ましい触媒組成は次の実頓式で表わ
される範囲に入るものである。
（ＭＯ）ａ（Ｗ）ｂ（Ｂｉ）Ｏ（Ｐｂ）！（８ｂ）＠（
Ｆ＠）ｆ（Ｋ）ｇ（Ｐ）ｈ（０）１但し上式においてａ
、 ｂ、’Ｑ％ｌ！Ｌ、 ＠、ｆ１ｇ、 ｈ、 ｉはそ
れぞれモリブデン、タングステン、ビスマス、鉛、アン
チモン、鉄、カリウム、リンおよび酸素の原子数を表わ
し ａ 十ｂ Ｗ ／ ＪのときＯ≦５≦７ （好ま
しくはｏ、ｏｒ≦１≦！、り０、餌≦Ｃ≦７ （好ま
しくは０．６７≦Ｃ≦６．３）コ≦ｄ≦ｌコ（好ましく
は −０ｔ≦ｄ≦／／）０．００！≦・／ａ≦ム／シ（
好ましくはθ、０９Ｌ！≦ｅ／ａ≦ｏ、ｔｒ） ０≦ｆ／ａ≦０．０９１ ０≦ｇＡ≦ｏ、ｉｉｔ （好ましくは０．００餌≦ｇ
／ａ≦ｏ、ｔｉｔ ） ０≦ｈ／ａ≦θ、！餌（好ましくは０．０／６≦ｈ／ａ
≦ｏ、を餌） １；上記各成分の原子価を満足するのに必要な酸素原子
数 本発明で用いる三酸化アンチモンは、工業用として市販
のものを用−てもよいし、金属のア／チモｙを硝酸酸化
して得喪ものを用いてもよい。本発明では、細孔通過法
により測定した平均粒径が３μ以下のものを用いるが、
これは、粒径の大きいものをボールミル郷の機械的粉砕
を行って３声以下にして得てもよい。平均粒径がＪμよ
り大Ｉｖｈ場合には、触媒活性の優れ友ものが得られな
い。
Ｆ＠）ｆ（Ｋ）ｇ（Ｐ）ｈ（０）１但し上式においてａ
、 ｂ、’Ｑ％ｌ！Ｌ、 ＠、ｆ１ｇ、 ｈ、 ｉはそ
れぞれモリブデン、タングステン、ビスマス、鉛、アン
チモン、鉄、カリウム、リンおよび酸素の原子数を表わ
し ａ 十ｂ Ｗ ／ ＪのときＯ≦５≦７ （好ま
しくはｏ、ｏｒ≦１≦！、り０、餌≦Ｃ≦７ （好ま
しくは０．６７≦Ｃ≦６．３）コ≦ｄ≦ｌコ（好ましく
は −０ｔ≦ｄ≦／／）０．００！≦・／ａ≦ム／シ（
好ましくはθ、０９Ｌ！≦ｅ／ａ≦ｏ、ｔｒ） ０≦ｆ／ａ≦０．０９１ ０≦ｇＡ≦ｏ、ｉｉｔ （好ましくは０．００餌≦ｇ
／ａ≦ｏ、ｔｉｔ ） ０≦ｈ／ａ≦θ、！餌（好ましくは０．０／６≦ｈ／ａ
≦ｏ、を餌） １；上記各成分の原子価を満足するのに必要な酸素原子
数 本発明で用いる三酸化アンチモンは、工業用として市販
のものを用−てもよいし、金属のア／チモｙを硝酸酸化
して得喪ものを用いてもよい。本発明では、細孔通過法
により測定した平均粒径が３μ以下のものを用いるが、
これは、粒径の大きいものをボールミル郷の機械的粉砕
を行って３声以下にして得てもよい。平均粒径がＪμよ
り大Ｉｖｈ場合には、触媒活性の優れ友ものが得られな
い。
原料のモリブデン化合物としては三酸化モリブデン等の
モリブデン酸化物、モリブデン酸またはその塩およびリ
ンモリブデン酸またはその塩等が用いられるが、好適に
はバラ％ ＩＪブデンタングステン等のタングステン酸
化物、タングステン酸ｔたはパラタングステン酸アンモ
ニウムのようなタングステン酸塩およびりンタンクステ
ン酸またはその塩等が用いられる。ビスマスの化合物と
しては硝酸ビスマス、硫酸ビスマス等のビスマス塩およ
びビスマスの各種酸化物ま曳は水酸化物岬が用いられる
。鉛の化合物としては硝酸鉛、硫酸鉛等の鉛基および鉛
の各種酸化物ｔたは水酸化物等が用いられる。鉄の化合
物としては硝酸鉄、硫酸鉄等の鉄塩および鉄の各種酸化
物または水液化物等が用いられ石。
モリブデン酸化物、モリブデン酸またはその塩およびリ
ンモリブデン酸またはその塩等が用いられるが、好適に
はバラ％ ＩＪブデンタングステン等のタングステン酸
化物、タングステン酸ｔたはパラタングステン酸アンモ
ニウムのようなタングステン酸塩およびりンタンクステ
ン酸またはその塩等が用いられる。ビスマスの化合物と
しては硝酸ビスマス、硫酸ビスマス等のビスマス塩およ
びビスマスの各種酸化物ま曳は水酸化物岬が用いられる
。鉛の化合物としては硝酸鉛、硫酸鉛等の鉛基および鉛
の各種酸化物ｔたは水酸化物等が用いられる。鉄の化合
物としては硝酸鉄、硫酸鉄等の鉄塩および鉄の各種酸化
物または水液化物等が用いられ石。
カリウムの化合物としては硝酸カリウム、炭酸カリウム
、モリブデン酸カリウム、タングステン酸カリウム、リ
ンモリブデン酸カリウム、リンタングステン酸カリウム
、リン酸カリウム等のカリウム塩または水酸化物が用い
られる。リンの化合物としてはオルトリン酸等のリン酸
、リンモリブデン酸、リンタングステン酸等のへテロポ
リ酸およびそれらの塩、有機、無機のリン化合物等が用
いられる。
、モリブデン酸カリウム、タングステン酸カリウム、リ
ンモリブデン酸カリウム、リンタングステン酸カリウム
、リン酸カリウム等のカリウム塩または水酸化物が用い
られる。リンの化合物としてはオルトリン酸等のリン酸
、リンモリブデン酸、リンタングステン酸等のへテロポ
リ酸およびそれらの塩、有機、無機のリン化合物等が用
いられる。
ｔた、本発明では上記しＴｈ ＩＪンモリブデン酸。
リンタングステン酸、モリブデン酸カリウム、タングス
テン酸カリウム、リン酸カリウムは、それぞれ一種の元
素源として、リンモリブデン酸カリウム、リンタングス
テン酸カリウムはそれぞれ３種の元素源として使用され
る。
テン酸カリウム、リン酸カリウムは、それぞれ一種の元
素源として、リンモリブデン酸カリウム、リンタングス
テン酸カリウムはそれぞれ３種の元素源として使用され
る。
これらの原料を用いて本発明の触媒を製造する方法につ
いて以下に説明する。
いて以下に説明する。
モリブデン化合物の水溶液またはスラリー、ビスマス化
合物の水溶液ｔたはスラリー、Ｊｆｉ以下の粒径の三酸
化アンチモン、および場合により鉛化合物の水溶液、タ
ングステン化合物。
合物の水溶液ｔたはスラリー、Ｊｆｉ以下の粒径の三酸
化アンチモン、および場合により鉛化合物の水溶液、タ
ングステン化合物。
カリウムの化合物、リンの化合物、担体であるシリカゾ
ルを混合して水性スラリーを調製する。
ルを混合して水性スラリーを調製する。
三酸化アンチモンは、好まし一態様としては、水性スラ
リー中で微細な状態で存在しているのがよく、コロイド
状であって本よい。
リー中で微細な状態で存在しているのがよく、コロイド
状であって本よい。
原料の混合方法にＦｉｌｌ？ｌＰＫ制限はないが、よく
混合して均一なスラリーとすることが好ましい。
混合して均一なスラリーとすることが好ましい。
次に攪拌下とのスラリーの′ｐ′Ｈを７以下に調整する
。ｐＨｉの調整には、硝酸′を曳はアンモニアが好適に
用いられる。ついでボールンル、コロイド建ル、ホモジ
ナイザーなどによりさらに均一なスラリーとすることが
できる。
。ｐＨｉの調整には、硝酸′を曳はアンモニアが好適に
用いられる。ついでボールンル、コロイド建ル、ホモジ
ナイザーなどによりさらに均一なスラリーとすることが
できる。
かくして得られたスラリーを噴霧乾燥機により乾燥し球
状の触媒粒子をつくる。次いで得られた粒子を通常空気
流通下で加熱して焼成する。
状の触媒粒子をつくる。次いで得られた粒子を通常空気
流通下で加熱して焼成する。
焼成温度、焼成時間Ｆｉ特に限定されるものではないが
焼成温度は約ＷＯＯ〜約ｒ０σＣ１好ましくは約ｔｒｏ
Ｃ〜約ｒｏｏＣであり焼成時間ｉｊ ／ −ｆ時間が適
当である。担体としてはシリカ、チタニア、アルミナ、
シリコンカーバイド等が用Ｖられる。好ましくは、＊料
を混合して水性スラリーをｖ４１１！する際にシリカゾ
ルを含有させる。
焼成温度は約ＷＯＯ〜約ｒ０σＣ１好ましくは約ｔｒｏ
Ｃ〜約ｒｏｏＣであり焼成時間ｉｊ ／ −ｆ時間が適
当である。担体としてはシリカ、チタニア、アルミナ、
シリコンカーバイド等が用Ｖられる。好ましくは、＊料
を混合して水性スラリーをｖ４１１！する際にシリカゾ
ルを含有させる。
次に本発明の触媒が用いられる反応を、アクリロニトリ
ルを製造する場合について説明する。
ルを製造する場合について説明する。
アクリロニトリルは前記触媒の存在下、プロピレンとア
ンモニアと酸素または酸素含有ガスとを気相で接触させ
ることにより製造される。原料ガスのプ冒ピレンは必ず
しも高純度である必 。
ンモニアと酸素または酸素含有ガスとを気相で接触させ
ることにより製造される。原料ガスのプ冒ピレンは必ず
しも高純度である必 。
要はなく、実質的に反応に不活性なガス、例えばプロパ
ンなどの飽和膨化水素を含有していても良い。酸素とし
ては、純酸素ガスを用いても良いが、反応に不活性がガ
スで希釈されていてもよい。工業的には酸素含有ガスと
して空気が用Ｖられる。プロピレンに対する酸素の供給
比率はモル比で通常７〜−倍の範囲であ夛、好ましくは
へｔ〜コ、！倍の範囲である。プリピレンに対して供給
するアンモニアの割合はモル比で０．１−Ｊ、！倍の範
囲、好ましくはσ、デ〜ハナ倍の範囲である。反応は通
常、常圧下で行われるが、必要に応じて減圧下または加
圧下でおこ々つてもよい。反応温度は通常１４０Ｓ−！
４１１０１：：。
ンなどの飽和膨化水素を含有していても良い。酸素とし
ては、純酸素ガスを用いても良いが、反応に不活性がガ
スで希釈されていてもよい。工業的には酸素含有ガスと
して空気が用Ｖられる。プロピレンに対する酸素の供給
比率はモル比で通常７〜−倍の範囲であ夛、好ましくは
へｔ〜コ、！倍の範囲である。プリピレンに対して供給
するアンモニアの割合はモル比で０．１−Ｊ、！倍の範
囲、好ましくはσ、デ〜ハナ倍の範囲である。反応は通
常、常圧下で行われるが、必要に応じて減圧下または加
圧下でおこ々つてもよい。反応温度は通常１４０Ｓ−！
４１１０１：：。
好ましくは一〇〇−タｏｏＣである。また原料ガスの空
間速度は１０σ〜３θ００ ｈｒ”’ の範囲、好ま
しくは、２００−．２０００ ｈｒ の範囲から適宜
選ぶことができる。
間速度は１０σ〜３θ００ ｈｒ”’ の範囲、好ま
しくは、２００−．２０００ ｈｒ の範囲から適宜
選ぶことができる。
本発明の触媒は固定床ｔたは流動床のいずれの方式でも
使用することができる。
使用することができる。
以上詳細に説明し良ように本発明の触媒によれば原料ガ
ス反応率を高くシ九場合でも高い選択率でアクリロニト
リルを生成することができる。
ス反応率を高くシ九場合でも高い選択率でアクリロニト
リルを生成することができる。
次に本発明の実施例によシさらに詳細に説明するが１本
発明はその要旨を越えない限り以下の実施例に限定され
るものではない。
発明はその要旨を越えない限り以下の実施例に限定され
るものではない。
なお本明細書において反応率、選択率およびアクリロニ
トリル収率は下記式により定義される。
トリル収率は下記式により定義される。
実施例および比較例において、三酸化アンチめた。
実施例１
パラタングステン酸アンモニウム（ＭＨ４）、。Ｖ、、
Ｏ，。
Ｏ，。
・！も００．１４０ｋｇを！、７重量重量ファン４ニア
水λ、０辱に溶解させた溶液に攪拌下平均粒径／、ＪＪ
Ｉの三酸化アｙ ｆ ４７１１ｂ、Ｏ＠ Ｏ，Ｊ ｔ
Ｉ １ｑを加えて懸濁させる。この懸濁液に攪拌下コ０
重量嗟のシリカジルコσに矛を加え、続いて硝酸鉛Ｐｂ
（Ｎｏ、）、 １１４７ｋｇを水７．コＯｋｙ Ｋ ％
解させた溶液、パラモリブデン酸アンモニウム（ＮＨ４
）・ＭＯ，Ｏｋ・餌Ｈ１０λ、７ｊダｋｇ ｔｌ−ｔ
０重量−アンモ二ア水！、コＪＪｋｙに溶解させた溶液
および硝酸ビスマスＢｉ（Ｎｏ、）、−ｊＨ，Ｏ／、愼
Ｊ ／ｋ） ヲ／ ０３１量チ硝酸θ、７ｒ／Ｑに溶解
させ良溶液を順次加えたのち、１７重量％硝酸によりＰ
Ｈをコ、／Ｋｌｌ！節し、均一なスラリーを得た。
水λ、０辱に溶解させた溶液に攪拌下平均粒径／、ＪＪ
Ｉの三酸化アｙ ｆ ４７１１ｂ、Ｏ＠ Ｏ，Ｊ ｔ
Ｉ １ｑを加えて懸濁させる。この懸濁液に攪拌下コ０
重量嗟のシリカジルコσに矛を加え、続いて硝酸鉛Ｐｂ
（Ｎｏ、）、 １１４７ｋｇを水７．コＯｋｙ Ｋ ％
解させた溶液、パラモリブデン酸アンモニウム（ＮＨ４
）・ＭＯ，Ｏｋ・餌Ｈ１０λ、７ｊダｋｇ ｔｌ−ｔ
０重量−アンモ二ア水！、コＪＪｋｙに溶解させた溶液
および硝酸ビスマスＢｉ（Ｎｏ、）、−ｊＨ，Ｏ／、愼
Ｊ ／ｋ） ヲ／ ０３１量チ硝酸θ、７ｒ／Ｑに溶解
させ良溶液を順次加えたのち、１７重量％硝酸によりＰ
Ｈをコ、／Ｋｌｌ！節し、均一なスラリーを得た。
次にリンタングステンｆｉｌＰｆｏｌ＠コ≠ＷＯ，・餌
コＨ，０θ、ｌＪコｋｙを水０．／ ！１ｋ）に溶解さ
せた溶液を上記スラリーに加え、さらに脚酸カリウム−
００゜ｒ、！ ｆを水Ｑ、６／すｋｇ Ｋ溶解させた溶
液を上記スラリーに加え十分攪拌する。さらにホモジナ
イザーを用いてより均一がスラリーにする。このように
して得られ曳均−なスラリーを噴霧乾燥球状粒子を空気
流通下ｄ７σＣで２時間焼成し、室温に冷却後直径７１
１１厚さＪ閤のタブレットに成型し、粉砕して／ご〜Ｊ
−メツシュの粒状触媒とした。このようにして得られ九
触媒の組成は原子比で”１１．１ ”ｆｌ、ＩＩ Ｂｌ
Ｌｌ ”＠Ａ ５ｂｌｊ ＫＯ，。
コＨ，０θ、ｌＪコｋｙを水０．／ ！１ｋ）に溶解さ
せた溶液を上記スラリーに加え、さらに脚酸カリウム−
００゜ｒ、！ ｆを水Ｑ、６／すｋｇ Ｋ溶解させた溶
液を上記スラリーに加え十分攪拌する。さらにホモジナ
イザーを用いてより均一がスラリーにする。このように
して得られ曳均−なスラリーを噴霧乾燥球状粒子を空気
流通下ｄ７σＣで２時間焼成し、室温に冷却後直径７１
１１厚さＪ閤のタブレットに成型し、粉砕して／ご〜Ｊ
−メツシュの粒状触媒とした。このようにして得られ九
触媒の組成は原子比で”１１．１ ”ｆｌ、ＩＩ Ｂｌ
Ｌｌ ”＠Ａ ５ｂｌｊ ＫＯ，。
Ｐ Ｏであり担体としてのシリカおよび触０、＠
ｄ護マ 謀成分の割合は重量でダＯ：イ０であった。この触媒／
ｄを内径−簡のパイレックス製ガラス反応器に充填し、
モル比でプロピレン：アンモニア：空気＝／：八コへ１
０の混合ガスを空間速度！θＯｈｒ で反応管に供給
し１表−１に示す反応温度で反応を行なわせ喪。その結
果を表−／に示す。
ｄ護マ 謀成分の割合は重量でダＯ：イ０であった。この触媒／
ｄを内径−簡のパイレックス製ガラス反応器に充填し、
モル比でプロピレン：アンモニア：空気＝／：八コへ１
０の混合ガスを空間速度！θＯｈｒ で反応管に供給
し１表−１に示す反応温度で反応を行なわせ喪。その結
果を表−／に示す。
比較例１
平均粒径３．コμの三酸化アンチモンを使用し九こと以
外は実施例１と同様の方法で触媒を調製し、表−７に示
す反応温度で実施例１と同様に反応を行なわせ念。その
結果を同じく表−／に示す。
外は実施例１と同様の方法で触媒を調製し、表−７に示
す反応温度で実施例１と同様に反応を行なわせ念。その
結果を同じく表−／に示す。
実施例コ
平均粒径１．９μの三酸化アンチモンを使用し九こと以
外は実施例１と同様の方法で触媒を調製し１表−１に示
す反応温度で実施例／と同様に反応を行なわせた。その
結果を同じく表−７に示す。
外は実施例１と同様の方法で触媒を調製し１表−１に示
す反応温度で実施例／と同様に反応を行なわせた。その
結果を同じく表−７に示す。
比較例コ
平均粒径ｉ／μの三酸化アンチモンを使用したこと以外
は実施例１と同様の方法で触媒を調製し、表−／に示す
反応温度で実施例／と同様に反応を行なわせた。その結
果を同じく表−７に示す。
は実施例１と同様の方法で触媒を調製し、表−／に示す
反応温度で実施例／と同様に反応を行なわせた。その結
果を同じく表−７に示す。
実施例！
平均粒径３．−μの三酸化アンチモンをボールξルにて
粉砕し平均粒径をコ、６μとしたものを使用した以外は
実施例１と同様の方法で触媒を調製し、表−ｌに示す反
応温度で実施例１と同様に反応を行なわせた。その結果
を同じく表−７に示す。
粉砕し平均粒径をコ、６μとしたものを使用した以外は
実施例１と同様の方法で触媒を調製し、表−ｌに示す反
応温度で実施例１と同様に反応を行なわせた。その結果
を同じく表−７に示す。
表−７
実施例餌
パラタングステン酸アンモニウム（”＊）＋ｅＷｘｍＯ
＋ｓ・すＨ，Ｏθ、０餌ｔｋｇを３．７重量−アンモニ
ア水θ、ｔａＯｋｇに溶解させた溶液に攪拌下平均粒径
０．９μの二酸化アンチモン８ｂ、ＯｓＯ，！ Ｊ ７
ｋｙを加えて懸濁させる。この懸濁液に攪拌下１０重
量％のシリカゾルλ０ｋｔを加え、続いて硝酸鉛Ｐｂ（
Ｎｏ、）、 Ｊ、／ Ｊ Ｏｋｇを水７．／Ｊ（７ｋｙ
に溶解させた溶液、ハラモリブデン酸アンモニウム（Ｎ
Ｔ１４）１１Ｍｏ、Ｏ！４＠ ＠ａ、ｏ ２．１ ／
Ｏｋｇ ｔ−／ ０重量−アンモニア水ｒ、３ｒｌ）ｋ
ｇに溶解させた溶液、硝酸ビスマスＢｉ（Ｎｏ、）、φ
ｔＨ，Ｏ／、デフ０辱を１０重量％硝酸０．７７ｔ）ｋ
ｇに溶解させた溶液および硝酸第コ鉄Ｆｅ（Ｎｏ、）、
−？Ｈ，Ｏｌ！７．Ｊ Ｊ ｔ ｋｙを水２．ｔ４ｒ
ｋｇに溶解させた溶液を順次加えたのち、６７重量％硝
酸によりＰＲをコ、ｒＫ調節し、均一なスラリーを得た
。このスラリーをさらにホモジナイザーを用いてよ抄均
−なスラリーとし、実施例Ｉと同様な方法で噴霧乾燥・
焼成・冷却し、さらに成型・粉砕し／ｄ−コダメツシＳ
Ｏ粒状触媒とした。このようにして得られた触媒の組成
は原子比でＭＯｌｌ、１ ’０．１４ Ｂ１１．１ ”
ＩＪ ＦＪｂｌ、１ ”Ｏ，ａ ＯＵ、１４であり、担
体としてのシリカおよび触媒成分の割合は重量で＊０：
１０であった０表−、，２に示す反応温度で実施例１と
同様に反応を行なわせた。
＋ｓ・すＨ，Ｏθ、０餌ｔｋｇを３．７重量−アンモニ
ア水θ、ｔａＯｋｇに溶解させた溶液に攪拌下平均粒径
０．９μの二酸化アンチモン８ｂ、ＯｓＯ，！ Ｊ ７
ｋｙを加えて懸濁させる。この懸濁液に攪拌下１０重
量％のシリカゾルλ０ｋｔを加え、続いて硝酸鉛Ｐｂ（
Ｎｏ、）、 Ｊ、／ Ｊ Ｏｋｇを水７．／Ｊ（７ｋｙ
に溶解させた溶液、ハラモリブデン酸アンモニウム（Ｎ
Ｔ１４）１１Ｍｏ、Ｏ！４＠ ＠ａ、ｏ ２．１ ／
Ｏｋｇ ｔ−／ ０重量−アンモニア水ｒ、３ｒｌ）ｋ
ｇに溶解させた溶液、硝酸ビスマスＢｉ（Ｎｏ、）、φ
ｔＨ，Ｏ／、デフ０辱を１０重量％硝酸０．７７ｔ）ｋ
ｇに溶解させた溶液および硝酸第コ鉄Ｆｅ（Ｎｏ、）、
−？Ｈ，Ｏｌ！７．Ｊ Ｊ ｔ ｋｙを水２．ｔ４ｒ
ｋｇに溶解させた溶液を順次加えたのち、６７重量％硝
酸によりＰＲをコ、ｒＫ調節し、均一なスラリーを得た
。このスラリーをさらにホモジナイザーを用いてよ抄均
−なスラリーとし、実施例Ｉと同様な方法で噴霧乾燥・
焼成・冷却し、さらに成型・粉砕し／ｄ−コダメツシＳ
Ｏ粒状触媒とした。このようにして得られた触媒の組成
は原子比でＭＯｌｌ、１ ’０．１４ Ｂ１１．１ ”
ＩＪ ＦＪｂｌ、１ ”Ｏ，ａ ＯＵ、１４であり、担
体としてのシリカおよび触媒成分の割合は重量で＊０：
１０であった０表−、，２に示す反応温度で実施例１と
同様に反応を行なわせた。
その結果を表−一に示す。
実施例！
平均粒径へコμの三酸化アンチモンを使用し九こと以外
は実施側御と同様の方法で触媒を−製し、表−２に示す
反応温度で実施例１と同様に反応を行なわせた。その結
果を表−一に示す。
は実施側御と同様の方法で触媒を−製し、表−２に示す
反応温度で実施例１と同様に反応を行なわせた。その結
果を表−一に示す。
比較例３
平均粒径ぐ、ｌμの三酸化アンチモンを使用したこと以
外は、実施側御と同様の方法で触媒を調製し、表−コに
示す反応温度で実施例１と同様に反応を行カわせた。そ
の結果を表−一に示す。
外は、実施側御と同様の方法で触媒を調製し、表−コに
示す反応温度で実施例１と同様に反応を行カわせた。そ
の結果を表−一に示す。
表−コ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （１） モリブデン化合物、ビスマス化合物および二
酸化アンチモンを含むスラリーをｐＨ７以下に調整し、
得られ九スラリーを噴霧乾燥して球状の粒子を得、これ
を焼成してモリブデン−ビスマス−アンチモン含有触媒
を製造する方法において、原料の三酸化アンチモノとし
て細孔通過法で測定した平均粒径がＪｌｌ以下のものを
使用するヒとを特徴とすゐモリブデン−ビスマス−アン
チモン含有触媒の製造法。 （２、特許請求の範囲第１項記載の触媒の製造法におい
て、スラリーがシリカゾルを含むことを特徴とする方法
。 （３）特許請求の範囲第１項記載の触媒の製造法におい
て、焼成を約ｔすＯＣ〜約ｒｏｏＣの範囲内の温度で行
うことを特徴とする方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56163198A JPS5864134A (ja) | 1981-10-13 | 1981-10-13 | モリブデン−ビスマス−アンチモン含有触媒の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56163198A JPS5864134A (ja) | 1981-10-13 | 1981-10-13 | モリブデン−ビスマス−アンチモン含有触媒の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5864134A true JPS5864134A (ja) | 1983-04-16 |
Family
ID=15769135
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56163198A Pending JPS5864134A (ja) | 1981-10-13 | 1981-10-13 | モリブデン−ビスマス−アンチモン含有触媒の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5864134A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62144752A (ja) * | 1985-11-27 | 1987-06-27 | イ−・アイ・デユポン・ドウ・ヌム−ル・アンド・カンパニ− | 摩擦抵抗触媒、触媒前駆物質、および触媒支持体 |
| JP2012081445A (ja) * | 2010-10-14 | 2012-04-26 | Daiyanitorikkusu Kk | 流動層触媒の製造方法、およびアクリロニトリルの製造方法 |
-
1981
- 1981-10-13 JP JP56163198A patent/JPS5864134A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62144752A (ja) * | 1985-11-27 | 1987-06-27 | イ−・アイ・デユポン・ドウ・ヌム−ル・アンド・カンパニ− | 摩擦抵抗触媒、触媒前駆物質、および触媒支持体 |
| JP2012081445A (ja) * | 2010-10-14 | 2012-04-26 | Daiyanitorikkusu Kk | 流動層触媒の製造方法、およびアクリロニトリルの製造方法 |
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