JPS5860493A - 不揮発性アナログメモリ - Google Patents

不揮発性アナログメモリ

Info

Publication number
JPS5860493A
JPS5860493A JP56159736A JP15973681A JPS5860493A JP S5860493 A JPS5860493 A JP S5860493A JP 56159736 A JP56159736 A JP 56159736A JP 15973681 A JP15973681 A JP 15973681A JP S5860493 A JPS5860493 A JP S5860493A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
memory
analog
drift
heat treatment
electrons
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP56159736A
Other languages
English (en)
Inventor
Makoto Yamada
誠 山田
Hiroshi Kutsuyama
沓山 弘
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sanyo Electric Co Ltd
Sanyo Denki Co Ltd
Original Assignee
Sanyo Electric Co Ltd
Sanyo Denki Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sanyo Electric Co Ltd, Sanyo Denki Co Ltd filed Critical Sanyo Electric Co Ltd
Priority to JP56159736A priority Critical patent/JPS5860493A/ja
Publication of JPS5860493A publication Critical patent/JPS5860493A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C27/00Electric analogue stores, e.g. for storing instantaneous values
    • G11C27/005Electric analogue stores, e.g. for storing instantaneous values with non-volatile charge storage, e.g. on floating gate or MNOS

Landscapes

  • Read Only Memory (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は不揮発性アナログメモリに関し、特Iこ記憶せ
しめたアナログ情報の安定化を目的としている。
アナログ情報を記憶しその内容を電源が切られた後も消
失しr、Hい不揮発性アナログメモリの代表的Pものと
して、フローティングゲート構造が挙げられる。このフ
ローティングゲート型のメモリ素子の構造を第1図番こ
示す。同図番こ於て、(1)は−導電型半導体基板1例
えばP型のシリコン基板で。
N弔のソース領域(2)並びにドレイン領域(31を有
している。(4)はこれ等の両頭域+21 (31間の
ゲート領域(5)1こ設けられたフローティングゲート
で、その名の通り絶縁膜(6)中に埋設されている。(
7)はこのフローティングゲート(4)上に設けたゲー
ト電極である。
斯る構造のメモリ素子の70−ティングゲート(4)i
こ電子を注入したり、或いは逆にフローティングゲート
(4)から電、子を放出せしめる事に依って。
メモリ素子の閾値電圧が変化し、その変化は注入放出電
子量に依存している。従ってこの電子量を適当に設定す
る事に依ってアナログ情報を記憶せしめる事が出来る。
一般番ここのような不揮発性アナログメモリのアナログ
情報保持特性は、第2図番こ示す如く、書き込み直後、
即ちr4値設定直後番こ急激に変化する初期ドリフト(
DI)とその後長期間lこ亘って除々Iこ変化する長期
ドリフ) (DL)かある事が確認されている。これ等
のドリフト値は、第6図に示す通電回路でドレイン電流
を400μA通した場合。
70℃の周囲温度で104 時間後、−i5mV程度で
ある。ドレイン電流を変化させてもこのような傾向を示
す事が確認されている。
アナログメモリの場合、ディジタルメモリと異ってこの
ような閾値電圧の長期lこ亘る変化が記憶されたアナロ
グ情報の劣化Iこつながるため、このドリフトを出来る
だけ少くする事、即ち良好な保持特性が要求される。
本発明はこの要求を満すべく為されたものであり、以F
に詳述する。
第6図−こ示した回路で、一定の出力(Vout)が得
られるようlこメモリ素子にアナログ情報を書き込み、
室温から60℃程度の温雰囲気中ζこ放置して出力(V
out)  の変化を測定すると、下表の如くであった
以丁#白 この表から分かる事は前のメモリ状態より出力(Vou
t)  が大きくなる様な情報を記憶せしめると、初期
ドリフトは負方向を示し、逆にfnlのメモリ状態より
出力(Vout)  が小さくなる情報を記憶せしめる
と初期ドリフトは正方向を示し、そのドリフト量は第4
図1こ示す如く、前のメモリの状態と記憶せしめる情報
との差嘉こ関係している。即ちその差が少い程ドリフト
普は少く、大きくなればなる程、ドリフト量は増加する
傾向を示す。
そこで所望の情報を記憶せしめた直後に大気中に於て6
0℃、16時間程度の熱処理を施すと。
初期ドリフトはmJのメモリ状態の如何番こ拘らず、′
@5図の実線で示すように大巾−こ減少している。
第5図の破線が同じようlこ情@を書き込んだだけで熱
処理を施さなかった場合を示しており、その差は顕著で
ある。
このように熱処理を施す事に依って初期ドリフトが減少
する理由は詳らかではないが1発明者の考察に依れば、
熱処理を施さない場合、70−ティングゲートに注入さ
れた電子が余々に放出され。
その放出電子が初期ドリフト番ごつrjがるのであるが
1本発明のような熱処理を施す事lこ依ってフローティ
ングゲートの電子がゲート石橋を介して外部回路に急激
に放出されてしまうので、アナログ情報の保持特性が向
上するものと考えられる。
また上述した熱処理の結果、長期ドリフトも第6図に示
す如くかなりの改善が見られる。即ち第6図に於て実線
は100℃で550時間の熱処理を施した場合、破線は
80℃で200時間の熱処理、一点鎖線は熱処理なしの
場合である。
本発明は以上の説明から明らかな如く、フローティング
ゲート構造のアナログメモリ素子lこアナログ情報を書
き込んだ後番こ大気中に於ける熱処理を施しているので
、記憶情報の初期ドリフトは勿論の事、長期間に亘るド
リフトも大巾lこ減少し。
アナログ情報の記憶内容の劣化が僅かとなり、高品質の
アナログ情報を長期に亘って保持する事が出来る。
【図面の簡単な説明】
!1図はアナログメモリ素子の構成を示す断面図、@2
図はそのドリフト状態を示す曲線口、@3図1は通電回
路図、第4図は前のメモリの状態とドリフト量との関係
曲線図、第5図は本発明に依るメモリと従来メモリとの
初期ドリフト曲線図。 @6図は長期ドリフトの曲線図であって、(2)はソー
ス領域、(31はドレイン領域、(4jはフローティン
グゲート、+51はゲート領域、を夫々示している。 第1図 第2図 イ系時時M (4F、5 ) 第3図 一工 第4図 ネえ1時M (時周ン

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1)ソース領域と、ドレイン領域と、これ等の両領域間
    のゲート領域ζこ設けたフローティングゲートとから成
    るメモリ素子を備え、該メモリ素子のフローティングゲ
    ートIこ対して電子を注入放出せしめその注入放出せし
    めた電子の量に応じてアナログ情報を記憶せしめる不揮
    発性アナログメモリ番こ於て、上記フローティングゲー
    トに対して所望量の電子の注入放出をせしめた後に、大
    気中Iこ於て熱処理を施して記憶せしめたアナログ情報
    の安定化を図った不揮発性アナログメモリ。
JP56159736A 1981-10-06 1981-10-06 不揮発性アナログメモリ Pending JPS5860493A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP56159736A JPS5860493A (ja) 1981-10-06 1981-10-06 不揮発性アナログメモリ

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP56159736A JPS5860493A (ja) 1981-10-06 1981-10-06 不揮発性アナログメモリ

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS5860493A true JPS5860493A (ja) 1983-04-09

Family

ID=15700141

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP56159736A Pending JPS5860493A (ja) 1981-10-06 1981-10-06 不揮発性アナログメモリ

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS5860493A (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0268798A (ja) * 1988-09-02 1990-03-08 Mitsubishi Electric Corp 画像メモリ素子
US5043940A (en) * 1988-06-08 1991-08-27 Eliyahou Harari Flash EEPROM memory systems having multistate storage cells
US5268870A (en) * 1988-06-08 1993-12-07 Eliyahou Harari Flash EEPROM system and intelligent programming and erasing methods therefor
US5293560A (en) * 1988-06-08 1994-03-08 Eliyahou Harari Multi-state flash EEPROM system using incremental programing and erasing methods
US5963480A (en) * 1988-06-08 1999-10-05 Harari; Eliyahou Highly compact EPROM and flash EEPROM devices
US8040727B1 (en) 1989-04-13 2011-10-18 Sandisk Corporation Flash EEprom system with overhead data stored in user data sectors

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5568439A (en) * 1988-06-08 1996-10-22 Harari; Eliyahou Flash EEPROM system which maintains individual memory block cycle counts
US5642312A (en) * 1988-06-08 1997-06-24 Harari; Eliyahou Flash EEPROM system cell array with more than two storage states per memory cell
US5268870A (en) * 1988-06-08 1993-12-07 Eliyahou Harari Flash EEPROM system and intelligent programming and erasing methods therefor
US5293560A (en) * 1988-06-08 1994-03-08 Eliyahou Harari Multi-state flash EEPROM system using incremental programing and erasing methods
US5434825A (en) * 1988-06-08 1995-07-18 Harari; Eliyahou Flash EEPROM system cell array with more than two storage states per memory cell
US5544118A (en) * 1988-06-08 1996-08-06 Harari; Eliyahou Flash EEPROM system cell array with defect management including an error correction scheme
US5043940A (en) * 1988-06-08 1991-08-27 Eliyahou Harari Flash EEPROM memory systems having multistate storage cells
US5583812A (en) * 1988-06-08 1996-12-10 Harari; Eliyahou Flash EEPROM system cell array with more than two storage states per memory cell
US5963480A (en) * 1988-06-08 1999-10-05 Harari; Eliyahou Highly compact EPROM and flash EEPROM devices
US5712819A (en) * 1988-06-08 1998-01-27 Harari; Eliyahou Flash EEPROM system with storage of sector characteristic information within the sector
US5835415A (en) * 1988-06-08 1998-11-10 Harari; Eliyahou Flash EEPROM memory systems and methods of using them
US5862081A (en) * 1988-06-08 1999-01-19 Harari; Eliyahou Multi-state flash EEPROM system with defect management including an error correction scheme
US5909390A (en) * 1988-06-08 1999-06-01 Harari; Eliyahou Techniques of programming and erasing an array of multi-state flash EEPROM cells including comparing the states of the cells to desired values
JPH0268798A (ja) * 1988-09-02 1990-03-08 Mitsubishi Electric Corp 画像メモリ素子
US8040727B1 (en) 1989-04-13 2011-10-18 Sandisk Corporation Flash EEprom system with overhead data stored in user data sectors

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4115914A (en) Electrically erasable non-volatile semiconductor memory
JPS6313353B2 (ja)
JPS62502644A (ja) メモリー・セル
JPS5696854A (en) Semiconductor memory device
JPS5860493A (ja) 不揮発性アナログメモリ
JP2000077546A (ja) 不揮発性メモリ素子及びその製造方法
JPH0567789A (ja) 不揮発性記憶装置及びその製造方法
JPS6336573A (ja) 処理選択可能温度係数を持った電流源
JPS5791561A (en) Semiconductor non-volatile memory device and manufacture therefor
JPH02159071A (ja) 不揮発性半導体記憶素子
JPS6439058A (en) Manufacture of semiconductor device
JPS6178169A (ja) 半導体記憶装置
JPS55157253A (en) Mos semiconductor integrated circuit
JPS6037778A (ja) Mos不輝発性メモリセル
KR980006399A (ko) 불휘발성 반도체 메모리 장치의 소거방법
JPH02125470A (ja) 半導体不揮発性メモリ
JPS5969973A (ja) 半導体装置
JPS57102073A (en) Semiconductor memory and manufacture thereof
JPS57180182A (en) Semiconductor involatile memory device
JP2512589Y2 (ja) 半導体不揮発性記憶装置
JPS605569A (ja) 不揮発性半導体メモリ
JPS593976A (ja) 半導体不揮発性メモリの製造方法
KR950011652B1 (ko) 하층 소거 게이트를 사용한 플래쉬 eprom셀 구조 및 그 제조 방법
JPH05259272A (ja) 半導体装置
JPH0590602A (ja) 半導体記憶素子およびその製法