JPS585917B2 - アゼチジン↓−2↓−スルフエネ−トのシリルエステルの製法 - Google Patents

アゼチジン↓−2↓−スルフエネ−トのシリルエステルの製法

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JPS585917B2
JPS585917B2 JP53092451A JP9245178A JPS585917B2 JP S585917 B2 JPS585917 B2 JP S585917B2 JP 53092451 A JP53092451 A JP 53092451A JP 9245178 A JP9245178 A JP 9245178A JP S585917 B2 JPS585917 B2 JP S585917B2
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    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic System
    • C07F7/02Silicon compounds
    • C07F7/08Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/0834Compounds having one or more O-Si linkage
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
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    • C07D205/08Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with one oxygen atom directly attached in position 2, e.g. beta-lactams
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    • C07D205/095Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with one oxygen atom directly attached in position 2, e.g. beta-lactams with a sulfur atom directly attached in position 4 and with a nitrogen atom directly attached in position 3
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    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic System
    • C07F7/02Silicon compounds
    • C07F7/08Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/10Compounds having one or more C—Si linkages containing nitrogen having a Si-N linkage

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はデスアセトキシセファロスポリンの新規な中間
体、即ち下記一般式のアゼチジン−2−スルフエネート
のシリルエステルの製法を提供るものである: 〔式中各R1は個々にC1〜C3アルキルであり;R2
はC1〜C3アルキル、ニトロベンジル又は一般式: (式中各R1は前記で定義した通りである)の基であり
;R3は水素でありかつR4は あり;あるいはR3とR4とがそれらが結合している窒
素原子と一緒になってフタルイミドである〕R2、R3
及びR4についての上記の定義はペニシリン及びセファ
ロスポリン技術分野で現在十分に認識されている基だけ
を有している。
本発明の環展開法において上記周知の任意の置換分を含
有しているペニシリンスルホキシドを容易に用いること
ができる。
ペニシリン出発物質から7−アシルアミドデスアセトキ
シセファロスポリンを半合成的に製造することは、モー
リンとジャクソン(Morin andJackson
)の発明(米国特許第3275626号(該明細書には
ペニシリンスルホキシドエステルをデスアセトキシセフ
ァ口スポラン酸エステルに変換させる方法が記載されか
つ特許請求されている。
)が出現して以来、非常に重要であった。その後、この
モーリン−ジャクソンの方法は改良された。
ある種の第三カルボキサミド(tertiarycar
boxamide)溶液(英国特許第1204972号
明細書に記載のもの)又はある種の第三スルホンアミド
溶媒(英国特許第1204394号明細書に記載のもの
)を用いると、ペニシリンスルホキシドエステルの熱転
位はより特定的に相当するデスアセトキシセファロスポ
リンエステルの製造に向いかつより低温の使用が可能に
なることをロビ塔D.G.クーパー(Robin D.
G.Cooper)が見出した。
ハットフィールド(Hatfield)は、ペニシリン
スルホキシドエステルを酸性条件下第三カルボキサミド
溶媒の存在下で加熱することによっ に置換させることはその反応をスルホン酸、及び反応混
合物中に存在している水を除去するか又は不活性化する
手段の両方の存在下で行うことによって更に改良できる
ことを見出して上記クーパーの方法を改良した(米国特
許第3591585号明細書に記載のもの)。
ペニシリンスルホキシドエステルをデスアセトキシセフ
ァロスポラン酸エステルに変換させることについて米国
特許第3275626号明細書で仮定されている機構は
S−C2結合の切断を伴うスルフエン酸の形成によるも
のである。
この機構は今では決定的に確立されており、又反応条件
下でのそのスルホキシド出発物質とスルフエン酸中間体
との間の熱平衡が確立されていることが更に報告されて
いる〔ジャーナル.オブ.ザ.アメリカン.ケミカル.
ソサエティ(J.A.C.S.)、92、(1970)
、5010、5011頁に記載のR.D.G.クーパー
の報文〕。
ペニシリンスルホキシド又はそのエステル誘導体をそれ
に相当するデスアセトキシセファロスポラン酸又はエス
テル誘導体に所望のように変換させるのに有益な一方法
ははかないかつ不安定なスルフエン酸中間体を安定なか
つ単離できる中間体形態として捕集することであった。
次いでこの中間体を単離し、その後相当するデスアセト
キシセファロスポリンに変換させるか、あるいは単離し
ないで実質的に直接変換できる条件下で相当するデスア
セトキシセファロスポリンを形成できるものであった。
上記した新規なシリルエステルは単離できかつ処理しや
すい特性となるのに十分な程度の安定性を示す。
上記した一般式において、ケイ素原子にはR1として特
徴づけられた3個の基が結合している。
各R1は個々にC1〜C3アルキルとして定義される。
本発明の新規なエステル中間体中に存在しうるシリル基
の代表例はトリメチルシリル、メチルジエチルシリル、
プロピルジメチルシリル、及び類似物である。
一般的に、そのエステルをアゼチジン−2−スルフエネ
ートのシリルエステルとして命名することができる。
上記した新規なシリルエステルはペニシリンスルホキシ
ドをデスアセトキシセファロスポリンに変換する場合の
中間体である。
J.A.C.S.、91、(1969)、1401〜1
407頁に記載のモーリン等の報文に詳細に説明されて
いるように、ペニシリンが環展開してセファロスポリン
になることはC2−イオウ結合の酸化分裂を伴つてC2
炭素二重結合を持つ不安定なスルフエン酸中間体を作る
この中間体はその後環閉鎖して3−セフエムセファロス
ポリンとなる。
その反応はスルフエン酸中間体に関係があるのでその反
応の平衡特性のために、スルフエン酸が環閉鎖して3一
セフエムセファロスポリンになるか又はペニシリン構造
に戻る可能性がある。
それ故に、スルフエン酸中間体を安定な誘導体形態(こ
れを次いで更に反応させて所望のセファロスポリン生成
物にすることができる)として捕集することが極めて望
ましい。
本発明の方法はペニシリンスルホキシドと共にケイ素含
有化合物を用いる従来法とは区別できる。
テトラヒドロン.レターズ(TertahedronL
etters)、層、(1970)、1779〜178
2頁に記載のグトウスキー(Gutowski)の報文
には、窒温で数日間シリル化剤にさらした時のペニンリ
ンスルホキシドエステルのエピメル化が記載されている
ベルギー特許第763104号明細書にはペニシリンス
ルホキシドを無水媒質中でかつケイ素及びハロゲン含有
化合物並びにそのスルホキシド1モル当り少なくとも5
モルの量で存在する少なくとも1種の窒素質塩基の存在
下で160℃未満の温度に加熱することによりペニンリ
ンスルホキシドを反応させる方法が記載されている。
本発明の方法においては、ペニシリンスルホキシドの熱
分裂によって形成されたスルフエン酸中間体のシリル化
を達成する任意のシリル化剤を用いることができる。
そのようなシリル化剤のいかなるものも、一般式−si
(R1)3(式中R1は前記で定義した通りである)を
持つ少なくとも一つの部分を含有しており、更にそのよ
うな部分は反応条件下でシリル化剤分子から容易に分裂
できそれでアゼチジン−2−スルフエネートシリルエス
テルを形成するのに利用できるようにシリル化剤分子中
に位置している。
同様にシリル化剤の混合物も用いうる。
好ましくは、シリル化剤の任意の混合物は、各シリル化
剤が同じシリル保護基となるようなものである。
好ましいシリル化剤としては下記一般式を持つものがあ
る: (a) 〔式中各R1 は個々にC1〜C4アルキルであり、R
′″は水素、C1〜C4アルキル、又はフエニルであり
、Xは (式中Jは水素又は−Si(R1)3である)であるか
、又は−CW3(式中各Wは個々に水素、トリフルオル
メチル、又はC1〜C3アルキルである)である〕; (b) (式中R1及びWは前記で定義した通りである)及び (e) Z−Si(R1)3 〔式中R1は前記で定義した通りであり、2はハロゲン
、C2〜C3アルケニルオキシ、C1〜C3アルキル−
SO3、−〇−Si(R1)3、S−Si(R1)3、
又は (式中R5は水素又はC1〜C3アルキルでありかつR
6はC1〜C4アルキル又は−Si(R1)3であるか
、あるいはR5とR6とがそれらが結合している窒素原
子と一緒になって、5又は6個の原子を持ち、前記した
窒素原子以外にその3個までが個々に窒素、イオウ又は
酸素である複素環を形成しているものである)である〕
C1〜C4アルキル定義からはメチルであることがより
好ましい。
最も好ましくは、R1はメチルである。
本発明の方法で用いうるシリル化剤の代表例としては次
のものがある:N・O−ビス(トリメチルシリル)アセ
トアミド、N・O−ビス(トリエチルシリル)アセトア
ミド、N・O−ビス(トリメチルシリル)トリフルオル
アセトアミド、N・O−ビス(トリプロピルシリル)ト
リフルオルアセトアミド、N−トリメチルシリルアセト
アミド、N−トリブチルシリルアセトアミド、N−メチ
ル−N−トリメチルシリルアセトアミド、N−エチル−
N−トリエチルシリルアセトアミド、N−トリメチルシ
リル−N・N′−ジフエニル尿素、N−ロペンオキシト
リメチルシラン、エテンオキシトリエチルシラン、メタ
ンスルホン酸トリメチルシリル、エタンスルホン酸トリ
プロピルシリル、トリメチルクロルシラン、トリエチル
クロルシラン、ヘキサメチルジシラザン、ヘキサエチル
ジシラザン、N−トリメチルシリル−t−プチルアミン
、N−トリプロピルシリル−t−ブチルアミン、N−ト
リメチルシリルジエチルアミン、N−トリエチルシリル
ジメチルアミン、N−トリメチルシリルイミダゾール、
N−トリエチルシリルイミダゾール、ヘキサメチルジシ
ロキサン、ヘキサプロピルジシロキサン、ヘキサメチル
ジシルチアン、ヘキサエチルジシルチアン、及び類似物
本発明の方法に従うペニシリンスルホキシドの交換はそ
のスルホキシドを選ばれたシリル化剤と共に約75℃〜
約150℃の温度に加熱することにより達成される。
そのスルホキシドの加熱を適当な不活性の実質的に無水
の溶媒の存在下で行なう。
ペニシリンスルホキシド及びシリル化剤に対して不活性
でありかつ必要な反応温度を達成するのに十分な高い沸
点を持つ任意の溶媒を用いうる。
適当な溶媒としてはベンゼン、トルエン、アセトニトリ
ル、ジオキサン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセ
トアミド、及び類似物がある。
適当な溶媒の混合物も用いうる。
ペニシリンスルホキシドを含有している反応混合物をシ
リル化剤の存在下上記範囲内の温度で変換を行なうのに
必要な時間加熱する。
この時間は用いる反応物に依存して非常に短いか又は幾
分長い。
一般的にいって、その混合物を約0.5〜約24時間加
熱する。
そのスルホキシドに熱を加えるとイオウ−C2結合を分
裂させると思われる。
イオウ−C2結合が分裂するとスルフエン酸型の中間体
となり、これはシリル化剤による作用を受ける。
シリル化剤による作用は、本発明の新規な中間体類の構
造を持つ安定なシリルエステルを作ることによりその中
間体を捕集する。
各スルフエン酸部分に対して1つのシリル部分が必要で
あるので、一般にペニンリンスルホキシドに対して少な
くとも等モル割合のシリル化剤が必要である。
ある種のシリル化剤は1分子当り2個又はそれ以上のシ
リル部分を発生するような化学構造である。
それに応じて、より少ないモル量のそのようなシリル化
剤を用いることができる。
一般に、ペニシリンスルホキシドの1当量当り約1.1
〜約4当量過剰のシリル化剤を用いる。
それに応じて、又以下に詳細に説明するように、ある種
のペニンリンスルホキシド出発物質はシリル化が起りう
る幾つかの点を持つ。
そのような場合、そのような各シリル化点に対して1つ
の追加当量のシリル部分が必要である。
本発明のシリルエステル中間体を作る場合に、上記した
任意のシリル化剤を用いうる。
しかしながら、強アルカリ性条件は避けなげればならな
い。
さもないとβ−ラクタム環の分裂が起るからである。
それ故に、シリル化剤としてシラザンを用いる場合には
特別の予防手段を取らねばならない。
シラザンを用いるとシリル化中に付随的にアンモニアが
生成するので、このように生成したアンモニアを直ちに
確実に中和するように注意しなければならない。
このことは反応混合物中に少量の酸(これはアンモニア
が発生した時にアンモニアを不活性化する)を含ませる
ことによって達成される。
シリル化剤としてシラザンとハロシランとの組合せを用
いることによって同様な結果が達成される。
ハロシランはシリルエステル形成の副生物としてハロゲ
ン化水素を発生させ、次いでそのハロゲン化水素はシラ
ザンから発生したアンモニアを取除く。
逆に、シリル化剤としてハロシランを用いる場合に注意
しなければならない。
そのようなシリル化中にハロゲン化水素が形成されるの
で、それによって発生した酸性条件は環閉鎖が直ちに起
る原因となりうる。
この可能性を避けるためには、形成されるハロゲン化水
素をアンモニア形成によって中和するのに十分な量のシ
ラザンを含有しているシリル化剤の混合物を用いること
が好ましい。
そのシリルエステル中間体をシリル化反応混合物から単
離することもできるし、あるいはシリル化反応混合物を
酸処理してシリルエステルを環閉鎖することもできる。
環閉鎖部分では種々の酸を用いうる。
適当な酸の例としては硫酸、リン酸、及びその他の鉱酸
:メタンスルホン酸、P−トルエンスルホン酸、ベンゼ
ンスルホン酸、ナフタリンスルホン酸、及びその他のス
ルホン酸;三弗化ホウ素、塩化第二鉄塩化アルミニウム
、及びその他のルイス酸;並びにその他の普通に認識さ
れている酸性試薬がある極めて好ましい酸はスルホン酸
である。
好ましいスルホン酸の例はC1〜C12炭化水素スルホ
ン酸、例えばメタンスルホン酸、エタンスルホン酸ヘキ
サンスルホン酸、ノナンスルホン酸、ドデカンスルホン
酸、及び類似物のようなC1〜C12アルカンスルホン
酸;並びにシクロプタンスルホン酸、シクロペンタンス
ルホン酸、シクロヘキサンスルホン酸、及びシクロヘプ
タンスルホン酸のようなC4〜C7シクロアルカンスル
ホン酸;ベンゼンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホ
ン酸、α−及びβ−ナフタリンスルホン酸、ビフエニル
スルホン酸、P−トルエンスルホン酸、キシレンスルホ
ン酸、及び類似物のよりなC6〜C12アリールー及び
アルカリールスルホン酸;メタンジスルホン酸、ベンゼ
ンスルホン酸、及び類似物のようなジスルホン酸;ベン
ゼントリスルホン酸;スルホン酸混合物;並びに環閉鎖
反応を妨害しない塩素、臭素、ニトロ、シアン、及び類
似物のような基で置換された上記のスルホン酸、例えば
P−クロルベンゼンスルホン酸、3・5−ジブロムベン
ゼンスルホン酸、4−ニトロ−α−ナフタリンスルホン
酸、及び4−シアンベンゼンスルホン酸である,経済的
な理由で、好ましいスルホン酸はメタンスルホン酸、エ
タンスルホン酸のようなC1〜C6アルカンスルホン酸
、及びベンゼンスルホン酸、Pートルエンスルホン酸の
ような簡単なC6〜C8アリール及びアルカリール炭化
水素スルホン酸、及び類似物である。
酸性物質をシリルエステル中間体に関して広範囲の割合
で用いうる。
一般に、シリルエステル中間体対酸性物質のモル比は1
:1〜100:1である。
好ましくはシリルエステル中間体対酸のモル比は約5:
1〜約15:1である。
全溶媒系中のシリルエステル中間体の濃度は広く変りう
るが、好ましくはシリルエステル中間体は反応混合物の
約1〜約20重量%を占める。
好ましくは、本発明の方法で用いられるペニシリンスル
ホキシドは下記の一般式を持つものである: 〔式中R3は水素でありかつR4 は あり、あるいはR3とR4とがそれらが結合している窒
素原子と一緒になってフタルイミドであり、又R2はC
1〜C3アルキル、ニトロベンジル又は一般式: (式中各R1は個々にC1〜C4アルキル又はフエニル
である)の基である〕。
上記したように、本発明では出発物質として6−アミノ
ペニシラン酸(6−APA)のスルホキシド: を用いる。
上記のものを用いる時には、3点のシリル化が存在する
本発明の方法に従って、熱分裂中に生じる安定なシリル
中間体は下記の一般式を持つ: 従って、安定に保護されたアミン及びカルボキシ部分の
両方を持つシリルエステル中間体が6−APAから出来
ることは本発明の方法では固有のことである。
環閉鎖されてデスアセトキシセファロスポリンができる
酸性条件下では、両方の追加のシリル保護基が分裂して
極めて望ましい7−アミノデスアセトキシセファロスポ
ラン酸(7−ADCA)となる。
従って本発明の方法は6一APAスルホキシドを直接7
−ADCAに変換させることができる。
明らかなように、この特定の変換条件下では、シリル化
剤対6−APAスルホキシドの割合が6−APAスルホ
キシド1分子当り最少で3個のシリル部分を与えるよう
なものであることが必須である。
前記に準じて、出発物質として6位に遊離アミン官能基
又は3位に遊離のカルボキシ官能基を持つペニシリンス
ルホキシドを用いることも可能である。
そのような場合には、シリル化剤対ペニシリンスルホキ
シドの割合はスルホキシド1分子当り最少で2個のシリ
ル部分を与えるようなものである。
スルホキシド出発物質のR3が水素であるときには、R
4 は水素であるか、あるいはトリメチルシリル、トリ
エチルシリル、及び類似物のようなシリル保護基であり
うる。
R3及びR4が各々水素である時には、作られた生成シ
リルエステル中間体は水素の1つがシリル保護基で置換
されている。
スルホキシド出発物質のR4がシリル保護基である時に
は、そのようなシリル保護基はシリルエステル中間体に
留まる。
環閉鎖してデスアセトキシセファロスポリン生成物とな
る際、7−アミン官能基に存在していたシリル基は分裂
して、R3及びR4が両方とも水素であるセファロスポ
リンとなる。
本発明を以下の詳細な各実施例によって更に説明する。
実施例 I 50mlの3日フラスコに6−フタルイミド−2・2−
ジメチルペナム−1−オキサイド−3−カルボン酸メチ
ルを752mg(2ミリモル)入れた。
次いでそのフラスコにベンゼン10ml、トリメチルク
ロルシラン0.26ml(2ミリモル)、及びヘキサメ
チルジシラザン0.21ml(1ミリモル)を加えた。
その生成した混合物を約16時間78〜80℃で攪拌し
かつ還流させた。
次いでその反応混合物を真空下で蒸発処理して、ほゞ定
量収量の3−フタルイミド−4−オキソ−1−(1′−
メトキシカルボニル−2′−メチル−2′一プロペニル
)アゼチジン−2−スルフエン酸トリメチルシリルの残
渣を得た。
分析: 計算値(C20H24N2O6SSiとして)C、53
.57;H、5.39;N16.25実測値 C、53.76;H、5.55;N、6.42〔δ〕■
−164.4°(ベンゼン) UVMax220mμ(ε=47200)291mμ(
ε=10500) IR(CHCl3)2990、2930、1770、1
760、1735、1717、1390、1245、8
74、845及び705cm−1NMR(CDCl3)
(δ)0.05(s、9H)、2.04(s,3H)、
3.84(s、3H)、5.07(2つの重なりs,2
H)、 5、20(幅広いs、1H)、5.84(幅広いs,2
H)、7.86(m、4H)。
MSm/e 448、433、359、327299、
293、262、239、204、187、172、1
60、113、104、89 73 実施例 ■ 50mlの3日フラスコに、ベンゼン10ml中の6−
フタルイミド−2・2−ジメチルペナム−1−オキサイ
ド−3−カルボン酸メチル752mg(2ミリモル)を
加えた。
得られた混合物にトリメチルクロルシラン0.26ml
(2ミリモル)及びヘキサメチルジシラザン0.21m
l(1ミリモル)を加えた。
得られた混合物を一夜還流させ、その後その混合物を室
温に冷却し、真空下で蒸発処理して澄んだ非常に粘性な
液体を得た。
IR分析によりβ−ラクタム環が存在していることがわ
かった。
MS分析では下記のm/e値を示した:448、433
、389、327、359、299293、262、2
39、204、187、172160、152、130
、120、113、10489及び73(但し、実施例
■とは検査した際の質量分析器の電圧が異なっていた)
NMR分析は予想したトリメチルシリルエステル中間体
と一致した。
上記のトリメチルシリルエステル中間体試料を、ベンゼ
ンとジメチルアセトアミドとの1:1(容量)混合物中
で1当量のメタンスルホン酸で処理した。
その混合物を実温で一夜放置した。次いでその反応混合
物を真空下約55℃で蒸発乾固させた。
その残渣を少量のベンゼンに溶解させ、1.5×21c
mのシリカゲル塔に入れた。
その試料をベンゼン、5%酢酸エチルのベンゼン溶液、
10%酢酸エチルのベンゼン溶液、及び15%酢酸エチ
ルのベンゼン溶液各100mlを用いてその塔から溶離
させた。
各20mlの区別を集めた。7−フタルイミド−3−メ
チル−3−セフエム−4−カルボン酸メチルを区分7、
8、9及び10から約50%の収率で得た。
分析: NMR(CDCl3)(δ)2.34(s、3H)、3
.16および3.62(AB、J=16、2H)3.8
5(s、3H)、5.12(d、J=4.5、1H)、
5.42(d、J=4.5、1H)、及び7.82(m
、4H)。
IR(CHCl3)3020、2970、1800、1
785、1725、1390、1220、1110、及
び907cm−1。
実施例 ■ 5omlの3口フラスコに6−フタルイミド−2・2−
ジメチルペナム−1−オキサイド−3−カルボン酸p−
ニトロベンジル994mg(2ミリモル)、ベンゼン1
0ml、トリメチルクロルシラン0.26ml(2ミリ
モル)、及びヘキサメチルジシラザン0.21ml(1
ミリモル)を入れた。
その混合物を約16時間攪拌しながら加熱還流した(7
8〜80℃)。
少量の固体が反応混合物中に形成されたので、それを戸
別した。
その濾液を真空下で蒸発乾固させて黄色のガムを回収し
た。
そのガムはIR及びNMR分析によって3−フタルイミ
ド−4−オキソ−1−(1′−p−ニトロペンジルオキ
シカルボニル−2′−メチル−2′−プロペニル)アゼ
チジン−2−スルフエン酸トリメチルシリルであること
が分った。
NMR(CDCl3)(δ): 0.05(s、9H)、2.09(s、3H)、5.1
4(s、1H)、5.33(2つの重なりs、2H)、
5.37(s、2H)、 5.97(s、2H)、7.86(s、4H)、7.7
1および8.11(A2B2、J=9、4H)。
IR(CHCl3) 3050、2960、1840、1785、1725、
1640、1500、1100及び846cm−1。
実施例 ■ ベンゼン50mlに6−フタルイミド−2・2−ジメチ
ルペナム−1−オキサイド−3−カルボン酸1.75g
(5ミリモル)、トリメチルクロルシラン1.3ml(
10ミリモル)、及びヘキサメチルジシラザン1.05
ml(5ミリモル)を加えた。
その混合物を約4.5時間還流した(78〜80℃)。
次いでその反応混合物を室温に冷却し、真空下で蒸発処
理して、3−フタルイミド−4−オキソ−1−(1′−
}トリメチルシリルオキシカルボニル−2′−メチル−
2′−プロペニル)アゼチジン−2−スルフエン酸トリ
メチルシリルをほぼ定量収率で得た。
分析: 計算値(C22H30N2O6SSi2として)C、5
2.15;H、5.97;N、5.53;S、6.32
; 実測値 C、51.98;H、5.85;N、5.58;S、6
.18; 〔δ〕■−45.5°(ベンゼン) IR(CHCl3) 3010、2960、1795、1775、1740、
1725、1382、1063、844、及び707c
m−1。
NMR(CDCl3)(δ) 0.05(s、9H)、0.37(s、9H)、2.0
5(s,3H)、5.01(s、1H)、5.12(s
、IH)、5.20(s、1H)、5.84(幅広いs
、2H)、及び7.84(m、4H)。
MSm/e 506、491、416、401、388、300、2
99、232、230、204、187、160、14
7、132、114、104、73 実施例 ■ 40℃に維持した乾燥トルエン15ml中の6−フエノ
キシアセトアミド−2・2−ジメチルペナム−1−オキ
サイド−3−カルボン酸メチル380mg(1ミリモル
)の溶液にN−トリメチルシリルアセトアミド330m
g(約2ミリモル)及びトリメチルクロルシラン0.0
23ml(約0.2ミリモル)を加えた。
生成した混合物を約111℃で約5時間還流した。
その反応混合物を次いで室温に冷却し、真空下で蒸発処
理してかつ色のガム状固体残渣を得た。
NMR分析により、その残渣は3−フエノキシアセトア
ミド−4−オキソ−1−(1′−メトキシカルボニル−
2′−メチル−2′−プロペニル)アゼチジン−2−ス
ルフエン酸トリメチルシリルを含有していることが分っ
た。
NMR(CDCl3)(δ) 0.05(s、9H)、2.04(s、3H)、3.7
5(s、3H)、4.54(s、2H)、5.07(s
、2H)、5.47(s、1H)、5.67(dd、J
=4.5及び8.0、1H)、6.17(d、J=4.
5、1H)、6.8−7.4(m、5H)、7.85(
d、J=8.0、1H)。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 ペニシリンスルホキシドを酸性媒質の不存在下でシ
    リル化剤と反応させることを特徴とする下記一般式のア
    ゼチジン−2−スルフエネートのシリルエステルの製法
    : 〔式中R1は個々にC1〜03アルキルであり;RはC
    1〜C3アルキル、ニトロベンジル、又は2 一般式: (式中各R1 は前記で定義した通りである)の基であ
    り;R3は水素でありかつR4 は あり;あるいはR3とR4とがそれらが結合している窒
    素原子と一緒になってフタルイミドである〕。
JP53092451A 1972-05-10 1978-07-28 アゼチジン↓−2↓−スルフエネ−トのシリルエステルの製法 Expired JPS585917B2 (ja)

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