JPS5858233A - 有機酸によるストリツプの無酸化焼入方法 - Google Patents
有機酸によるストリツプの無酸化焼入方法Info
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- JPS5858233A JPS5858233A JP15382381A JP15382381A JPS5858233A JP S5858233 A JPS5858233 A JP S5858233A JP 15382381 A JP15382381 A JP 15382381A JP 15382381 A JP15382381 A JP 15382381A JP S5858233 A JPS5858233 A JP S5858233A
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- strip
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- organic acid
- quenching
- solution
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D1/00—General methods or devices for heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering
- C21D1/56—General methods or devices for heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering characterised by the quenching agents
- C21D1/60—Aqueous agents
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
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- Materials Engineering (AREA)
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- Organic Chemistry (AREA)
- Heat Treatment Of Strip Materials And Filament Materials (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は有機llKよるス)IJツブの無酸化焼入法に
関する。
関する。
ストリップの連続焼鈍では加熱・均熱後の急冷を水焼入
によって行う場合があるが、高温Oス) 17ツプを水
S液中に浸漬し九場合ス) IJツブの表面に酸化膜が
生成し、このため後工程で酸洗を行い、かかる酸化膜を
除去する必要が生ずる−このようなことから従来酸化膜
を生じさせない水焼入法としてス) IJツブを有機酸
を含有するII液液中鉤入れあという方法が提案されて
iる・しかしながら、このような有機酸を用いた焼入に
よって%溶液の温度条件や冷却後のス)9ツブ温度条件
によっては酸化膜の付着を十分阻止できないことがft
1vAした。
によって行う場合があるが、高温Oス) 17ツプを水
S液中に浸漬し九場合ス) IJツブの表面に酸化膜が
生成し、このため後工程で酸洗を行い、かかる酸化膜を
除去する必要が生ずる−このようなことから従来酸化膜
を生じさせない水焼入法としてス) IJツブを有機酸
を含有するII液液中鉤入れあという方法が提案されて
iる・しかしながら、このような有機酸を用いた焼入に
よって%溶液の温度条件や冷却後のス)9ツブ温度条件
によっては酸化膜の付着を十分阻止できないことがft
1vAした。
本発明はこのような事情Kliみ創案され喪もので、有
機酸を含む**中への焼入れkおいて、酸化膜が残留し
ない好適な焼入れ方法を提供せんとするものである。
機酸を含む**中への焼入れkおいて、酸化膜が残留し
ない好適な焼入れ方法を提供せんとするものである。
本発明者等は、有機酸を含むS液への無酸化焼入のメカ
ニズムが、焼入時に一旦発生した酸化膜が有機酸によ〕
除去されるという点にあることを究明し、これに基づき
更に実験と研究を重ねた結果、上記酸化膜の有機酸によ
る除去が、溶液の温度、冷却後のストリップ温度及び溶
液中の有機酸濃度の相対的な関係に大きく左右されるこ
と、更にはこれらの条件を適蟲に規定するととによシ、
酸化膜が残留しない、即ち無酸化状態のストリップが得
られることを知見したものである。即ち、本発明は焼入
条件を以下のように規定する。
ニズムが、焼入時に一旦発生した酸化膜が有機酸によ〕
除去されるという点にあることを究明し、これに基づき
更に実験と研究を重ねた結果、上記酸化膜の有機酸によ
る除去が、溶液の温度、冷却後のストリップ温度及び溶
液中の有機酸濃度の相対的な関係に大きく左右されるこ
と、更にはこれらの条件を適蟲に規定するととによシ、
酸化膜が残留しない、即ち無酸化状態のストリップが得
られることを知見したものである。即ち、本発明は焼入
条件を以下のように規定する。
焼入れ前のストリップの温度は通常soo〜soo’o
o範囲であ〕、従って本発明は加熱・均熱されたかかる
温度間11にあるス)9ツグを有機酸を含有すゐ溶液中
に水焼入れする際、焼入れ冷却後0(II[温度’r
c℃)と溶液4DIL度t (’0)及び有機酸濃度C
(憾)とが、Tく 農争(l+O0二” Log (0
’、5 ) )但し、10℃≦t≦100’0 10℃≦T≦goo°O 0,1憾≦C<SO+% の関係を満たすようにしてス) IJツブを焼入より、
無酸化状態での焼入れが可能となる。
o範囲であ〕、従って本発明は加熱・均熱されたかかる
温度間11にあるス)9ツグを有機酸を含有すゐ溶液中
に水焼入れする際、焼入れ冷却後0(II[温度’r
c℃)と溶液4DIL度t (’0)及び有機酸濃度C
(憾)とが、Tく 農争(l+O0二” Log (0
’、5 ) )但し、10℃≦t≦100’0 10℃≦T≦goo°O 0,1憾≦C<SO+% の関係を満たすようにしてス) IJツブを焼入より、
無酸化状態での焼入れが可能となる。
本発明は加熱・均熱後のSOO〜90 G ’0の範囲
tCあるストリップを有機酸を含む溶液中に焼入れるも
のであシ、上記温度範囲は焼入れ前の通常のストリップ
温度である・そしC上記焼入れに際し、本発明では焼入
れ冷却mの鋼板温wtT (“o)、溶液ノ温* *
(o) 、 有機酸#1度C(参)が以下の範囲で規定
される。
tCあるストリップを有機酸を含む溶液中に焼入れるも
のであシ、上記温度範囲は焼入れ前の通常のストリップ
温度である・そしC上記焼入れに際し、本発明では焼入
れ冷却mの鋼板温wtT (“o)、溶液ノ温* *
(o) 、 有機酸#1度C(参)が以下の範囲で規定
される。
純ち、まずtは10〜1000で、この範囲が通電工業
的に使用し得る水温でめシ、10゛0禾満では冷却機を
必要とするところからコスト^となプ好ましくない、T
は10〜500°0であり、焼入れを行う場合、最低で
も500°0まで冷却しないと、換言すれば焼入れ開始
−廣より低くしないと焼入れの意味がない。
的に使用し得る水温でめシ、10゛0禾満では冷却機を
必要とするところからコスト^となプ好ましくない、T
は10〜500°0であり、焼入れを行う場合、最低で
も500°0まで冷却しないと、換言すれば焼入れ開始
−廣より低くしないと焼入れの意味がない。
またto’oは上記溶液温の下限と一致している。Cは
0.1〜sonであり、0.11未満でおると濃度が低
過ぎて無酸化焼入の効果がなく、また50チを超えると
コスト高となシ好ましくない、そして本発明はこのより
なt。
0.1〜sonであり、0.11未満でおると濃度が低
過ぎて無酸化焼入の効果がなく、また50チを超えると
コスト高となシ好ましくない、そして本発明はこのより
なt。
T、Cの範囲において、
Tく錨・(x+o、zxzoglニー6月を満たすよう
な条件で水焼入れを行うものであシ、この条件から外れ
るとストリップの酸化膜除去が十分に行われず、後工程
で酸洗等を必要とするストリップとなってしまう。しか
して上記の如き条件はt、T、Cを種々変えて行った現
場での実機による実験結果から得られ良ものであるが、
そのメカニズムt*察するに、溶液の水温tが高いとス
) IJランプ溶液間で蒸気膜が発生し、溶液中の有機
酸による酸化膜の除去機能が阻害されてしまう。
な条件で水焼入れを行うものであシ、この条件から外れ
るとストリップの酸化膜除去が十分に行われず、後工程
で酸洗等を必要とするストリップとなってしまう。しか
して上記の如き条件はt、T、Cを種々変えて行った現
場での実機による実験結果から得られ良ものであるが、
そのメカニズムt*察するに、溶液の水温tが高いとス
) IJランプ溶液間で蒸気膜が発生し、溶液中の有機
酸による酸化膜の除去機能が阻害されてしまう。
そこで冷却後のストリップ温度Tの上限を溶液の水温t
との関係で上記の如く規制すると、ストリップは溶液に
十分濡れるようKなル、有機酸による酸化膜の除去機能
が確保されることになる。換言すれば、溶液の水+11
tが低い場合、ス) リップが溶1[K十分濡れるため
冷却後のストリップ温度が相対的に高くて4緻化膜の除
去が十分性われるのである。また有機酸のetcによ)
酸化膜の除去能力が決まるものであり、このため有機酸
の鎖度Cが廐くなると、水温を及び冷却後のストリップ
温度Tが相対的に高くても酸化膜の除去機能が維持され
るものである。
との関係で上記の如く規制すると、ストリップは溶液に
十分濡れるようKなル、有機酸による酸化膜の除去機能
が確保されることになる。換言すれば、溶液の水+11
tが低い場合、ス) リップが溶1[K十分濡れるため
冷却後のストリップ温度が相対的に高くて4緻化膜の除
去が十分性われるのである。また有機酸のetcによ)
酸化膜の除去能力が決まるものであり、このため有機酸
の鎖度Cが廐くなると、水温を及び冷却後のストリップ
温度Tが相対的に高くても酸化膜の除去機能が維持され
るものである。
なお、本発明で使用される有機酸としてはマロン酸、ギ
酸、クエン酸、酢酸、乳酸、コ・・り酸、泊石m尋適宜
な有機酸を採用することがてきる。また、溶液中に各種
のスプレーを設置して冷却した場合と単に浸漬させただ
けの場合では、上記式に代表される本発明の条件に何ら
差を設ける必要がない仁とが確認された。
酸、クエン酸、酢酸、乳酸、コ・・り酸、泊石m尋適宜
な有機酸を採用することがてきる。また、溶液中に各種
のスプレーを設置して冷却した場合と単に浸漬させただ
けの場合では、上記式に代表される本発明の条件に何ら
差を設ける必要がない仁とが確認された。
M1図は本発明の実施に供されるストリップの焼入れ設
備を示すもので、<1)は均熱炉(2)と過時効炉(3
)の間に配設された焼入れタンク、(4目ま通板ロール
、(5)は循環タンク・(6)はストリップでおる。前
記循環タンク(6)には堰(ηが設けられ、これによシ
供給!i! (51)、水位調整室(52)とに仕切ら
れている。溶液は供給m (51)から管路(B&)を
介して焼入れタンク(1)に供給される。前記管路(−
)の途中には循環ポンプ(9)、イオン交換装置αQ、
冷却器0が介在し。
備を示すもので、<1)は均熱炉(2)と過時効炉(3
)の間に配設された焼入れタンク、(4目ま通板ロール
、(5)は循環タンク・(6)はストリップでおる。前
記循環タンク(6)には堰(ηが設けられ、これによシ
供給!i! (51)、水位調整室(52)とに仕切ら
れている。溶液は供給m (51)から管路(B&)を
介して焼入れタンク(1)に供給される。前記管路(−
)の途中には循環ポンプ(9)、イオン交換装置αQ、
冷却器0が介在し。
イオン交換装置Cl0Kより溶液中のF・イオン分を除
去し、また冷却器1によ)溶液の冷却を行うようになっ
ている。焼入タンク(1)内の溶液温度は温度指示調節
計(2)Kより測定され、この測定値に基づき冷却器(
ロ)の冷却水供給用管路(8b)K設けられた流量調整
弁軸の開閉度を調整するようになっている。前記堰(7
)は歯車a4α4を介したモータ(2)の駆動力によっ
て上下方向で開閉するようになっている。焼入タンク(
1)の出側にはストリップの温度測定計(2)が設けら
れ、この温度測定針軸の測定値に基づき前記モータ(至
)を制御するようになっている。前記焼入タンク(1)
と水位調整室(52)は管路(8c)で連通し、その水
位が同一になるように構成されている。そして前記堰(
7)を開放せ供給室(!$11 K移動せしめ、4って
焼入タンク(1)の水位を変動せしめ得るようになって
いる。
去し、また冷却器1によ)溶液の冷却を行うようになっ
ている。焼入タンク(1)内の溶液温度は温度指示調節
計(2)Kより測定され、この測定値に基づき冷却器(
ロ)の冷却水供給用管路(8b)K設けられた流量調整
弁軸の開閉度を調整するようになっている。前記堰(7
)は歯車a4α4を介したモータ(2)の駆動力によっ
て上下方向で開閉するようになっている。焼入タンク(
1)の出側にはストリップの温度測定計(2)が設けら
れ、この温度測定針軸の測定値に基づき前記モータ(至
)を制御するようになっている。前記焼入タンク(1)
と水位調整室(52)は管路(8c)で連通し、その水
位が同一になるように構成されている。そして前記堰(
7)を開放せ供給室(!$11 K移動せしめ、4って
焼入タンク(1)の水位を変動せしめ得るようになって
いる。
前記供給室(51) Kは水と有機酸タンク−から有機
酸がそれぞれ供給されている・供給ml (51)内の
*mの有機酸濃度はIl&l指度調節計−により1ll
l定され、その測定値に基づき水供給用の管路(8d)
及び有機酸供給用の管路(−)にそれぞれ設けられた流
量調整弁aI−の開閉度を調整するようになっている− なお、その他国面において、(ロ)は廃液ピット、(8
f)はg*排出用管隆、ti4はポンプ、■は焼入詫始
温直を測定する九めの入側ストリップ温wt11定針、
(8g)はイオン交換装置洗浄用のHCL供給用管路、
−はF@C4の廃液ビットである・ 以上のような設備によれば、ストリップ(・)を焼入タ
ンクa)内を通過せしめつつ、焼入タンク(1)の溶濠
温Itt%焼入タンク(1)出側のストリップ温度T、
及び焼入タンク(1)内の溶液O有機酸濃度Cを制御し
、前述し九如き関係を保つようKするものである。その
九めに、まず温度指示調節計@によ會焼入タンク(1)
内の溶液温度を一定し、とO測定値に基づき、冷却水供
給用管路(To) t)流量調整弁(ロ)を制御し、供
給室(51)から焼入タンク(1)K順次供給されてい
る溶液の冷却器軸による冷却を調整し、亀って焼入タン
ク(1)内の溶液部[1の調整を行う、tた焼入タンク
(1)出側に設けられたストリップの温度測定計−でス
トリップ温度を測定し、この測定値に基づきモーターを
制御し、堰(7)を適宜開閉せしめ、水位調整室(52
)及び焼入タンク(1)内の溶液の水位を調整する。か
かゐ焼入タンク(1)内の水位の調整によ〉、ストリッ
プ偵)の溶液浸漬時間が変化し、これに伴ってストリッ
プ(@の冷却の程度も変化し、冷却後のストリップ温度
Tを制御することができる。更に濃度指示調節計−によ
り供給室(51)内の溶液の有機酸濃度を一定し、この
測定値に基づき水供給用の管路(8d)及び有機酸供給
用の管Il(軸)Kそれぞれ設けられた流量調整弁(2
)及び四を制御し、供給室(!!1)内、ひいては焼入
タンク(1)を含む!理系の溶液の有機酸濃度を調整す
ゐものである。
酸がそれぞれ供給されている・供給ml (51)内の
*mの有機酸濃度はIl&l指度調節計−により1ll
l定され、その測定値に基づき水供給用の管路(8d)
及び有機酸供給用の管路(−)にそれぞれ設けられた流
量調整弁aI−の開閉度を調整するようになっている− なお、その他国面において、(ロ)は廃液ピット、(8
f)はg*排出用管隆、ti4はポンプ、■は焼入詫始
温直を測定する九めの入側ストリップ温wt11定針、
(8g)はイオン交換装置洗浄用のHCL供給用管路、
−はF@C4の廃液ビットである・ 以上のような設備によれば、ストリップ(・)を焼入タ
ンクa)内を通過せしめつつ、焼入タンク(1)の溶濠
温Itt%焼入タンク(1)出側のストリップ温度T、
及び焼入タンク(1)内の溶液O有機酸濃度Cを制御し
、前述し九如き関係を保つようKするものである。その
九めに、まず温度指示調節計@によ會焼入タンク(1)
内の溶液温度を一定し、とO測定値に基づき、冷却水供
給用管路(To) t)流量調整弁(ロ)を制御し、供
給室(51)から焼入タンク(1)K順次供給されてい
る溶液の冷却器軸による冷却を調整し、亀って焼入タン
ク(1)内の溶液部[1の調整を行う、tた焼入タンク
(1)出側に設けられたストリップの温度測定計−でス
トリップ温度を測定し、この測定値に基づきモーターを
制御し、堰(7)を適宜開閉せしめ、水位調整室(52
)及び焼入タンク(1)内の溶液の水位を調整する。か
かゐ焼入タンク(1)内の水位の調整によ〉、ストリッ
プ偵)の溶液浸漬時間が変化し、これに伴ってストリッ
プ(@の冷却の程度も変化し、冷却後のストリップ温度
Tを制御することができる。更に濃度指示調節計−によ
り供給室(51)内の溶液の有機酸濃度を一定し、この
測定値に基づき水供給用の管路(8d)及び有機酸供給
用の管Il(軸)Kそれぞれ設けられた流量調整弁(2
)及び四を制御し、供給室(!!1)内、ひいては焼入
タンク(1)を含む!理系の溶液の有機酸濃度を調整す
ゐものである。
実施例
第1I!3に示す如き設備を用い有機酸の1mlカ0.
210.511011”t’ある3通りの場合11C)
@、ス)9ツブ表面の酸化の有無と冷却後のストリップ
温度及び溶液温度との関係を調べた。なお、その製造条
件は以)の通力である− ラ イ ン二連続焼鈍設備 加熱+1均熱ニア00℃×1分 使用有機@ : −vvs 7酸(: CH,(coo
H)t )ストリップサイズ:板厚0.i1wX板幅1
000■ライン速[:tSO■/分 かかる実施例の結果を示したのが第1図である・図にお
いて(ム)は有機酸濃度O,S * 。
210.511011”t’ある3通りの場合11C)
@、ス)9ツブ表面の酸化の有無と冷却後のストリップ
温度及び溶液温度との関係を調べた。なお、その製造条
件は以)の通力である− ラ イ ン二連続焼鈍設備 加熱+1均熱ニア00℃×1分 使用有機@ : −vvs 7酸(: CH,(coo
H)t )ストリップサイズ:板厚0.i1wX板幅1
000■ライン速[:tSO■/分 かかる実施例の結果を示したのが第1図である・図にお
いて(ム)は有機酸濃度O,S * 。
(B)は同じ<OSS、(C)は同じ<Lo参でああ場
合の酸化膜有無の限界を示すものであシ、これからも明
らかなように有機酸濃度、溶液温度、及び冷却後のスト
リップ温度が前記条件を温良す場合にのみ酸化膜の発生
が適正に抑見られていることが判る・ 以上述べた本発明によれば、有機酸を含有した溶液への
水焼入れKIIして酸化膜がストリップ表面に生成残留
することを効果的Kvj止することができ、もって駿洗
勢の必要がない能率的なストリップの処理を行うことが
できる。
合の酸化膜有無の限界を示すものであシ、これからも明
らかなように有機酸濃度、溶液温度、及び冷却後のスト
リップ温度が前記条件を温良す場合にのみ酸化膜の発生
が適正に抑見られていることが判る・ 以上述べた本発明によれば、有機酸を含有した溶液への
水焼入れKIIして酸化膜がストリップ表面に生成残留
することを効果的Kvj止することができ、もって駿洗
勢の必要がない能率的なストリップの処理を行うことが
できる。
第1図は本発明の実施に供すべき焼入れ設備を示す説明
図である。第2図は有機酸濃度、溶液温度及び冷却ll
Oス) tJツブ温度の関係を調べた実施例を示すもの
である。 特許出願人 日本鋼管株式会社 発明者 鍬 本 紘
図である。第2図は有機酸濃度、溶液温度及び冷却ll
Oス) tJツブ温度の関係を調べた実施例を示すもの
である。 特許出願人 日本鋼管株式会社 発明者 鍬 本 紘
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 加熱・均熱後のSOO〜900’Oの温度範囲にあるス
トリップを有機酸を含有する溶液中に焼入れるに@し、
焼入れ冷却後のストリップ温度T(℃)と溶液の温度t
(’O)及び有am濃度C(1)とが、 但し、10′0≦tgloo℃ lO℃≦〒≦500℃ 0.1憾≦C<50係 の関係を満たすようKしてストリップt−飾入れるとと
t−特徴とする有機#!によるストリップの無酸化焼入
方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15382381A JPS5858233A (ja) | 1981-09-30 | 1981-09-30 | 有機酸によるストリツプの無酸化焼入方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15382381A JPS5858233A (ja) | 1981-09-30 | 1981-09-30 | 有機酸によるストリツプの無酸化焼入方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5858233A true JPS5858233A (ja) | 1983-04-06 |
Family
ID=15570865
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15382381A Pending JPS5858233A (ja) | 1981-09-30 | 1981-09-30 | 有機酸によるストリツプの無酸化焼入方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5858233A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2001006022A1 (fr) * | 1999-07-19 | 2001-01-25 | Centre De Recherches Metallurgiques | Procede de fabrication d'une bande d'acier en continu |
-
1981
- 1981-09-30 JP JP15382381A patent/JPS5858233A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2001006022A1 (fr) * | 1999-07-19 | 2001-01-25 | Centre De Recherches Metallurgiques | Procede de fabrication d'une bande d'acier en continu |
BE1012789A3 (fr) * | 1999-07-19 | 2001-03-06 | Centre Rech Metallurgique | Procede de fabrication d'une bande d'acier en continu. |
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