JPS5856127Y2 - ケンマキニオケル ハイエキハイシユツソウチ - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 本考案は、限定するものではないが、研磨廃液や研磨屑
等が周囲に飛散すると環境を汚染するおそれのある小片
、例えば放射性物質の顕微鏡用試験片を仕上げるのに特
に適した研磨機に関し、更に詳しくは、研磨面を有する
円盤から遠心力によって飛散する研磨屑や研磨廃液を、
廃液受窪みの周壁上に設けたはねよけリングに受は止め
ることによって飛散防止し、且つ汚染部分を容易に洗浄
液で清掃できるようにした研磨機に関するものである。

この種の研磨機は、従来より数多く提案されているが、
提案された研磨機には色々の欠点があった。

例えば、従来は研磨の精度、効率、あるいは経済性のみ
に改良の目が向けられ、研磨廃液、研磨屑等の処理に関
しては軽視される傾向があり、この欠点を改良した研磨
機はかつて提案されたことがなかった。

従って、従来の研磨機は、研磨中に研磨廃液や研磨屑等
が四方に飛散して環境を汚染するという欠点があり、ま
た研磨作業終了後、これら研磨廃液や研磨屑等を完全に
洗い流すことができないという欠点があった。

特に、放射性物質を研磨する場合においては、研磨廃液
や研磨屑等の飛散は、研磨機を始めとしてその周辺に位
置する様々の機器や壁、床等を放射性汚染する原因とな
り、問題が大きかった。

本考案の目的は、研磨の精度、効率あるいは経済性を何
ら損なうことなく、上記従来技術における諸欠点を完全
に解消した研磨機の提供、即ち、環境を汚染することな
く研磨作業ができると共に、研磨終了後はマニュピレー
タ−のような遠隔操作装置によって、上方からのジェッ
ト流等による洗浄が可能であり、又、遠方から肉眼で洗
浄効果が確認でき、しかも廃液を−ケ所に集めることに
より廃液の処理、取扱い管理が極めて容易な研磨機を提
供することである。

本考案は、上記目的を達成するためになされたものであ
り、上面に研磨面３を有する回転可能な円盤４と、該円
盤４を取付は且つ廃液受窪み５を設ける為の基台１ａと
、該円盤４に対して開閉自在に設置した蓋状のキャリヤ
フレーム１３と、ワーク１６を支持しキャリヤフレーム
１３によって回転自在に保持されるワークキャリヤ１４
を備え、駆動源によって前記円盤４と前記ワークキャリ
ヤ１４を強制回転させてワークキャリヤ１４に支持させ
たワーク１６を前記研磨面３で研磨する研磨機１であっ
て、前記基台１ａの上面を形成する上面板２に、研磨廃
液等を受は止める為の廃液受窪み５を設け、該廃液受窪
み５に前記円盤４を収容すると共に、基台１ａの上面板
２の外周部に一部を欠除した囲枠１８を設け、且つ、該
囲枠１８の欠除する部分の前面に廃液溝１１を設けると
共に、上面板２を切り欠いて前記廃液受窪み５と廃液溝
１１を連通させる為の切欠溝１０を設け、更に廃液受窪
み５の周壁５ａ上にフランジ１２ ａを有するはねよけ
リング１２を着脱自在に挿着し、該はねよけリング１２
によって切欠溝１０の円盤４周面と対向する開口部の上
半分１０ ａを閉塞し、更に、該蓋状のキャリヤフレー
ム１３を該はねよけリング１２に蝶着して設けて戊る。

以下、図面に基づいて、本考案の一実施例を説明する。

１は研磨機であり、１ａは研磨機１の下半分を構成する
基台である。

２は該基台１ａの上面を形成する上面板であり、該上面
板２には、研磨屑や研磨廃液を受は止め、且つ円盤４を
収容する為の廃液受窪み５が形成されている。

４は、上面に研磨面３を有する円盤であり、該円盤４は
駆動軸２０によって回転可能となっており、該廃液受窪
み５の周囲に沿って前記上面板２と廃液受窪み５とその
他の上面板２部分とを区分する周壁５ａが上面板２より
高くなるように設けである。

６，７及び８はそれぞれ、重錘置孔６，７及び滴下瓶受
孔８であり、これら重錘置孔６，７及び滴下瓶受孔８は
、上面板２より一段高い上段上面板２′部に形成されて
おり、且つ、重錘置孔６，７及び滴下瓶受孔８内に洗浄
液等が溜ることなく、上面板２の表面を経て廃液溝１１
にスムーズに流れ込むようにそれぞれ切欠き１０′が設
けである。

９は廃液溝１１の底部に設けた廃液流出孔であり、１０
は廃液受窪み５中に流れ落ちた研磨屑や研磨廃液あるい
は洗浄液を廃液溝１１に導く為の切欠溝である。

１１は、廃液受窪み５から切欠溝１０を通って流れ出る
研磨廃液や、あるいは上面板２上を流れ落ちる洗浄液を
受は止める為の廃液溝である。

１２は、周壁５ａに掛は留める為のフランジ１２ａを有
するはねよけリングであり、該周壁５ａに対して着脱自
在となっている。

１３ははねよけリング１２に蝶着して、円盤４に対して
開閉可能に取り付けた蓋状のキャリヤフレームであり、
該キャリヤフレーム１３の中心から偏心した位置に回転
中心軸を有するワークキャリヤ１４が設けられている。

ワークキャリヤ１４には、研磨すべきワーク１６及び重
錘１７を挿入する為のワーク取着孔１５が設けてあり、
且つ、駆動軸２０によって回転可能となっている。

１Ｂは上面板２の外周部に設けた一部を欠除した囲枠で
あり、上面板２上に流れる洗浄液を廃液溝１１にスムー
ズに導く為のものである。

廃液溝１１は囲枠１８の欠除部に設ける。

１９は廃液溝１１の流出孔９より流れ落ちる廃液を図示
されない廃液貯蔵容器や排液配管系に導く為の廃液排出
口、２０は円盤４を回転するための駆動軸、２１は該駆
動軸２０とカップリング係合する回転軸である。

尚、１０ ａは、はねよけリング１２によって塞がれた
切欠溝１０の開口部上半分を示し、ＩＱｂは、はねよけ
リング１２によって塞がれない切欠溝１０の開口部下半
分を示すものである。

次に、本考案の研磨機の動作について説明する。

まず、研磨すべきワーク１６をワークキャリヤ１４のワ
ーク取着孔１５内に収容し、重錘置孔６，７又は他の場
所に置いである重錘１７を図示されるようにワーク１６
の上面に載置する。

この状態で、駆動軸２０を動かすと、上面に研磨面３を
有する円盤４が回転すると共に、回転軸２０とカップリ
ング係合するキャリヤフレーム１３の中央に設けた回転
軸２１を介して該ワークキャリヤ１４に回転が与えられ
、ワーク１６は重錘１７によって研磨面３に圧接された
状態で研磨される。

円盤４の上部には蓋状のキャリヤフレーム１３があるの
で、研磨屑や研磨時の滴下液等の廃液が外部に飛び出る
おそれがなく、また、該廃液は円盤４より遠心力によっ
て四方に飛び散ろうとするが、円盤４の周面と対向する
切欠溝１０の開口部上半分１０ ａがはねよけノング１
２によって閉鎖されているので、研磨屑や廃液ははねよ
けリング１２にぶつかって廃液受窪み５中に落下し、外
に飛び散ることがない。

研磨作業が終了し、研磨機を清掃しようとする時は、は
ねよけリング１２に蝶着固定した蓋状のキャリヤフレー
ム１３を円盤４から退去するように引き起して、廃液受
窪み５の上面を開放した状態となして、キャリヤフレー
ム１３の裏面（研磨面３に対向する面）や廃液受窪み５
に耐着した附着物等を洗浄液で洗い流す。

又、キャリヤフレーム１３と一緒にはねよけリング１２
も取除けば、廃液受窪み５の上面のみならず切欠溝１０
の上面も開放され、洗浄がより一層効果的に行われる。

洗浄方法について一例を挙げて更に詳しく説明するなら
ば、例えば、上記のごとき放射性物質を含有する顕微鏡
用試験片を研磨仕上げする場合においては、通常、研磨
面３を徐々に目の細かいものに取り変えながら荒削りか
ら仕上げまで５回程度の研磨を繰り返すのが普通であり
、また、この時、前工程の研磨作業時に発生した荒い研
磨屑が残存すると次工程のより細かい仕上げ工程に悪影
響を及ぼす為、この研磨屑を除去するべく、各工程ごと
に一回一回該研磨機を洗浄するのが普通である。

ところで、本考案の研磨機によれば、キャリヤフレーム
１３を引き起こすことによって、キャリヤフレーム１３
の裏面を始めとして、研磨面３、円盤４、廃液受窪み５
等、研磨屑や研磨廃液等で汚染された部分の殆んどが開
放状態となり、開放されない部分は切欠溝１０の開口部
上手分１０ａのみとなるので、上記各工程ごとの洗浄は
勿論、通常時の洗浄は、はねよけリング１２をそのまま
周壁５ａに取り付けた状態で、ただ、キャリヤフレーム
１３のみを引き起した状態で洗浄するだけで十分である
。

一方、前述の通り切欠溝１０の開口部上半分１０ａは、
はねよけリング１２により閉鎖されており、この部分に
ついては研磨屑等の付着物で汚れる心配は殆んどないの
で、はねよけリング１２をキャリヤフレーム１３と一緒
に取り外して、切欠溝１０の開口部上半分１０ａを洗浄
するのは、例えば百〜千回の研磨作業につき一回、ある
いは年に数回程度で済むので、洗浄操作が極めて楽であ
る。

更に、この研磨機においては、洗浄液の大部分が廃液受
窪み５と上面板２上に流れ落ち、しかも廃液受窪み５中
に流入した洗浄液は切欠溝１０を経て廃液溝１１に集ま
り、また、上面板２上を流れる洗浄液は囲枠１８に誘導
されて同じく廃液溝１１に集液されるので、無視できる
程度の一部の洗浄液が周囲に飛び散るだけで、洗浄液の
ほとんど大部分は廃液溝１１を経て回収することができ
る。

このように本考案の研磨機は洗浄操作に対して様々の配
慮がなされているので、マニュピレータ−を用いて遠隔
操作によって洗浄するような場合の作業も極めて容易で
ある。

また、本考案は、蓋状のキャリヤフレーム１３、はねよ
けリング１２、切欠溝１０、廃液溝１１．囲枠１８等、
様々の工夫を施しであるので下記のような効果がある。

（１）円盤４の上部に蓋状のキャリヤフレーム１３を配
置するので、研磨屑や研磨時の滴下液等の廃液が外部に
飛び出る虞れがない。

（２）研磨時に、切欠溝１０の開口部上半分１０ ａが
はねよけリング１２によって塞がかれるので、円盤４と
対向する開口部上半分１０ａから研磨屑や研磨時の滴下
液等の廃液が飛び散ることがなく、又、開口部下半分１
０ ｂから廃液は廃液溝１１側に流れ出て研磨作業に支
障をきたすこともない （３）キャリヤフレーム１３をはねよけリング１２に蝶
着固定しであるので、簡単な洗浄の場合は、該キャリヤ
フレーム１３を引き起して廃液受窪み５の上面を開放す
ることによって、容易に洗浄することができる。

（４）キャリヤフレーム１３とはねよけリング１２を共
に周壁５ａから取り除けば、廃液受窪み５のみならず切
欠溝１０の上面も第２図に示す如く開放されるので、洗
浄が極めて容易且つ効果的である。

（５）上記３，４の如くキャリヤフレーム１３を引き起
したり、それを取り外すことによって、洗浄すべき部分
が開放状態となるのでその洗浄効果を遠方から肉眼によ
って確認できる。

（６）洗浄液の大部分は廃液受窪み５中、又は上面板２
上に流れ落ちるが、廃液受窪み５中に流れ落ちた洗浄液
は切欠溝１０を経て廃液溝１１に集まり、また上面板２
上に流れ落ちた洗浄水は上面板２の外周に設けた囲枠１
８に誘導されて、囲枠１８の欠除部から廃液溝１１に流
れ落ちるので、洗浄液が外部に流出するおそれがなく、
全ての洗浄液を廃液溝１１を経て廃液排出口１９から集
中して回収することか゛できる。

したか゛つて、研磨機１の周辺に配置した諸々の機器や
、あるいは研磨機１を設置しである部屋の壁や床を放射
性物質を含む洗浄液等で汚すことがなく、さらに、廃液
や洗浄液を唯一の排出口である廃液排出口１９がら集中
的に回収できるので、該廃液等が放射性物質を含む場合
において、その処理、管理が極めて容易である。

尚、上記実施例においては、周壁５ａを上面板２より若
干高くしであるが、これは、周壁５ａの上面と、はねよ
けリング１２のフランジ１２ ａの下面を研削平滑化し
てぴったり一致させる為である。

即ち基台１ａやはねよけリング１２は通常アルミ等を素
材として鋳造により製造するが、鋳造された鋳物表面に
は多数の凹凸があり、これをそのまま用いた場合、周壁
５ａの上面とはねよけリング１２のフランジ１２８下面
がぴったり一致せず、がたつきのあるものとなってしま
う。

従って、この場合、はねよけリング１２に蝶着したキャ
リヤフレーム１３が基台１ａに対して安定に保持されず
、結局ワークを精密に研磨することができない。

ところで、周壁５ａをあらがしめ研削代を考慮し、上面
板２より高く形威し、その上面を研削して平滑化し、ま
た、はねよけリング１２のフランジ１２ ａの下面も同
様に研削平滑化しておけば、両者は密着し、このような
がたつきもなく、ワークの研磨も精密にできる。

また、周壁５ａを上面板２より高くしておけば、周壁５
ａの上面の研削平滑化が容易であるばかりでなく、研磨
機１を洗浄液で洗浄した時にも、上面板２を流れる洗浄
液が廃液受窪み５中にむやみに流入することがない。

これは、特に、キャリヤフレーム１３を閉じた状態で基
台１ａの上面板２のみを洗浄する時に効果的である。

しかしながら、あらがじめ周壁５ａの上面や、フランジ
１２ ａの下面を平滑に成形しておくなりらば、このよ
うに周壁５ａを上面板２より高く形成する必要は必ずし
もない。

即ち、周壁５ａの高さについては設計的事項であり、本
考案の本質に係るものでないことは当業者に明らがであ
る。

また、上記実施例においては、キャリヤフレー１ム１３
とはねよけリング１２を蝶番結合としたが、これはマニ
ュピレータ−等の遠隔操作機器によるキャリヤフレーム
１３やはねよけリング１２の取り付け、取り外し操作、
あるいはキャリヤフレーム１３の開閉操作が゛容易であ
るようになされたもの）であり、特にマニュピレータ−
等を必要としない場合においては、他の周知の結合手段
を採用してもよい。

尚、又、上記実施例においては、ワークキャリヤ１４を
駆動軸２０により回転させているが、これを別の動力源
を用いて周知の方法により回転させてもよいであろうこ
とは勿論である。

【図面の簡単な説明】

図面は本考案実施の１例を示すもので、第１図は裁断側
面図、第２図はキャリヤフレームを取除いた状態の斜面
図である。 １・・・研磨機、２・・・上面板、３・・・研磨面、４
・・・円盤、５・・・廃液受窪み、１０・・・切欠溝、
１１・・・廃液溝、１２・・・はねよけリング、１３・
・・キャリヤフレーム、１６・・・ワーク、１８・・・
囲枠、２０・・・軸、１ａ・・・基台。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 上面に研磨面３を有する回転可能な円盤４と、該円盤４
   を取付は且つ廃液受窪み５を設ける為の基台１ａと、該
   円盤４に対して開閉自在に設置した蓋状のキャリヤフレ
   ーム１３と、ワーク１６を支持しキャリヤフレーム１３
   によって回転自在に保持されるワークキャリヤ１４を備
   え、駆動源によって前記円盤４と前記ワークキャリヤ１
   ４を強制回転させてワークキャリヤ１４に支持させたワ
   ーク１６を前記研磨面３で研磨する研磨機１であって、
   前記基台１ａの上面を形成する上面板２に、研磨廃液等
   を受は止める為の廃液受窪み５を設け、該廃液受窪み５
   に前記円盤４を収容すると共に、基台１ａの上面板２の
   外周部に一部を欠除した囲枠１８を設け、且つ、該囲枠
   １８の欠除する部分の前面に廃液溝１１を設けると共に
   、上面板２を切り欠いて前記廃液受窪み５と廃液溝１１
   を連通させる為の切欠溝１０を設け、更に廃液受窪み５
   の周壁５ａ上にフランジ１２ ａを有するはねよけリン
   グ１２を着脱自在に挿着し、該はねよけリング１２によ
   って切欠溝１０の円盤４周面と対向する開口部の上半分
   １０ ａを閉塞し、更に、該蓋状のキャリヤフレーム１
   ３を該はねよけリング１２に蝶着して設けて成る研磨機
   。