JPS5855586A - 電着されるパラジウム−ニツケル合金の耐食性を高める方法 - Google Patents
電着されるパラジウム−ニツケル合金の耐食性を高める方法Info
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- JPS5855586A JPS5855586A JP57155320A JP15532082A JPS5855586A JP S5855586 A JPS5855586 A JP S5855586A JP 57155320 A JP57155320 A JP 57155320A JP 15532082 A JP15532082 A JP 15532082A JP S5855586 A JPS5855586 A JP S5855586A
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- Japan
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- nickel
- corrosion resistance
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/56—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
- C25D3/562—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of iron or nickel or cobalt
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
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- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は装飾的及び/又は工業的被覆として使用される
電着パラジウム−ニッケル合金の耐食性を高める方法に
係る。公知方法(イギリス国特許第1143178号明
細書)においては、パラジウム含量が5乃i30 g
/ Lであり且つニッケル含量が同様に5乃至30g/
lであり、硫酸塩添加物を有するパラジウムアミンとニ
ッケルアミンの水溶液であって、電着合金のパラジウム
含量が30乃至90重量%であるようにパラジウム/ニ
ッケル比が調節された浴から被覆沈着が行われる。この
ような浴により製造される被覆は主として装飾用や工業
用、殊に電気工業目的用の全代用物として使用される。
電着パラジウム−ニッケル合金の耐食性を高める方法に
係る。公知方法(イギリス国特許第1143178号明
細書)においては、パラジウム含量が5乃i30 g
/ Lであり且つニッケル含量が同様に5乃至30g/
lであり、硫酸塩添加物を有するパラジウムアミンとニ
ッケルアミンの水溶液であって、電着合金のパラジウム
含量が30乃至90重量%であるようにパラジウム/ニ
ッケル比が調節された浴から被覆沈着が行われる。この
ような浴により製造される被覆は主として装飾用や工業
用、殊に電気工業目的用の全代用物として使用される。
従って、このような用途、耐食性とは電気工業領域のも
の、殊に接触子及び接触子取付は部材における耐食性を
意味する。然るにこの公知の被覆は充分な耐食性を有し
ていないと謂う欠陥がある。芳香族スルホン酸、その塩
並びに誘導体からなる種類の有機性添加物の形態で浴光
沢賦与剤を添加することも公知である。具体的に例示す
れば。
の、殊に接触子及び接触子取付は部材における耐食性を
意味する。然るにこの公知の被覆は充分な耐食性を有し
ていないと謂う欠陥がある。芳香族スルホン酸、その塩
並びに誘導体からなる種類の有機性添加物の形態で浴光
沢賦与剤を添加することも公知である。具体的に例示す
れば。
ナフタリンスルホン酸の上記塩及び芳香族スルホンアミ
ド、例えばナフタリン−1,5−ジスルホン酸ナトリウ
ム塩、ナフタリン−1,3,6−)ジスルホン酸ナトリ
ウム塩並びにサッカリン(〇−スルホ安息香Mイミド)
及び1)−)ルオールスルホンアミドが挙げられる。こ
の場合、ナフタリン−1,5−ジスルホン酸ナトリウム
による不溶性塩としてパラジウムの好ましくない自然発
生的な沈殿が、又光沢賦与剤としてp−)ルオールスル
ホン酸を使用する場合には工業目的用ですら極めて好ま
しくない合金電着が観察される。ナフタリン−1,3,
6−)ジスルホン酸及び/又はサッカリンのナトリウム
塩を光沢賦与剤として含有す、S電鍍浴から分離される
ようなパラジウム−ニッケル被覆の耐食性は充分なもの
ではない。耐食性は等量の濃硝酸と水とから調製された
希硝酸中に室温で60秒間に亘り相当する被験プレート
を浸漬することにより確認される。この試験は既述の添
加例において耐食性に関して良好な値を示す。
ド、例えばナフタリン−1,5−ジスルホン酸ナトリウ
ム塩、ナフタリン−1,3,6−)ジスルホン酸ナトリ
ウム塩並びにサッカリン(〇−スルホ安息香Mイミド)
及び1)−)ルオールスルホンアミドが挙げられる。こ
の場合、ナフタリン−1,5−ジスルホン酸ナトリウム
による不溶性塩としてパラジウムの好ましくない自然発
生的な沈殿が、又光沢賦与剤としてp−)ルオールスル
ホン酸を使用する場合には工業目的用ですら極めて好ま
しくない合金電着が観察される。ナフタリン−1,3,
6−)ジスルホン酸及び/又はサッカリンのナトリウム
塩を光沢賦与剤として含有す、S電鍍浴から分離される
ようなパラジウム−ニッケル被覆の耐食性は充分なもの
ではない。耐食性は等量の濃硝酸と水とから調製された
希硝酸中に室温で60秒間に亘り相当する被験プレート
を浸漬することにより確認される。この試験は既述の添
加例において耐食性に関して良好な値を示す。
別の事例において、即ち光沢ニラチル被覆電着用のニッ
ケル浴において、請求の範囲第1項に記載された一般式
に示される化合物を0.1乃至1g/を好ましくは0.
5 g / Lの量で添加することは公知である。この
公知例の場合にはこの化合物は単に光沢賦与剤として機
能するに過ぎない。この効果は化合物の分子中に含有さ
れておりニッケル被覆の形成に際して平滑化し且つ光沢
を向上する作用を果たす尿素基の錯形成能に基くもので
ある。
ケル浴において、請求の範囲第1項に記載された一般式
に示される化合物を0.1乃至1g/を好ましくは0.
5 g / Lの量で添加することは公知である。この
公知例の場合にはこの化合物は単に光沢賦与剤として機
能するに過ぎない。この効果は化合物の分子中に含有さ
れておりニッケル被覆の形成に際して平滑化し且つ光沢
を向上する作用を果たす尿素基の錯形成能に基くもので
ある。
同時に、当該分子は光沢賦与作用をも果たすイミン基を
有する。
有する。
本発明は装飾及び工業目的用であって高耐食性を示すパ
ラジウム−ニッケル被覆を冒頭で述べた組成の浴から沈
着せしめることをその課題とじている。
ラジウム−ニッケル被覆を冒頭で述べた組成の浴から沈
着せしめることをその課題とじている。
本発明の対象は、5乃至so g / Lの範囲のパラ
ジウム含量及び5乃至30 g / tの範囲のニラク
ル含ftヲ有するパラジウムアミン及びニッケルアミン
の水溶液と、スルホン酸塩添加物とからなり且つ電着合
金がパラジウム含量30乃至90重量%を有するように
上記水溶液中のパラジウム対ニッケル比が調節されてい
る浴によるパラジウム−ニッケル被覆電着において、腐
食に対する保護添加物として一般式 (式中Rは芳香族残基を意味し+ R1及び馬は共に
水素、メチル又はエチル基を意味する)の化合物を0.
1乃至10g/lの量で使用することを特徴とする。電
着されるパラジウム−ニッケル合金の耐食性を高める方
法にある。大多数の使用例に関し最適耐食性を達成する
本発明の好ましい実施形は全耐食保護添加物が1乃至1
0 g / Lの量で添加されるごとを特徴としている
。これは、パラジウム−ニラチル被覆を1乃至5μの、
好ましくは約2.5μの厚みに沈着させる場合に殊に有
利である。
ジウム含量及び5乃至30 g / tの範囲のニラク
ル含ftヲ有するパラジウムアミン及びニッケルアミン
の水溶液と、スルホン酸塩添加物とからなり且つ電着合
金がパラジウム含量30乃至90重量%を有するように
上記水溶液中のパラジウム対ニッケル比が調節されてい
る浴によるパラジウム−ニッケル被覆電着において、腐
食に対する保護添加物として一般式 (式中Rは芳香族残基を意味し+ R1及び馬は共に
水素、メチル又はエチル基を意味する)の化合物を0.
1乃至10g/lの量で使用することを特徴とする。電
着されるパラジウム−ニッケル合金の耐食性を高める方
法にある。大多数の使用例に関し最適耐食性を達成する
本発明の好ましい実施形は全耐食保護添加物が1乃至1
0 g / Lの量で添加されるごとを特徴としている
。これは、パラジウム−ニラチル被覆を1乃至5μの、
好ましくは約2.5μの厚みに沈着させる場合に殊に有
利である。
驚くべきことに、ニッケル浴への光沢賦与剤として公知
の上記式で表わされる化合物は1本発明で使用される特
定のパラジウム−ニッケル浴において腐食保護添加剤と
しての機能を果たし、装飾的及び/又は工業的殊に電気
工業的装置の被覆に高い耐食性をもたらす。このことは
予期し得ぬ処であった。脂肪族不飽和及び複素環式スル
ホン酸(例えばビニルスルホン酸ナトリウム、アリルス
ルホン酸ナトリウム、プロピオンスルホン酸ナトリウム
、メタリルスルホン酸ナトリウム、N−ピリジニウムプ
ロピルスルホベタイン、N−ピリジニウムメチルスルホ
ベタイン、N−ベンジルピリジニウム−2−エチルスル
ホン酸ナトリウム塩の形態で)を単独で又は組合せて、
又アセチレンアルコール、アセチレンアミン及びアミノ
アルコールを単独で又は組合せて実際上耐食性であるパ
ラジウム−ニッケル被覆が生成する。これらはすべて、
ニッケル浴における光沢賦与剤としての上記式のり化合
物の公知添加とは別の総合作用に基因すべきものである
。ニッケル浴において、光沢賦与剤は延性を高め且つ該
光沢賦与剤は光沢ニッケル層の引張応力の低下をもたら
すが、これらはともかく通例本発明の好ましい実施形に
よるパラジウム−ニッケル被覆よりもその厚みfJ:1
0倍程度である。実際には9層厚みに関して1本発明は
光沢ニッケルメッキ浴におけるよりもはるかに多量の添
・幅量をもって実施される。本発明により達成される耐
食性改善は電気化学的不動態化度(添加化合物量如何に
よる)による。この点に関連して更に言及すれば洛中の
金属性不純物は妨害作用をもたらさない。
の上記式で表わされる化合物は1本発明で使用される特
定のパラジウム−ニッケル浴において腐食保護添加剤と
しての機能を果たし、装飾的及び/又は工業的殊に電気
工業的装置の被覆に高い耐食性をもたらす。このことは
予期し得ぬ処であった。脂肪族不飽和及び複素環式スル
ホン酸(例えばビニルスルホン酸ナトリウム、アリルス
ルホン酸ナトリウム、プロピオンスルホン酸ナトリウム
、メタリルスルホン酸ナトリウム、N−ピリジニウムプ
ロピルスルホベタイン、N−ピリジニウムメチルスルホ
ベタイン、N−ベンジルピリジニウム−2−エチルスル
ホン酸ナトリウム塩の形態で)を単独で又は組合せて、
又アセチレンアルコール、アセチレンアミン及びアミノ
アルコールを単独で又は組合せて実際上耐食性であるパ
ラジウム−ニッケル被覆が生成する。これらはすべて、
ニッケル浴における光沢賦与剤としての上記式のり化合
物の公知添加とは別の総合作用に基因すべきものである
。ニッケル浴において、光沢賦与剤は延性を高め且つ該
光沢賦与剤は光沢ニッケル層の引張応力の低下をもたら
すが、これらはともかく通例本発明の好ましい実施形に
よるパラジウム−ニッケル被覆よりもその厚みfJ:1
0倍程度である。実際には9層厚みに関して1本発明は
光沢ニッケルメッキ浴におけるよりもはるかに多量の添
・幅量をもって実施される。本発明により達成される耐
食性改善は電気化学的不動態化度(添加化合物量如何に
よる)による。この点に関連して更に言及すれば洛中の
金属性不純物は妨害作用をもたらさない。
本発明の枠内で、電気工業とは通例の場合パラジウム−
ニッケル被覆の形成に際して通例の技術を指称する(イ
ギリス国特許第1143178号比較参照)。
ニッケル被覆の形成に際して通例の技術を指称する(イ
ギリス国特許第1143178号比較参照)。
次に、実施例により本発明を説明する。
次の組成
[pa(NH,)、 ]01□ としてPd−20g[
N1(NH3)6 )SO4としてNi 9 g(
NH4)2SO4としての導電性塩 50 g(N)l
、 OHを添加してpH値を8.5に調節)アリルスル
ホン酸ナトリウム 3g g 湿潤剤(燐酸エステルとして) 0.5 g水(添加し
て全体量を1tとなす) の電鍍浴に、攪拌しつつ1i/d♂の電流密度をもって
35℃の浴温で電気的接触子エレメントに約2μの厚み
のパラジウム−ニッケル被覆層が施こされた。該エレメ
ントは既述の腐食試験に供されたが。
N1(NH3)6 )SO4としてNi 9 g(
NH4)2SO4としての導電性塩 50 g(N)l
、 OHを添加してpH値を8.5に調節)アリルスル
ホン酸ナトリウム 3g g 湿潤剤(燐酸エステルとして) 0.5 g水(添加し
て全体量を1tとなす) の電鍍浴に、攪拌しつつ1i/d♂の電流密度をもって
35℃の浴温で電気的接触子エレメントに約2μの厚み
のパラジウム−ニッケル被覆層が施こされた。該エレメ
ントは既述の腐食試験に供されたが。
該エレメントは試験後にも又試験後比較的長期を経た後
にも腐食現象を示さず且つ又長期に亘り妨害的な過渡抵
抗を示さなかった。同様な組成の。
にも腐食現象を示さず且つ又長期に亘り妨害的な過渡抵
抗を示さなかった。同様な組成の。
但しペンゾールスルホニル尿素を添加しない浴から相当
する接触子エレメントに電着された同様の厚みを有する
パラジウム−ニッケル被覆は上記腐食テストに際して短
時間後に既に著るしく腐食し且つ直ちに高い妨害的な過
渡抵抗を示した。同様な゛納置は一般的浴組成即ち[P
d(NH3)43012としてPCl5〜20 g 、
[N1(NH3)a:]SO4又はN1(SO3M
−)2としてNi 5〜15 g 、 (NH4)2
sO+又はNH401としての導電性塩50〜loog
、pH値を8.0〜9.0に調節するタメのNH,、O
H、アリルスルホン酸ナトリウム1〜10 g、湿潤剤
例えば燐酸エステルとして0.1〜1g合にも得られた
。
する接触子エレメントに電着された同様の厚みを有する
パラジウム−ニッケル被覆は上記腐食テストに際して短
時間後に既に著るしく腐食し且つ直ちに高い妨害的な過
渡抵抗を示した。同様な゛納置は一般的浴組成即ち[P
d(NH3)43012としてPCl5〜20 g 、
[N1(NH3)a:]SO4又はN1(SO3M
−)2としてNi 5〜15 g 、 (NH4)2
sO+又はNH401としての導電性塩50〜loog
、pH値を8.0〜9.0に調節するタメのNH,、O
H、アリルスルホン酸ナトリウム1〜10 g、湿潤剤
例えば燐酸エステルとして0.1〜1g合にも得られた
。
シャフト
代理人弁理士 1)代 蒸 治
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)5乃至3o g / Lの範囲のパラジウム含量
及び5乃至30g/lの範囲のニッケル含量を有するパ
ラジウムアミン及びニッケルアミンの水溶液と。 スルホン酸塩添加物とからなり且つ電着合金がパラジウ
ム含量30乃至90重量%を有するように上記水溶液中
のパラジウム対ニッケル比が調節されている浴によるパ
ラジウム−ニッケル被覆電着において、腐食に対する保
護添加物として一般式(式中Rは芳香族残基を意味し+
R1及びR2は共に水素、メチル又はエチル基を意
味する)の化合物を0.1乃至10g/lの量で使用す
ることを特徴とする。電着されるパラジウム−ニラチル
合金の耐食性を高める方法。 (2、特許請求の範囲第1項に記載の方法において。 腐食に対する保護添加物が1乃至10g/lの量で添加
されることを特徴とする方法。 (3)特許請求の範囲第1又は2項に記載の方法におい
て、l乃至5μ、好ましくは約2.5μの厚みのパラジ
ウム−ニッケル被覆が沈着されることを特徴とする方法
。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3136003 | 1981-09-11 | ||
DE3136003.3 | 1981-09-11 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5855586A true JPS5855586A (ja) | 1983-04-01 |
JPS6053118B2 JPS6053118B2 (ja) | 1985-11-22 |
Family
ID=6141378
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57155320A Expired JPS6053118B2 (ja) | 1981-09-11 | 1982-09-08 | 電着されるパラジウム−ニツケル合金の耐食性を高める方法 |
Country Status (12)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4430172A (ja) |
JP (1) | JPS6053118B2 (ja) |
AT (1) | AT377790B (ja) |
AU (1) | AU537532B2 (ja) |
BE (1) | BE894190A (ja) |
BR (1) | BR8205303A (ja) |
FR (1) | FR2512845A1 (ja) |
GB (1) | GB2106140B (ja) |
IT (1) | IT1152087B (ja) |
NL (1) | NL8203518A (ja) |
SE (1) | SE8205087L (ja) |
ZA (1) | ZA826663B (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019520485A (ja) * | 2016-06-29 | 2019-07-18 | トングク・ユニバーシティ・キョンジュ・キャンパス・インダストリー−アカデミー・コーオペレイション・ファウンデーション | 微細噴霧用多孔性フィルタの製造方法およびこれを用いて製造された多孔性フィルタ |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB2171721B (en) * | 1985-01-25 | 1989-06-07 | Omi Int Corp | Palladium and palladium alloy plating |
US6828898B2 (en) * | 2003-04-03 | 2004-12-07 | Cts Corporation | Fuel tank resistor card having improved corrosion resistance |
EP1892320A1 (de) * | 2006-08-22 | 2008-02-27 | Enthone, Incorporated | Elektrolytzusammensetzung und Verfahren zur elektrolytischen Abscheidung von palladiumhaltigen Schichten |
WO2020129095A1 (en) * | 2018-12-20 | 2020-06-25 | Top Finish 2002 S.R.L. | Galvanic bath for making a corrosion- and oxidation-resistant palladium and nickel alloy-based plating, preparation and use thereof |
IT202000000391A1 (it) * | 2020-01-13 | 2021-07-13 | Italfimet Srl | Procedimento galvanico, e relativo bagno, di elettrodeposizione di palladio ad alta resistenza alla corrosione. |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1028407B (de) * | 1956-08-22 | 1958-04-17 | Heyden Chem Fab | Bad und Verfahren zur galvanischen Abscheidung von glaenzenden Nickelueberzuegen |
JPS4733176B1 (ja) * | 1967-01-11 | 1972-08-23 |
-
1982
- 1982-08-25 BE BE2/59806A patent/BE894190A/fr not_active IP Right Cessation
- 1982-08-25 IT IT22974/82A patent/IT1152087B/it active
- 1982-09-06 GB GB08225361A patent/GB2106140B/en not_active Expired
- 1982-09-08 SE SE8205087A patent/SE8205087L/ not_active Application Discontinuation
- 1982-09-08 JP JP57155320A patent/JPS6053118B2/ja not_active Expired
- 1982-09-08 FR FR8215239A patent/FR2512845A1/fr active Granted
- 1982-09-09 AT AT0338182A patent/AT377790B/de not_active IP Right Cessation
- 1982-09-10 NL NL8203518A patent/NL8203518A/nl not_active Application Discontinuation
- 1982-09-10 BR BR8205303A patent/BR8205303A/pt unknown
- 1982-09-10 AU AU88189/82A patent/AU537532B2/en not_active Ceased
- 1982-09-10 ZA ZA826663A patent/ZA826663B/xx unknown
- 1982-09-28 US US06/426,081 patent/US4430172A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019520485A (ja) * | 2016-06-29 | 2019-07-18 | トングク・ユニバーシティ・キョンジュ・キャンパス・インダストリー−アカデミー・コーオペレイション・ファウンデーション | 微細噴霧用多孔性フィルタの製造方法およびこれを用いて製造された多孔性フィルタ |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
SE8205087D0 (sv) | 1982-09-08 |
JPS6053118B2 (ja) | 1985-11-22 |
AU8818982A (en) | 1983-03-17 |
GB2106140B (en) | 1985-05-15 |
SE8205087L (sv) | 1983-03-12 |
BR8205303A (pt) | 1983-08-16 |
FR2512845A1 (fr) | 1983-03-18 |
GB2106140A (en) | 1983-04-07 |
AU537532B2 (en) | 1984-06-28 |
ATA338182A (de) | 1984-09-15 |
BE894190A (fr) | 1982-12-16 |
FR2512845B1 (ja) | 1984-08-10 |
IT1152087B (it) | 1986-12-24 |
US4430172A (en) | 1984-02-07 |
AT377790B (de) | 1985-04-25 |
ZA826663B (en) | 1983-07-27 |
NL8203518A (nl) | 1983-04-05 |
IT8222974A0 (it) | 1982-08-25 |
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