JPS585273B2 - 硬質金合金被膜の製造方法 - Google Patents

硬質金合金被膜の製造方法

Info

Publication number
JPS585273B2
JPS585273B2 JP9412679A JP9412679A JPS585273B2 JP S585273 B2 JPS585273 B2 JP S585273B2 JP 9412679 A JP9412679 A JP 9412679A JP 9412679 A JP9412679 A JP 9412679A JP S585273 B2 JPS585273 B2 JP S585273B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cyanide
electrodeposition
copper
gold alloy
contain
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP9412679A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5620191A (en
Inventor
小林勉
小林洋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NIPPON DENTO KOGYO KK
Original Assignee
NIPPON DENTO KOGYO KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NIPPON DENTO KOGYO KK filed Critical NIPPON DENTO KOGYO KK
Priority to JP9412679A priority Critical patent/JPS585273B2/ja
Publication of JPS5620191A publication Critical patent/JPS5620191A/ja
Publication of JPS585273B2 publication Critical patent/JPS585273B2/ja
Expired legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は硬質金合金被膜の製造方法に関するものであ
り、特に時計外装や眼鏡枠等所謂高級装身具類の厚付は
性、耐食性、光沢性、色調等を向上させた硬質金合金被
膜の製造方法を提供するものである。
金メツキ被膜の硬質化は耐魔耗性、耐擦傷性が向上し、
商品寿命を長くするばかりか硬質化と共に低金相化が期
待出来る事などから製造コストを低下させ得る等、優れ
た利点を有している。
しかし従来の金メッキは厚付は技術に依存するものであ
って、硬質金メッキと云う場合は250〜300Hv被
膜を云うのが実情に過ぎず金被膜の硬質化の立場で見る
と抜本的な技術の改良はされていない。
本発明はかゝる点に鑑み金メッキに求められる厚付は性
、耐食性、光沢性、色調等を一段と向上させた硬質金合
金被膜の製造方法を提供することを目的としたものであ
る。
本発明による電析合金によれば、概ね金58〜84wt
%、銅8〜25wt%、第8族金属10〜35wtの合
金組成となり硬度は各金属成分の構成並びに第8族から
選択された2種以上の金属の特性によって変化する。
各金相をパラメーターとしてまとめると14〜16にで
400〜450Hv、18Kが300〜400Hv、2
0に250〜350Hv等となりいづれも硬化熱処理に
より更に約100Hv程度の硬度上昇を見るものである
以下本発明の特徴1〜3の内容について具体的に説明す
る。
本発明の第1の特徴は硬質金合金被膜を電析によって製
造する際の電解液がチオリンゴ酸金(金1〜30g/l
を含む)、シアンを含ない可溶性銅塩(銅01〜10g
/lを含む)、シアンを含まない可溶性塩(鉄を除く第
8族金属を少くとも2種類、それぞれについて0.1〜
50g/l含有する)を金属供給成分とする電解液を使
用して金、銅並びに鉄以外の第8族金属2種以上を含む
4元以上の合金電析を製造しようとする点にある。
これらの各成分を含む多元合金を電析によって得ること
は従来の技術では非常に困難であったし、又電析以外の
方法で得られた合金は硬度の点では非常に優れて居る半
面成型加工性が悪く、且つ電析以外では非常に高コスト
となる等様々な障害があって実用化出来ない状況にあっ
た。
金成分の供給源であるチャリンゴ散会は、1g/1未満
の低濃度では厚付は性が低下し耐食性も劣化する。
又30g/1以上の高濃度の場合経済的に見て好ましく
ない事の他極端に高金相となって所定の硬度が得られず
、又くもりややけ等の欠点を生じ易くなる。
したがってこのような領域を回避し濃度を1g/lから
30g/lの間とすれば安定性の極めて高い供給源とな
るものである。
シアンを含まない可溶性銅塩とは硫酸銅、硫酸銅アンモ
ニウム、スルフアミ酸銅、クエン酸銅、EDTA−2N
a−Cu等を意味して居る。
この場合に銅0.1g/1未満の低濃度では、硬質化に
有効な電析か得られ難く、量産安定上の意味からも極端
な低濃度は好ましくない。
又10g/1以上の高濃度の場合はくもりを生じ且つ電
析の好適な合金組成も得られないのでこのような領域を
回避し0.1g/l〜10g/lの範囲でとすれば電析
の好適な合金組成が得られた。
さらに本発明に基く電析多元合金宇金、銅に続く第3位
以下の金属成分として鉄を除く第8族の内から少くとも
2種以上を選択しそれぞれについて0.1〜50g/l
の範囲で含有することを指定しているがこれらの成分の
加入は電析時及び熱処理後の硬度上昇が可能というすぐ
れた効果があるものである。
又シアンを含まないという意味は銅の場合と同じ効果す
なわち硬質化と好適な電析をなすための制限であり一般
に良く知られている殆んどの塩が使用可能である。
これらの成分は0.1g/1未満の低濃度では所定の効
果が得られないが50g/1以上の過剰の場合はくもり
を生じ極端な場合はスス又はスポンジ状のスマット(S
mut)だけのメッキとなる場合もあるのでその量を注
意して用いさえすれば、第8族の中でも白金族は独特の
発色により好ましい色調が得られ耐変色性を向上させる
効果のある一方熱処理による硬化度合を脆化させる事な
く増大させる作用を有する。
次にチオリンゴ酸又は金属塩添加剤を含有することが条
件となるが該チオリンゴ酸を含むときは10g/1未満
の低濃度ではこれらの反応が完全に行われず非常に不安
定な電解度となり極端な場合、金属成分のある種のもの
が加水分解を起こして沈澱を生ずる事がある。
又電析の上では全労の析出が抑止されて適正な合金配合
が得られず耐食性が低下する。
又、400g/1以上の高濃度域での弊害は、極端な高
金相の為、所定の硬度が得られない他くもり等の欠点も
生じ易くなる。
次に電解液のpHがpH8,0未満では殆んど全労が析
出しなくなり、卑な金属が殆んどの電析となつてしまう
又、pH8をはるかに越える高い領域での電析上の支障
は認められないが、建浴作業等の点で極端な高領域は望
ましくないためpH8,0以上の適当な値とすることが
好ましい。
尚電解液の液温は特別のものではない。
即ち後述する液温45℃はその代表的なものであり、当
業者が考えられる範囲でこの値を変化させても問題はな
く、その範囲は一般的には常温〜70℃程度である。
また陰極電磁密度も特別のものでなく、従って0.1A
/dm2程度から水素ガス発生の虞れが生ずる2A/d
m2までの範囲で良い。
本発明の第2の特徴は、上記硬質金合金被膜を電析によ
って製造しようとする場合に電解液に前記チオリンゴ酸
の代わりにAg、Cd、Zn、In、Sb、Se、As
、Teの各金属の内1種以上をシアンを含まない可溶製
塩の型で0.001〜10g/l添加する点にある。
これらの金属塩添加剤は電析に対する光沢性の向上、脆
性防止、その他物性の改善乃至電解条件の改善の目的の
為添加するものである。
但し電析の色調、光沢等に鋭敏な作用がある為過剰はむ
しろ光沢阻害となり好ましくない。
Se、As、Te、については亜酸化物乃至そのアルカ
リ塩に限って電析の効率化と光沢化に効果がある。
このグループの金属も非常に敏感な添加剤であり0.0
01g/1未満では好ましい光沢が表われず10g/l
を越えるものは光沢が阻止されやけ、くもり等の欠等が
あるため、過剰は避けなければならないが適量の添加に
より上記のすぐれた効果をもつ。
さらにAg、Cd、Zn、In、Sbの各金属は後述す
る熱処の適温を低下させる作用があり、従って被電析物
の機械的な強度の保全に有効である、又0.001g/
l〜10g/lの範囲が望ましい点は上述した通りであ
る。
次に本発明の第3の特徴は前記特徴1及び2によって得
られた電析を真空又は低酸化雰囲気内で250℃〜50
0℃の熱処理を行なう事をその内容としている。
上記にて示した熱処理は前記特徴1,2によって得られ
た電析が適切な熱処理によって更に硬化する現象を取り
上げたものであり、雰囲気、温度時間、冷却方法などが
その効果に影響を及ぼす。
熱処理温度は殆んどの場合450℃で良いが若干の高低
はあっても差し支え無い。
但し250℃未満ては硬化度合が不確実で硬度のむら乃
至ばらつきを生じ易く500℃を超える場合は素材の再
結晶温度をはるかに超える事となり素材の構造物として
の強度を失なう恐れがある為避けた方が良く電析合金自
体も再結晶温度に近づき軟化する。
(本発明による電析の溶体化処理温度は概ね700℃付
近である)欠点がある。
又合金中にAg、Ca、Zn、In、Sbが含まれてい
る場合は比較的低温での処理が可能である。
当然の事乍ら低温の場合は低酸化に対する条件がゆるや
かであっても良く工業生産上のメリットが大きい。
処理時間は理想的には100時間程度であるが工業的に
は4〜5時間が適正である。
熱処理後の冷却については普通は室内放冷で良いが下地
等との関係から水冷を要するもの、200℃程度迄炉内
冷却した後放冷又は水冷をした方が良いもの等がある。
〔実施例 1〕 チオリンゴ散会 金として 15g/l硫酸銅ア
ンモニウム 銅として 4g/l硫酸ニッケルアン
モニウム ニッケルとして 10g/l 塩化パラジウムカリウム パラジウムとして 10g/l チオリンゴ酸 80g/l上記組
成の溶液に水酸化ナトリウムを加えてpH11,0に調
整し液温45℃陰極電流密度1.5A/dm2で30分
間電解した処赤紫色の金合金電析が得られ厚みは4.0
μ〜4.5μであった。
その他物性データは次の通りであった。
合金組成 Au78.5% Cu11.0%Ni4.
0% Pb6.5 硬 度 メッキ後339Hv 熱処理後405Hv 人工汗 24H試験 良好 熱処理条件は窒素雰囲気炉450℃5時間後水冷である
〔実施例 2〕 チオリンゴ散会 金として 6g/lチオリン
ゴ酸銅 銅として 5g/lスルファミン酸ニ
ッケル ニッケルとして 20g/l スルファミン酸コバルト コバルトとして 2g/l 塩化ルテニウム ルテニウムとして 15g/1 EDTA−2Na−Zn亜鉛として 0.1g/l上
記溶液を水酸化ナトリウムによりpH9,8とし液温4
5℃、電流密度1.5A/dm2で50分メッキした処
、ハミルトン系色調の光沢金メッキが得られた。
物性データはの通りである。厚 み 7.0〜7.5
μ 合金成分 Au65.5% Cu14.0%Ni12.
5% Co2.0% Ru 5.0% Zn0.5% 硬 度 メッキ後446Hv 熱処理後536Hv 人工汗 24H良好 熱処理条件は実施例1の場合と同じである。
金属塩添加剤として、EDTA−2Na−Znの錯塩を
使用した例を示したが、その理由は分子量が犬であるた
め管理し易いからである。
また錯塩であるのは溶解が容易であるためで、単塩でも
勿論良いがその場合キレートに移行後溶解するので時間
がかゝることが指摘される。
然しながら作用効果は全く同じである。
故に金属塩添加剤に例えば亜鉛として硫酸亜鉛を使用す
ることは自由であり、−向差支えない。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 硬質会合被膜を電析によって製造する際に、電解液
    が下記a〜eの条件を具備した硬質金合金被膜の製造方
    法。 a チオリンゴ散会(全1〜30g/l含有すること) b シアンを含まない可溶性銅塩(銅0.1〜10g/
    l含有すること) c シアンを含まない可溶性塩(鉄を除く第8族金属を
    少くとも2種類、それぞれについて0.1〜50g/l
    の範囲で含有すること) d チオリンゴ酸10〜400g/lを含有すること。 e pHが8.0以上であること。 f 液温が45℃前後、陰極電流密度が1.5A/dm
    2前後であること。 2 硬質金合金被膜を電析によって製造する際に、電解
    液が下記a〜eの条件を具備した硬質金合金被膜の製造
    方法。 a チオリンゴ散会(全1〜30g/l含有すること) b シアンを含まない可溶性銅塩(銅0.1〜10g/
    l含有すること) c シアンを含まない可溶性塩(鉄を除く第8族金属を
    少くとも2種類、それぞれについて0.1〜50g/l
    の範囲で含有すること) d チオリンゴ酸10〜400g/l及び金属塩添化剤
    として、Ag、Cd、Zn、In、Sb、As、Teの
    各金属の内1種以上がシアンを含まない可溶性塩の形で
    0.001〜10g/l含有すること。 e pHが8.0であること。 f 液温が45℃前後、陰極電流密度が1.5A/dm
    2前後であること。 3 硬質金合金被膜を電析によって製造する際に、a
    チオリンゴ散会(全1〜30g/l含有すること) b シアンを含まない可溶性銅塩(銅0.1〜10g/
    l含有すること) c シアンを含まない可溶性塩(鉄を除く第8族金属を
    少くとも2種類、それぞれについて0.1〜50g/l
    の範囲で含有すること) d チオリンゴ酸10〜400g/lのみ或いはこれと
    金属塩添化剤0.001〜10g/lを含有すること。 e pHが8.0以上であること。 f 液温が45℃前後、陰極電流密度が1.5A/dm
    2前後であること。 上記a〜eの条件を具備した電解液を使用し、得られた
    電析を真空又は低酸化雰囲気内で250℃〜500℃の
    熱処理を行なうことを特徴とする硬質金合金被膜の製造
    方法。
JP9412679A 1979-07-24 1979-07-24 硬質金合金被膜の製造方法 Expired JPS585273B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9412679A JPS585273B2 (ja) 1979-07-24 1979-07-24 硬質金合金被膜の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9412679A JPS585273B2 (ja) 1979-07-24 1979-07-24 硬質金合金被膜の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5620191A JPS5620191A (en) 1981-02-25
JPS585273B2 true JPS585273B2 (ja) 1983-01-29

Family

ID=14101719

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP9412679A Expired JPS585273B2 (ja) 1979-07-24 1979-07-24 硬質金合金被膜の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS585273B2 (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3929569C1 (ja) * 1989-09-06 1991-04-18 Degussa Ag, 6000 Frankfurt, De
CN105506686A (zh) * 2015-12-23 2016-04-20 苏州市金星工艺镀饰有限公司 一种装饰性镍铜金三元合金电镀液的电镀方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPS5620191A (en) 1981-02-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Brenner et al. Deposition of nickel and cobalt by chemical reduction
CA2230330A1 (en) Alkaline zinc and zinc alloy electroplating baths and processes
FR2550229A1 (fr) Procede et bain pour le depot electrolytique de zinc et d'alliages de zinc
FR2658536A1 (fr) Compositions et procedes d'electrodeposition.
JPH05271980A (ja) パラジウム−ニッケル合金メッキ液
JP3674887B2 (ja) 銅−スズ合金メッキ用ピロリン酸浴
JPS581082A (ja) 亜鉛合金メッキ浴及び方法
JPS58210189A (ja) 縮合重合体光沢剤を含有する亜鉛合金めつき浴
JPH049875B2 (ja)
US5085744A (en) Electroplated gold-copper-zinc alloys
JPS63203790A (ja) シアン化合物を含まない光沢銅−亜鉛合金電気めつき浴
US4048023A (en) Electrodeposition of gold-palladium alloys
US4772362A (en) Zinc alloy electrolyte and process
JPS6141999B2 (ja)
JPS585273B2 (ja) 硬質金合金被膜の製造方法
USRE24582E (en) Method and electrolyte for
JPS604920B2 (ja) 耐摩耗性良好な黒色ロジウムメッキ被覆物品の製造方法
US3374156A (en) Electro-depositing stainless steel coatings on metal surfaces
FR2519656A1 (fr) Procede de revetement electrolytique de chrome trivalent sans formation d'ion chrome hexavalent, en utilisant une anode en ferrite
JPH0321637B2 (ja)
JP2522101B2 (ja) ニッケル―モリブデン合金めっき浴及びめっき方法
JPS6353278B2 (ja)
CA2105814A1 (en) Platinum alloy electrodeposition bath and process for manufacturing platinum alloy electrodeposited product using the same
JPH0578882A (ja) ニツケル−リン合金メツキの形成方法
JPH0124230B2 (ja)