JPS58500567A - シ−ト状または造形した陽イオン交換膜の製造法 - Google Patents

シ−ト状または造形した陽イオン交換膜の製造法

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JPS58500567A
JPS58500567A JP50186481A JP50186481A JPS58500567A JP S58500567 A JPS58500567 A JP S58500567A JP 50186481 A JP50186481 A JP 50186481A JP 50186481 A JP50186481 A JP 50186481A JP S58500567 A JPS58500567 A JP S58500567A
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    • C08J2327/18Homopolymers or copolymers of tetrafluoroethylene

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 シート状または造形した陽イオン交換膜の製造法発明の背景 本発明は、バッテリーおよび燃料電池ならびに電気化学的槽たとえばクロルアル カリ槽におけるセパレーターとして有用な、強化されたまたは強化されない、シ ート状または造形した陽イオン交換コポリマーの改良された製造法に関する。こ れらの材料は、酸触媒の改良された製造法においても有用である。
本発明に含まれる典型的な陽イオン交換コポリマーは、米国特許第3.282. 875号に開示されたフルオロカーボンビニルエーテルポリマーである。この特 許は、スル ゛ホニル基ヲ有するフルオロカーボンビニルエーテルと7ツ素化ビ ニル化合物との共重合を開示している。米国特許第8,282.875号に記載 されている種々のコポリマーのウチにハ、テトラフルオロエチレンとペルフルオ ロ(3,6−シオキソー4−メチル−7−オクテンスルホニルフルオライド)と の共重合により製造されたコポリマーがある。これは、今日商業的に使用されて いる膜のほとんどの製造に用いられている基材コポリマーである。
本発明において有用な陽イオン交換樹脂の他の例は、米国特許第3,718.6 27号に記載されているものである。開示されているイオン交換樹脂は、テトラ フルオロエチレンと式CF2= CF (CF2) n S 02Fの化合物と のコポリマーである。
2 先行技術のこれらの材料のいずれも重合後、コポリマーは加水分解してそのイオ ン交換特性を得なくてはならない。典型的には、このような材料は力性アルカリ で処理シて、ハロゲン化スルホニルをそのアルカリ金属塩に変える。
しかしながら、スルホン酸基のみを含有するこれらの既知のベルフルオーロカー ボン型陽イオン交換膜は、ノ・ロゲン化アルカリ金属の水溶液の電解に2いて使 用するとき、スルホン酸基の高い親水性のため、陰極室からの逆移動によシ過度 のヒドロキシルイオン全透過させる傾向があるという欠点を有することがわかっ た。結局、電解中の電流効率は、力性アルカリ濃度が高いとき、低い。
極端に力性アルカリ濃度が高いとき、この方法は、塩化ナトリウム溶液の他の電 解法、たとえば、水銀法または隔膜法に比べて、経済的に不利となる。この低い 電流効率の欠点を多くの手段によシ回避する試みが、多くなされてきた。初め、 この技術において、スルホン酸基の数を少なくした膜、換言すると、当量が大き い膜を使用することが試みられた。このようなスルホン酸基濃度を低くすること 、すなわち膜の当量を増加することは、ヒドロキシルイオンの逆移動を事実制限 するが、膜の導電性を著しく減少し、こうして動力消費の比例的増加が認められ る。
この問題のある数の解決が、先行技術において試みられてきた。このような試み の典型は、陰極側の膜材料のする一試みである。1つのこのような試みは、低い 当量の膜の表面に、高い当量の材料の薄い表面層を積層して、逆移動を最小とす ることであった。この試みは、成功しなかった。なぜなら、このような積層した 膜はよく接合せず、そして使用KEいて分離し、極端な場合に8いて、破れる傾 向があるからである。この積層技術それ自体は、溶融加工可能なコポリマーを薄 いシートにカレンダー加工するとき高い温度を必要とすることがら、コポリマー 材料に多くの応力を与える。コポリマー材料は溶融加工可能であるが、その流動 温度は分解が起こりつる温度に非常に近接する。こうして、溶融加工法は厳密に 制御しなくてはならず、最もよくても困難である。
たとえば、クロルアルカリ槽に3けるヒドロキシルイオンの逆移動を減少するこ とによシ、膜の槽を改良する後の試みは、膜の陰極表面を、アミン、たとえば、 汚ノアミンまたはジアミンまたはアンモニアで処理すること、あるいはスルホニ ル膜を表面変性して陰極に面する表面層を対応するカルボキシル材料に変えるこ とであった。
この方法の典型は、ここに引用によって加える米国特許第4.151,058号 に記載されている方法である。
過去における本発明のコポリマー材料の薄いシートの製造は、前に非常に長たら しいと表現してきた。コポリマー材料は溶融され、そして要求される厚さにカレ ンダー加工される。強化用布はくを膜のシートと一緒に含める場合、問題がさら に生じた。加工温度に8けるコポリマー材料の流動性が制限され、そして流動性 を改良するために温度をさらに上昇させる場合、ポリマー材料が分解するからで ある。はとんどすべての場合において、膜材料は十分にがんじようにするために 強化して、意図する経済的に有益であるようにしなくてはならない。布はくで強 化したシート状膜の製造において直面する問題は、米国特許第4.147,84 4号において見いだすことかできる。
発明の要約 スルホニル基および/またはカルボキシル基を含有スる高度にフッ素化された陽 イオン交換膜は、種々の工業において広く使用されてきている。たとえば、この ような材料はクロルアルカリ膜の槽において、そして酸触媒として使用される。
これらの生成物の高度にフッ素化した性質は、多数の加工の問題を生ずる。なぜ なら、このような材料が陽イオン交換材料として有用であることがわかった当量 範囲に2いて、ポリマーは本発明の以前において不溶性であったからである。本 発明の方法によれば、陽イオン交換材料の前駆樹脂、すなわち、スルホニルフル オライド、カルボニルフルオライド1、スルホネートエステル、またはカルボキ シレートエステルを含有スるコポリマー材料は、過ハロゲン化アルキルエーテル の低分子量ポリマー、過ノ・ロゲン化アルキルの低分子量ポリマー、およびペル フルオロケロシンから成る群より選ばれ、約200°C〜350℃の間の沸点を 有する溶媒中に溶解しうることがわかった。イオン交換部位を含有するポリマー のこの前駆物質は、この明細書中で、中間ポリマーと呼ぶ。溶媒含量が高いこの ような中間ポリマーの溶解により、多くの制御容易な加工技術を行うことができ 、これらの技術によシ中間ポリマーから、より均一な目的生成物が生成する。た とえば、このような溶媒技術は吹付け、浸漬、ローリング、塗布および他の被覆 技術を用いて、中間ポリマーの均一な被膜またはシートを製造できる。同様に、 異なる当量の中間ポリマーを含有する層状生成物は1、異なる中間樹脂および/ または異なる陽イオン交換基を含有する層状生成物と同じように、利用できる。
コポリマーのイオン交換材料は、技術的によく知られている。典型的には、これ らはコポリマーへ結合したスルホン酸基またはカルボン酸基またはそれらの塩を 含有する高度にフッ素化した樹脂である。有用であることがわかった、前記樹脂 の当量、すなわち、陽イオン交換基のモル数で割った樹脂の分子量の範囲は、一 般に1000〜1600である。しかしながら、この当量範囲における高度にフ ッ素化した材料は、高度にフッ素化した性質のため特別な加工技術を必要とする ポリテトラフルオロエチレンに多少類似するので、加工がきわめて困難である。
陽イオン交換材料はイオンの形で加工されず、むしろこの明細書中で中間ポリマ ーと呼ぶ前1駆物質の形で加工される。中間ポリマーとは、イオン形態に変えら れる前のコポリマー樹脂の形態を意味する。この中間形態にCおいて、分子のス ルホニル部分はスルホニルフルオライドまたはスルホネートエステルの形態であ る。カルボキシル基が存在するとき、それはカルボニルフルオライドまたはカル ボキシレートエステルの形であることができる。この前駆物質すなわち中間樹脂 は熱可塑性すなわち溶融加工可能であり、こうして、シートまたは他の造形され た形状物を造形および成形する先行技術は、中間ポリマーの個々の粒子を結合し て所望の形状の材料を得るために、熱プレス、カレンダー加工、成形などの技術 を包含した。このような加工における自由度は、きわめて制限される。なぜなら 、得られる材料はきわめて感熱性であり、そして成形工程における過熱は、事実 、得られる陽イオン交換材料の実用性を減少しうるからである。
先行技術における材料の加工時のそれ以上の困難は、中間ポリマーを布はくなど で強化しようとするとき、生ずる。典型的なこのような方法は、米国特許第8. 925゜135号に開示されている。
本発明に3いて中間ポリマーの溶媒の発見により、このような加工の困難は克服 され、そしていかなる大きさのシートまたはいかなる大きさの2ミネートも、高 度に特殊化された装置を用いないで、単に流延、塗装、浸漬または他の標準の技 術により、次いで熱、真空および/71鎗’:j 5B−500567(5)ま たは溶媒ス) IJツブ技術により、溶媒を除去することによって、容易に製造 することができる。このようにして製造されたフィルムまたは強化されたフィル ムまたは他の造形物の寸法は、厳密に制御できる。
イオン交換部位を含有するポリマーの前駆物質である中間ポリマーは、フッ素置 換ビニル化合物のモノマーから製造する。ポリマーには、少なくとも2種のモノ マーと、後述する2つの群の各々から選ばれるモノマーの少なくとも1一種とか らつくられたものが包含される。第1の群はフッ素化ビニル化合物、たとえば、 フッ素化ビニル、ヘキサフルオロプロピレン、フッ素化ビニリデン、トリフルオ ロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、ペルフルオロ(アルキルビニルエー テル)、テトラフルオロエチレンおよびそれらの混合物からなる。
第2の群は、スルホン酸側基、カルボン酸側基および望ましさに劣るがリン酸側 基を含有するモノマーまたはそれらの側基を含有する陽イオン交換材料に変える ことができる七ツマ−を包含する。同じイオン交換基を形成しつるエステルまた は塩を使用することもできる。さらに、第2群のモノマーは、官能基を含有する こともできる。この官能基にイオン交換基を導入することができ、そしてこのよ うな官能基の例は炭素、窒素、ケイ素、リン、イオウ、塩素、ヒ素、セレンまた はテルルのオキシ酸、塩、またはエステルである。
第2群のモノマーの好ましい族の1つは、前駆物質−−−−5o2Fまたは一− −SO3アルキルを含有するスルホニル含有モノマーである。このようなコモノ マーの1つの例は、CF2= CFS O2Fである。追加の例は、一般式 ・ CF2= CFRf S O2Fで表わされ、ここでRfは2〜8炭素原子を含 有する2官能価の過フッ素化基である。スルホニル基をコポリマー鎖へ結合する 基の特定の化学的含量または構造は、重要でなく、スルホニル基が結合する炭素 原子に結合したフッ素、塩素または水素原子を有することができるが、炭素原子 は結合した少なくとも1つのフッ素原子をもたなくてはならない。スルホニル基 が連鎖へ直接結合している場合、それが結合している連鎖中の炭素原子はそれへ 結合しているフッ素原子をもたなくてはならない。前記式のRf基は枝分れして いても、枝分れしていなくても、すなわち厘鎖であることもでき、そしてlまた は2以上のエーテル結合を有することもできる。この群中のスルホニルフルオラ イド含有コモノマーのビニル基はRf基へエーテル結合を介して結合しているこ と、すなわちコモノマーは式CF2=CFORfSO2Fをもつことが、好まし い。このようなスルホニルフルオライド含有コモノマーの例は、次のとおりであ る:および 最も好ましいスルホニルフルオライド含有コモノマーは、次式のペルフルオロ( 3,6−シオキサー4−メチル−7−オクテンスルホニルフルオライド)である :スルホニル含有モノマーは、次の米国特許に開示されている:米国特許第8. 282,875号(Connolly etal)、同第8,041,817号 (Gibbs et al)、同第8.560,568号(Resnick)お よび米国特許第8.718.627号(Grot)。
好マしい中間コポリマーは、ペルフルオロカーボン、すなわち、過フッ素化物で あるが、ポリマーのスルホニル基へ結合する炭素原子へ結合されたフッ素原子が 存在するかぎシ、他のコポリマーを使用できる。最も好ましいコポリマーは、テ トラフルオロエチレンとペルフルオロ(3,6−シオキサー4−メチル−7−オ クテンスルホニルフルオンイド)とのコポリマーであシ、後者のコモノマーはコ ポリマーの10〜60重量係、好1しくは25〜50重量係を構成する。
中間コポリマーは、フッ素化エチレンのホモ重合および共重合に開発された一般 的重合技術、とぐに文献に記10 載されているテトラフルオロエチレンについて用いられている重合技術により、 製造される。本発明のコポリマf ) 7 フルオロエチレンとスルホニルフル オライド含有フッ素化エチレンを、遊離基開始剤、好ましくはペルフルオロカー ボンペルオキシドまたはアゾ化合物の存在で、0°C〜200℃の範囲の温度忘 よび1〜200気圧以上の圧力において、重合する、米国特許第8.041,3 17号(Gibbs et al)の方法を包含する。この非水性重合は、必要 に応じて、フッ素化溶媒の存在で実施できる。
適当なフッ素化溶媒は不活性の液状過フッ素化炭化水素、タトエハ、ペルフルオ ロメチルシクロヘキサン、ペルフルオロジメチルシクロブタン、1 + 1 +  2− ) !Jジクロロリフルオロエタン、ペルフルオロオクタン、ペルフル オロベンゼンなどである。
中間コポリマーを製造する水性技術の例は、米国特許第2.898.967号( Brubaker)に開示されているように、モノマーを遊離基開始剤含有水性 媒質と接触させて、水でぬれていない、すなわち粒体の形のポリマー粒子のスラ リーを得る技術、および、たとえば、米国特許第2.559,752号(Ber ry)および同第2.59&588号(Lontz) に訓示されているように 、遊離基開始剤とテロゲン的に不活性な分散剤との両者を含有する水性媒質と七 ツマ−を接触させて、ポリマー粒子の水性コロイド状分散液を形成し、そしてこ の分散液を凝固する技術11i表昭58−5(io5G7 (6)である。
中間ポリマーをイオン交換部位含有ポリマーへ変えることは、スルホニル基(− 8OJまたは−SO3アルキル)をSO3X (ここでX−水素またはアルカリ 金属)に変えることによる。変えられたポリマーは、イオン交換部位として存在 する複数のスルホネート基をもつフッ素含有ポリマーである。これらのイオン交 換部位は、ポリマーの側鎖中に含有され、そして少なくとも1つのフッ素原子が 結合する個々の炭素原子へ結合されている。中間ポおよび同第8.784.89 9号(Grot)に2いて既知の技術によることができる。
第2群のモノマーの他の好ましい族は、カルボキシル基ヲスルホニル基の代わり に使用する、スルホニルモノマーニラいて前述した構造のカルボキシル含有モノ マーである。しばしば、最終コポリマーは、米国特許第4.151.053号( 第7欄第37〜64行参照)に説明されているような転化法のため、対応するス ルホニルコポリマーより1つ少ない炭素原子を含有する。この群に2いてとくに 好ましいモノマーの例は、次のと′j6シである: CF2=CF−0−CF2=FCCFs)(XCFt)2C00CH3gよびC F2=CF−0−CF2CF(CF3)OCF2COOCH5゜このようなモノ マーは、米国特許第4,151,058号2 捷たけ、特公昭52−88486号の教示に従い製造できる。共重合法は、同様 に開示されている。
本発明の好ましい可溶性コポリマーは、100.0〜1600の範囲、最も好ま しくは1000〜1300の範囲の当量を生ずるように、10〜60重量%、さ らに好ましくは25〜40重量%の第2モノマーからなるものである。
また、本発明の可溶性フルオロポリマーは、式%式% 式中Xはスルホニルフルオライド、カルボニルフルオライド、スルホネートエス テルまたはカルボキシレートエステルT6.D、そしてYはスルホニル(−Sa 2−)またはカルボニル(−CO−)である、で表わされるカルボキシル基およ び/またはスルホニル基の存在によって特徴づけられる。
前述の中間ポリマーは、後に開示する特定の溶媒を使用することによってのみ、 溶解することができる。
本発明において有用な溶媒は、過ハロゲン化アルキルおよび/またけ過ハロゲン 化アルキルエーテルの、200℃〜350℃の沸点範囲の、低分子量ポリマーで ある。
クロロトリフルオロエチレンー−((’F2CFCL )?L −−(式中nは 5〜15である)の、約200℃〜350℃の沸点範囲の、オリゴマーまたはテ ロマー、および約200℃〜350℃の沸点範囲のペルフルオロケロシンは、と くに好ましい。
商業的に入手できる典型的な過ハロゲン化アルキル溶媒は、ハロカーボン・プロ ダクツ社(Ha l o carbon Pro−1Hα1ocarbon 0 ils ”である。クロロトリフルオロエチレンのこれらの飽和低分子量ポリマ ーのうち−で、Halo−carbon Oil 11−14およびHaloc arbon Oil 11−21はとくに好ましい。本発明において有用な同様 な溶媒は、フッカ−・ケミカル社(Hooker Chemical Cor− porat i on、 Niagara Fal l s r New Yo rk)HのFLUOROLUB$S■テアル。FLUOROLUBES@17) うちで、Fluorolubes FS−5jJよびMO−10は好ましい。
また、フランス国パリのウギネ・クールマン社(Ugine Kuhlmnnn )は、Voltal’eg■油系列のりo。
トリフルオロエチレンの低分子量ポリマーを提供している。本発明に8いて有用 なこの会社からの典型的な溶媒は、Voltalef■10−8であろう。
本発明の溶液の典型的な実施例は、次のとおシである。
425gのHalocarbon Oil 11−21と599のHaloca rbon Oil 11−14 との混合物中の56gの1200EW中間樹脂 2よび66&の1l105A7中間樹脂から構成された溶液を、流動した砂浴中 に沈めた長方形のガラス槽中で245℃に加熱することによって調製した。中間 樹脂はテトラフルオロエチレンとベルフルl4 オロ(3,6−シオキサー4−メチル−7−オクテンスルホニルフルオライド) とのコポリマーであった。この透明なゲルを含まない溶液中にデュポン社(E、 1.、←Pont de Nemours & Co、 + Inc、)から得 られたテフロン(Teflon) T −26C布のlQX10cm正方形の片 を5秒間浸漬した。
得られた強化された膜を、塩化メチレン中に一夜浸漬して置き、5〜6時間空気 乾燥し、次いで乾燥を炉内で20 間にわたって完了し、温度を100℃から1 20℃にゆっくり上げ、この時点でポリマーは透明となり、そしてほぼ4ミル( 0,10mm)の窓の厚さを有した。この強化された膜の1つの側を5ミル(0 ,18mm)のテフロンフィルムで閉塞し、そしてこの膜/フレームアセンブリ ーをカルボキシル型中間樹脂溶液中に再浸漬した。
カルボキシル型中間樹脂溶液は、次のようにしてつくった:はぼ1050の当量 を有するテトラフルオロエチレン/ CF2=CFOCF2CF (CFs )  OCF2CF2CQ2 CHsコポリマーを、225℃の流動した砂浴中に沈 めた長方形の容器に含有された429gのHaloccarbon Oil 1 1−21と59 、li’ 77)Halocarbon Oil 11−14 との混合物中に溶かした。この浸漬の滞留時間は5秒であった。225℃で15 分乾燥した後、膜は約4ミル(0,10mm)の追加の厚さを有した。水性ジメ チルスルホキシド中の水酸化カリウムで加水分解した後、フィルムを2隔室の実 験室電解槽(活性面積、3平方インチ= 19.4cIn2)中でセパレーター としてカルボキシ側を陰極に向けて使用した。
90℃および2アンペア/平方インチ(o、s iアンペア/cm2)の電流密 度の標準の操業条件下で、この槽は444E/、/lの濃度で水酸化ナトIJウ ムを生成し、電流密度は82.9%、摺電位は4.83ボルトであった。
デュポン社から入手できるカリウムスルホネート型の市販のT−26C強化され た5ミル(0,18酎)の1100当量のナフイオ7 (Nafion)シート の10×10Crn平方の片を、1010X10鋼フレームに1つの側面を5ミ ル(0,18mm)のテフロンフィルムで閉塞して取り付けた。この取り付けた シートを実施例1のカルボキシ中間樹脂中に225℃以上に2いて10秒間浸漬 した。225℃で15分間乾燥した後、この膜は約2ミル(0,05+am)の 追加の厚さを有した。水性ジメチルスルホキシド中の水酸化カリウムで加水分解 した後、このほぼ黒色のフィルムを上の実施例1の加水分解装置中でセパレータ ーとして、カルボキシ側が陰極に面するようにして、使用した。90℃および2 アンペア/平方インチ(0,31アンペア/cIn2)の電流密度の標準操業条 件下で、この槽は水酸化ナトリウムを4429/IIの濃度で92.2チの電流 効率8よび4.03ボルトの摺電位において製造した。
実施例a T−900クロス(デュポン社から得られたレーヨン6 繊維が散在するテフロン繊維から構成した密に織った材料)の10×10cmの 正方形の片を10×10crnの鋼フレームに取り付け、232IのHaloc arbon Oil 11−21と314IのFluorolufeFS−5と の混合物中に溶けた、上の実施例の614の1200当量の中間樹脂の溶液中に 浸漬した。溶液の温度は247℃であシ、そしてT−900クロスの浸漬中の滞 留時間は30秒間であった。この膜を、冷却後、塩化メチレン中に一夜を浸漬し 、次いで5〜6時間空気乾燥し、次いで20時間かけて炉乾燥し、温度を100 ℃から120℃にゆつ〈シ上げ、この時点でポリマーは透明となった。次いでこ の試料を1つの側面においてエチレンジアミンと、スルホンアミド層が約1ミル (0,025mm)の厚さとなる条件下で、反応させた。このEDA処理した膜 を水性ジメチルスルホキシド中の10%の水酸化ナトリウムに90°Cで3時間 暴露して加水分解し、最後に3平方インチ(19,4Cm2)の活性面積を有す る2つの隔室の実験室用電解槽中にセパレーターとして、ジアミン処理した側面 を陰極に向けて、取シ付けた。次いでこの槽を使用して90℃および2アンペア /平方インチ(0,31アンペア/cm2)の電流密度の標準操業条件下で、塩 化ナトリウム水溶液を加水分解し、この槽は8009/lの水酸化ナトリウムを 71.3%の電流効率で4.86ボルトの摺電位において製造した。
7 T−900クロスのlO×10cmの平方片を10×10clnの鋼フレームに 取り付け、61gのカルボキシ中間樹脂を483gのHalocarbon O il 11−21と669のHalocarbon Oil 11−14との混 合物中に含有する溶液に浸漬した。前記中間樹脂は、当量1125のテトラフル オロエチレンとCF2=CF 0CF2CF (CF3) 0CF2CF2 に ’ 02CHs とのコポリマーであった。溶液の温度は225℃であり、そし て滞留時間はほぼ5秒であった。
この膜を225℃で機械的対流炉中で乾燥し、そして浸漬/乾燥法をさらに2回 反復して、合計3回の浸漬を行った。水性ジメチルスルホキシド中の水酸化カリ ウムでけん化した後、それを前の実施例の電解槽中に配置した。
90℃および2アンペア/平方インチ(OJ1アンペア/cm2)の標準の操業 条件下で、この槽は8’85jj/lの水酸化ナトリウムをほぼ85%の電流効 率で4.97ボルトの摺電位に2いて製造した。
実施例& ぺ07 (PellofL)A C−1888(ペロン社CPe1lonCor pration)製の不織ポリアミド布はく〕の10×10crnのシートを1 QX1’oCmの鋼フレームに取り付け、上の実施例3の中間樹脂溶液に238 ℃に8いて30秒間浸漬した。被覆したシートを塩化メチレン中に一夜浸漬し、 5〜6時間空気乾燥し、次いで20時間炉乾燥し、ここで温度を100℃から1 20℃にゆっくり上昇させ、この時点でポリマーは透明となった。この膜を水性 ジメ18 チルスルホキシド中の10%の水酸化ナトリウムに90℃で3時間暴露して加水 分解した後、この膜をセメレーイ/チ(19,4CIn2)、中に取り付けた。
90℃2よび2アンペア/平方インチ(0,31アンペア/cIn2)の゛直流 密度の標準操業条件下で、この槽は846 g/lの水酸化ナトリウムを85% 以上の電流効率および3.57ボルトの摺電位で製造した。
ペロン1531D(ペロン社製のビスコースレーヨンの不織布)の1010X1 2のシートをテトラフルオロエチレンとペルフルオロ(3,6−シオキサー4− メチル−7−オクテンスルホニルフルオライド)とのコポリマーである、120 0当量の中間樹脂の91.5gの、467IのHalcarbon Oil 1 1 14と52 、j9 ノHalocarbonOil 11−21との混合 物中の溶液に浸漬した。この溶液の温度は237℃であシ、浸漬の滞留時間は5 秒であった。強化した膜を塩化メチレン中に一夜浸漬し、次いで炉内で20時間 完全に乾燥し、温度を100℃から120℃にゆっくり上昇し、この時点におい てポリマーは透明となった。得られたシートを次に1つの側面においてエチレン ジアミンで処理し、水性ジメチルスルホキシド中の水酸化カリウムで加水分解し た。このシートを前の実施例の電解試験槽にセパレーターとして、エチレンジア ミン処理した側面を陰極に向けて、設置すると、この槽19 特許昭58−50 0567 (8)は4619/11の水酸化す) IJウムを76.7%の電流 効率で5.71ボルトの摺電位に8いて、90℃および2アンペア/平方インチ (0,31アンペア/cm2)の電流密度の標準操業条件下で、製造した。
本発明の溶媒は、中間ポリマーがスルホニルフルオライド、スルホニルクロライ ド、スルホネートエステルまたはカルボキシエステルの形であるとき、中間ポリ マーを当量に依存して約30重量%まで完全に溶解することができる。この溶液 を調製するとき、通常適当量の中間ポリマーと溶媒を混合し、そして溶媒の沸点 以下の温度に加熱する。典型的には、加熱は通常は220℃〜260℃の範囲の 温度まで行う。これらの温度を用いると、中間ポリマーの全溶解は、当量、温度 、ポリマーの添加量およびかきまぜに依存して、24時間までに起こる。01つ たん溶解すると、中間ポリマーは、流延して、任意の可能な寸法の膜を形成し、 そして溶媒を単に除去することによシ、固体状態にもどすことができる。また、 布はくの強化材、たとえば、種々の織り方、開口度および表面状態のテフロン( Teflon)の布はくを同じ方法で包封して、応力が”存在しない、厳密にコ ントロールされた、均一な厚さの強化された膜を形成できる。さらに、このよう な強化用布はくは、これらの溶解された中間ポリマーの熱溶液中に浸漬すること ができる。厚い膜を望むとき、多数回の浸漬を行うことができる。この熱い中間 ポリマー溶液中への浸漬技術は、この分野で知られたマン0 トレル、フレーム、連続ロール塗布技術または他の方法を用いることができる。
過剰の溶液を被覆した材料からしたたり落させ、そして過剰の溶媒を材料からし み出させる。次いで被覆した強化用布を塩化メチレン中に、または好ましいクロ ロトリフルオロエチレンテロマーの他の所定の溶媒中に浸漬し、そしである期間 後、取り出し、空気乾燥し、次いで炉内で熱処理する。この熱処理は、残留する 塩化メチレンを除去することを目的とし、そして100℃で4時間熱処理し、次 いでほぼ3時間かけて温度を220℃にゆつくシ上昇さぜると、完全に満足すべ き結果が得られることがわかった。塩化メチレンを用いる前述の抽出法は、中間 ポリマーがスルホキシド・ライドの形で系に最も有用である。中間ポリマーがカ ルボキシエステルの形であるとき、抽出は不必要でアシ、そして得られるフィル ムまたは強化された膜は225℃に非常に短かい時間、たとえば、1〜15分間 加熱することによって、直接硬化できる。加熱前、フィルムまたは強化された膜 は、溶媒が含まれているために、くもっている。しかしながら、加熱後、フィル ムのくもりは消失する。
非対称膜も、前述の技術により、たとえば、多数回の浸漬により、製造できる。
こうして、種々の当量のラミネートEよび非対称カルボン酸/スルホネートまた はスルホンアミドのラミネートを製造することができる。多くの場合において、 多数回の浸漬または被覆の技術を用いて、フィルムまたは強化された膜中のピン ホールの不存在を保証することが好ましい。多数回の被覆技術を用いるとき、被 膜間の表面の精製を必要に応じて行うことができる。表面の精製はフレオン型溶 媒を用いて実施できるが、このような精製は必要ではない。
本発明の溶液の好ましい配合は、はとんどの形成技術における使用容易性からみ て、1〜30重量矛の中間ポリマーを溶液が含有するようなものである。
国際調査報告

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、少なくとも2種のモノマーから重合され、1種の前記モノマーは少なくとも 1種のフッ素化ビニル化合物から本質的に成シ、そして前記他のモノマーは少な (とも1種の構造式 式中Rfは2〜8炭素原子を含有し、これらの炭素原子が1または2以上の酸素 原子で中断されていてもよい、2官能価の過フッ素化基であり、そしてXはスル ホニルフルオライド、カルボニルフルオライド、スルホネートエステル2よびカ ルボキシレートエステルから成る群より選ばれる、 のモノマーから本質的に成る、造形ポリマー材料を形成するにあたり、前記ポリ マー材料を過)・ロゲン化アルキルエーテルの低分子量ポリマー、過ノ・ロゲン 化アルキルの低分子量ポリマー2よびペルフルオロケロシンから成る群より選ば れ、約200℃〜350℃の間の沸点を有する少なくとも1種の溶媒中に溶解し :前記溶解したボして、前記zIJマー材料を造形した形に再固化する、ことを 特徴とする方法。 2 前記他ノ七ツマ−はCF2== CFOCF2CF (CFs)0(、CF 2)2SO2Xであり、ここでXはフッ素または低級アルコキシである請求の範 囲1項に記載の方法。 ((CF2)2 C02Rであり、ここでRは低級アルキルである請求の範囲1 項に記載の方法。 生 前記他のモノマーはCF2== CFOCF2CF (CFs) 0CF2 C・Q2Rであシ、ここでRは低級アルキルである請求の範囲1項に記載の方法 。 丘 前記フッ素化ビニル化合物はテトラフルオロエチレンである請求の範囲1. 2.3または4項に記載の方法。 巳 少なくとも2種のモノマーから重合され、1種の前記モノマーは少なくとも 1種のフッ素化ビニル化合物から本質的に成り、そして前記他のモノマーは少な くとも1種の構造式 式中Rfは2〜8炭素原子を含有し、これらの炭素原子が1または2以上の酸素 原子で中断されていてもよい、2官能価の過フッ素化基であシ、そしてXはスル ホニルフルオライド、カルボニルフルオライド、スルホネートエステル8よびカ ルボキシレ、)エステルから成る群より選ばれる、 のモノマーから本質的に成る、造形ヒリマー材料を形成24 するにあたり、前記メリマー材料を式−(CF2CFCl)n(式中nは5〜1 5の整数である)のオリゴマーBよびテロマーから成る群より選ばれた溶媒の少 なくとも1種中に溶解し;前記溶解したセリマー材料を造形し;その後、それか ら前記溶媒を除去して、前記、f+)マー材料を造形した形に再固化する、こと を特徴とする方法。 7 前記側のモノマーはCF2−−CFOCF2CFCCF3’)0(CF2) 2S 02Xであり、ここでXはフッ素または低級アルコキシである請求の範囲 6項に記載の方法。 & 前記側のモノマーはCF2−−CFOCF2CF(CF3)O(CF2 ) 2 CO2Rであシ、ここでRは低級アルキルである請求の範囲6項に記載の方 法。 α 前記側のモノマーはCF2==CFOCF2CF(CF3)OCF2C02 Rであり、ここでRは低級アルキルである請求の範囲6項に記載の方法。 1α前記フツ累化ビニル化合物はテトラフルオロエチレンである請求の範囲6. 7.8または9項に記載の方法。 1t 少なくとも2種のモノマーから重合され、1種の前記モノマーは少なくと も1種のフッ素化ビニル化合物から本質的に成り、そして前記側のモノマーは少 なくとも1種の構造式 %式% 式中Rfは2〜8炭素原子を含有し、これらの炭素原子が1または2以上の酸素 原子で中断されていてもよい、2官能価の過フッ素化基であり、そしてXはスル ホニルフルオライド、カルボニルフルオライド、スルホネートエステル2よびカ ルボキシレートエステルから成る群より選ばれる、 のモノマーから本質的に成る、造形1+)マー材料を形成するにあたり、前記セ リマー材料を約200℃〜350℃の間の沸点を有するペルフルオロケロシンか ら成る溶媒中に溶解し;前記溶解した。f +)マー材料を造形し:その後、そ れから前記溶媒を除去して、前記ヒリマー材料を造形した形に再固化する、こと を特徴とする方法。 12、前記側のモノマーはCF2==CFOCF2CF(CF3)0(CF2) 2SO2Xであり、ここでXはフッ素または低級アルコキシである請求の範囲1 1項に記載の方法。 1a 前記他ノモノマーはCF2== CFOCF2CF (CF3) 0(C F2)zcO2Rであり、ここでRは低級アルキルである請求の範囲11項に記 載の方法。 14前記他ノモノマーはCF2==CFOCF2CFCCF3)OCF2Co2 Rであり、ここでRは低級アルキルである請求の範囲11項に記載の方法。 1a 前記フッ素化ビニル化合物はテトラフルオロエチレンである請求の範囲1 1,12.13または14項に“記載の方法。 1G 少なくとも2種のモノマーから重合され、1種の前6 記モノマーは少なくとも1種のフッ素化ビニル化合物から本質的に成シ、そして 前記側のモノマーは少なくとも1種の構造式 式中Rfは2〜8炭素原子を含有し、これらの炭素原子が1または2以上の酸素 原子で中断されていてもよい、2官能価の過フッ素化基でちゃ、そしてXハスル ホニルフルオライド、カルボニルフルオライド、スルホネートエステル2よびカ ルボキシレートエステルから成る群よシ選ばれる、 のモノマーから本質的に成る、前記セリマー材料を過ハロゲン化アルキルエーテ ルの低分子量ピリマー、過ハロゲン化アルキルの低分子量ヒリマーおよびペルフ ルオロケロシンから成る群より選ばれ、約200℃〜350℃の間の沸点を有す る少なくとも1種の溶媒中に溶解し;前記溶解したI+)マー材料を造形し:そ れから前記溶媒を除去して、前記、f +)マー材料を造形した形に再固化し; その後、前記再固化したポリマー材料を加水分解する、ことを特徴とする造形し た陽イオン交換樹脂を形成する方法。 17 少なくとも2種のモノマーから重合され、1種の前記モノマーは少なくと も1種のフッ゛素化ビニル化合物から本質的に成り、そして前記側のモノマーは 少なくとも1種の構造式 式中Rfは2〜8炭素原子を含有し、これらの炭素原子が1または2以上の酸素 原子で中断されていてもよい、2官能価の過フッ素化基であり、そしてXはスル ホニルフル第2イド、カルボニルフルオライド、スルホネートエステルおよびカ ルボキシレートエステルから成る群よシ選ばれる、 のモノマーから本質的に成る、前記1リマー材料を過ハロゲン化アルキルエーテ ルの低分子量セリマー、過ハロゲン化アルキルの低分子量、f +)マーおよび ペルフルオロケロシンから成る群より選ばれ、約200℃〜350℃の間の沸点 を有する少なくとも1種の溶媒中に溶解し;前記溶解したヒリマー材料を小孔を 有する造形した陽イオン交換樹脂膜の表面に施し、それから前記溶媒を除去して 、前記ヒリマー材料を前゛記載の表面に再固化し、孔のない連続した表面を形成 する、ことを特徴とする流体が流れる小孔を有する造形した陽イオン交換樹脂膜 を修理する方法。 1a 少なくとも2種のモノマーから重合され、1種の前記モノマーは少なくと も1種のフッ素化ビニル化合物か28 ら本質的に成り、そして前記膜のモノマーは少なくとも1種の構造式 %式% 式中Rfは2〜8炭素原子を含有し、これらの炭素原子が1またけ2以上の酸素 原子で中断されていてもよい、2官能価の過フッ素化基であり、そしてXはスル ホニルフルオライド、カルボニルフルオライド、カルボキシレートエステル、ま たはスルホネートエステルである、 のモノマーから本質的に成る、ポリマー材料を、過ノ・ロゲン化アルキルエーテ ルの低分子量ポリマー、過ノ・ロゲン化アルキルの低分子量1+)マーおよびペ ルフルオロケロシンから成る群より選ばれ、2009C〜350℃の間の沸点を 有する少なくとも1種の溶媒中に溶解し;前記溶解したコリマー材料を膜の少な くとも1つの表面へ施し、前記膜は少なくとも2種のモノマーから重合された2 +)マー材料から成り、1種の前記七ツマ−は少なくとも1種のフッ素化ビニル 化合物から成り、そして前記膜のモノマーは少なくとも1種の以!φ構造式%式 % 式中Efは2〜8炭素原子を含有し、これらの炭素原子は1または2以上の酸素 原子で中断されていてもよい、2官能価の過フッ素化基であり、そしてYはカル ボキシイスチルまたはカルボン酸または塩である、 のモノマーから成り;前記溶媒を施した溶解コリマー材料から除去し:その後施 した再固化した層を加水分解する: ことを特徴とする層状陽イオン交換膜の形成法。 19、少なくとも2種の七ツマ−から重合され、1種の前記モノマーは少なくと も1種のフッ素化ビニル化合物から本質的に成り、そして前記膜のモノマーは少 なくとも1種の構造式 %式% 式中Rfは2〜8炭素原子を含有し、これらの炭素原子が1または2以上の酸素 原子で中断されていてもよい、2官能価の過フッ素化基であり、そしてXはカル ボキシイスチル、カルボン酸または塩である、のモノマーから本質的鑞る、コリ マー材料を、過・・ロゲン化アルキルエーテルの低分子量、f +)マー、過ノ ・ロゲン化アルキルの低分子量Iリマ−2よびペルフルオロケロシンから成る群 より選ばれ、200°C〜350℃の間の沸点を有する少なくとも1種の溶媒中 に溶解し;前記溶解したセリマー材料を膜の少なくとも1つの表3゜ 面へ施し、前記膜は少なくとも2種のモノマーから重合されたコリマー材料から 成り、1種の前記モノマーは少なくとも1種のフッ素化ビニル化合物から成り、 そして前記膜のモノマーは少なくとも1種の以平メ構造式%式% 式中Rfは2〜8炭素原子を含有し、これらの炭素原子は1または2以上の酸素 原子で中断されていてもよい、2官能価の過フッ素化基であり、そしてYはスル ホニルフルオライド、カルボニルフルオライド、スルホネートエステル、スルホ ン酸またはそれらの塩である、 のモノマーから成り:前記溶媒を施した溶解&IJマー材料から除去し:その後 施した再固化した層を加水分解する: ことを特徴とする層状陽イオン交換膜の形成法。
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