JPS5849635Y2 - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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JPS5849635Y2
JPS5849635Y2 JP5414678U JP5414678U JPS5849635Y2 JP S5849635 Y2 JPS5849635 Y2 JP S5849635Y2 JP 5414678 U JP5414678 U JP 5414678U JP 5414678 U JP5414678 U JP 5414678U JP S5849635 Y2 JPS5849635 Y2 JP S5849635Y2
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JP
Japan
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metal pipe
conductive wire
thyristor
electrode
anode
Prior art date
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Expired
Application number
JP5414678U
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English (en)
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JPS54157571U (ja
Inventor
光雄 大館
Original Assignee
三菱電機株式会社
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Publication date
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Description

【考案の詳細な説明】 本考案は半導体装置、特に高耐圧サイリスタの制御電極
引出し構造の改良に関するものである。
耐圧が4000〜6000 Vにもなる高耐圧サイリス
クにおいて、気密容器内の制御電極と陰極電極は半導体
素子陽極支持板に対してほぼ同電位にあるため、制御電
極引出し用導電線の陽極に対する絶縁は充分考慮しなけ
ればならない。
第1図にサイリスク素子の断面図を示す。
1はサイリスタ素子、2はP−N−P−N接合を有する
シリコン板、3はアルミニウムからなる合金用ロウ材、
4はシリコン板2と熱膨張係数が近似したモリブデン、
タングステン等の支持板で、陽極となる。
5,6は銀、ニッケル等をメッキ又は蒸着することによ
って形成したオーミックコンタクト部で、それぞれ制御
電極及び陰極を構成する。
かかるサイリスタ素子1は、適宜表面処理を施した後、
第2図の如きケース内に挾持されて組立てられる。
第2図において、7,8はそれぞれ陰極銅電極および陽
極銅電極であり、それぞれこれを支持するダイヤフラム
11および溶接リング12.13によって、セラミック
等からなる円筒状絶縁体9の両端に固着されている。
なお、溶接リング12は鉄からなり、他の溶接リング1
3とアーク溶接により一体化されている。
また、陽極銅電極7とダイヤフラム11.円筒状絶縁体
9と溶接リング12、及び陽極銅電極8と溶接リング1
3は、いずれもロウ付けによって固定されている。
10は制御端子を構成する金属パイプで、円筒状絶縁体
9を貫通して、これに気密にロウ付けされている。
16は制御電極引出し用導電線で、その一端はサイリス
タ素子1の制御電極5に圧接され、他端は金属パイプ1
0へ挿通されている。
15は柱状の絶縁物で、コイルバネ14によって圧接力
を導電線16の一端に与え、該導電線16の一端を支持
している。
この様に、通常の高耐圧サイリスタの構成は、比較的小
さなスペースで行なわれているため、半導体装置内の制
御引出し、特に導電線16とサイリスタ素子1の陽極で
ある支持板4との絶縁距離が充分に取れず、そのため、
絶縁チューブ17で導電線16を金属パイプ10まで被
覆し、これを保護するようにしている。
しかし、金属パイプ10が円筒状絶縁体9の内壁まで挿
入されており、しかも導電線16と金属パイプ10との
間には絶縁チューブ17が完全に被覆されていないのと
、金属パイプ10の外周部は絶縁されていないので、特
に 4000〜6000 Vの高耐圧サイリスタにおいては
、サイリスタ素子1の支持板4と導電線16及び金属パ
イプ10との絶縁距離が不足し、放電したり、円筒状絶
縁体9内壁部で絶縁破壊を起し、高耐圧が保たれなくな
る。
本考案は、このような従来の欠点を除去した半導体装置
を提供するものである。
本考案を要約すると、気密容器内に露出している金属パ
イプ及び導電線とを、絶縁膜で被覆することにより、制
御導電部と素子の主電極との絶縁を確保するものである
第3図は本考案の一実施例によるサイリスタ装置を示す
断面図である。
第3図において、第2図と同一符号はそれぞれ同一部分
を示す。
このサイリスタ装置は次のようにして組立られる。
先ず柱状絶縁物15に導電線16を挿通させて90゜曲
げた後に、該導電線16に絶縁チューブ17をかぶせる
次に陰極銅電極7の中央凹部にコイルバネ14を入れて
、このコイルバネ14上に前記組立てられた制御部品を
のせ、導電線16を、陰極銅電極7をとりかこむ円筒状
絶縁体9の金属パイプ10にさしこむ。
このとき、導電線16にかぶせている絶縁チューブ17
と金属パイプ10との間にすきまができるもので、この
すきまと金属パイプ10の内部露出部とに、接着性のあ
るエポキシ樹脂又はシリコンゴムからなる絶縁性合成高
分子物20を塗布して、これらを絶縁保護する。
塗布物は金属パイプ10の露出部よりはみ出して円状絶
縁体9内壁まで塗布しておけばなおさらでよい。
このように、あらかじめ組立てられた陰極銅電極7、円
筒状絶縁体9、ダイヤフラム11.溶接リング12から
なる陰極ケースに組込まれる制御部分の導電性露出部に
絶縁性合成高分子物20で完全に絶縁コーティングして
おき、次いでサイリスタ素子1を挿入したのちに、あら
かじめ組立られた陽極銅電極8、溶接リング13からな
る陽極ケースをかぶせて、各々の溶接リング12と13
をアーク溶接する。
この様にして組立てられたサイリスタ装置に、4000
〜60000 Vを印加しても、サイリスタ素子1の陽
極である支持板4と一番距離の近い制御導電部、特に金
属パイプ10の露出部および導電線16の露出部は絶縁
コーティングされているので、放電したり円筒状絶縁体
9の内壁が絶縁破壊して導通状態になることがなくなり
、サイリスタ装置内の制御導電部とサイリスタ素子1の
絶縁耐力は充分に高く確保される。
なお、このように構成したときの半導体装置内の絶縁耐
力は、サイリスタ素子1の支持板4と陰極6との距離に
よって決定されるので、サイリスタ素子1の設計におい
て充分考慮する必要がある。
以上説明したように、この考案による半導体装置は、制
御導電部分が絶縁耐力の高い絶縁物によってコーティン
グされているので、従来装置のような絶縁破壊を生じる
ことがなく、その実用的価値は極めて大である。
なお、従来、半導体装置の絶縁耐力を向上させるものと
して、実公昭49−43874号公報に示されているよ
うに、金属パイプの絶縁筒内方への突出部を絶縁部材で
包囲したものがあったが、この従来装置では、導電線が
絶縁筒内方において露出しており、そのため絶縁耐力は
あまり向上しないものであった。
これに対して本考案では導電線は円筒状絶縁体内方にお
いて完全に被覆されており、この従来例に比しても大き
な効果を奏するものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は通常のサイリスタ素子を示す断面図、第2図は
従来のサイリスタ装置を示す断面図、第3図は本考案の
一実施例を示す断面図である。 図において、1はサイリスタ素子、7は陰極銅電極、8
は陽極銅電極、9は円筒状絶縁体、10は金属パイプ、
11はダイヤフラム、12および13は溶接リング、1
4はコイルバネ、15は柱状絶縁物、16は制御電極引
出し用導電線、17は絶縁チューブ、20は絶縁性合成
高分子物である。 なお、図中同一符号はそれぞれ同一または相当部分を示
す。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 制御電極を有する半導体素子を少なくとも絶縁体部分を
    有する気密容器内に収容し、この容器の上記絶縁体部分
    を気密に貫通する金属パイプに挿通された導電線を上記
    制御電極に接続してなり、上記導電線の上記容器内部分
    は絶縁チューブに挿通されたものにおいて、少なくとも
    上記金属パイプの上記容器内露出部およびこの金属パイ
    プの露出部と上記絶縁チューブ間に露出した上記導電線
    を絶縁膜で被覆したことを特徴とする半導体装置。
JP5414678U 1978-04-21 1978-04-21 半導体装置 Expired JPS5849635Y2 (ja)

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JP5414678U JPS5849635Y2 (ja) 1978-04-21 1978-04-21 半導体装置

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JP5414678U JPS5849635Y2 (ja) 1978-04-21 1978-04-21 半導体装置

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Publication Number Publication Date
JPS54157571U JPS54157571U (ja) 1979-11-01
JPS5849635Y2 true JPS5849635Y2 (ja) 1983-11-12

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