JPS5849095B2 - 真空雰囲気内で作動する回転電極への高周波大電力の供給装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は真空雰囲気内で作動する回転電極への高周波
大電力の供給装置に関するものである。

イオンプレーテイング、プラズマエッチング、スパッタ
リング装置等において真空雰囲気内で作動する回転電極
に高周波（ＩＭＨｚ以上）電力を供給する方法としては
、従来ブラシ法や回転軸受への接続法のような直接接触
法等が用いられている。

しかしながら、このような従来の方法では接触抵抗の変
化による負荷インピーダンスの変化が無視できなくなり
、接触法を採用する限り大電力の供給は困難であった。

また接触子は機械的摩耗を考えて定期的に変換する必要
があった。

さらに回転電極の回転軸端から給電するものは装置がか
さばるだけでなく、回転電極の長さが使用高周波電源の
周波数のλ／４に比例した長さになると、高周波供給ラ
インに電圧、電流定在波が発生し、電極面で均一な電位
分布が得られなくなる。

この発明の目的は、真空雰囲気内で作動する回転電極に
対して所定の真空ギャップを保って高周波電源に接続し
た端子板を設け、この端子板と回転電極とから成る結合
コンデンサを介して給電を行なって従来の直接接触法の
欠点を解消すると共に電極面上により均一な電位分布が
得られるようにした新規な装置を提供することにある。

以下この発明を添付図面を参照して更に説明する。

第１図には回転ドラム電極におけるこの発明の一実施例
を示し、１は真空容器、２は回転ドラム電極、３は回転
ドラム電極２の軸、４，５はシールド部材である。

６は回転ドラム電極２に対して予定の真空ギャップを保
って位置決めされた端子板で、回転ドラム電極２の表面
に沿って弧状にのびている。

この端子板６は図示してない高周波電源に接続され、そ
して図示したようにほぼ中央部に給電される。

第２図には第１図の変形実施例を示し、第１図と同一ま
たは同様な構成要素は第１図と同一の符号で示す。

第２図に示す変形実施例では、回転ドラム電極２と共に
結合コンデンサを構成する端子板は三つの別個のセグメ
ン｝ ６ ａ ｓ ６ ｂ ｔ ６ ｃから成り、各セ
グメント６ａ，６ｂ，６ｃはほぼ同一面内に配置され、
そして図示してない高周波電源に共通に接続される。

このように構成することによって回転ドラム電極２の表
面における電位分布の差を小さくすることができる。

第３図を参照すると、この図面には回転円板電極に実施
した例を示す。

第３図において７は真空容器、８は回転円板電極、９は
回転円板電極８の軸、１０はシールド部材、１１は回転
円板電極８の下側面に対して予定の真空ギャップを保っ
て位置決めされた端子板で、図示してない高周波電源に
接続される。

以上例示したようにこの発明による装置においては、給
電されるべき回転電極を一方の極板とし、高周波電源に
接続される端子板を他方の極板とした真空ギャップによ
る間接結合を介して給電が行なわれるので、直接接触法
に伴なう上述の欠点、不利益は解消でき、また回転電極
における電位分布を一様にすることができ、回転電極の
軸を通って給電するように構成してないので結合装置の
ために特別にスペースを設ける必要がないなど多くの効
果が得られる。

特にこの発明による装置は、回転電極における電位分布
に精度が要求される場合に有効である。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明による装置の一実施例を概略的に示す
部分断面平面図、第２図は変形実施例を示す第１図と同
様な部分断面平面図、第３図はこの発明の別の実施例を
示す部分断面平面図である。 図中、１，７は真空容器、２，８は回転電極、６，６ａ
，６ｂ，６ｃ，１１は端子板である。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 真空雰囲気内で作動する回転電極に対して所定の真
   空ギャップを保って高周波電源に接続した端子板を固定
   し、この端子板と回転電極とにより結合コンデンサを構
   成し、高周波電源からの高周波大電力をこの結合コンデ
   ンサを介して回転電極へ供給するようにしたことを特徴
   とする真空雰囲気内で作動する回転電極への高周波大電
   力の供給装置。 ２ 真空雰囲気内で作動する回転電極に対して所定の真
   空ギャップを保って位置決めされる端子板をほぼ同一面
   内に配置した複数個の別個のセグメントで構成し、各セ
   グメントを高周波電源に共通に接続したことを特徴とす
   る特許請求の範囲第１項に記載の真空雰囲気内で作動す
   る回転電極への高周波大電力の供給装置。