JPS5847216A - 質量流量計 - Google Patents
質量流量計Info
- Publication number
- JPS5847216A JPS5847216A JP14584781A JP14584781A JPS5847216A JP S5847216 A JPS5847216 A JP S5847216A JP 14584781 A JP14584781 A JP 14584781A JP 14584781 A JP14584781 A JP 14584781A JP S5847216 A JPS5847216 A JP S5847216A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- density
- flow rate
- signal
- flow
- radiation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01F—MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
- G01F1/00—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow
- G01F1/704—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow using marked regions or existing inhomogeneities within the fluid stream, e.g. statistically occurring variations in a fluid parameter
- G01F1/708—Measuring the time taken to traverse a fixed distance
- G01F1/712—Measuring the time taken to traverse a fixed distance using auto-correlation or cross-correlation detection means
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Fluid Mechanics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Measuring Volume Flow (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、粉体流のような混相流の質量流量測定を行う
場合に使用して有効な質量流量計に関するものである。
場合に使用して有効な質量流量計に関するものである。
例えば、石炭を微粉炭としこれを気体で圧送するような
プロセスがある。このようなプロセスにおいては、微粉
炭の質量流量を測定する必要がしばしば生ずるが、これ
まで、被測定流体が微粉体であるところから、適確にそ
の質量流量を知ることは困難であった。
プロセスがある。このようなプロセスにおいては、微粉
炭の質量流量を測定する必要がしばしば生ずるが、これ
まで、被測定流体が微粉体であるところから、適確にそ
の質量流量を知ることは困難であった。
本発明は、放射線を利用することによって、粉体流のよ
うな混相流の質量流量測定を簡単な構成で、適確に行う
ことのできる質量流量計を実現しようとするものである
。
うな混相流の質量流量測定を簡単な構成で、適確に行う
ことのできる質量流量計を実現しようとするものである
。
本発明に係る装置は、放射線を利用した密度検出手段を
、混相流の流れ方向の2個所に所定距離隔てて設置し、
各密度計からの出力信号の変動分(交流分)の相互相関
から混相流の流速を求めるとともに、平均値(直流分)
から混相流の密度を求め、両者を演算することによって
質量流量を測定することを特徴としている。
、混相流の流れ方向の2個所に所定距離隔てて設置し、
各密度計からの出力信号の変動分(交流分)の相互相関
から混相流の流速を求めるとともに、平均値(直流分)
から混相流の密度を求め、両者を演算することによって
質量流量を測定することを特徴としている。
第1図は、本発明の一実施例を示す構成ブロック図であ
る。図において、1は例えば微粉炭のような混相流が流
れている管路、2,3は管路1に取付けた放射線源で、
例えば、セシウム137.コバルト60.アメリ又シウ
ム241等が使用される。4,5は管路1に取付けた放
射線検出手段で、ここでは電離箱を示すが、例えばCd
Te、 Si等の固体の放射線検出素子を用いてもよい
。これらの放射線検出手段は、線源孔3にそれぞれ対向
配置されておυ、線源2(3)、放射線検出手段4(5
)は、管路1を流れる混相流の密度を検出する密度計I
(II)を構成している。これらの密度計I、 II
は、混相流の流れ方向に、所定距離りだけ隔てて設置さ
れている。61゜62は、それぞれ放射線検出手段4,
5からの信号を増幅する高入力増幅器、71.72はe
xp逆変換回路、8は相関演算回路で、高入力増幅器6
1.62. exp逆変換回路71.72を介して印加
される各密度計I、IIからの出力信号el、e2を入
力し、これら2つの信号の相互相関を演算する。9は掛
算演算を行う演算器で、eXp逆変換回路71からの出
力信号と、相関演算回路8からの出力信号とを入力し、
両信号を掛算演算し、質量流量に関連した信号を出力す
る。
る。図において、1は例えば微粉炭のような混相流が流
れている管路、2,3は管路1に取付けた放射線源で、
例えば、セシウム137.コバルト60.アメリ又シウ
ム241等が使用される。4,5は管路1に取付けた放
射線検出手段で、ここでは電離箱を示すが、例えばCd
Te、 Si等の固体の放射線検出素子を用いてもよい
。これらの放射線検出手段は、線源孔3にそれぞれ対向
配置されておυ、線源2(3)、放射線検出手段4(5
)は、管路1を流れる混相流の密度を検出する密度計I
(II)を構成している。これらの密度計I、 II
は、混相流の流れ方向に、所定距離りだけ隔てて設置さ
れている。61゜62は、それぞれ放射線検出手段4,
5からの信号を増幅する高入力増幅器、71.72はe
xp逆変換回路、8は相関演算回路で、高入力増幅器6
1.62. exp逆変換回路71.72を介して印加
される各密度計I、IIからの出力信号el、e2を入
力し、これら2つの信号の相互相関を演算する。9は掛
算演算を行う演算器で、eXp逆変換回路71からの出
力信号と、相関演算回路8からの出力信号とを入力し、
両信号を掛算演算し、質量流量に関連した信号を出力す
る。
なお、ここではexp逆変換回路71.72 、相関演
算回路8及び演算器9をそれぞれ別個のブロック図で示
したが、これらはA/D変換器を含む例えばマイクロプ
ロセッサで構成してもよい。
算回路8及び演算器9をそれぞれ別個のブロック図で示
したが、これらはA/D変換器を含む例えばマイクロプ
ロセッサで構成してもよい。
このように構成した装置の動作を次に説明する。
管路1内を混和流が流れている状態において、放射線源
1からの放射線は、管路1の管壁及び混相流によって吸
収され、放射線検出手段4,5に入射する。いま、放射
線検出手段4(5)に入射するγ線の強さをn、混相流
が流れていない状態での放射線検出手段に入射するγ線
の強さをnとするとnは(1)式で表わすことができる
。
1からの放射線は、管路1の管壁及び混相流によって吸
収され、放射線検出手段4,5に入射する。いま、放射
線検出手段4(5)に入射するγ線の強さをn、混相流
が流れていない状態での放射線検出手段に入射するγ線
の強さをnとするとnは(1)式で表わすことができる
。
n=noexp(−μmI)p>
(1)ただし、 μ:γ線に対する混相流の質量吸収
係数(Cm2/g) ρ:混相流の密度(g/cm ) D:管路1の内径(cm) (1)式において、!+、Dが既知であり、nは予じめ
求めておくことがでる。よって、放射線検出手段4(5
)に入射するγ線の強さnすなわち、放射線検出手段4
又は5の出力信号の直流分は、混相流の密度ρと対応関
係となり、nから密度ρを知ることができる。なお、(
1)式において、μは、線源として、セシウム137.
コバルト60 を使用した場合、混相流の物質等にかか
わらず常に等しいので、混相流の物質の変化があっても
それは問題にはならない。
(1)ただし、 μ:γ線に対する混相流の質量吸収
係数(Cm2/g) ρ:混相流の密度(g/cm ) D:管路1の内径(cm) (1)式において、!+、Dが既知であり、nは予じめ
求めておくことがでる。よって、放射線検出手段4(5
)に入射するγ線の強さnすなわち、放射線検出手段4
又は5の出力信号の直流分は、混相流の密度ρと対応関
係となり、nから密度ρを知ることができる。なお、(
1)式において、μは、線源として、セシウム137.
コバルト60 を使用した場合、混相流の物質等にかか
わらず常に等しいので、混相流の物質の変化があっても
それは問題にはならない。
一方、混相流の粉体密度は、ランダムなパターンで分布
しており、このパターンは所定距離保持されて下流に流
されていく。
しており、このパターンは所定距離保持されて下流に流
されていく。
第2図(イ)は、上流側に設置された密度計1側からの
出力信号elの変動分(交流分)を示す波形であり、ま
た、第2図(ロ)は、下流側に設置された密度計■側か
らの出力信号e2の変動分を示す波形である。これらの
信号波形から明らかなように、両信号のパターンはほぼ
等しく、上流側の密度計重付近を通過する粉体密度のパ
ターンは、10時間後に下流側の密度計■付近を通過す
る。
出力信号elの変動分(交流分)を示す波形であり、ま
た、第2図(ロ)は、下流側に設置された密度計■側か
らの出力信号e2の変動分を示す波形である。これらの
信号波形から明らかなように、両信号のパターンはほぼ
等しく、上流側の密度計重付近を通過する粉体密度のパ
ターンは、10時間後に下流側の密度計■付近を通過す
る。
したがって、密度計1側からの出力信号e□(1)と、
密度計■側からの出力信号e2(t)とは、(2)式の
ような関係で表わすことができる。
密度計■側からの出力信号e2(t)とは、(2)式の
ような関係で表わすことができる。
e2(t) = el(t−τ。)(2)V = −(
4) τ0 ただし、L:密度計Iと密度計■との間の距離で一定。
4) τ0 ただし、L:密度計Iと密度計■との間の距離で一定。
第1図において、相関演算回路8は、eXp変換回路7
1.72によって、(1)式におけるexp逆変換され
た各密度計I、 Itからの各交流分出力信号e1+e
2を入力し、その相互相関を演算するとともに、τ。を
求め、τ。から流速Vを求める。このτ。から流速Vを
求める手法は、公知の相関流量計と同様である。
1.72によって、(1)式におけるexp逆変換され
た各密度計I、 Itからの各交流分出力信号e1+e
2を入力し、その相互相関を演算するとともに、τ。を
求め、τ。から流速Vを求める。このτ。から流速Vを
求める手法は、公知の相関流量計と同様である。
演算器9は、一方の密度計重からの混相流の密度に関連
した信号と、流速に関連した信号とを入力しており、両
信号を掛算演算し、混相流の質量流量(ρV)に関連し
た信号を出力する。
した信号と、流速に関連した信号とを入力しており、両
信号を掛算演算し、混相流の質量流量(ρV)に関連し
た信号を出力する。
このような動作をなす装置によれば、放射線を利用して
混和流の密度を2個所で測定するとともに、2個所から
の密度信号の変動分の相関を演算して流速を求め、密度
信号と流速信号とを演算して質量流量を求めるものであ
る。したがって、全体構成が簡単であり、検出端部は、
混相流とは非接触であって、高温、高圧で圧送される微
粉炭等の混相流の質量流量測定が可能となる。
混和流の密度を2個所で測定するとともに、2個所から
の密度信号の変動分の相関を演算して流速を求め、密度
信号と流速信号とを演算して質量流量を求めるものであ
る。したがって、全体構成が簡単であり、検出端部は、
混相流とは非接触であって、高温、高圧で圧送される微
粉炭等の混相流の質量流量測定が可能となる。
第3図は本発明の他の実施例を示す構成図である。この
実施例においては、管路に取付ける放射線源をひとつと
し、ここからの放射線を被測定流体の流れ方向に離れて
設置した放射線検出手段4、5で検出するようにしたも
のである。これによって、線源2を共用する、2個の密
度計I、 If を構成し、全体構成を簡素化している
。
実施例においては、管路に取付ける放射線源をひとつと
し、ここからの放射線を被測定流体の流れ方向に離れて
設置した放射線検出手段4、5で検出するようにしたも
のである。これによって、線源2を共用する、2個の密
度計I、 If を構成し、全体構成を簡素化している
。
実験によれば、管路内を流れる流体の、相関に寄与する
流れパターン(密度のパターン)は、管路の中央部にあ
るもので、2個の密度計I、 II は、管路中央部の
図示する距離りだけ流れ方向に離れて設置されているの
と同じ作用をなす。
流れパターン(密度のパターン)は、管路の中央部にあ
るもので、2個の密度計I、 II は、管路中央部の
図示する距離りだけ流れ方向に離れて設置されているの
と同じ作用をなす。
なお、上記の実施例は、被測定流体として微粉炭のよう
な混相流を想定したものであるが、本発明は、通常の流
体にも適用できることは勿論である。
な混相流を想定したものであるが、本発明は、通常の流
体にも適用できることは勿論である。
以上説明したように、本発明によれば被測定流体とは非
接触で、全体構成の簡単な質量流量計が実現できる。
接触で、全体構成の簡単な質量流量計が実現できる。
第1図は本発明の一実施例を示す構成ブロック図、第2
図は第1図装置の動作を説明するための波形図、第3図
は本発明の他の実施例を示す構成図であ為。 1・・・管路、礼3・・・放射線源、4.5−・・放射
線検出手段、I、II ・・・密度計、61.62・・
・高入力増幅器、8・・・相関演算回路、9・・・演算
回路。 133− マ ロ
図は第1図装置の動作を説明するための波形図、第3図
は本発明の他の実施例を示す構成図であ為。 1・・・管路、礼3・・・放射線源、4.5−・・放射
線検出手段、I、II ・・・密度計、61.62・・
・高入力増幅器、8・・・相関演算回路、9・・・演算
回路。 133− マ ロ
Claims (2)
- (1) 放射線を利用した密度検出手段を被測定流体
の流れ方向の2ケ所に所定距離隔てて設置し、前記2個
の密度検出手段からの各出力信号の変動分の相互相関を
演算し前記被測定流体の流速に関連した信号を求めると
ともに、いずれか一方の密度検出手段からの出力信号の
平均値から前記被測定流体の密度に関連した信号を求め
、前記流速に関連した信号と前記密度に関連した信号と
を演算することによって被測定流体の質量流量を知るよ
うにした質量流量計。 - (2)被測定流体は混相流である特許請求の範囲第1項
記載の質量流量計。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14584781A JPS5847216A (ja) | 1981-09-16 | 1981-09-16 | 質量流量計 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14584781A JPS5847216A (ja) | 1981-09-16 | 1981-09-16 | 質量流量計 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5847216A true JPS5847216A (ja) | 1983-03-18 |
Family
ID=15394465
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14584781A Pending JPS5847216A (ja) | 1981-09-16 | 1981-09-16 | 質量流量計 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5847216A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6079541U (ja) * | 1983-11-08 | 1985-06-03 | 三井造船株式会社 | 気相流動層反応器 |
JPS6279843A (ja) * | 1985-10-03 | 1987-04-13 | Agency Of Ind Science & Technol | 流動層合成装置のガス分散板 |
JPS63226589A (ja) * | 1987-03-17 | 1988-09-21 | 株式会社小松製作所 | 長軸流動層炉の流動均一化方法 |
JPH03247715A (ja) * | 1990-02-27 | 1991-11-05 | Nkk Corp | 溶融還元設備における予備還元炉の分散盤 |
GB2500755A (en) * | 2012-01-26 | 2013-10-02 | Hamilton Sundstrand Corp | Fluid mass flow measurement apparatus and method |
DE102022205583A1 (de) | 2022-06-01 | 2023-12-07 | Robert Bosch Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Verfahren zur Messung eines Massendurchflusses eines gasförmigen Mediums |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57125319A (en) * | 1981-01-27 | 1982-08-04 | Fuji Electric Co Ltd | Device for measuring flow rate |
-
1981
- 1981-09-16 JP JP14584781A patent/JPS5847216A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57125319A (en) * | 1981-01-27 | 1982-08-04 | Fuji Electric Co Ltd | Device for measuring flow rate |
Cited By (9)
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JPS63343Y2 (ja) * | 1983-11-08 | 1988-01-07 | ||
JPS6279843A (ja) * | 1985-10-03 | 1987-04-13 | Agency Of Ind Science & Technol | 流動層合成装置のガス分散板 |
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US9207108B2 (en) | 2012-01-26 | 2015-12-08 | Hamilton Sundstrand Corporation | Fluid mass flow measurement apparatus and method |
GB2500755B (en) * | 2012-01-26 | 2019-08-28 | Hamilton Sundstrand Corp | Fluid mass flow measurement apparatus and method |
DE102022205583A1 (de) | 2022-06-01 | 2023-12-07 | Robert Bosch Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Verfahren zur Messung eines Massendurchflusses eines gasförmigen Mediums |
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