JPS6079541U - 気相流動層反応器 - Google Patents

気相流動層反応器

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JPS6079541U
JPS6079541U JP17295883U JP17295883U JPS6079541U JP S6079541 U JPS6079541 U JP S6079541U JP 17295883 U JP17295883 U JP 17295883U JP 17295883 U JP17295883 U JP 17295883U JP S6079541 U JPS6079541 U JP S6079541U
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JP
Japan
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fluidized bed
bed reactor
phase fluidized
gas phase
reactor
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Application number
JP17295883U
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English (en)
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JPS63343Y2 (ja
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武 横山
神田　晴行
前田　松尚
服部　典夫
中尾　憲二
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三井造船株式会社
三井化学株式会社
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Publication date
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  • Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は従来例に係る流動層反応器の全体構成を示す断
面図、第２図は同従来例におけるガス分散板支持構造を
示す断面図、第３図は実施例に係、る流動層反応器の全
体構成を示す断面図、第４図は同実施例におけるガス分
散板支持構造を示す断面図、第５図、６図及び第７図は
それぞれサポート近傍部のガスと粒子の流れを示す拡大
断面図である。 １０・・・流動層反応器、１２・・・ガス分散版板、２
０・・・ガスクーラ、３２・・・サポート、３２ａ・・
・サポート下面。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 反応器内部の下方位置にガス分散板が設置されてなる気
    相流動層反応器において、該ガス分散板。 は反応器内壁面に突設されたサポートに係止されて支持
    されており、該サポートの下面側は反応器内壁に対して
    傾斜していることを特徴とする気相流動層反応器。
JP17295883U 1983-11-08 1983-11-08 気相流動層反応器 Granted JPS6079541U (ja)

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JP17295883U JPS6079541U (ja) 1983-11-08 1983-11-08 気相流動層反応器

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JP17295883U JPS6079541U (ja) 1983-11-08 1983-11-08 気相流動層反応器

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JPS6079541U true JPS6079541U (ja) 1985-06-03
JPS63343Y2 JPS63343Y2 (ja) 1988-01-07

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ID=30376892

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018174075A1 (ja) * 2017-03-24 2018-09-27 株式会社カネカ 流動層反応装置及び塩素化塩化ビニル系樹脂の製造方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5847216A (ja) * 1981-09-16 1983-03-18 Yokogawa Hokushin Electric Corp 質量流量計

Patent Citations (1)

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WO2018174075A1 (ja) * 2017-03-24 2018-09-27 株式会社カネカ 流動層反応装置及び塩素化塩化ビニル系樹脂の製造方法

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JPS63343Y2 (ja) 1988-01-07

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