JPS5842444Y2 - ウエハの支承装置 - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 本考案は主としてシリコンウェハその他のウェハのスパ
ッタリング処理に際しこれを背面から支承する装置に関
する。

従来この種装置として、例えば第１図示のようにプラテ
ンａの前面に案内レールｂを設け、シリコンウェハその
他のウェハＣを該レールｂ上を摺動して出入自在にその
前面に支承させるようにした式のものは提案されたが、
か・るものでは次でこれにスパッタリング処理を施した
場合スパッタ粒子は例えば第２図示のように該ウェハＣ
の前面に付着してこれに膜ｄを生ずるばかりでなく、そ
の両外側の該レールｂ上にも付着し、これは該ウェハＣ
の引続く送り出しを困難にする不都合を伴う。

この場合、同図示のようにその前面に外周の防着シール
ドｅを施すことは行われるが、これによてもスパッタ粒
子は多少とも廻り込みして略同様の不都合を伴う。

本考案はか・る不都合のない装置を得ることをその目的
としたもので、プラテン１の前面に案内レール２を設け
、シリコンウェハその他のウェハ３を該レール２上を摺
動して出入自在にその前面に支承させる式のものにおい
て、該レール２に、その前面に支承される該ウェハ３の
周縁部との重合位置に、切欠き４を設けることを特徴と
する。

第３図乃至第５図はその１例を示すもので、プラテン１
は例えば第３図に明示するように真空処理室５内に軸６
で軸支されて略垂直の第１位置、即ちターゲット７に対
向する作業位置と、斜上向きの第２位置、即ち導入口８
と合致してこれを介してウェハ３を導入される受入位置
と、斜下向きの第３位置、即ち導出口９と合致してこれ
を介してウェハ３を導出する送出位置とに傾動自在に構
成されるものとし、更にその前面には例えば第４図に明
示するように案内レール２が左右１対に並設されるが、
この場合ウェハ３の３ｉｎと、４ｉｎと５ｉｎとに適用
自在に該ウェハ３を支承するストッパ１０を互に同心の
３段に配置するようにし、更にこれに対応して前記した
切欠き４は同じく互に同心の３段に設けられるようにし
たが、この場合その形成は例えば施装加工とすることが
可能である。

各レール２における各切欠き４の配置は例えば第５図に
明示する通りであり、即ちウェハ３が３ｉｎの場合の１
対と、４ｉｎの場合の１対と、５ｉｎの場合の１対とが
備えられる。

これを原理的に示せば例えば第６図示の通りであり、該
切欠き４は該ウェハ３の両端部の背側に位置し、かくて
スパッタリング処理に際し、スパッタ粒子が付着するも
その付着は例えば第７図示のように該切欠き４内に存し
、該ウェハ３の摺動を邪げるようなことがない。

尚ウェハ３の導入導出はその自重で行われるを一般とす
るが、その導出を一層良好とすべく例えば別個のウェイ
トを使用し得るもので、この場合は例えば第４図に明示
するように該ウェイトを導く案内溝１１を備える。

このように本考案によるときは案内レール２にウェハ３
の周縁部との重合個所に切欠き４を備えるものでスパッ
タ粒子の付着は該切欠き４内に生じ、かくてこれが該レ
ール２の面にそのま・生ずる前記した従来のものの不都
合がない効果を有する。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来例の斜面図、第２図はその裁断側面図、第
３図は本案装置を備えたスパッタリング装置の１例の裁
断側面図、第４図はその要部の正面図、第５図はその裁
断側面図、第６図はその作用原理を説明する裁断側面線
図、第７図はその一部の拡大図である。 １・・・・・・プラテン、２・・・・・・案内レール、
３・・・・・・ウェハ４・・・・・・切欠き。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. プラテン１の前面に案内レール２を設け、シリコンウェ
   ハその他のウェハ３を該レール２上を摺動して出入自在
   にその前面に支承させる式のものにおいて、該レール２
   に、その前面に支承される該ウェハ３の周縁部との重合
   位置に、切欠き４を設けることを特徴とするウェハの支
   承装置。