JPS5839293Y2 - 高周波加熱装置 - Google Patents

高周波加熱装置

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Publication number
JPS5839293Y2
JPS5839293Y2 JP2461779U JP2461779U JPS5839293Y2 JP S5839293 Y2 JPS5839293 Y2 JP S5839293Y2 JP 2461779 U JP2461779 U JP 2461779U JP 2461779 U JP2461779 U JP 2461779U JP S5839293 Y2 JPS5839293 Y2 JP S5839293Y2
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JP
Japan
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heating chamber
oxidation catalyst
frequency
heating
high frequency
Prior art date
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Expired
Application number
JP2461779U
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English (en)
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JPS55126102U (ja
Inventor
康司 岩淵
哲男 窪田
Original Assignee
株式会社日立ホームテック
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Publication date
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Description

【考案の詳細な説明】 本考案は高周波発振器と電気ヒータまたはガスヒータと
を加熱源として食品を加熱処理する高周波加熱装置の改
良に関するものである。
ローストチキン、焼豚、焼魚などの調理を行うと加熱室
内面に油汚れが生じ、時には加熱室底面に数ミリメート
ルも油が溜まることがある。
こういった油汚れを除去するために、加熱室内面に油汚
れの熱分解を促進する酸化触媒を被覆することが有効で
ある。
電気オーブンやガスオーブンにおいては加熱室内の全面
および扉と接触する加熱室前面フランジに上記酸化触媒
を施こしたものが周知である。
また、電気オーブンやガスオーブンでは、加熱室前面フ
ランジの酸化触媒と扉との間にシリコーンゴムを介在さ
せて、扉閉成時の衝撃による酸化触媒の剥離を防止して
いる。
さらに、電気オーブンやガスオーブンでローストチキン
や、焼豚、焼魚などの焼物を行う場合、加熱室内は、2
00℃以上の温度に保持され、酸化触媒の効果の現われ
る温度になっている。
しかしながら、高周波発振器と電気ヒータまたはガスヒ
ータとを加熱源とする高周波加熱装置においては、高周
波加熱だけでかなり多くの焼物を短時間で調理したり、
調理済の焼物を再加熱したりする場合があり、加熱室内
面に油が飛び散るが、加熱室内は100℃以下で、酸化
触媒を上記電気オーブンやガスオーブンのように加熱室
全面に施こしても、その効果は殆んど出ない。
電気ヒータまたはガスヒータで行う焼物の場合には、加
熱室が200℃以上の温度に上がり、酸化触媒の効果が
出る。
しかし、特に油汚れの溜まり易い底面では、酸化触媒の
能力を越えたために分解されずに残った汚れがこびり付
き、この汚れを除去するため清掃すると、酸化触媒が剥
離し、長期間の使用に耐えない。
さらに、扉閉成時の衝撃による酸化触媒の剥離を防止す
るためシリコーンゴムのような誘電体から成る弾性体を
加熱室前面フランジと扉との間に介在させると、高周波
加熱時にはその弾性体を高周波が透過するため高周波漏
洩が大きくなる。
本考案は上記問題点を解決するもので、以下図面に従っ
て説明する。
第1図は本考案の高周波加熱装置の実施例を示す要部断
面図であり、第2図と第3図はそれぞれ第1図の円12
内、円13内の拡大図である。
これらの図面において、1は高周波発振器で、高周波エ
ネルギーは導波管2を介して加熱室3内に供給される。
4は加熱室3内の空気を調理に適する温度に上げる電気
ヒータまたはガスヒータから成るヒータである。
5は食品6を載置する受皿である。7は扉で、加熱室3
の前面フランジ8との間の間隙が出来るだけ小さくなる
ように取付けられ、高周波加熱時の高周波漏洩およびヒ
ータ加熱時の熱気漏洩を抑えている。
9と10はそれぞれ加熱室3の上面と後面で、第2図の
ようにアルミニウムめっき鋼板に酸化触媒を被覆したも
のから成る。
11は加熱室3の底面で、第3図のようにアルミニウム
めっき鋼板にほうろうを掛けたものから戊る。
第2図において、加熱室3の上面9が鋼板14にアルミ
ニウムめつき15を被覆し、そのアルミニウムめつき1
5の加熱室3内に対向する側にほうろう15を掛け、さ
らに酸化触媒17を被覆したものから戒ることを示して
いる。
酸化触媒17は、例えばマンガン、ニッケル、銅などの
酸化物の細かい粒子から戊り、相互間に細孔を有して結
合しており、大体200℃以上の温度において、上記細
孔に浸透した油汚れの酸化を促進し、水や炭酸ガスなど
に分解して、いわゆるセルフクリーニング効果が出る。
アルミニウムめつき15と酸化触媒17との間のほうろ
う16は酸化触媒17の種類によりなくてもよい。
加熱室3の後面10および左右側面も第2図の上面9と
同様にアルミニウムめっき鋼板に酸化触媒を被覆したも
のから戊る。
第3図では、加熱室3の底面11が鋼板14にアルミニ
ウムめつき15を被覆し、そのアルミニウムめつき15
の加熱室3内に対向する側にほうろう15を掛けたもの
から戊ることを示している。
また、第2図、第3図では、加熱室3の前面フランジ8
はステンレススチールSUS 430.SUS 304
などの金属面から成り、扉7の閉成時に出来るだけ扉7
との間の間隙が少なくするように構成されている。
次に、本考案の高周波加熱装置の動作、作用を説明する
高周波発振器1から発生した高周波エネルギーを加熱室
3に供給した場合、加熱室3内の空気は加熱されず、食
品6が直接誘電加熱される。
加熱室3の上面9、後面10、底面11および左右側面
に高周波エネルギーが入射すると、その高周波エネルギ
ーは金属に比べてはるかに小さい導電率を有する酸化触
媒17やほうろう16を透過してアルミニウムめつき1
5を被覆した鋼板14すなわちアルミニウムめっき鋼板
に達する。
アルミニウムめっき鋼板、はうろう用鋼板、ステンレス
スチールなどほうろうが掛けられ、かつオーブン料理等
を行う加熱室に適する金属材料のうち最も高周波電流に
よる熱損失が少ないものはアルミニウムめっき鋼板であ
る。
高周波の周波数を2,450 MH2とすれば、アルミ
ニウムめっき鋼板に高周波が入射したとき、アルミニウ
ムに対する高周波電流の浸透深度は約2μである。
そのため、アルミニウムめつき15の厚さを一般に行わ
れている10〜30μにすると、アルミニウムめっき鋼
板の下地の鋼板に高周波は殆んど達しない。
したがって導電率の大きい非磁性体であるアルミニウム
をめっきしたアルミニウムめっき鋼板の高周波電流によ
る熱損失は少なく、加熱室3内に供給された高周波エネ
ルギーが効率よく食品6に吸収される。
加熱室3の前面フランジ8には酸化触媒やほうろうを被
覆していない金属面のため、それらの剥離の問題がなく
、扉7を直接当てることができ、扉7と前面フランジ8
との間隙が小さくとれるので、高周波漏洩を小さく抑え
るのが容易である。
高周波加熱では加熱室3内は、主として加熱中の食品6
から放出する熱によって若干温度が上がるが100℃以
下であるため、酸化触媒17のセルフクリーニング効果
は殆んどない。
したがって食品6から油などの液汁が飛び散ると、加熱
室3の上面9、後面10および左右側面に付着し、量が
多い場合は、底面11に流れ落ちて溜まる。
時には数ミリメートルも溜まる。底面11に落ちた液汁
は他の面より蓄積され易いが、底面11はほうろう16
の上に酸化触媒を被覆してないため、人手により清掃す
る。
はうろうは一般の高周波加熱装置の加熱室に使われてい
るステンレススチールより汚れが落し易い。
仮に底面11に酸化触媒を被覆してあっても、その細孔
が目詰まりし、ヒータ加熱時でもセルフクリーニング効
果が出にくくなり、人手により清掃すると、酸化触媒の
剥離が生じ易く、長期間の使用に耐えない。
ヒータ4の熱エネルギーによるヒータ加熱の場合は、加
熱室3内の温度が200℃以上になる場合がしばしばあ
り、酸化触媒17のセルフクリーニング効果が出る。
ただし、上記のように油などの液汁が数ミリメートルも
溜まると、酸化触媒17が仮に被覆してあってもセルフ
クリーニング効果は出にくい。
以上のように本考案によると、加熱室の上面、左右側面
および後面に酸化触媒を被覆し、底面にはほうろうを掛
け、かつ扉に当たる前面フランジをステンレススチール
などの金属面としているため、ヒータ加熱時に酸化触媒
のセルフクリーニング効果を十分に発揮できるとともに
、扉からの高周波漏洩を抑え易く、長期間の使用に耐え
る高周波加熱装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本考案の高周波加熱装置の実施例を示す要部断
面図、第2図と第3図はそれぞれ第1図の円12内と円
13内の拡大図である。 1・・・・・・高周波発振器、3・・・・・・加熱室、
4・・・・・・ヒータ、7・・・・・・扉、8・・・・
・・前面フランジ、14・・・・・・鋼板、15・・・
・・・アルミニウムめっき、16・・・・・・はうろう
、17・・・・・・酸化触媒。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 高周波発振器と電気ヒータまたはガスヒータとを加熱源
    とする高周波加熱装置において、加熱室の上面、左右側
    面および後面に酸化触媒を被覆し、底面にほうろうを掛
    け、かつ扉に当たる前面フランジをステンレススチール
    などの金属面としたことを特徴とした高周波加熱装置。
JP2461779U 1979-02-27 1979-02-27 高周波加熱装置 Expired JPS5839293Y2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2461779U JPS5839293Y2 (ja) 1979-02-27 1979-02-27 高周波加熱装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2461779U JPS5839293Y2 (ja) 1979-02-27 1979-02-27 高周波加熱装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS55126102U JPS55126102U (ja) 1980-09-06
JPS5839293Y2 true JPS5839293Y2 (ja) 1983-09-05

Family

ID=28863438

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JP2461779U Expired JPS5839293Y2 (ja) 1979-02-27 1979-02-27 高周波加熱装置

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JPS55126102U (ja) 1980-09-06

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