JPS5839154B2 - ジヒドロキシアルケンオベ−ストスル スルホンサンキガンユウジオ−ルノセイゾウホウホウ - Google Patents
ジヒドロキシアルケンオベ−ストスル スルホンサンキガンユウジオ−ルノセイゾウホウホウInfo
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明はエーテル基を含みそして式の上ではジヒドロキ
シアルカンスルホン酸から誘導されるスルホネートの製
造方法に関する。
シアルカンスルホン酸から誘導されるスルホネートの製
造方法に関する。
該物質はぐポリ〕アルコ’r7fiv化ジヒドロキシア
ルケンに亜硫酸水素塩を付加することにより得られる。
ルケンに亜硫酸水素塩を付加することにより得られる。
亜硫酸水素アルカリ金属塩が求電子基例えばニトリルま
たはエステル基によって活性化された二重結合に付加で
きることは既知である(R,T、E。
たはエステル基によって活性化された二重結合に付加で
きることは既知である(R,T、E。
シエンクおよびJ、ダニシェフスキ、J 、 Org。
Chem、16.1683(1951);0.バイヤー
、Ang、Chem、 61.233(1949)参
照〕。
、Ang、Chem、 61.233(1949)参
照〕。
亜硫酸水素塩が弱くのみ活性化された脂肪族二重結合に
付加できることも既知である。
付加できることも既知である。
亜硫酸水素塩がアリルアルコールに付加できることは例
えば文献に記載されているCM、S、クハラシュ、E6
M、メイおよびF、R,メイヨー、J、Org。
えば文献に記載されているCM、S、クハラシュ、E6
M、メイおよびF、R,メイヨー、J、Org。
Chem、3.175(1939)参照〕。
該反応によると3−ヒドロキシプロパンスルホン酸がそ
の塩の形で30%のみの収率で得られる。
の塩の形で30%のみの収率で得られる。
アリルアルコールと亜硫酸水素塩との反応による収率は
増すことができる。
増すことができる。
(秒置特許第915693号)がこの場合には次の構造
1を有する化合物であると推定される第二生成物の形成
を完全に抑制することは不可能である。
を完全に抑制することは不可能である。
また反応を通して生成される無機塩をスルホネートから
完全に分離することはできない。
完全に分離することはできない。
3−ヒドロキシ−2−ヒドロキシメチルプロパソスルホ
ン酸の塩もまた既知であり、これは2メチレン−1・3
−プロパンジオールと亜硫酸水素塩との反応によって得
られる(DO8第2224304号)。
ン酸の塩もまた既知であり、これは2メチレン−1・3
−プロパンジオールと亜硫酸水素塩との反応によって得
られる(DO8第2224304号)。
しかし2−メチレン−1・3−プロパンジオールは少量
にて高価に得られるのみであり、そのため得られる3−
ヒドロキシ2−ヒドロキシメチル−1−プロパンスルホ
ン酸を大規模に使用することはできない。
にて高価に得られるのみであり、そのため得られる3−
ヒドロキシ2−ヒドロキシメチル−1−プロパンスルホ
ン酸を大規模に使用することはできない。
加うるに該3−ヒドロキシ−2−ヒドロキシメチルプロ
パンスルホン酸を反応を通じて形成された有機塩から分
離することは比較的困難である。
パンスルホン酸を反応を通じて形成された有機塩から分
離することは比較的困難である。
このことは電流の不存在下における銅めっき浴を安定化
するに使用できる1・4−ジヒドロキシ−2−ブタンス
ルホン酸の製造(DO8第2132003号)Kもあて
はまる。
するに使用できる1・4−ジヒドロキシ−2−ブタンス
ルホン酸の製造(DO8第2132003号)Kもあて
はまる。
従って容易に安価に製造できさらに好適な性質を有する
故に種々の用途に使用できるスルホネート基を含むジオ
ールが要望される。
故に種々の用途に使用できるスルホネート基を含むジオ
ールが要望される。
今や驚くべきことに亜硫酸水素塩が高収率で高純度にて
アルコキシル化ジヒドロキシアルケンに付加できること
が発見された。
アルコキシル化ジヒドロキシアルケンに付加できること
が発見された。
従って本発明はエーテル基を含み、一般式(式中、Aお
よびBは同一または異なってもよくAおよびBの炭素原
子数合計が3−7個である炭素原子数1−6個の直鎖ま
たは分岐アルキレン基を示し、Rは水素、C1−04の
アルキル基を示し、Xはアルカリ金属を示し、nは1−
30望ましく**は1−10の数を示す) に対応するジヒドロキシスルホネートに関する。
よびBは同一または異なってもよくAおよびBの炭素原
子数合計が3−7個である炭素原子数1−6個の直鎖ま
たは分岐アルキレン基を示し、Rは水素、C1−04の
アルキル基を示し、Xはアルカリ金属を示し、nは1−
30望ましく**は1−10の数を示す) に対応するジヒドロキシスルホネートに関する。
本発明はまたこの化合物の製造方法において、ジヒドロ
キシアルケンを(ポリ)アルコキシル化し、その結果生
じる一般式 (式中、EおよびDは同一または異なってもよくEおよ
びDの炭素原子数合計が6個を越えない炭素原子数1−
5個の直鎖または分校アルキレン基を示し、Rは水素、
C1−C4のアルキル基を示し、nは1−30望ましく
は1−10の整数を示す)に対応するアルコキシル化誘
導体と一般式(式中、Xはアルカリ金属を示すに対応す
る亜硫酸水素塩とを、水媒体中で触媒活性を有する酸素
の存在下に温度100℃以下にておよびpH値39望ま
しくは7−8の範囲にて亜硫酸水素塩とジオールとのモ
ル比1:1−5:1の範囲にて反応させることを特徴と
する方法に関する。
キシアルケンを(ポリ)アルコキシル化し、その結果生
じる一般式 (式中、EおよびDは同一または異なってもよくEおよ
びDの炭素原子数合計が6個を越えない炭素原子数1−
5個の直鎖または分校アルキレン基を示し、Rは水素、
C1−C4のアルキル基を示し、nは1−30望ましく
は1−10の整数を示す)に対応するアルコキシル化誘
導体と一般式(式中、Xはアルカリ金属を示すに対応す
る亜硫酸水素塩とを、水媒体中で触媒活性を有する酸素
の存在下に温度100℃以下にておよびpH値39望ま
しくは7−8の範囲にて亜硫酸水素塩とジオールとのモ
ル比1:1−5:1の範囲にて反応させることを特徴と
する方法に関する。
)エーテル基を含む該ジヒドロキシスルホネートは非常
に純粋な形で非常に良好な収率にて前述の方法にて得る
ことができる。
に純粋な形で非常に良好な収率にて前述の方法にて得る
ことができる。
反応を通じて形成された無機塩の分離は驚くほど容易で
あり、本発明に従うスルホネートをアセトン、アセトン
/水混合物、塩素化炭化水素、アルコールまたはアルコ
ール/水混合物で抽出することにより実施される。
あり、本発明に従うスルホネートをアセトン、アセトン
/水混合物、塩素化炭化水素、アルコールまたはアルコ
ール/水混合物で抽出することにより実施される。
抽出後スルホネートはいかなる塩をも含まない(微少量
さえも検出されない)。
さえも検出されない)。
無機塩を容易に定量的に分離できることに加えて、本発
明に従う化合物は広範囲の用途に使用できるというもう
一つの利点を有することが言及されるべきであろう。
明に従う化合物は広範囲の用途に使用できるというもう
一つの利点を有することが言及されるべきであろう。
本発明に従う化合物は酸敗質ポリエステルおよびポリウ
レタン製造のためのコモノマーとして、また例えばクロ
ロ酢酸と反応した(エステル)後において酸敗質ポリア
ミドの製造のためのコモノマーとして使用するに非常に
適切である。
レタン製造のためのコモノマーとして、また例えばクロ
ロ酢酸と反応した(エステル)後において酸敗質ポリア
ミドの製造のためのコモノマーとして使用するに非常に
適切である。
任意には例えばジウレタン形成のためにインシアネート
と反応させた後に実施してもよい、より高度にエトキシ
ル化および/またはプロポキシル化した該誘導体は優れ
た帯電防止剤であり、ポリアクリロニトリルまたはポリ
アミドの帯電防止仕上フィルム、シートおよびフィラメ
ントの製造における添加剤として使用される。
と反応させた後に実施してもよい、より高度にエトキシ
ル化および/またはプロポキシル化した該誘導体は優れ
た帯電防止剤であり、ポリアクリロニトリルまたはポリ
アミドの帯電防止仕上フィルム、シートおよびフィラメ
ントの製造における添加剤として使用される。
本発明によって得られるジヒドロキシスルホネートにお
いて、目立つ程度のスルホネート基含量を保持させる(
このことは上記のような用途において高い効果を示すた
めに望まれる)等の観点から、nの値は30以下である
ことが望ましい。
いて、目立つ程度のスルホネート基含量を保持させる(
このことは上記のような用途において高い効果を示すた
めに望まれる)等の観点から、nの値は30以下である
ことが望ましい。
出発物質として使用される不飽和ジオールはアルケンで
あってもよく例えば3−ヘキセン−2・5−ジオール望
ましくは2−ブテンート4−ジオールを例えばエチレン
オキシド、プロピレンオキシド、フ゛チレン′オキシド
またはスチレンオキシドと共に用いる。
あってもよく例えば3−ヘキセン−2・5−ジオール望
ましくは2−ブテンート4−ジオールを例えばエチレン
オキシド、プロピレンオキシド、フ゛チレン′オキシド
またはスチレンオキシドと共に用いる。
該反応はそのままでまたはジオキサンまたはDMFの如
き溶媒中で少量望ましくは0.2−2重量%のNaOH
,KOH、ナトリウムまたたはカリウムメチレートの如
き塩基性触媒の存在下に50−180℃望ましくは10
0−160°Cの範囲の温度にて好適に実施され任意に
はオートクレーブ中で圧力下に実施してもよい。
き溶媒中で少量望ましくは0.2−2重量%のNaOH
,KOH、ナトリウムまたたはカリウムメチレートの如
き塩基性触媒の存在下に50−180℃望ましくは10
0−160°Cの範囲の温度にて好適に実施され任意に
はオートクレーブ中で圧力下に実施してもよい。
高度に粘性なものからワックス様に至る範囲の物質が生
成されまたOH−数測定またはNMR分光分析法による
アルコキシル化度によって特性づげられる。
成されまたOH−数測定またはNMR分光分析法による
アルコキシル化度によって特性づげられる。
スルホン化は商用銘柄の亜硫酸水素塩液を用いてまたは
SO2を対応するアンモニウム水溶液またはアルカリ金
属水酸化物水溶液に導入することに新しく生成した亜硫
酸水素塩液を用いて実施してもよい。
SO2を対応するアンモニウム水溶液またはアルカリ金
属水酸化物水溶液に導入することに新しく生成した亜硫
酸水素塩液を用いて実施してもよい。
付加反応は100℃以下望ましくは室温にて不飽和ジオ
ールまたはその水溶液を亜硫酸水素塩液に、導入しまた
はゆるやかに少量ずつ添加することにより実施してもよ
い。
ールまたはその水溶液を亜硫酸水素塩液に、導入しまた
はゆるやかに少量ずつ添加することにより実施してもよ
い。
亜硫酸水素塩とジオールとのモル比は1:1−5:1望
ましくは1.1:i−2:1の範囲であるべきである。
ましくは1.1:i−2:1の範囲であるべきである。
該反応に適切な触媒としては空気、酸素または酸素発生
化合物例えばH2O2から発生する酸素があり、酸素は
反応混合物中に可能な限り良好に分散した状態で存在さ
せるべきであり、これは適切な攪拌機によって達成でき
る。
化合物例えばH2O2から発生する酸素があり、酸素は
反応混合物中に可能な限り良好に分散した状態で存在さ
せるべきであり、これは適切な攪拌機によって達成でき
る。
スルホネートの高収率は反応溶液のpH値に依存し、p
H値は3−9の範囲であるべきでありpH値範囲5−8
が望ましくpH値約7が特に望ましい。
H値は3−9の範囲であるべきでありpH値範囲5−8
が望ましくpH値約7が特に望ましい。
所要のpH値は所要量のアンモニアまたはアルカリ液を
例えば亜硫酸水素塩溶液に添加することによって調整さ
れる。
例えば亜硫酸水素塩溶液に添加することによって調整さ
れる。
反応を通じてpH値は増す。
しかし同時に稀酸を添加することによりまたは二酸化硫
黄をさらに導入することによってpH値を所要の値に保
つことができる。
黄をさらに導入することによってpH値を所要の値に保
つことができる。
反応はpH値がもはや変化しなくなった時点で完結する
。
。
反応を通じて起こる熱による影響は任意には冷却によっ
て打ち消してもよい。
て打ち消してもよい。
比較的高いアルコキシル化度を有する不飽和ジオールを
反応させる場合には、最初に不飽和ジオールを導入し次
に過剰の亜硫酸水素塩溶液を少量ずつ添加し但し前述の
反応条件下にて実施することが得策である。
反応させる場合には、最初に不飽和ジオールを導入し次
に過剰の亜硫酸水素塩溶液を少量ずつ添加し但し前述の
反応条件下にて実施することが得策である。
無機塩の殆んどを分離するには溶液をその体積が半分に
なるまで濃縮し沈殿する結晶を沢過する。
なるまで濃縮し沈殿する結晶を沢過する。
所要の反応生成物はアセトン、アセトン/水混合物、塩
素化炭化水素、アルコールおよびアルコール/水混合物
を用いて抽出することによって残留無機塩から分離でき
る。
素化炭化水素、アルコールおよびアルコール/水混合物
を用いて抽出することによって残留無機塩から分離でき
る。
スルホネートは分析的に純粋な形で90%までの収率に
て得られる。
て得られる。
エーテル基を含み本発明に従って製造されるスルホネー
トは酸改質ポリエステルおよびポリウレタン製造のため
のコモノマーとして、また例えばクロロ酢酸と反応した
(エステル)後において酸改質ポリアミドの製造のため
のコモノマーとして★★使用するに非常に適切である。
トは酸改質ポリエステルおよびポリウレタン製造のため
のコモノマーとして、また例えばクロロ酢酸と反応した
(エステル)後において酸改質ポリアミドの製造のため
のコモノマーとして★★使用するに非常に適切である。
加うるに、任意にはジウレタン形成のためにインシアネ
ートと反応させた後に実施してもよい、より高度にエト
キシル化および/またはプロポキシル化した該誘導体は
優れた帯電防止剤であり、ポリアクリロニ) IJルま
たはポリアミドの帯電性を有するフィルム、シートおよ
びフィラメントの製造における添加剤として使用される
。
ートと反応させた後に実施してもよい、より高度にエト
キシル化および/またはプロポキシル化した該誘導体は
優れた帯電防止剤であり、ポリアクリロニ) IJルま
たはポリアミドの帯電性を有するフィルム、シートおよ
びフィラメントの製造における添加剤として使用される
。
塩基性染料で染色できるポリエステル繊維用のコポリエ
ステルの製造について次に記載する。
ステルの製造について次に記載する。
テレフタル酸ジメチルエステル1940重量部、エチレ
ングリコール186.0重量部、および酢酸亜鉛0.5
重量部と三酸化アンチモン0.6重量部を添加した次式 に対応するジヒドロキシスルホネート14.4重量部を
、馬蹄型攪拌機、ガス供給パイプ、デフレグメーター(
dephlegmator )、凝縮器、真空管および
受は器を具備した反応釜に導入する。
ングリコール186.0重量部、および酢酸亜鉛0.5
重量部と三酸化アンチモン0.6重量部を添加した次式 に対応するジヒドロキシスルホネート14.4重量部を
、馬蹄型攪拌機、ガス供給パイプ、デフレグメーター(
dephlegmator )、凝縮器、真空管および
受は器を具備した反応釜に導入する。
窒素を通過させながら反応釜の内容物を165℃に加熱
し、2時間エステル交換させる。
し、2時間エステル交換させる。
次に2時間にわたって温度を280℃に昇温する。
窒素供給を停止した後1時間にわたって徐々に減圧して
0.03)ル(Torr)にする。
0.03)ル(Torr)にする。
次に溶融体の粘度の着実な増加のために攪拌機の回転速
度は約150−20回回転弁に下げねばならない。
度は約150−20回回転弁に下げねばならない。
重縮合はさらに3.5時間後に完了する。
無色で均一な高度に粘性**の溶融体が得られ、これを
処理して成型製品特にはフィラメントにすることができ
る。
処理して成型製品特にはフィラメントにすることができ
る。
延伸フィラメントは塩基性染料を用いて暗青色に染色で
きる。
きる。
該染色仕上品は耐洗濯性である。
該ポリエステルは軟化点250−263℃および相対溶
液粘度ηro11.96(25℃における□−クレゾー
ル100rrLl中に物質1グの溶液にて測定した値と
して)を有した。
液粘度ηro11.96(25℃における□−クレゾー
ル100rrLl中に物質1グの溶液にて測定した値と
して)を有した。
例1
(参考例、出発物質の製造)
エトキシル化1・4−ジヒドロキシ−2−ブテント4−
ジヒドロキシー2−ブテン445f(5モル)トエチレ
ンオキシド880P(20モル)とをオートクレーブ中
で90−110℃にて反応させ触媒としてナトリウム4
.5tを添加した。
ジヒドロキシー2−ブテン445f(5モル)トエチレ
ンオキシド880P(20モル)とをオートクレーブ中
で90−110℃にて反応させ触媒としてナトリウム4
.5tを添加した。
エチレンオキシドは反応を通じて最高で3アトムの内部
圧力が維持される如くに添加した。
圧力が維持される如くに添加した。
エチレンオキシドが添加されてから反応混合物を過剰の
圧力が消えてしまうまで攪拌した。
圧力が消えてしまうまで攪拌した。
分子量225および全エチレンオキシド含量2n=3.
8に対応して、OH−微測定値は13.290H%であ
った。
8に対応して、OH−微測定値は13.290H%であ
った。
例2
(参考例、出発物質の製造)
プロポキシル化1・4−ジヒドロキシ−2−ブテン
例1の如くして1・4−ジヒドロキシ−2−ブテン44
5?(5モル)とプロピレンオキシド1160f(20
モル)とをオートクレーブ中で140−150℃にて触
媒としてナトリウム1%の存在下に反応させた。
5?(5モル)とプロピレンオキシド1160f(20
モル)とをオートクレーブ中で140−150℃にて触
媒としてナトリウム1%の存在下に反応させた。
分子量310および全プ名■ロピレンオキシド含量2n
−3,8に対応してOH数測測定値10.970H%で
あった。
−3,8に対応してOH数測測定値10.970H%で
あった。
例3
エトキシル化ブタンジオールスルホネート(例1に従っ
て製造された)エトキシル化1・4ジヒドロキシ−2−
ブテン511’(2モル)を水1・51に溶かし次に補
水酸化ナトリウムでpH7,1に調整した亜硫酸水素塩
40%溶液520P(2モル)を添加した。
て製造された)エトキシル化1・4ジヒドロキシ−2−
ブテン511’(2モル)を水1・51に溶かし次に補
水酸化ナトリウムでpH7,1に調整した亜硫酸水素塩
40%溶液520P(2モル)を添加した。
所要反応は、ガラスフリット(glass frit
)を通して空気を吹込むことによって始まり、温度は
35−38℃に上りpH値は上昇した。
)を通して空気を吹込むことによって始まり、温度は
35−38℃に上りpH値は上昇した。
★★ pH値は、同時に稀H
2SO4を少量ずつ添加することによって7−7、1に
保った。
2SO4を少量ずつ添加することによって7−7、1に
保った。
pH値が一定にとどまった時点で反応は完結した。
該中性水溶液を濃縮して乾燥し、スルホネートをメタノ
ールで抽出した。
ールで抽出した。
収量は586′?(理論量の81.5%であった。
例4
エトキシル化ブタンジオールスルホネート)
例1と同様にして1・4−ジヒドロキシ−2−ブテンを
約10倍モル量のエチレンオキシドと反応させてエトキ
シル化l・4−ジヒドロキシ−2−ブテン(全エトキシ
ル化度2n=9.5)を得た。
約10倍モル量のエチレンオキシドと反応させてエトキ
シル化l・4−ジヒドロキシ−2−ブテン(全エトキシ
ル化度2n=9.5)を得た。
例3の如くシてこのエトキシル化1・4−ジヒドロキシ
−2−ブテン253f(0,5モル)と亜硝硫酸水素塩
40%溶液130P(0,5モル)とを名水1.51中
で空気を吹込むことより一定pH値7.〇−741にて
反応させた。
−2−ブテン253f(0,5モル)と亜硝硫酸水素塩
40%溶液130P(0,5モル)とを名水1.51中
で空気を吹込むことより一定pH値7.〇−741にて
反応させた。
スルホン化後所要化合物を、該水溶液を濃縮して乾燥さ
せメチレンクロリドで抽出することによって単離した。
せメチレンクロリドで抽出することによって単離した。
収量は262P(理論量の86.1%)であった。
例5
プロポキシル化ブタンジオールスルホネート(例2に従
って製造された)プロポキシル化1・4−ジヒドロキシ
−2−ブテン620?(2モル)を水1.51に溶かし
た。
って製造された)プロポキシル化1・4−ジヒドロキシ
−2−ブテン620?(2モル)を水1.51に溶かし
た。
次に亜硫酸水素塩40%溶液520P(2モル)を反応
媒体中に良好に分散した空気の存在下に少量ずつ添加し
た。
媒体中に良好に分散した空気の存在下に少量ずつ添加し
た。
稀硫酸を少量ずつ添加することによってpH値を7−7
.1に保った。
.1に保った。
該水溶液を濃縮して乾燥した後所要化合物をメチレンク
ロリドで抽出した。
ロリドで抽出した。
収量は662P(理論量の80.1%)であった。
■■例
プロポキシル化ブタンジオールスルホネート例2と同様
にして1 ・4−ジヒドロキシ−2ブテンを約8.2倍
モル量のプロピレンオキシドと反応させてプロポキシル
化1・4−ジヒドロキシ−2−ブテン(全プロポキシル
化度2n=7.8)を得た。
にして1 ・4−ジヒドロキシ−2ブテンを約8.2倍
モル量のプロピレンオキシドと反応させてプロポキシル
化1・4−ジヒドロキシ−2−ブテン(全プロポキシル
化度2n=7.8)を得た。
例5の如くしてこのプロポキシル化l・4−ジヒドロキ
シ−2−ブテン54−OP(1モル)に良好に分散した
空気の存在下に水媒体中でpH値※※を7.0−7.1
に一定に保って亜硫酸水素塩を添加した。
シ−2−ブテン54−OP(1モル)に良好に分散した
空気の存在下に水媒体中でpH値※※を7.0−7.1
に一定に保って亜硫酸水素塩を添加した。
スルホン化完結後所要のスルホネートをメチレンクロリ
ド抽出によって収率85%(5482)にて単離した。
ド抽出によって収率85%(5482)にて単離した。
例7
エl・キシル化ブタンジオールスルホネ−1・例1と同
様にしてl・4ジヒドロキシ−2−ブテンを約29倍モ
ル量のエチレンオキシドと反応させて得たエトキシル化
1・4−ジヒドロキシ2−ブテン(全エトキシル化度2
H=28)1320P(1モル)を水31に溶かした。
様にしてl・4ジヒドロキシ−2−ブテンを約29倍モ
ル量のエチレンオキシドと反応させて得たエトキシル化
1・4−ジヒドロキシ2−ブテン(全エトキシル化度2
H=28)1320P(1モル)を水31に溶かした。
希水酸化ナトリウムでpH7,1に調整した亜硫酸水素
塩40%溶液260P(1モル)を次に少量ずつ添加し
た。
塩40%溶液260P(1モル)を次に少量ずつ添加し
た。
同時にガラスフリットを通して空気を吹込むことにより
所要反応を開始した。
所要反応を開始した。
稀H2SO4を添加することによってpHを7−7.1
に保った。
に保った。
pH値に変化が起こらなくなった時点で反応は完結した
。
。
反応混合物に稀H2SO4を添加して酸性にしpH2に
して過剰のSO2を除去するために1時間攪拌した。
して過剰のSO2を除去するために1時間攪拌した。
稀NaOHで中和した後、該水溶液を濃縮して乾燥し残
留物をメチレンクロリド101で抽出した。
留物をメチレンクロリド101で抽出した。
所要化合物は分析的に純粋な形で収率86%(1225
?)にて得られた。
?)にて得られた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 エーテル基を含み、一般式 (式中、AおよびBは同一または異なってもよくAおよ
びBの炭素原子数合計が3−7個である炭素原子数1−
6個の直鎖または分枝アルキレン基を示し、Rは水素、
C1−C4のアルキル基な示し、Xはアルカリ金属を示
し、nは1−30の数を示す。 )に対応するジヒドロキシスルホネートの製造方法にお
いて一般式 (式中、EおよびDは同一または異なってもよくEおよ
びDの炭素原子数合計が6個を越えない炭素原子数1−
5個の直鎖または分枝アルキレン基を示し、Rおよびn
は前述に定義される如くである) に対応する不飽和ジオールと一般式 (式中、Xはアルカリ金属を示す) に対応する亜硫酸水素塩とを、水媒体中で触媒活性を有
する酸素の存在下に温度100℃以下にてpH値3−9
の範囲にておよび亜硫酸水素塩とジオールとのモル比1
:1−5:1の範囲にて反応させることを特徴とする方
法。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE2410862A DE2410862C3 (de) | 1974-03-07 | 1974-03-07 | Ätherstrukturen enthaltende Dihydroxysulfonate und Verfahren zu deren Herstellung |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS50121226A JPS50121226A (ja) | 1975-09-23 |
JPS5839154B2 true JPS5839154B2 (ja) | 1983-08-27 |
Family
ID=5909348
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP50026572A Expired JPS5839154B2 (ja) | 1974-03-07 | 1975-03-06 | ジヒドロキシアルケンオベ−ストスル スルホンサンキガンユウジオ−ルノセイゾウホウホウ |
Country Status (12)
Country | Link |
---|---|
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JP (1) | JPS5839154B2 (ja) |
BE (1) | BE826303A (ja) |
DE (1) | DE2410862C3 (ja) |
DK (1) | DK90875A (ja) |
ES (1) | ES435346A1 (ja) |
FR (1) | FR2263235B1 (ja) |
GB (1) | GB1454977A (ja) |
IE (1) | IE40740B1 (ja) |
IT (1) | IT1032246B (ja) |
LU (1) | LU71967A1 (ja) |
NL (1) | NL7502549A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63103361U (ja) * | 1986-12-26 | 1988-07-05 | ||
KR20200117008A (ko) | 2018-02-23 | 2020-10-13 | 메이덴샤 코포레이션 | 시험 시스템의 제어 장치 |
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---|---|---|---|---|
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US4222957A (en) * | 1978-11-24 | 1980-09-16 | Texaco Development Corp. | Process of purifying ether sulfonates |
DE3605765A1 (de) * | 1986-02-22 | 1987-08-27 | Ver Glaswerke Gmbh | Transparente deckschicht aus weichelastischem polyurethan fuer transparente glas- oder kunststoffsubstrate |
DE3633421C1 (de) * | 1986-10-01 | 1987-07-23 | Goldschmidt Ag Th | Hydroxyl- und Sulfonatgruppen aufweisende Polyoxyalkylenether und deren Verwendung zur Herstellung von dispergierbaren Polyurethanen |
US4774363A (en) * | 1987-10-16 | 1988-09-27 | Gaf Corporation | Metal derivatives of butenediol |
DE4004883A1 (de) * | 1990-02-16 | 1991-08-22 | Basf Ag | Vinylpolyetheralkohole |
US5278197A (en) * | 1993-07-06 | 1994-01-11 | Miles Inc. | Soft, flexible polyurethane foam |
EP1937750A1 (en) * | 2005-09-29 | 2008-07-02 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | Hydrophilized polyalkylene glycol, production method thereof, and application thereof |
CN108329413B (zh) * | 2017-01-20 | 2019-08-30 | 中国科学院化学研究所 | 一种聚乙烯醇磺酸盐及其合成方法、印刷用亲水版和应用以及印刷版 |
CN114106262B (zh) * | 2021-12-16 | 2022-11-04 | 北京市建筑工程研究院有限责任公司 | 一种聚羧酸保坍剂及其制备方法 |
CN114230728A (zh) * | 2021-12-16 | 2022-03-25 | 北京市建筑工程研究院有限责任公司 | 一种聚羧酸减水剂及其制备方法 |
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US3002903A (en) * | 1958-09-26 | 1961-10-03 | Hanson Van Winkle Munning Co | Electrodeposition of nickel |
US3041256A (en) * | 1960-07-12 | 1962-06-26 | Hanson Van Winkle Munning Co | Electrodeposition of nickel |
NL279927A (ja) * | 1961-06-20 | |||
US3418239A (en) * | 1965-12-03 | 1968-12-24 | Mobil Oil Corp | Oil well waterflooding method |
US3860638A (en) * | 1971-05-20 | 1975-01-14 | Inorganic & Metal Treating Che | Bright nickel plating bath addition agents |
-
1974
- 1974-03-07 DE DE2410862A patent/DE2410862C3/de not_active Expired
-
1975
- 1975-03-03 GB GB872375A patent/GB1454977A/en not_active Expired
- 1975-03-04 NL NL7502549A patent/NL7502549A/xx not_active Application Discontinuation
- 1975-03-04 US US05/555,228 patent/US4048221A/en not_active Expired - Lifetime
- 1975-03-05 IT IT48456/76A patent/IT1032246B/it active
- 1975-03-05 BE BE154012A patent/BE826303A/xx not_active IP Right Cessation
- 1975-03-05 LU LU71967A patent/LU71967A1/xx unknown
- 1975-03-06 IE IE481/75A patent/IE40740B1/xx unknown
- 1975-03-06 JP JP50026572A patent/JPS5839154B2/ja not_active Expired
- 1975-03-06 DK DK90875*#A patent/DK90875A/da unknown
- 1975-03-06 ES ES435346A patent/ES435346A1/es not_active Expired
- 1975-03-07 FR FR7507255A patent/FR2263235B1/fr not_active Expired
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KR20200117008A (ko) | 2018-02-23 | 2020-10-13 | 메이덴샤 코포레이션 | 시험 시스템의 제어 장치 |
US11733671B2 (en) | 2018-02-23 | 2023-08-22 | Meidensha Corporation | Testing system having a control device |
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---|---|
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US4048221A (en) | 1977-09-13 |
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DE2410862B2 (de) | 1980-04-17 |
ES435346A1 (es) | 1976-12-16 |
IE40740L (en) | 1975-09-07 |
FR2263235B1 (ja) | 1980-02-22 |
DK90875A (ja) | 1975-09-08 |
BE826303A (fr) | 1975-09-05 |
IT1032246B (it) | 1979-05-30 |
NL7502549A (nl) | 1975-09-09 |
GB1454977A (en) | 1976-11-10 |
JPS50121226A (ja) | 1975-09-23 |
DE2410862C3 (de) | 1980-12-11 |
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IE40740B1 (en) | 1979-08-01 |
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