JPS5837175A - 真空蒸着装置 - Google Patents
真空蒸着装置Info
- Publication number
- JPS5837175A JPS5837175A JP13623981A JP13623981A JPS5837175A JP S5837175 A JPS5837175 A JP S5837175A JP 13623981 A JP13623981 A JP 13623981A JP 13623981 A JP13623981 A JP 13623981A JP S5837175 A JPS5837175 A JP S5837175A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- conduit
- valve
- bell jar
- exhaust
- main conduit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/564—Means for minimising impurities in the coating chamber such as dust, moisture, residual gases
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、電子写真用感光体などの製造に際して用いる
真空蒸着装置に関する。
真空蒸着装置に関する。
たとえば電子写真用感光体は、アル建ニウム、鋼、ニッ
ケルなどの導電性支持体上に、セレンを主成分とする感
光体層を真空蒸着装置のベルジャ内で真空蒸着法により
被着することにより製造されてきた。真空蒸着法により
感光体層を導電性支持体上に被着するに際しては、ベル
ジャ内を１×１０□’Ｔｏｒｒ程度の真空度に保つ必要
があり、このためベルジャ下部に管径の大きな真空用導
管を取り付け、この真空用導管はノ９ルブを介して真空
−ンゾに連接されている。
ケルなどの導電性支持体上に、セレンを主成分とする感
光体層を真空蒸着装置のベルジャ内で真空蒸着法により
被着することにより製造されてきた。真空蒸着法により
感光体層を導電性支持体上に被着するに際しては、ベル
ジャ内を１×１０□’Ｔｏｒｒ程度の真空度に保つ必要
があり、このためベルジャ下部に管径の大きな真空用導
管を取り付け、この真空用導管はノ９ルブを介して真空
−ンゾに連接されている。
ところが上記のようなベルジャ下部に大管径の真空用導
管を設けた真空蒸着装置にて高真空度を達成しよ５とす
ると、排気の初期段階においてベルジャ内に大きな気流
が生じ、このため感光体が被着される支持体表’［Ｋ塵
芥が付着するという欠点があった。支持体表面に塵芥が
付着すると、感光体層を支持体表面に被着させた場合に
、感光体表面の突起発生の原因となる。感光体表面に突
起が生ずると、感光体表面の帯電時に帯電ムラが生じた
り、また現儂時にトナーの付着ムラが生じたりするため
好ましくない。さらにブレードを用いて感光体表面をク
リーニングする場合には、突起によりブレードが徐々に
削られ、クリーニング性能が低下し、コぜ一画儂中にい
わゆる黒すじが多発するようになる。
管を設けた真空蒸着装置にて高真空度を達成しよ５とす
ると、排気の初期段階においてベルジャ内に大きな気流
が生じ、このため感光体が被着される支持体表’［Ｋ塵
芥が付着するという欠点があった。支持体表面に塵芥が
付着すると、感光体層を支持体表面に被着させた場合に
、感光体表面の突起発生の原因となる。感光体表面に突
起が生ずると、感光体表面の帯電時に帯電ムラが生じた
り、また現儂時にトナーの付着ムラが生じたりするため
好ましくない。さらにブレードを用いて感光体表面をク
リーニングする場合には、突起によりブレードが徐々に
削られ、クリーニング性能が低下し、コぜ一画儂中にい
わゆる黒すじが多発するようになる。
本発明は、このような従来の真空蒸着装置に伴なう欠点
を解決しようとするものであり、排気時における大きな
気流の発生を防止することにより、蒸着材料が被着され
る支持体表面への塵芥の付着を最小限とすることのでき
る真空蒸着装置を提供することを目的としている。
を解決しようとするものであり、排気時における大きな
気流の発生を防止することにより、蒸着材料が被着され
る支持体表面への塵芥の付着を最小限とすることのでき
る真空蒸着装置を提供することを目的としている。
本発明による真空蒸着装置は、ベルジャ下部に、Ａルゾ
を介して真空Ｉンゾに連結される主導管を接続し、この
主導管のＡルブより真空Ｉンプ側に、この主導管より小
径でかつノルゾの介装された側導管の一端を接続し、こ
の側導管の他端を、前記主導管のノ々ルブとベルジャ下
部との間またはベルジャ下部の外細側に接続したことを
特徴としている。
を介して真空Ｉンゾに連結される主導管を接続し、この
主導管のＡルブより真空Ｉンプ側に、この主導管より小
径でかつノルゾの介装された側導管の一端を接続し、こ
の側導管の他端を、前記主導管のノ々ルブとベルジャ下
部との間またはベルジャ下部の外細側に接続したことを
特徴としている。
以下本発明を、図面にもとづいて説明する。
第１図において、ベルジャ１の下部壁３０捻ぼ中央部に
は、主導管５が接続され、この主導管５は第１Ａルブ７
を介して真空−ンプ９に連結されている。ベルジャ１内
の中央下部には蒸着源１１が設けられ、この蒸着源の上
方には、軸線を一致させて蒸着材料が被着される支持体
１３が設けられている。この主導管５のノ々ルゾより真
空Ｉンプ側に、主導管５より小径でかつ第２／ンルブ１
５が介装された側導管１７の一端が接続されている。こ
の側導管１７の他端は、ベルジャ１の下部壁３の外周側
に接続されている。
は、主導管５が接続され、この主導管５は第１Ａルブ７
を介して真空−ンプ９に連結されている。ベルジャ１内
の中央下部には蒸着源１１が設けられ、この蒸着源の上
方には、軸線を一致させて蒸着材料が被着される支持体
１３が設けられている。この主導管５のノ々ルゾより真
空Ｉンプ側に、主導管５より小径でかつ第２／ンルブ１
５が介装された側導管１７の一端が接続されている。こ
の側導管１７の他端は、ベルジャ１の下部壁３の外周側
に接続されている。
第２図は、他の実施例を示すもので、複数の第１図に示
すのと同様な側導管が設けられている例である。
すのと同様な側導管が設けられている例である。
蔦３図は、他の実施例を示すもので、側導管１７の他端
が、主導管１と第１ノ々ルゾ７との間に接続されている
例である。
が、主導管１と第１ノ々ルゾ７との間に接続されている
例である。
次に、本発明装置の操作法について説明する。
まず排気初期段階においては、第１ノ々ルブ７を閉じ、
第２／々ルブ巧を開（ことによって側導管１７を用いて
排気する。ある程度たとえば（資）〜６０Ｔｏｒｒまで
排気が進んだ後に、第１ ／？ルブ７を開き、第２バル
ブ１５を閉じて主導管１を用いて排気する。
第２／々ルブ巧を開（ことによって側導管１７を用いて
排気する。ある程度たとえば（資）〜６０Ｔｏｒｒまで
排気が進んだ後に、第１ ／？ルブ７を開き、第２バル
ブ１５を閉じて主導管１を用いて排気する。
次に第２図に示す装置に用いて、支持体上に蒸着膜を被
着させ、生ずる突起の数を比較した。この場合には主導
管１の管径は２４０であり、側導管１７の管径は１２ｍ
５であった。第２Ａルブ１５を閉じ、第１／々ルブ７を
全開にし、主導管１を用いて排気した場合の排気速度は
、排気初期段階で約５刈０− ！１ｍ’ ／ ｓ＠ｅ程
度であった。また第１ｚＲルｆ７を閉じ、第２ノルゾ１
５を全開にし、側導管１７を用いて排気した場合の排気
速度は、排気初期段階で約２ Ｘｌ０−５ｍ’ ／ ｓ
＠ｅ であった。
着させ、生ずる突起の数を比較した。この場合には主導
管１の管径は２４０であり、側導管１７の管径は１２ｍ
５であった。第２Ａルブ１５を閉じ、第１／々ルブ７を
全開にし、主導管１を用いて排気した場合の排気速度は
、排気初期段階で約５刈０− ！１ｍ’ ／ ｓ＠ｅ程
度であった。また第１ｚＲルｆ７を閉じ、第２ノルゾ１
５を全開にし、側導管１７を用いて排気した場合の排気
速度は、排気初期段階で約２ Ｘｌ０−５ｍ’ ／ ｓ
＠ｅ であった。
主導管１のみを用いて排気し、次いで支持体上に蒸着膜
な被着した場合に生ずる突起の数は、第４図（ｂ）Ｋ示
され、排気初期に側導管１７を用い、一定の真空度が得
られた後に主導管を用いて排気し、次いで支持体上に蒸
着膜を被着した場合に生ずる突起の数は第４図（ａ）Ｋ
示される。
な被着した場合に生ずる突起の数は、第４図（ｂ）Ｋ示
され、排気初期に側導管１７を用い、一定の真空度が得
られた後に主導管を用いて排気し、次いで支持体上に蒸
着膜を被着した場合に生ずる突起の数は第４図（ａ）Ｋ
示される。
第４図かられかるように、側導管を用いて排気すること
により、蒸着膜表面に生ずる突起の数を減少させること
ができる。
により、蒸着膜表面に生ずる突起の数を減少させること
ができる。
本発明は以上説明したように、ベルジャ内の空気を排気
するために、主導管に加え【側導管な設けることによっ
て、排気初期段階におけるベルジャ内の大きな気流の発
生を防止することができ、このため支持体上に蒸着膜を
被着させた場合に、蒸着膜表面における突起の発生を最
小限とすることができる。
するために、主導管に加え【側導管な設けることによっ
て、排気初期段階におけるベルジャ内の大きな気流の発
生を防止することができ、このため支持体上に蒸着膜を
被着させた場合に、蒸着膜表面における突起の発生を最
小限とすることができる。
第１図、第２図および第３図は、本発明による真空蒸着
装置の概略断面図である。ｆａ４図は本発明および従来
例による真空蒸着装置を用いた場合Ｋ、蒸着膜表面に形
成される突歯の数を示すものである。
装置の概略断面図である。ｆａ４図は本発明および従来
例による真空蒸着装置を用いた場合Ｋ、蒸着膜表面に形
成される突歯の数を示すものである。
Claims (1)
- ベルジャ下部に、／々ルゾを介して真空ポンプに連結さ
れる主導管を接続し、この主導管のノ々ルブより真空Ｉ
ンプ側に、この主導管より小径でかっノ々ルブの介装さ
れた側導管の一端を接続し、この側導管の他端を、前記
主導管の・々ルブとベルジャ下部との間またはベルジャ
下部の外周側に接続したことを特徴とする真空蒸着装置
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13623981A JPS5837175A (ja) | 1981-08-31 | 1981-08-31 | 真空蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13623981A JPS5837175A (ja) | 1981-08-31 | 1981-08-31 | 真空蒸着装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5837175A true JPS5837175A (ja) | 1983-03-04 |
Family
ID=15170529
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13623981A Pending JPS5837175A (ja) | 1981-08-31 | 1981-08-31 | 真空蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5837175A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01160439U (ja) * | 1988-04-22 | 1989-11-07 |
-
1981
- 1981-08-31 JP JP13623981A patent/JPS5837175A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01160439U (ja) * | 1988-04-22 | 1989-11-07 |
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