JPS5835716A - 垂直磁化記録用磁気ヘツド - Google Patents
垂直磁化記録用磁気ヘツドInfo
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- JPS5835716A JPS5835716A JP13195781A JP13195781A JPS5835716A JP S5835716 A JPS5835716 A JP S5835716A JP 13195781 A JP13195781 A JP 13195781A JP 13195781 A JP13195781 A JP 13195781A JP S5835716 A JPS5835716 A JP S5835716A
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- Japan
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- high permeability
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Links
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/1278—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive specially adapted for magnetisations perpendicular to the surface of the record carrier
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は垂直磁化記録方式で書込みと再生とを行なう垂
直磁化記録用磁気ヘッドに関する。
直磁化記録用磁気ヘッドに関する。
磁気テープ等の記録媒体の磁性層に垂直磁化記録を行な
う方式が提案されている。この方式は第１図に示すよう
に、記録媒体の基板３（例えば、ポリイミドフィルム、
ポリエステルフィルム）の表面にパーマロイ（Ｆｅ−Ｎ
ｉ合金）等の面内異方性を有する高透磁率層４と、垂直
異方性を有する垂直磁化膜層６（例・えばＣｏ−０ｒ合
金膜）とを、スパッタリング法等の手段により薄膜形成
したものを記録媒体としこの記録媒体の磁性層に接して
パーマロイ等の高透磁率磁性材料の薄膜７を支持台６に
よってはさみ込まれた構造の主磁極を記録媒体と垂直方
向に配設し、′この主磁極とは、テープをはさんで対向
する側に、フェライト等の磁性体１の回りに、６０〜１
０００タ一ン程度の書込み用及び読出し用コイル２を設
けた補助磁極を配置したもので、このコイル２に信号電
流を印加して磁性体１を励磁することによりて生じた磁
界によりて主磁極を励磁し、その垂直磁界によりて垂直
磁化層６を磁化して信号を記録する。また、再生方法は
、逆に、磁性層５からの磁界によりて生じた主磁極７の
磁束を補助磁極１に誘導して、読出し用コイル２より信
号として再生する方式であり、この方式の特長は、従来
の記録方式に比べて、高密度化が可能な点である。
う方式が提案されている。この方式は第１図に示すよう
に、記録媒体の基板３（例えば、ポリイミドフィルム、
ポリエステルフィルム）の表面にパーマロイ（Ｆｅ−Ｎ
ｉ合金）等の面内異方性を有する高透磁率層４と、垂直
異方性を有する垂直磁化膜層６（例・えばＣｏ−０ｒ合
金膜）とを、スパッタリング法等の手段により薄膜形成
したものを記録媒体としこの記録媒体の磁性層に接して
パーマロイ等の高透磁率磁性材料の薄膜７を支持台６に
よってはさみ込まれた構造の主磁極を記録媒体と垂直方
向に配設し、′この主磁極とは、テープをはさんで対向
する側に、フェライト等の磁性体１の回りに、６０〜１
０００タ一ン程度の書込み用及び読出し用コイル２を設
けた補助磁極を配置したもので、このコイル２に信号電
流を印加して磁性体１を励磁することによりて生じた磁
界によりて主磁極を励磁し、その垂直磁界によりて垂直
磁化層６を磁化して信号を記録する。また、再生方法は
、逆に、磁性層５からの磁界によりて生じた主磁極７の
磁束を補助磁極１に誘導して、読出し用コイル２より信
号として再生する方式であり、この方式の特長は、従来
の記録方式に比べて、高密度化が可能な点である。
ここで、従来の主磁極の構造の一例を第２図を用いて説
明すると、カラスもしくは七うミクク等の支持台８′に
、スパッタリング法、真空蒸着法。
明すると、カラスもしくは七うミクク等の支持台８′に
、スパッタリング法、真空蒸着法。
メッキ法等の手段により、０．６〜３μｍ程度の膜厚で
高透磁率磁性体層１０（例えば、パーマロイ膜）が、あ
るトラック幅をもりて細長く形成され、ぞの表面全体を
覆うように、接着剤９を用いて、支持台８が接着されて
おり、垂直磁化媒体と接触する面は、光学的鏡面に研磨
がなされている。このような構造を持つ主磁極において
は、高透磁率磁性体層１０の膜厚が、記録密度の上限を
決定することになり、膜厚の制御および製作途中での形
状変化は、磁気ヘッドとしての性能劣化につながる。ま
た、実際にこの構造をもつ主磁極上で、垂直磁化膜を走
行させると、摩擦等によりて、藏透磁率磁性体層１０が
接着剤９上に、流されて、見かけ上高透磁率磁性体層１
ｏが実際の膜厚よりも、厚くなりた効果を生じ、高透磁
率磁性体層１ｏで決定される記録周波数の上限が実際よ
りも下がりてしまうことになる。
高透磁率磁性体層１０（例えば、パーマロイ膜）が、あ
るトラック幅をもりて細長く形成され、ぞの表面全体を
覆うように、接着剤９を用いて、支持台８が接着されて
おり、垂直磁化媒体と接触する面は、光学的鏡面に研磨
がなされている。このような構造を持つ主磁極において
は、高透磁率磁性体層１０の膜厚が、記録密度の上限を
決定することになり、膜厚の制御および製作途中での形
状変化は、磁気ヘッドとしての性能劣化につながる。ま
た、実際にこの構造をもつ主磁極上で、垂直磁化膜を走
行させると、摩擦等によりて、藏透磁率磁性体層１０が
接着剤９上に、流されて、見かけ上高透磁率磁性体層１
ｏが実際の膜厚よりも、厚くなりた効果を生じ、高透磁
率磁性体層１ｏで決定される記録周波数の上限が実際よ
りも下がりてしまうことになる。
また、接着剤９の厚みは高透磁率磁性材料１０が支持台
８及び８′の中間に、ある厚み（０，６〜３μｍ程度）
をもりて形成されているため、その厚み以下に接着剤の
厚みを薄くすることは不可能である。このことは、支持
台８と支持台８′とは、必ず高透磁率磁性体層１０の厚
み以上に接着剤を介して離れることになる。しかし、一
般に支持台８゜８′と、接着剤９の硬度を比較するとは
るかに支持台８，８′の方が高く、磁気ヘッドとしての
表面研磨加工後、その表面は、均一な平面になる保障は
なく、例えば、接着剤９部分は支持台８，８′の表面よ
り陥没し、支持台８，８′のエッヂ部が現われることが
多い。このことは、実際に磁気テープを走行させた時に
、とのエッヂ部で磁気テープの磁性層を傷つけることに
なり、磁気ヘッドの特性上問題となる。
８及び８′の中間に、ある厚み（０，６〜３μｍ程度）
をもりて形成されているため、その厚み以下に接着剤の
厚みを薄くすることは不可能である。このことは、支持
台８と支持台８′とは、必ず高透磁率磁性体層１０の厚
み以上に接着剤を介して離れることになる。しかし、一
般に支持台８゜８′と、接着剤９の硬度を比較するとは
るかに支持台８，８′の方が高く、磁気ヘッドとしての
表面研磨加工後、その表面は、均一な平面になる保障は
なく、例えば、接着剤９部分は支持台８，８′の表面よ
り陥没し、支持台８，８′のエッヂ部が現われることが
多い。このことは、実際に磁気テープを走行させた時に
、とのエッヂ部で磁気テープの磁性層を傷つけることに
なり、磁気ヘッドの特性上問題となる。
第３図に実際に磁気媒体を走行させた後の主磁極の様子
を示すものであり、主磁極表面において、高透磁率磁性
体層１０に走行方向のＡ部において横流れが発生し、走
行前と比べて、エッヂ部が直線状ではなく、凸凹を持つ
曲線状になり、実際の厚みよりも厚くなりている。
を示すものであり、主磁極表面において、高透磁率磁性
体層１０に走行方向のＡ部において横流れが発生し、走
行前と比べて、エッヂ部が直線状ではなく、凸凹を持つ
曲線状になり、実際の厚みよりも厚くなりている。
本発明は前記した欠点を解決し得る垂直磁化記録用磁気
ヘッドを提供するものであり、以下その一実施例を説明
する。
ヘッドを提供するものであり、以下その一実施例を説明
する。
以下第４図を用いて本発明の第一の実施例における主磁
極の構造を説明する。ガラスもしくはセラミック等の支
持台１１′の片側中央部に、四部を形成し、その凹部に
高透磁率磁性体層１３を埋設するよう形成する。この時
、支持台１１′の表面と高透磁率磁性層１３の表面とは
、はとんど同一面となるように均一な平面を形成させる
。次に、この均一な平面に、エポキシ系等の接着剤１２
を用いて、支持台１１′と同様な材料で、しかも、凹部
が形成されていない、均一な平面をもつ支持台１１を接
着する。次に接着した面とは垂直方向の支持台表面を研
磨して主磁極を構成する。
極の構造を説明する。ガラスもしくはセラミック等の支
持台１１′の片側中央部に、四部を形成し、その凹部に
高透磁率磁性体層１３を埋設するよう形成する。この時
、支持台１１′の表面と高透磁率磁性層１３の表面とは
、はとんど同一面となるように均一な平面を形成させる
。次に、この均一な平面に、エポキシ系等の接着剤１２
を用いて、支持台１１′と同様な材料で、しかも、凹部
が形成されていない、均一な平面をもつ支持台１１を接
着する。次に接着した面とは垂直方向の支持台表面を研
磨して主磁極を構成する。
このような構造にすると、支持台１１′に高透磁率磁性
体層１３が埋設されていることから、接着剤１２の厚み
は高透磁率磁性体１３の厚みによりて影響と受けること
なく、従来の約呂。程度（０，２〜０．５μｍ程度）に
でき、支持台１１′と支持台１１とが、はとんど距離を
もたずに接することになり支持台表面を機械的に研磨加
工した際、接着剤層が薄いため、その影響が少なく、は
とんど平面状に研磨がなされ、前記した支持台のエッヂ
部が発生することがない。このことは実際に磁気テープ
を走行させた時に、磁気テープ上の磁気材料を削りとり
たりもしくは傷をつけることがなく、その削りぐずによ
る高透磁率磁性体層への傷を発生させることがなくなり
、磁気ヘッドとしての高信頼性、高密度記録が可能にな
る。
体層１３が埋設されていることから、接着剤１２の厚み
は高透磁率磁性体１３の厚みによりて影響と受けること
なく、従来の約呂。程度（０，２〜０．５μｍ程度）に
でき、支持台１１′と支持台１１とが、はとんど距離を
もたずに接することになり支持台表面を機械的に研磨加
工した際、接着剤層が薄いため、その影響が少なく、は
とんど平面状に研磨がなされ、前記した支持台のエッヂ
部が発生することがない。このことは実際に磁気テープ
を走行させた時に、磁気テープ上の磁気材料を削りとり
たりもしくは傷をつけることがなく、その削りぐずによ
る高透磁率磁性体層への傷を発生させることがなくなり
、磁気ヘッドとしての高信頼性、高密度記録が可能にな
る。
次に本発明の主磁極を製作する方法の一例を第６図に示
す。まず、ガラスもしくはセラミック等の支持台１１′
の表面に、高透磁率磁性体層を形成する部分以外に、マ
スクとなる例えばホトレフスト膜１８等を、ホトリソグ
ラフィ法あるいは、印刷法等の手段により形成する。次
に、ホトレジスト膜１８を保護膜として、支持台１１′
の表面を、高透磁率磁性体層の膜厚の同じ深さまで、エ
クテングする。エクテング手段としては、ウェット法。
す。まず、ガラスもしくはセラミック等の支持台１１′
の表面に、高透磁率磁性体層を形成する部分以外に、マ
スクとなる例えばホトレフスト膜１８等を、ホトリソグ
ラフィ法あるいは、印刷法等の手段により形成する。次
に、ホトレジスト膜１８を保護膜として、支持台１１′
の表面を、高透磁率磁性体層の膜厚の同じ深さまで、エ
クテングする。エクテング手段としては、ウェット法。
ドライ法がある。次に、凹部が形成された支持台１゛１
′の表面に、真空蒸着法、スパッタリング法等の手段に
より、高透磁磁性体１３を所定の膜厚で形成する。次に
、支持台１１′の表面より、ホトレジスト膜１８を取除
くと同時にホトレジスト膜上の高透磁率磁性体層も、ホ
トレジスト膜と同様に支持台１１′上から取除くＯこの
方法により、支持台１１′の表面と平担に、しかも支持
台１１′に埋設された、高透磁率磁性体層１３をもつ支
持台１１′が完成する。次に、平坦な面をもつ支持台１
１をエポキシ系等の接着剤１２を用いて支持台１１′上
に接着する。次に、この表面を機械的に研磨することに
よって本発明の垂直磁化記録用磁気ヘッドの主磁極が完
成する。
′の表面に、真空蒸着法、スパッタリング法等の手段に
より、高透磁磁性体１３を所定の膜厚で形成する。次に
、支持台１１′の表面より、ホトレジスト膜１８を取除
くと同時にホトレジスト膜上の高透磁率磁性体層も、ホ
トレジスト膜と同様に支持台１１′上から取除くＯこの
方法により、支持台１１′の表面と平担に、しかも支持
台１１′に埋設された、高透磁率磁性体層１３をもつ支
持台１１′が完成する。次に、平坦な面をもつ支持台１
１をエポキシ系等の接着剤１２を用いて支持台１１′上
に接着する。次に、この表面を機械的に研磨することに
よって本発明の垂直磁化記録用磁気ヘッドの主磁極が完
成する。
次に、本発明の第２の実施例における主磁極構造を第６
図を用いて説明する。ガラスもしくはセラミック等の支
持台１４′の片側中央部に高透磁率磁性体層１７が、あ
るトラック幅と、所定の膜厚（０，６〜３μｍ）をもり
て形成され、支持台１４′の高透磁率磁性体層１７が形
成されている部分以外に支持台１４′と同物質あるいは
同程度の硬度を有つ材料１６（例えば５ＩＯ２，Ａｔ２
０３等）が、真空蒸着法、スパッタリング法等の手段に
より、高透磁率磁性体層１７と、同じ膜厚に形成され、
接着剤１５（エポキシ系）をはさんで反対側には平坦な
面をもつ支持台１４が接着され、接着面とは直角方向の
支持台表面が機械的に研磨されている。
図を用いて説明する。ガラスもしくはセラミック等の支
持台１４′の片側中央部に高透磁率磁性体層１７が、あ
るトラック幅と、所定の膜厚（０，６〜３μｍ）をもり
て形成され、支持台１４′の高透磁率磁性体層１７が形
成されている部分以外に支持台１４′と同物質あるいは
同程度の硬度を有つ材料１６（例えば５ＩＯ２，Ａｔ２
０３等）が、真空蒸着法、スパッタリング法等の手段に
より、高透磁率磁性体層１７と、同じ膜厚に形成され、
接着剤１５（エポキシ系）をはさんで反対側には平坦な
面をもつ支持台１４が接着され、接着面とは直角方向の
支持台表面が機械的に研磨されている。
この主磁極の構造によれば、支持台１４′上に高透磁率
磁性体層１７及び支持台１４′と同物質もしくは同硬度
物質からなる中間層が同一平面状に形成され、さらに支
持体１４が接着された構造をもりているため、第１の実
施例と同様接着剤の厚みは、高透磁率磁性体層１７の厚
みによりて影響を受けることなく、従来の約呂。程度（
ｏ、２〜ｏ、６７１ｍ程度）にでき、その結果、支持台
１４′と支持台１４の距離を近ずけることができ、支持
台表面を研磨加工した後において、支持台のエクヂ部の
発生がほとんどなく、この主磁極上に、磁気テープを走
行させることによって磁気テープの磁性体層に傷を発生
させることがなく、磁気ヘッドとしての高信頼性、高密
度記録が維持されるものである。
磁性体層１７及び支持台１４′と同物質もしくは同硬度
物質からなる中間層が同一平面状に形成され、さらに支
持体１４が接着された構造をもりているため、第１の実
施例と同様接着剤の厚みは、高透磁率磁性体層１７の厚
みによりて影響を受けることなく、従来の約呂。程度（
ｏ、２〜ｏ、６７１ｍ程度）にでき、その結果、支持台
１４′と支持台１４の距離を近ずけることができ、支持
台表面を研磨加工した後において、支持台のエクヂ部の
発生がほとんどなく、この主磁極上に、磁気テープを走
行させることによって磁気テープの磁性体層に傷を発生
させることがなく、磁気ヘッドとしての高信頼性、高密
度記録が維持されるものである。
以上のように、本発明は、垂直磁化記録用磁気ヘッドに
おいて、高透磁率磁性体層を、支持台の一部に同一平面
状になるよう埋設するかもしくは、支持台上で同一平面
状になるように、支持台と同一物質もしくは同程度の硬
度をもつ材料と高透磁率磁性体層とを配列させ、その表
面に平坦な支持台を接着剤で接着してなる主磁極を備え
たことを特徴とするものであり、磁気７−プの磁性層を
傷つけることもなく、また、接着剤部分の表面積が小さ
いことから、高透磁率磁性体層のエクヂ部のダレも少な
くなり、磁気ヘッドとしての性能が著しく向上するもの
である。
おいて、高透磁率磁性体層を、支持台の一部に同一平面
状になるよう埋設するかもしくは、支持台上で同一平面
状になるように、支持台と同一物質もしくは同程度の硬
度をもつ材料と高透磁率磁性体層とを配列させ、その表
面に平坦な支持台を接着剤で接着してなる主磁極を備え
たことを特徴とするものであり、磁気７−プの磁性層を
傷つけることもなく、また、接着剤部分の表面積が小さ
いことから、高透磁率磁性体層のエクヂ部のダレも少な
くなり、磁気ヘッドとしての性能が著しく向上するもの
である。
第１図は、従来の垂直磁化記録方式を説明する垂直磁化
用磁気ヘッドおよび磁気媒体の構成を示す断面図、ｉ゛
２図は従来の垂直磁気ヘッドの主磁極部を示す斜視図、
第３図は従来の垂直磁気ヘッドを使用した時の問題点を
説明するための主磁極部の斜視図、第４図は本発明の一
実施例における垂直磁気ヘッドの主磁極部の斜視図、第
６図は本発明の第１実施例の構造を製作するための製作
法を示す断面図、第６図は本発明の他の実施例における
垂直磁気ヘッドの主磁極部を示す斜視図である。 １・・・・・・磁性体、２・・・・・臀込み、読出しコ
イル、３・・・・・・記録媒体基板、４・・・・・・高
透磁率磁性体層、６・・・・−・垂直磁化膜層、６・・
・・・支持台、７・・・・・・高透磁率磁性体層、ｓ、
ｓ’、 ＋ １． ｌ （。 １４．１４’・・・・・・支持台、９，１２．１５−・
・・・接着剤、１０，１３，１７・・・・・高透磁率磁
性体層Ｏ 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第１
図 第４図 ２ 第５図
用磁気ヘッドおよび磁気媒体の構成を示す断面図、ｉ゛
２図は従来の垂直磁気ヘッドの主磁極部を示す斜視図、
第３図は従来の垂直磁気ヘッドを使用した時の問題点を
説明するための主磁極部の斜視図、第４図は本発明の一
実施例における垂直磁気ヘッドの主磁極部の斜視図、第
６図は本発明の第１実施例の構造を製作するための製作
法を示す断面図、第６図は本発明の他の実施例における
垂直磁気ヘッドの主磁極部を示す斜視図である。 １・・・・・・磁性体、２・・・・・臀込み、読出しコ
イル、３・・・・・・記録媒体基板、４・・・・・・高
透磁率磁性体層、６・・・・−・垂直磁化膜層、６・・
・・・支持台、７・・・・・・高透磁率磁性体層、ｓ、
ｓ’、 ＋ １． ｌ （。 １４．１４’・・・・・・支持台、９，１２．１５−・
・・・接着剤、１０，１３，１７・・・・・高透磁率磁
性体層Ｏ 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第１
図 第４図 ２ 第５図
Claims (1)
- 第１の支持台に形成された高透磁率磁性材料を第２の支
持台に接着させた構造を有し、前記高透磁率磁性材料が
支持台と同一物質または支持台と同程度の硬度を有する
物質内に埋設されるごとく構成された主磁極を有するこ
とを特徴とする垂直磁化記録用磁気ヘッド。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13195781A JPS5835716A (ja) | 1981-08-21 | 1981-08-21 | 垂直磁化記録用磁気ヘツド |
| US06/409,895 US4745509A (en) | 1981-08-21 | 1982-08-20 | Magnetic head with improved supporter for perpendicular magnetization recording |
| DE3231286A DE3231286C2 (de) | 1981-08-21 | 1982-08-23 | Magnetkopf für Tiefen- bzw. Senkrechtmagnetisierung |
| US07/127,538 US4796134A (en) | 1981-08-21 | 1987-11-30 | Magnetic head with improved supporter for perpendicular magnetization recording |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13195781A JPS5835716A (ja) | 1981-08-21 | 1981-08-21 | 垂直磁化記録用磁気ヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5835716A true JPS5835716A (ja) | 1983-03-02 |
Family
ID=15070158
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13195781A Pending JPS5835716A (ja) | 1981-08-21 | 1981-08-21 | 垂直磁化記録用磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5835716A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6134710A (ja) * | 1984-07-26 | 1986-02-19 | Akai Electric Co Ltd | 磁気ヘツド |
-
1981
- 1981-08-21 JP JP13195781A patent/JPS5835716A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6134710A (ja) * | 1984-07-26 | 1986-02-19 | Akai Electric Co Ltd | 磁気ヘツド |
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