JPS5834543A - メタルハライドランプの製造方法 - Google Patents

メタルハライドランプの製造方法

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Publication number
JPS5834543A
JPS5834543A JP13161281A JP13161281A JPS5834543A JP S5834543 A JPS5834543 A JP S5834543A JP 13161281 A JP13161281 A JP 13161281A JP 13161281 A JP13161281 A JP 13161281A JP S5834543 A JPS5834543 A JP S5834543A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gas
vacuum
tube
quartz glass
glow tube
Prior art date
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Pending
Application number
JP13161281A
Other languages
English (en)
Inventor
Kenichi Kawasumi
川澄 建一
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
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Publication of JPS5834543A publication Critical patent/JPS5834543A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J9/00Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
    • H01J9/38Exhausting, degassing, filling, or cleaning vessels
    • H01J9/39Degassing vessels

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、メタルハライドランプの製造方法に関するも
のにして、さらに詳細には9発光管を外管内に組み込む
前に9発光管を真空加熱処理する工程を含んでなるメタ
ルノ・ライドランプの製造方法に関するものである。
従来のメタルノ・ライドランプの製造方法においては2
発光管の完成後は、何等特定の脱ガス処理を施すことな
く、その捷ま外管内に組み込んでランプを完成した後、
エージング処理を約20時間行うことが一般に行われて
いたものである。この場合のエージング処理の目的は、
始動不良の原因をなす発光管内の不純ガス特にH2ガス
を除くためのも、のであった。このようにして、従来の
メタルハライドランプの製造においては、長いエージン
グ時間を必要とすることが問題点であった。捷たこの長
時間エージングもランプ個々によってその成果が一定で
なく、さらに追加エージングを必要とするものもあり、
始動に関する信頼性にも問題のあるものであった。
本発明の目的は、上記したメタルノ・ライドランプの製
造における従来技術の問題点の主たる原因である発光管
に含まれる不純ガス、特にH2ガスを発光管から短時間
に石英ガラス管を透過させ、経済的に、かつ能率良く脱
ガスすることのできるメタルハライドランプの製造方法
を提供することにある。
上記の目的のための本発明のメタルハライドランプの製
造方法は1組み立て排気工程完了後の発光管を真空加熱
処理することを含んでなるものである。すなわち2組み
立てて排気工程において排気、封入物の封入、始動ガス
の封入をしてシールを完了し、外管内に組み込めるよう
にした発光管を、外管内に組み込む前に、真空中、好ま
しくは1cr’Torr以下の圧力の真空中で900℃
以上の温度で1時間以上加熱して脱ガス処理を施し、そ
れを外管内に組み込むことよりなるものである。このよ
うな本発明の方法によれば、従来技術において問題点と
していた始動不良の主要原因である発光管に含まれてい
るH2ガスの除去をラングの製造過程において達成でさ
て、始動不良の問題を経済的に能率良く解決できるもの
である。
本発明における発光管の真空加熱処理の効果については
下記の通シである。
始動不良の原因である発光管に含捷れる不純ガスである
H2ガスは、  1000℃の温度における真空処理で
、  1mの厚さの石英ガラスを約1時間で透過する。
一般照明用のメタルハライドランプの発光管は、厚さが
約0.8 amから約1.7非程度の石英ガラスからな
っている。発光管に含まれる不純ガ。
ス、特にH2ガスは、封入する・・ライド化会物が吸湿
しやすいことから、この封入物によって管内に導入され
るもの2発光管の石英ガラス自体や、封止される電極や
、封入される始動ガス等に吸着水分の形や、またはガス
の形で含まれるに至るものである。このH2ガスはラン
プの始動を困難にするものである。一方、最近の水銀灯
安定器に直接小灯するタイプのメタルハライドラングに
おいては発光管に印加される電圧は商用の200vであ
り。
始動に対しては、その信頼性の要求は厳しいものがある
。そこで、微量のH2ガスの存在でも始動に悪影響を及
ぼすH2ガスの除去は極めて重要なことである。
本発明における発光管の加熱真空処理は、このようなH
2ガスを発光管から脱ガスするもので、排気してテップ
シールを完了した発光管を高真空(1(r’Tarr以
下の圧力)で高温で加熱することによシ管光管内のH2
ガスおよび発光管石英ガラスに吸蔵されているH2ガス
は2石英ガラス管を透過拡散して、容易にしかも効果的
に除去される1ことになるのである。
以下に2本発明を実施例につぎ、さ、らに詳細に説明す
る。   − 250Wのメタルハライドランプの発光管用の。
平均肉厚12 mの石英ガラス管に電極を封止した発光
管を排気系に取り付け、バーナによる加熱脱ガス、電極
活性化のための放電処理を施した後。
管内に、NαI、 Dy Is、 Cs I、 T/ 
L Hグを封入した後。
始動ガスとしてArV封入し、排気管をシールして25
0Wの発光管を作製した。
上記の発光管を、  1000℃の温度の真空炉(10
−5した。
上記の真空加熱脱ガス処理を施した発光管を外管球内に
組み込んで250Wのメタルノ・ライドランプを作製し
た。
上記のように作製したメタルノ・ライドラングの始動性
を測定した結果は、  180Vの電源電圧で100チ
の始動合格率(fi : 240本)であった。
これに対して、従来方法によるものの場合の外管球完成
後の合格率は70%、20時間エージング後の合格率は
95%であり9本発明により大巾に改善されたことが確
認された。
上記の実施例における方法において9石英ガラスの厚さ
と真空加熱処理条件の関係を検討した結果は下記の通り
であった。
石英ガラスの肉厚が0.8 tmのものでは900℃の
温度では1時間の真空加熱処理が必要であり、 100
0℃の温度では40分の真空加熱処理で十分であった。
また9石英ガラスの肉厚が1.2Hのものでは1040
℃の温度では50分の真空加熱処理が必要であった。
このように石英ガラスの厚さにより、必要とする真空加
熱処理における温度と時間は若干具なるが、0.8sI
IIi度の厚さの石英ガラスの場合は、900℃以上の
温度で約1時間の真空処理を施せば、十。
分H2ガスは除去できることが判った。
代理人弁理士 中  村  純之助

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)組み立て排気工程完了後の発光管を真空加熱処理
    する工程を含むことを特徴とするメタルハライドランプ
    の製造方法。
  2. (2)  前記の真空加熱処理する発光管は組み立で排
    気工程完了後の、外管内に組み込む前の発光管にして、
    前記の真空加熱処理は真空中で900℃以上の湯度で1
    時間以上加熱して脱ガス処理を施すものである特許請求
    の範囲第1項記載のメタルハライドランプの製造方法。
  3. (3) 前記の真空加熱処理における真空は1[1r’
    Torr。 以下の圧力の高真空である特許請求の範囲第1項捷たけ
    第2項記載のメタルハライドランプの製造方法。   
     −
JP13161281A 1981-08-24 1981-08-24 メタルハライドランプの製造方法 Pending JPS5834543A (ja)

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